JP2005270694A - 薬液供給装置 - Google Patents
薬液供給装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005270694A JP2005270694A JP2004083942A JP2004083942A JP2005270694A JP 2005270694 A JP2005270694 A JP 2005270694A JP 2004083942 A JP2004083942 A JP 2004083942A JP 2004083942 A JP2004083942 A JP 2004083942A JP 2005270694 A JP2005270694 A JP 2005270694A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chemical
- supply apparatus
- chemical solution
- flow path
- pump
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0225—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work characterised by flow controlling means, e.g. valves, located proximate the outlet
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Reciprocating Pumps (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】 薬液を吐出する噴射口11が形成されるノズル組立体12には、一次側バルブ13と二次側バルブ14とが組み付けられている。一次側バルブ13は噴射口11に連通する二次側流路14bを開閉するバルブであり、二次側バルブ14は外部に開口する接続ポート18に連通する一次側流路13bを開閉するバルブであり、一次側バルブ13と二次側バルブ14との間にはポンプが設けられている。接続ポート18には薬液が流れる内管19と温調水が流れる外管20とにより構成される二重管21が接続されており、一定の温度に保たれた薬液がポンプ室52内に吸引され噴射口11から吐出されるようになっている。
【選択図】 図3
Description
11 噴射口
12 ノズルホルダ
13 一次側バルブ
13a 流路部
13b 一次側流路
13c 作動部
13d 収容室
14 二次側バルブ
14a 流路部
14b 二次側流路
14c 作動部
14d 収容室
15 薬液タンク
16 ポンプ
17 ノズル本体
18 接続ポート
19 内管
20 外管
21 二重管
22 継手ブロック
28 温度調節器
29〜31 チューブ
32 駆動装置
32a 媒体室
32b 作動部
33 往復動体
35 ダイヤフラム
36 調節ばね
37 流路開閉室
38 作動圧室
40,41 給排ポート
42 往復動体
43 ダイヤフラム
44,45 作動圧室
46 調節ばね
47 継手ブロック
51 可撓性膜
52 ポンプ室
53 駆動室
55 ベローズ
56 往復動体
57 ナット
58 送りねじ
59 回転防止部材
60 モータ
61 センサ
62 温調水流路
64 回転体
65 回転軸
66 カップ
68 可動アーム
69 代替バルブ
69a 流路部
69b 二次側流路
69c 作動部
70 大径室
70a 封止部材
71 小径室
72 吸着板
73 往復動体
74,75 永久磁石
76 調節ばね
78 往復動体
80 作動圧室
W ワーク
Claims (8)
- 薬液を吐出する噴射口が形成され、外部に開口する接続ポートに連通する一次側流路を開閉する一次側バルブと前記噴射口に連通する二次側流路を開閉する二次側バルブとが組み付けられるノズル組立体を有し、
前記一次側バルブと前記二次側バルブの間に設けられるポンプの容積を膨張させることで前記接続ポートから前記ノズル組立体の内部に薬液を吸引し、前記ポンプの容積を収縮させることで前記噴射口から前記ノズル組立体の外部に薬液を吐出することを特徴とする薬液供給装置。 - 請求項1記載の薬液供給装置において、前記ポンプに吸引される薬液が流れる内管と、当該内管が内部に配置され当該内管を流れる薬液の温度を調節する温調水が流れる外管とにより構成される二重管が前記接続ポートに接続されることを特徴とする薬液供給装置。
- 請求項1又は2記載の薬液供給装置において、前記ポンプには前記外管に連通して温調水が流れ込む温調水流路が形成されることを特徴とする薬液供給装置。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の薬液供給装置において、前記ポンプは一端が前記一次側流路に連通し他端が前記二次側流路に連通するチューブ形状の可撓性膜により形成され、当該可撓性膜の膨張により薬液を吸引し、当該可撓性膜の収縮により薬液を吐出することを特徴とする薬液供給装置。
- 請求項4記載の薬液供給装置において、前記可撓性膜は駆動媒体が充填される駆動室に収容され、前記駆動媒体の容量又は圧力を減らすことによって前記可撓性膜を膨張させ、前記駆動媒体の容量又は圧力を増やすことによって前記可撓性膜を収縮させることを特徴とする薬液供給装置。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の薬液供給装置において、前記ノズル組立体は薬液が塗布されるワークの上方を移動する可動アームに固定されることを特徴とする薬液供給装置。
- 請求項6記載の薬液供給装置において、前記駆動室に充填される前記駆動媒体の容量又は圧力を増減させる駆動装置は前記可動アーム以外の箇所に設置されるとともに、前記駆動装置と前記駆動室とは前記駆動媒体が流れるチューブを介して接続されることを特徴とする薬液供給装置。
- 請求項5〜7のいずれか1項に記載の薬液供給装置において、前記駆動媒体は非圧縮性媒体であり、前記駆動室における前記非圧縮性媒体の容量を減らすことによって前記可撓性膜を膨張させ、前記非圧縮性媒体の容量を増やすことによって前記可撓性膜を収縮させることを特徴とする薬液供給装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004083942A JP4454350B2 (ja) | 2004-03-23 | 2004-03-23 | 薬液供給装置 |
US10/593,607 US20070221126A1 (en) | 2004-03-23 | 2005-02-18 | Chemical Liquid Supply Apparatus |
PCT/JP2005/002553 WO2005089955A1 (ja) | 2004-03-23 | 2005-02-18 | 薬液供給装置 |
KR1020067021848A KR100842154B1 (ko) | 2004-03-23 | 2005-02-18 | 약액 공급 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004083942A JP4454350B2 (ja) | 2004-03-23 | 2004-03-23 | 薬液供給装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005270694A true JP2005270694A (ja) | 2005-10-06 |
JP4454350B2 JP4454350B2 (ja) | 2010-04-21 |
Family
ID=34993496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004083942A Expired - Fee Related JP4454350B2 (ja) | 2004-03-23 | 2004-03-23 | 薬液供給装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070221126A1 (ja) |
JP (1) | JP4454350B2 (ja) |
KR (1) | KR100842154B1 (ja) |
WO (1) | WO2005089955A1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011131188A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-07 | Tokyo Electron Ltd | 薬液供給ノズル及び薬液供給方法 |
JP2012086140A (ja) * | 2010-10-19 | 2012-05-10 | Nissan Motor Co Ltd | 塗布装置及び粘性流体の供給方法 |
KR200460399Y1 (ko) * | 2007-11-30 | 2012-05-24 | 주식회사 케이씨텍 | 시린지 펌프 |
JP2021104475A (ja) * | 2019-12-26 | 2021-07-26 | 株式会社ロキテクノ | フィルタエレメントおよびフィルタ容器 |
JP2021134859A (ja) * | 2020-02-27 | 2021-09-13 | アドバンス電気工業株式会社 | 小型ダイヤフラム弁及び当該小型ダイヤフラム弁を用いた半導体ウェハー処理用薬液吐出装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101067006B1 (ko) * | 2010-09-29 | 2011-09-22 | 권종수 | 유체 흡입장치 |
KR101723907B1 (ko) * | 2015-07-01 | 2017-04-10 | 주식회사 제이스텍 | 항온기능이 구비된 액정기판의 약액 공급용 펌프 |
CN107344159A (zh) * | 2016-05-06 | 2017-11-14 | 禾宝机械有限公司 | 液体微量注射装置 |
KR102525478B1 (ko) | 2017-08-29 | 2023-04-26 | 헨켈 아게 운트 코. 카게아아 | 0의 변위의 밀봉 장치를 갖춘 유체 분배기 |
US10948824B2 (en) * | 2018-06-28 | 2021-03-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Dispensing nozzle design and dispensing method thereof |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3738409A (en) * | 1971-01-27 | 1973-06-12 | Welding Engineers | Apparatus for flash-concentrating viscous liquids |
US4932353A (en) * | 1987-12-18 | 1990-06-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Chemical coating apparatus |
JP3554115B2 (ja) * | 1996-08-26 | 2004-08-18 | 株式会社コガネイ | 薬液供給装置 |
US6258167B1 (en) * | 1996-11-27 | 2001-07-10 | Tokyo Electron Limited | Process liquid film forming apparatus |
JPH11244766A (ja) * | 1998-02-27 | 1999-09-14 | Victor Co Of Japan Ltd | 液体吐出装置 |
JP3718118B2 (ja) * | 2000-10-05 | 2005-11-16 | 株式会社コガネイ | 液体吐出装置および液体吐出方法 |
JP4681126B2 (ja) * | 2000-12-13 | 2011-05-11 | 富士機械製造株式会社 | 高粘性流体塗布装置 |
JP2002273113A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-24 | Koganei Corp | 濾過器および薬液供給装置並びに薬液供給方法 |
US20020157815A1 (en) * | 2001-04-27 | 2002-10-31 | Sutter Douglas E. | Heat exchange tubing |
US20050139344A1 (en) * | 2002-02-27 | 2005-06-30 | Butler Barry L. | Internal water tank solar heat exchanger |
JP2003297788A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-17 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
-
2004
- 2004-03-23 JP JP2004083942A patent/JP4454350B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-02-18 KR KR1020067021848A patent/KR100842154B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-02-18 US US10/593,607 patent/US20070221126A1/en not_active Abandoned
- 2005-02-18 WO PCT/JP2005/002553 patent/WO2005089955A1/ja active Application Filing
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200460399Y1 (ko) * | 2007-11-30 | 2012-05-24 | 주식회사 케이씨텍 | 시린지 펌프 |
JP2011131188A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-07 | Tokyo Electron Ltd | 薬液供給ノズル及び薬液供給方法 |
US8469285B2 (en) | 2009-12-25 | 2013-06-25 | Tokyo Electron Limited | Chemical liquid supply nozzle and chemical liquid supply method |
JP2012086140A (ja) * | 2010-10-19 | 2012-05-10 | Nissan Motor Co Ltd | 塗布装置及び粘性流体の供給方法 |
JP2021104475A (ja) * | 2019-12-26 | 2021-07-26 | 株式会社ロキテクノ | フィルタエレメントおよびフィルタ容器 |
JP7454941B2 (ja) | 2019-12-26 | 2024-03-25 | 株式会社ロキテクノ | フィルタエレメントおよびフィルタ容器 |
JP2021134859A (ja) * | 2020-02-27 | 2021-09-13 | アドバンス電気工業株式会社 | 小型ダイヤフラム弁及び当該小型ダイヤフラム弁を用いた半導体ウェハー処理用薬液吐出装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4454350B2 (ja) | 2010-04-21 |
WO2005089955A1 (ja) | 2005-09-29 |
US20070221126A1 (en) | 2007-09-27 |
KR20070020231A (ko) | 2007-02-20 |
KR100842154B1 (ko) | 2008-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100842154B1 (ko) | 약액 공급 장치 | |
JP4422040B2 (ja) | 弁装置 | |
JPH1061558A (ja) | 薬液供給装置 | |
US7878375B2 (en) | Chemical liquid supply device | |
JP2008101510A (ja) | 薬液供給装置 | |
US7070160B2 (en) | Diaphragm valves | |
JPH08128389A (ja) | バルブ駆動制御方法およびバルブ駆動制御装置ならびに流動体供給制御装置 | |
JP5060766B2 (ja) | 薬液供給装置 | |
AU2008355707A1 (en) | Metering pump and its drving device | |
JP5114527B2 (ja) | 液体供給装置 | |
JP3718118B2 (ja) | 液体吐出装置および液体吐出方法 | |
JPH08285125A (ja) | 弁装置および弁装置を有する薬液供給装置 | |
KR20030048515A (ko) | 약액공급장치 | |
JPH1047234A (ja) | 定量吐出ポンプ | |
JP4563086B2 (ja) | 流体制御弁 | |
KR101763121B1 (ko) | 개선된 약액 가압 장치, 및 이를 구비한 약액 공급 장치 | |
KR101414080B1 (ko) | 약액공급장치 | |
KR101147167B1 (ko) | 개선된 약액 펌핑 장치 및 방법, 및 이를 구비한 약액 공급 장치 | |
JP3619604B2 (ja) | 液体制御用弁装置 | |
JPH08170744A (ja) | 弁装置およびそれを用いた薬液供給ポンプ | |
JP4701257B2 (ja) | 液体ポンプシステム | |
TWI826920B (zh) | 液體供給裝置 | |
JP4392269B2 (ja) | 液体吐出装置 | |
JP2007023775A (ja) | ダイヤフラムポンプ | |
KR101837001B1 (ko) | 개선된 약액 펌핑용 가압 장치 및 방법, 및 이를 구비한 약액 공급 장치 및 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060404 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090421 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090618 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100105 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100202 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130212 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140212 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |