JP2005260232A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置が、オブジェクト平面内で互いに離間された複数のパターニング・アレイ、例えば2つのパターニング・アレイ、4つのパターニング・アレイ等を有している。パターニング・アレイの結合オーバラップ・イメージが基板に投影される。互いに間を隔てたパターニング・アレイから生成される放射線からイメージが形成されるため、異なる角度からイメージが到達し、これはより大きい有効開口数NAを有している。
【選択図】図1
Description
本明細書で使用する「個別制御可能な要素のアレイ」という用語は、入射する放射線ビームの断面をパターニングし、それによって所望のパターンを基板のターゲット部分に生成するように使用可能な任意の手段を意味するものとして広義に解釈されたい。この文脈では、「光バルブ」および「空間光変調器(SLM)」という用語を使用することも可能である。このようなパターニング・デバイスの実施例については以下で議論される。
図1は、本発明の一実施例によるリソグラフィ投影装置100を略図で示したものである。リソグラフィ投影装置100は、放射線源102、ビーム・スプリッタ104、照明システム106、個別制御可能要素の複数のパターニング・アレイ108−1、108−2、・・・、108−n(n=1、2、・・・)、投影システム110および基板テーブル112を備えている。
本発明の様々な実施例においては、リソグラフィ投影装置100は、以下で説明するステップ・モード、走査モード、パルス・モードおよび連続走査モードの4つの好ましいモードで使用することができる。
以上、本発明の様々な実施例について説明したが、以上の説明が単なる実施例に過ぎず、本発明を何ら制限するものではないことを理解されたい。上で説明した実施例に、本発明の精神および範囲を逸脱することなく様々な形態変更および細部変更を加えることができることは、関連する分野の技術者には明らかであろう。したがって本発明の広がりおよび範囲は、上で説明した例示的実施例に何ら制限されず、唯一、特許請求の範囲の各請求項およびそれらの等価物によってのみ定義されるものとする。
102 放射線源(SO)
104 ビーム・スプリッタ(BS)
106 照明システム(IL)
108−1、108−2 個別制御可能要素の複数のパターニング・アレイ(PPM)
110 投影システム
112 基板テーブル(WT)
114−1、114−2 放射線サブビーム(PB)
116 基板(W)
118 位置決め手段(PW)
120 ターゲット部分(C)
122 ビーム送達システム(BD)
124−1〜124−4 放射線出口(RO)
126 放射線システム
128−1、128−2 ビーム・パイプ(BP)
130−1、130−2 出口レンズ(EL)
132−1、132−2 視野レンズ(FL)
133 投影レンズ(PL)
134 結合投影ビーム(PBC)
136 干渉測定手段(IF)
Claims (11)
- 複数の放射線サブビームを生成する照明システムと、
個別制御可能要素の複数のパターニング・アレイであって、各パターニング・アレイが、それぞれのサブビームを、パターンを有するようにパターニングし、また前記パターニング・アレイは、オブジェクト平面内で互いに離間されているパターニング・アレイと、
基板を支持する基板テーブルと、
前記パターニングされたサブビームを投影する投影システムであって、それによって前記パターニングされたサブビームが重なり合って前記基板のターゲット部分に結合イメージを形成する投影システムと
を有するリソグラフィ装置。 - 前記投影システムが、前記パターニング・アレイに対応する数の複数の視野レンズ系と、共通部分とを有し、
前記視野レンズ系が、前記共通部分のひとみ平面内にそれぞれのパターニング・アレイのイメージを形成する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記投影システムが、約1/2から約1/5までの総合倍率を有する、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明システムが単一の放射線源を有し、該単一の放射線源から、前記複数のサブビームが得られる請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明システムが、別個のサブビームの経路内に位相調整器をさらに有している請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明システムが、前記サブビームをそれぞれのパターニング・アレイに導くライト・ガイドを有している請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明システムが、1または複数のビーム誘導ミラーを含む光学系を有している請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 第2のパターニング・アレイをさらに有する請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 第2から第4のパターニング・アレイをさらに有する請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 照明システムを使用して複数の放射線サブビームを生成するステップと、
個別制御可能要素の複数のパターニング・アレイを使用して、前記複数のサブビームのそれぞれにパターンを与えるステップと、
前記パターニングされた放射線サブビームを前記基板に投影するステップであって、それによって前記パターニングされた放射線サブビームが重なり合って基板のターゲット部分に結合イメージを形成するステップと
を含むデバイス製造方法。 - オブジェクト平面内で互いに離間されている個別制御可能要素の複数のパターニング・アレイのうちのそれぞれの個別のパターニング・アレイを使用して、照明源から生成される個別放射線ビームをパターニングするステップと、
基板のターゲット部分に結合イメージを形成するように、前記パターニングされた個別ビームを重ね合わせるステップであって、前記結合イメージがより大きい有効開口数を有するように、前記パターニングされた個別ビームが異なる角度から到達するステップと
を含む方法。
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