JP5346356B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本願明細書では集積回路(IC)の製造におけるリソグラフィ装置の使用を具体的に参照するかもしれないが、本願明細書に記載のリソグラフィ装置には集積光学系、磁気ドメイン・メモリ用の誘導及び検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、薄膜磁気ヘッド等の製造などの他の用途がある。当業者であれば、そのような代替的用途の関連で、「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を本願明細書において使用する場合には、より一般的な用語「基板」又は「標的部分」とそれぞれ同義であるとみなされ得ることが理解されよう。本願明細書で言及する基板は、例えば、トラック(例えば、典型的にはレジストの層を基板に塗布し、露光されたレジストを現像する器具)或いは測定又は検査ツールで露光の前又は後に処理され得る。適用可能であれば、本願明細書の開示はそのような及び他の基板処理器具に適用されてよい。さらに、例えば、多層ICを作るために基板は2回以上処理することができるので、本明細書で使用する用語基板は、処理された複数の層をすでに含む基板を指すこともできる。
図1に、本発明の一実施例に基づくリソグラフィ投影装置100を概略的に示す。装置100は少なくとも、放射系102と、個別に制御可能な要素のアレイ104と、物体テーブル106(例えば基板テーブル)と、投影系(「レンズ」)108とを含む。
本発明の種々の実施例を説明してきたが、それらは単に例示のために提示したものであって、限定するものではないことを理解されたい。本発明の精神及び範囲から逸脱することなくこれらの実施例に形態及び詳細のさまざまな変更を加えることができることは当業者には明白である。したがって、本発明の範囲は上記の例示的な実施例によって限定されず、添付の特許請求の範囲及びそれらの均等物によってのみ定義される。
102 放射系
104 個別に制御可能な要素のアレイ
106 基板テーブル
108 レンズ
110 投影ビーム
112 放射源
114 基板
120 標的部分
122 放射ビーム
124 照明系
126 ビーム・スプリッタ
130 インテグレータ
132 コンデンサ
134 干渉計測定装置
138 干渉計ビーム
140 ビーム・スプリッタ
Claims (9)
- パターン化されたビームを与える個別に制御可能な要素のアレイと、
基板の標的部分上に前記パターン化されたビームを投影し、瞳を定めかつレンズ・アレイを含む投影系と、
前記瞳を定める投影レンズ・コントラスト開口プレートと、を備え、
前記個別に制御可能な要素のアレイは、各要素からの前記パターン化されたビームの個々の部分が前記開口プレートを対称的分布で照射するよう構成されており、
前記レンズ・アレイは前記パターン化されたビームの個々の部分を前記基板の前記標的部分の個々の部分に向けるように配置され、
前記個別に制御可能な要素は、前記瞳を通過する前記パターン化されたビームの個々の部分の量が徐々に変えられるように、前記開口プレートに対し前記パターン化されたビームの個々の部分をずらすように選択的に制御可能であり、
前記個別に制御可能な要素は、前記パターン化されたビームが各群の各要素によって前記レンズ・アレイの同じレンズに向けられるように、いくつかの群として配置されており、
各群の個別に制御可能な要素は、個別に制御可能な要素の当該群からのビームが前記瞳に対して実質的に対称状になるように、かつ、当該群からのビームは、各光点が前記レンズ・アレイの同じレンズの中心軸を中心に対称的であってそれぞれ異なる場所に位置する複数の放射線の光点を基板上に形成するように、前記パターン化されたビームの個々の部分を前記開口プレートから種々の方向に等しい大きさずらすように制御されるリソグラフィ装置。 - 前記個別に制御可能な要素の前記群の各々は、相互に対して180°傾斜した方向に、前記パターン化されたビームの個々の部分を偏向する2つの要素を備えた請求項1に記載の装置。
- 前記個別に制御可能な要素の前記群は、相互に対して120°の間隔で傾斜した方向に、前記パターン化されたビームの個々の部分を偏向する3つの要素を備えた請求項1に記載の装置。
- 前記個別に制御可能な要素の前記群は、相互に対して90°の間隔で傾斜した方向に、前記パターン化されたビームの個々の部分を偏向する4つの要素を備えた請求項1に記載の装置。
- 前記個別に制御可能な要素は、個別に傾斜可能な反射要素であり、
傾けられる前の反射要素は、前記開口プレートを対称的分布で照射するよう前記パターン化されたビームの個々の部分を向け、
傾けられた後の反射要素は、前記パターン化されたビームの個々の部分を前記開口プレートから偏向する請求項1から4のいずれかに記載の装置。 - 前記個別に制御可能な要素のアレイにビームを供給する照明系と、
前記照明系から前記個別に制御可能な要素に向けて前記ビームを反射し、かつ前記個別に制御可能な要素から前記レンズ・アレイに向けて前記パターン化されたビームを送るビーム・スプリッタと、を備えた請求項1から5のいずれかに記載の装置。 - 個別に制御可能な要素のアレイを用いてパターン化されたビームを与える工程と、
投影系のレンズ・アレイを用いて基板の標的部分の上に前記パターン化されたビームを投影する工程と、を備え、前記レンズ・アレイのレンズは前記パターン化されたビームの個々の部分を前記標的部分の個々の部分に向けるように配置され、前記投影系の瞳を定めるように投影レンズ・コントラスト開口部が位置決めされており、
前記個別に制御可能な要素のアレイは、各要素からの前記パターン化されたビームの個々の部分が前記開口部を対称的分布で照射するよう構成されており、
前記個別に制御可能な要素は、前記瞳を通過する前記パターン化されたビームの個々の部分の量が徐々に変えられるように、前記開口部に対し前記パターン化されたビームの個々の部分をずらすように選択的に制御可能であり、
前記個別に制御可能な要素は、前記パターン化されたビームが各群の各要素によって前記レンズ・アレイの同じレンズに向けられるように、いくつかの群として配置されており、
各群の前記個別に制御可能な要素は、個別に制御可能な要素の当該群からのビームが前記瞳に対して実質的に対称状になるように、かつ、当該群からのビームは、各光点が前記レンズ・アレイの同じレンズの中心軸を中心に対称的であってそれぞれ異なる場所に位置する複数の放射線の光点を基板上に形成するように、前記パターン化されたビームの個々の部分を前記開口部から種々の方向に等しい大きさずらすように制御される、デバイス製造方法。 - パターン化されたビームを与える個別に制御可能な要素のアレイと、
基板の標的部分上に前記パターン化されたビームを投影し、瞳を定めかつレンズ・アレイを含む投影系とを備え、
前記個別に制御可能な要素のアレイは、各要素からの前記パターン化されたビームの個々の部分が前記レンズ・アレイのレンズの中心軸に対称的な照明点を基板上に形成するよう構成されており、
前記個別に制御可能な要素は、前記瞳を通過する前記パターン化されたビームの個々の部分の量が徐々に変えられるように、前記照明点の強度分布を前記レンズの中心軸からずらすように選択的に制御可能であり、
前記個別に制御可能な要素は、前記パターン化されたビームが各群の各要素によって前記レンズ・アレイの同じレンズに向けられるように、いくつかの群として配置されており、
各群の個別に制御可能な要素は、個別に制御可能な要素の当該群からのビームが前記瞳に対して実質的に対称状になるように、かつ、当該群からのビームは各照明点が前記レンズ・アレイの同じレンズの中心軸を中心に対称的でありそれぞれ異なる場所に位置する複数の照明点を基板上に形成するように、前記照明点の強度分布を前記中心軸から種々の方向に等しい大きさずらすように制御されるリソグラフィ装置。 - 個別に制御可能な要素のアレイを用いてパターン化されたビームを与える工程と、
投影系のレンズ・アレイを用いて基板の標的部分の上に前記パターン化されたビームを投影する工程と、を備え、
前記個別に制御可能な要素のアレイは、各要素からの前記パターン化されたビームの個々の部分が前記レンズ・アレイのレンズの中心軸に対称的な照明点を基板上に形成するよう構成されており、
前記個別に制御可能な要素は、瞳を通過する前記パターン化されたビームの個々の部分の量が徐々に変えられるように、前記照明点の強度分布を前記レンズの中心軸からずらすように選択的に制御可能であり、
前記個別に制御可能な要素は、前記パターン化されたビームが各群の各要素によって前記レンズ・アレイの同じレンズに向けられるように、いくつかの群として配置されており、
各群の個別に制御可能な要素は、個別に制御可能な要素の当該群からのビームが前記瞳に対して実質的に対称状になるように、かつ、当該群からのビームは各照明点が前記レンズ・アレイの同じレンズの中心軸を中心に対称的でありそれぞれ異なる場所に位置する複数の照明点を基板上に形成するように、前記照明点の強度分布を前記中心軸から種々の方向に等しい大きさずらすように制御される、デバイス製造方法。
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