JP2005236083A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体下地領域(11)の表面上に形成された絶縁膜(15)に対し、マスクされた表面領域と露出した表面領域を提供するようにフォトレジスト(17)を選択的に形成し、露出した表面領域に対応する絶縁膜部分を除去して半導体下領域(11)の表面を露出させ、半導体下地領域(11)の表面を露出させた状態でフォトレジスト(17)を硫酸により除去する。
【選択図】 図2
Description
図1および図2に関して説明した工程に従って、フォトレジスト17形成後、希フッ酸で酸化膜16を除去し、水洗した後、フォトレジスト17(厚さ約1μm)をSPMまたは硫酸(濃度96%)を用いて種々の温度で除去したときに素子領域14上に生成した化学酸化膜の厚さを測定した。なお、フォトレジストとSPMまたは硫酸は、半導体基板表面にノズルから10秒間滴下した。結果を図13に示す。図13において、線aはSPMを用いた場合の結果を示し、線bは硫酸を用いた場合の結果を示す。
この例では、硫酸によるフォトレジストの剥離性を調べた。すなわち、図1および図2に関して説明した工程に従って、フォトレジスト17形成後、希フッ酸で酸化膜16を除去し、水洗した後、フォトレジスト17を種々の濃度の硫酸(75、80、85、90、95%)を用いて種々の温度で除去したときに素子領域14上に生成した化学酸化膜の厚さを測定した。結果を図14に示す。図14中、○印は、フォトレジストが硫酸により完全に溶解したことを示し、△印は溶解とともに剥離が生じたことを示し、×印は、フォトレジストが溶解せず、剥離のみであったことを示す。フォトレジストの剥離は、パーティクルの原因となる。図14に示す結果からわかるように、室温では95%以上の濃度、90℃以上では90%以上の濃度、110℃以上では85%以上の濃度の硫酸を用いる必要がある。
実施例1において硫酸によるフォトレジストの溶解除去後において素子領域14上に生成した化学酸化膜を、水を半導体基板中央上方からのみ滴下することによって水洗した場合と図12に示す揺動ノズルから滴下した場合の酸化膜の膜厚を測定した。半導体基板は、約500rpmで回転させ、揺動ノズルは、約50mm/秒の速度で揺動させた。揺動ノズルから滴下させた水の流量は、2L/分であった。結果を図15に示す。図15において、線aは、水を半導体基板中央上方からのみ滴下した場合の結果を、線bは、揺動ノズルから滴下した場合の結果を示す。この結果からわかるように、水を半導体基板中央上方からのみ滴下すると、酸化膜の膜厚が中央で有意に増加するが、揺動ノズルを用いて水を滴下すると、全体として均一な膜厚の酸化膜となる。
15,16,32…厚いゲート絶縁膜
17,42…フォトレジスト
18…化学酸化膜
19,33…薄いゲート絶縁膜
Claims (5)
- 半導体下地領域の表面上に形成された絶縁膜に対し、マスクされた表面領域と露出した表面領域を提供するようにフォトレジストを選択的に形成し、前記露出した表面領域に対応する前記絶縁膜部分を除去して前記半導体下領域の表面を露出させ、前記半導体下地領域の表面を露出させた状態で前記フォトレジストを硫酸により除去することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 前記半導体下地領域が半導体基板により構成され、前記フォトレジストを除去した後、前記露出した半導体下地領域の表面に前記絶縁膜よりも薄い第2の絶縁膜を形成することをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記フォトレジストを除去した後、前記露出した半導体基板を、前記半導体基板の上方において前記半導体前記半導体基板の径方向における中央と端部との間を揺動する揺動ノズルから水を供給することにより洗浄することを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記フォトレジストを除去した後、前記露出した半導体下地領域と接触する半導体膜を形成することをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記硫酸が、85重量%以上の濃度を有することを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
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