JP2005149665A - 光磁気ヘッドおよび光磁気ディスク装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 渦電流による発熱を抑えて放熱性を高めることができる光磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】 ディスクに光スポットを形成するレンズ１１ｂと、このレンズ１１ｂとディスクとの間に位置する磁界発生用のコイル２とを備えている光磁気ヘッドであって、コイル２の巻線２０ｂには、このコイル２で発生した熱が伝わる熱伝導体５が接続されており、かつ、熱伝導体５は、コイル２の径方向外側へと伸長するように設けられていることを特徴としている。
【選択図】 図５

Description

本発明は、光磁気ディスクへのデータの記録・再生を行なうのに用いられる光磁気ヘッド、およびそのような光磁気ヘッドを備えた光磁気ディスク装置に関する。

磁界変調記録方式の光磁気ヘッドには、たとえば特許文献１に開示されたものがある。この特許文献１に開示された光磁気ヘッドは、ディスクにレーザスポットを形成するレンズ、このレンズとディスクとの間に位置する磁界発生用のコイル、コイルとレンズとの間に位置する磁性体を備えている。上記コイルに電流を流すと、このコイルは発熱する。このようなコイルから発生する熱の放熱性を高めるために、特許文献１に所載の構成では、コイルの外周を囲うように放熱体が設けられている。これによれば、ディスクの回転に伴い発生する空気流によって放熱体を冷却し、放熱性を高めることができる。
特開２００３−５１１４４号公報

しかしながら、上記従来の構成では、次に述べるように、放熱性を高める上で未だ充分とはいえない場合があった。

磁界変調記録方式においては、たとえば５０ＭＨｚといった高周波電流が磁界発生用のコイルに流れる。このようなコイルで発生した磁界は、その分布範囲が磁性体によって偏向され、ディスクの方向に効率良く作用する。このとき、コイルと放熱体との間隔（コイルの外周から放熱体の内周までのコイルの径方向に沿う距離）が小さいほど放熱体を貫く磁束が大となり、そのような磁束の方向が変化するのに伴って放熱体に渦電流が発生しやすくなる。この渦電流は、熱となって放熱体の温度を上昇させ、放熱体の特性（放熱性）を低下させてしまう。

このような渦電流による発熱を抑えるには、放熱体を貫く磁束がなくなるように、コイルと放熱体との間隔をある程度大きくしてやればよい。ところが、コイルと放熱体との間隔が大きくなると、コイルで発生した熱が放熱体へと伝わりにくくなり、レンズの方へと伝わる熱が多くなる。その結果、レンズの光学的特性、たとえば屈折率が熱の影響を受けて変化してしまう。したがって、渦電流による発熱を抑えて放熱性を高める上で未だ改善の余地があった。

本発明の目的は、渦電流による発熱を抑えて放熱性を高めることができる光磁気ヘッド、およびそのような光磁気ヘッドを備えた光磁気ディスク装置を提供することにある。

本発明の第１の側面によれば、ディスクに光スポットを形成するレンズと、このレンズと上記ディスクとの間に位置する磁界発生用のコイルとを備えている光磁気ヘッドであって、上記コイルの巻線には、このコイルで発生した熱が伝わる熱伝導体が接続されており、かつ、上記熱伝導体は、上記コイルの径方向外側へと伸長するように設けられていることを特徴とする、光磁気ヘッドが提供される。

好ましい実施の形態としては、上記コイルの巻線は、複数の層ごとに渦巻状のパターンをなすように設けられているとともに、上記熱伝導体は、上記コイルの中心軸を中心として放射状に複数設けられており、かつ、上記複数の熱伝導体のうち周方向に隣り合う２つは、上記レンズに最も近い上記コイルの層において、この層内の最内周を除く互いに異なる周に接続されている。

好ましい実施の形態としては、上記コイルの巻線は、複数の層ごとに渦巻状のパターンをなすように設けられているとともに、上記熱伝導体は、上記コイルの中心軸を中心として放射状に複数設けられており、かつ、上記複数の熱伝導体のうち周方向に隣り合う２つは、上記レンズに最も近い上記コイルの層において、この層内の２周以内に接続されている。

好ましい実施の形態としては、上記コイルの最外周よりも外側には、このコイルから発生した熱を受けて放散する放熱体が設けられており、この放熱体には、上記コイルの径方向に沿う側面が形成されており、かつ、上記熱伝導体の一部は、上記放熱体の側面から絶縁可能な間隔離れて設けられている。

本発明の第２の側面によれば、上記本発明の第１の側面による光磁気ヘッドを備えたことを特徴とする、光磁気ディスク装置が提供される。

本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明から、より明らかとなろう。

図１〜５は、本発明に係る光磁気ヘッドの一実施形態を示している。図１に示すように、光磁気ヘッドＨは、仮想線Ｃを中心として光磁気ディスクＤを高速回転させるスピンドルモータ（図示略）などとともに光磁気ディスク装置の内部に設けられており、光磁気ディスクＤの記録層８８が設けられている面（同図では光磁気ディスクＤの下方側の面）に対向するように配置されている。光磁気ディスクＤの記録層８８の表面は、透光性を有する絶縁保護膜８９によって覆われている。このような光磁気ヘッドＨは、光磁気ディスクＤの記録層８８に対してレーザ光の照射と磁界の印加とを同一方向から行うものであり、いわゆる磁界変調記録方式によって光磁気ディスクＤにデータを記録する。この光磁気ヘッドＨは、キャリッジ７０にレンズホルダ１０および立ち上げミラー７１を搭載して構成されている。レンズホルダ１０には、透明な基板６０、２つの対物レンズ１１ａ，１１ｂ、磁界発生用のコイル２、磁性体３（図２、４、５参照）、放熱体４（図２、４、５参照）、熱伝導体５、および誘電体膜６が備えられている。

基板６０は、たとえば対物レンズ１１ｂと同材質のガラス製であり、レンズホルダ１０に保持されている。この基板６０の光磁気ディスクＤ側となる上面側には、コイル２、磁性体３、放熱体４、熱伝導体５、誘電体膜６が形成されている。具体的には、図２〜５によく表れているように、基板６０の上面に、磁性体３、放熱体４、熱伝導体５、誘電体膜６が形成されている。磁性体３は、レーザ光が通る中空部を有し、全体的には中空円板状に形成されている。この磁性体３の上方に間隔を設けてコイル２が形成されている。放熱体４は、全体的にはコイル２および磁性体３の外周を囲うようにドーナツ状に形成されている。熱伝導体５は、コイル２の下方を通ってコイル２の外周側まで伸長するように形成されており、全体的には放射状に形成されている。誘電体膜６は、コイル２、磁性体３、放熱体４、熱伝導体５を覆うように形成されている。基板６０の下面側には、一方の対物レンズ１１ｂが形成されている。他方の対物レンズ１１ａは、上記一方の対物レンズ１１ｂよりも下方に位置してレンズホルダ１０に保持されている。

図１に示されているように、レンズホルダ１０は、矢印Ｔｇで示す光磁気ディスクＤのトラッキング方向（径方向）に変位可能な支持手段（図示略）を介してキャリッジ７０に支持されており、同方向への変位が可能である。また、このレンズホルダ１０は、たとえば電磁駆動手段１９の駆動力により矢印Ｆｃで示すフォーカス方向への変位が可能とされている。このようなレンズホルダ１０には、２つの対物レンズ１１ａ，１１ｂが上下方向に所定の間隔を設けて搭載されている。

キャリッジ７０は、たとえば図示されていないボイスコイルモータの駆動力によってトラッキング方向Ｔｇに移動自在である。このキャリッジ７０の移動により、レンズホルダ１０を目的のトラックの近傍に配置させるシーク動作がなされる。レーザ光は、図示されていないレーザダイオードやコリメータレンズなどを備えた固定光学部からキャリッジ７０に向けて進行し、キャリッジ７０に搭載された立ち上げミラー７１に到達するように構成されている。立ち上げミラー７１によって上方に反射されたレーザ光は、対物レンズ１１ａ，１１ｂに順次入射することにより集束され、これにより記録層８８上にレーザスポットが形成される。上記固定光学部には、ビームスプリッタや光検出器も設けられており、記録層８８によってレーザ光が反射されると、その反射光が上記光検出器で検出される。

図２〜５によく表われているように、磁界発生用のコイル２は、銅などの金属膜を所定形状にパターニングすることにより形成されたものであり、半導体プロセスにより製造することが可能である。このコイル２は、レーザ光が通る中空部を有し、その中空部を貫く中心軸Ｌ１が対物レンズ１１ｂの光軸Ｌ２とほぼ一致するように設けられている。コイル２の中空部を形成する内径は、たとえば１００μｍ程度、コイル２全体の外径は２００μｍ程度である。図３〜５によく表われているように、コイル２は、中心軸Ｌ１の方向に重なる２つの層を有する。これらの各層には、渦巻状のパターンをなすように巻線２０ａ，２０ｂが形成されている。以下、光磁気ディスクＤに近い方の巻線２０ａを「第１層の巻線」と称し、対物レンズ１１ｂに近い方の巻線２０ｂを「第２層の巻線」と称する。図２においては、第１層の巻線２０ａを省略している。第１および第２層の巻線２０ａ，２０ｂは、それぞれ最外周の先端部分が誘電体膜６の側縁部まで引き出されており、コイル２への電力供給用の端子として形成されている（図２には、第２層の巻線２０ｂの最外周先端部分２０ｃが示されている）。また、第１および第２層の巻線２０ａ，２０ｂは、互いに最内周の先端部分が電気的に導通するように接続されている（図示略）。

磁性体３は、ニッケル、鉄、あるいはコバルトなどを主成分とする合金からなり、比較的高い飽和磁束密度を有している。この磁性体３は、半導体プロセスにより製造することが可能である。このような磁性体３は、コイル２によってつくられた磁界の分布範囲を偏らせ、その磁界を光磁気ディスクＤの方向に効率良く作用させるためのものである。磁性体３は、図２によく表われているように、コイル２の周方向に所定の間隔をあけて複数形成されており、その間隔を形成する各磁性体３の側面３０ａは、コイル２の径方向にほぼ沿うように形成されている。このような各磁性体３は、たとえばμｍ単位の膜厚からなる。上記側面３０ａを含む各磁性体３の外表面は、誘電体膜６によって覆われている。隣り合う２つの磁性体３の側面３０ａの間には、誘電体膜６が介在しつつ熱伝導体５が通り抜けるように設けられている。なお、コイルによってつくられる磁界が光磁気ディスクに対して所望とする強さで直接作用すれば、磁性体は特になくてもよい。

放熱体４は、誘電体膜６よりも熱伝導率が高い、銅、銀、あるいは金などの金属からなる。この放熱体４は、半導体プロセスにより製造することが可能である。放熱体４は、コイル２や磁性体３において発生した熱を放熱する機能に加え、熱伝導体５から伝えられる熱をも放熱する機能をもつ。放熱体４は、図２によく表われているように、コイル２の周方向に所定の間隔をあけて複数形成されており、コイル２や磁性体３の外周よりも外側に位置する。コイル２の周方向に所定の間隔を形成する各放熱体４の側面４０ａは、コイル２の径方向にほぼ沿うように形成されている。光磁気ディスクＤに対向する各放熱体４の上面４０ｂは、光磁気ディスクＤに対してできる限り近い位置に形成されている（図４参照）。このような各放熱体４は、コイル２や磁性体３の厚みよりも大きな厚みを有しており、上記側面４０ａおよび上面４０ｂを含む各放熱体４の外表面は、誘電体膜６によって覆われている。隣り合う２つの放熱体４の側面４０ａの間には、誘電体膜６が介在しつつ熱伝導体５が通り抜けるように設けられている。このような放熱体４は、図２および図４に示すように、コイル２の外周から間隔Ｔ１離れている。この間隔Ｔ１は、コイル２でつくられる磁界の作用を放熱体４がほとんど受けないような距離、つまり放熱体４を貫く磁束が磁性体３に比べて相当少なくなるような距離であり、たとえば１００μｍ以上である。なお、放熱体の上面は、誘電体膜の表面から露出していてもよい。

熱伝導体５は、たとえば放熱体４と同材質の銅、銀、あるいは金などの金属製であり、半導体プロセスにより製造することが可能である。この熱伝導体５は、コイル２で発生した熱が直接伝わるように設けられている。図２、３および図５によく表われているように、熱伝導体５は、コイル２の中心軸Ｌ１を中心として放射状に複数設けられており、各熱伝導体５の先端部５０ａは、コイル２の第２層の巻線２０ｂに接続されている。具体的には、全ての熱伝導体５の先端部５０ａは、第２層の巻線２０ｂの最内周から数えて２周目に接続されている。各熱伝導体５の中間部５０ｂは、第２層の巻線２０ｂに接することなくその下方側に位置し、コイル２の周方向に隣り合う２つの磁性体３の側面３０ａで挟まれた間隙を通ってコイル２の径方向外側へと伸びている。各熱伝導体５の末端部５０ｃは、コイル２の周方向に隣り合う２つの放熱体４の側面３０ａで挟まれた間隙に位置している。このような熱伝導体５の末端部５０ｃは、中間部５０ｂよりも厚みがあり、放熱体４と同程度の厚みを有するように形成されている。また、熱伝導体５の末端部５０ｃにおいて、放熱体４の側面４０ａに対向する面は、その側面４０ａと略同一形状となるように形成されている。第２層の巻線２０ｂに接続された熱伝導体５の先端部５０ａの一部を除き、熱伝導体５の外表面は、誘電体膜６によって覆われている。このような熱伝導体５は、図２に示すように、磁性体３および放熱体４の側面３０ａ，４０ａから間隔Ｔ２離れている。この間隔Ｔ２は、磁性体３や放熱体４に対して熱伝導体５が電気的に短絡することのない距離であるとともに、熱伝導体５の末端部５０ｃから誘電体膜６を介して放熱体４へと熱が効率良く伝わるのに適した距離であり、たとえば１０μｍ程度である。

誘電体膜６は、透光性を有する酸化アルミニウムあるいは酸化珪素などの誘電物質からなり、半導体プロセスにより製造することが可能である。コイル２、磁性体３、および放熱体４は、これらの間に誘電体膜６が介在することにより互いに絶縁されている。熱伝導体５の中間部５０ｂとコイル２や磁性体３との間、また、熱伝導体５の末端部５０ｃと放熱体４との間にも誘電体膜６が介在することにより、コイル２、磁性体３、および放熱体４の各々に対して熱伝導体５が絶縁されている。このような誘電体膜６の屈折率は、好ましくは基板６０や対物レンズ１１ｂの屈折率と略同一とされている。

次に、光磁気ヘッドＨの作用について説明する。

光磁気ヘッドＨを磁界変調記録方式により動作させて光磁気ディスクＤにデータを書き込む際には、光磁気ディスクＤを回転させながら、記録層８８における目的のトラック上にレーザ光を連続的に照射し、記録層８８の所定の磁性体をキュリー温度まで上昇させる。このとき、コイル２には、たとえば２０ＭＨｚ以上の高周波電流を流して磁束の方向を切り替える。これにより、記録層８８を構成する磁性体の磁化の向きを制御する。

上記レーザ光は、対物レンズ１１ｂからコイル２の中空部を通って光磁気ディスクＤの記録層８８へと収束するように導かれる。このとき、レーザ光は、コイル２における第２層の巻線２０ｂの最内周近傍を通る。第２層の巻線２０ｂにおいては、その最内周から２周目に熱伝導体５の先端部５０ａが接続されているため、レーザ光の一部が熱伝導体５の先端部５０ａによって遮られることはない。これにより、コイル２としては、レーザ光に適した理想的な大きさの中空部を有し、所望とする強さの磁界を発生しつつもできる限り内外径の小さなものとすることができる。また、対物レンズ１１ｂとしては、コイル２の中空部に対してレーザ光の入射角をできる限り大きくとることができ、開口数の比較的大きなものとすることができる。この開口数が大きくなると、記録層８８に形成されるレーザスポットの径が小さくなるため、データをより高密度に記録することができる。

電気的には、上記コイル２に高周波電流が流れる場合、隣り合う２つの熱伝導体５とそれらの間に位置する放熱体４とが電流の通路になりうる。しかしながら、隣り合う２つの熱伝導体５がコイル２の同一周（第２層の巻線２０ｂの最内周から数えて２周目）に接続されているため、これら２つの熱伝導体５には、電位差がほとんど生じない。また、熱伝導体５の末端部５０ｃと放熱体４の側面４０ａとは、１０μｍ程度の間隔Ｔ２をあけて離れているため、これら熱伝導体５と放熱体４との間に誘電分極が生じにくい。これにより、隣り合う２つの熱伝導体５とその間の放熱体４とによってコンデンサ回路が形成されることはない。

上記コイル２によってつくられる磁界は、その分布範囲が磁性体３によって偏向されることにより、光磁気ディスクＤの方向に効率良く作用する。このとき、磁性体３を磁束が貫く。一方、放熱体４や熱伝導体５には、磁性体３に比べてわずかな磁束しか通らない。特に、放熱体４や熱伝導体５の末端部５０ｃは、磁界の作用をほとんど受けないよう十分な間隔Ｔ１をもってコイル２から離れているため、磁束を通さない点において効果が高い。このような磁束の方向が変化することにより、磁性体３においては、磁束をうち消すように渦電流が発生する。この渦電流は、熱となって磁性体３の温度を上昇させる。その一方、放熱体４や熱伝導体５においては、これらを貫く磁束が比較的少なく、渦電流による発熱もほとんどない。そのため、放熱体４や熱伝導体５は、それ自体の渦電流によって温度が上昇することはない。

一方、高周波電流の通電に伴いコイル２で発生したほとんどの熱は、第２層の巻線２０ｂに接続された熱伝導体５に直接伝わる。コイル２で発生した一部の熱については、コイル２の外周から誘電体膜６を介して放熱体４に伝わる。また、磁性体３において渦電流により発生した熱は、誘電体膜６を介して熱伝導体５に伝わる。さらに熱伝導体５が受けた熱は、熱伝導体５の末端部５０ｃから誘電体膜６を介して放熱体４の側面４０ａへと伝わる。このような末端部５０ｃと側面４０ａとは、同一形状で互いに対向しているため、熱伝導体５から放熱体４へと効率良く熱が伝わっていく。このとき、放熱体４と光磁気ディスクＤとの間には、光磁気ディスクＤの回転に伴って高速空気流が発生している。放熱体４の上面４０ｂは、誘電体膜６の一部によって覆われつつも光磁気ディスクＤに対してできる限り近い位置にあるため、上記高速空気流によって積極的に冷却される。したがって、最終的に放熱体４が受けた熱は、放熱体４の上面４０ｂ側へと速やかに移動し、この放熱体４の上面４０ｂから外部（空気中）へと効率良く逃がされる。これにより、対物レンズ１１ｂや基板６０には、熱が伝わりにくい。

このように、放熱体４においては、渦電流によって発生する熱がほとんどなく、コイル２で発生した熱については、その大半が熱伝導体５を通じて放熱体４へと導かれ、最終的には放熱体４の上面４０ｂから放散される。そのため、放熱体４における渦電流の発熱が抑えられ、その分、放熱体４による放熱効果を高めることができる。また、放熱体４だけでなく熱伝導体５によってもコイル２の周辺における熱が効率良く排除されるため、対物レンズ１１ｂや基板６０に対する熱の作用が軽減する。その結果、対物レンズ１１ｂや基板６０の光学的特性、たとえば屈折率が熱の影響から変化してしまうといったおそれがなくなる。これにより、光磁気ディスクＤの記録層８８上には、適正な位置・大きさのレーザスポットを形成することができ、ひいてはデータの記録密度を高めることができる。

図６〜９は、本発明に係る光磁気ヘッドの他の実施形態を示している。これらの図において、上記実施形態の光磁気ヘッドと同一または類似の要素には、上記実施形態と同一符号を付している。

図６に示す構成においては、全ての熱伝導体５の先端部５０ａは、第２層の巻線２０ｂの最内周に接続されている。このような構成によれば、コイル２の中空部にこもった熱が熱伝導体５へと速やかに伝わりやすく、放熱効果をより高めることができる。

図７および図８に示す構成においては、全ての熱伝導体５の先端部５０ａは、第２層の巻線２０ｂの最外周に接続されている。図８によく表れているように、熱伝導体５には、コイル２と上下に重なる部分がなく、第２層の巻線２０ｂと同一層に各熱伝導体５の先端部５０ａおよび中間部５０ｂが形成されている。そのため、磁性体３は、図７によく表れているように、中空円板状の単一体として形成されている。ここで、第１および第２層の巻線２０ａ，２０ｂの最外周は、その長さに応じて電気抵抗が最も大きくなる部分であり、発熱量が最も多い部分でもある。

このような構成によれば、最も多くの熱を発生するコイル２の最外周に熱伝導体５が接続されているため、そのような熱が熱伝導体５を通じて速やかに逃がされることとなり、これによっても放熱効果をより高めることができる。また、半導体製造プロセスにおいては、コイル２と熱伝導体５との材質を同一とすることにより、コイルの一つの層（図７および図８の実施形態では第２層）と熱伝導体５の先端部５０ａおよび中間部５０ｂとを同時に形成することができ、これによりコストダウンや歩留まりの向上を図ることができる。

図９に示す構成においては、コイル２の周方向に隣り合う２つの熱伝導体５は、それぞれ先端部５０ａが第２層の巻線２０ｂの互いに異なる周に接続されている。また、隣り合う２つの熱伝導体５は、第２層の巻線２０ｂの２周以内に接続されている。ただし、第２層の巻線２０ｂの最内周には、いずれの熱伝導体５も接続されていない。

このような構成によれば、隣り合う２つの熱伝導体５に対しては、第２層の巻線２０ｂの全長のうち２周以内の長さが電気抵抗となりうる。しかしながら、その程度の長さであれば、隣り合う２つの熱伝導体５に生じる電位差については許容範囲内で無視することができる。したがって、このような構成によっても、隣り合う２つの熱伝導体５とその間の放熱体４とによってコンデンサ回路が形成されることを防ぐことができる。

なお、本発明の内容は、上述の実施形態に限定されない。本発明に係る光磁気ヘッドの各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。

たとえば、本発明に係る光磁気ヘッドは、光磁気ディスクに対して微小間隔を隔てて浮上するスライダを備え、かつこのスライダにコイルを設けたタイプの光磁気ヘッドとして構成することもできる。コイル、磁性体、放熱体、熱伝導体、誘電体膜は、半導体製造プロセスにより薄膜形成すれば、その製造が容易であるが、これに限定されない。

（付記１） ディスクに光スポットを形成するレンズと、このレンズと上記ディスクとの間に位置する磁界発生用のコイルとを備えている光磁気ヘッドであって、
上記コイルの巻線には、このコイルで発生した熱が伝わる熱伝導体が接続されており、かつ、
上記熱伝導体は、上記コイルの径方向外側へと伸長するように設けられていることを特徴とする、光磁気ヘッド。
（付記２） 上記熱伝導体は、上記コイルの最内周を形成する巻線に接続されている、付記１に記載の光磁気ヘッド。
（付記３） 上記熱伝導体は、上記コイルの最外周を形成する巻線に接続されている、付記１に記載の光磁気ヘッド。
（付記４） 上記熱伝導体は、上記コイルの最内周から数えて２周目を形成する巻線に接続されている、付記１に記載の光磁気ヘッド。
（付記５） 上記コイルの巻線は、複数の層ごとに渦巻状のパターンをなすように設けられているとともに、上記熱伝導体は、上記コイルの中心軸を中心として放射状に複数設けられており、かつ、上記複数の熱伝導体のうち周方向に隣り合う２つは、上記レンズに最も近い上記コイルの層において、この層内の最内周を除く互いに異なる周に接続されている、付記１に記載の光磁気ヘッド。
（付記６） 上記コイルの巻線は、複数の層ごとに渦巻状のパターンをなすように設けられているとともに、上記熱伝導体は、上記コイルの中心軸を中心として放射状に複数設けられており、かつ、上記複数の熱伝導体のうち周方向に隣り合う２つは、上記レンズに最も近い上記コイルの層において、この層内の２周以内に接続されている、付記１に記載の光磁気ヘッド。
（付記７） 上記コイルの最外周よりも外側には、このコイルから発生した熱を受けて放散する放熱体が設けられており、この放熱体には、上記コイルの径方向に沿う側面が形成されており、かつ、上記熱伝導体の一部は、上記放熱体の側面から絶縁可能な間隔離れて設けられている、付記１ないし６のいずれかに記載の光磁気ヘッド。
（付記８） 上記放熱体の側面から絶縁可能な間隔離れた上記熱伝導体の一部は、この放熱体の側面と同形状で対向する面を有するように形成されている、付記７に記載の光磁気ヘッド。
（付記９） 上記コイルと上記レンズとの間には、磁性体が設けられており、この磁性体には、上記コイルの径方向に沿う側面が形成されており、かつ、上記熱伝導体の一部は、上記磁性体の側面から絶縁可能な間隔離れて設けられている、付記１ないし８のいずれかに記載の光磁気ヘッド。
（付記１０） 付記１ないし９のいずれかに記載の光磁気ヘッドを備えたことを特徴とする、光磁気ディスク装置。

本発明の一実施形態を示す要部断面図である。 図１の矢視II−II平面図である。 図２の矢視III−III断面図である。 図２の矢視IV−IV断面図である。 図２のＶ−Ｖ切断部分の斜視図である。 本発明の他の実施形態を示す平面図である。 本発明の他の実施形態を示す平面図である。 図７の矢視VIII−VIII断面図である。 本発明の他の実施形態を示す平面図である。

符号の説明

Ｈ 光磁気ヘッド
Ｄ 光磁気ディスク
１１ａ，１１ｂ 対物レンズ
２ コイル
２０ａ，２０ｂ コイルの巻線
３ 磁性体
３０ａ 磁性体の側面
４ 放熱体
４０ａ 放熱体の側面
５ 熱伝導体
５０ｃ 熱伝導体の末端部
Ｌ１ コイルの中心軸

Claims (5)

1. ディスクに光スポットを形成するレンズと、このレンズと上記ディスクとの間に位置する磁界発生用のコイルとを備えている光磁気ヘッドであって、
   上記コイルの巻線には、このコイルで発生した熱が伝わる熱伝導体が接続されており、かつ、
   上記熱伝導体は、上記コイルの径方向外側へと伸長するように設けられていることを特徴とする、光磁気ヘッド。
2. 上記コイルの巻線は、複数の層ごとに渦巻状のパターンをなすように設けられているとともに、上記熱伝導体は、上記コイルの中心軸を中心として放射状に複数設けられており、かつ、上記複数の熱伝導体のうち周方向に隣り合う２つは、上記レンズに最も近い上記コイルの層において、この層内の最内周を除く互いに異なる周に接続されている、請求項１に記載の光磁気ヘッド。
3. 上記コイルの巻線は、複数の層ごとに渦巻状のパターンをなすように設けられているとともに、上記熱伝導体は、上記コイルの中心軸を中心として放射状に複数設けられており、かつ、上記複数の熱伝導体のうち周方向に隣り合う２つは、上記レンズに最も近い上記コイルの層において、この層内の２周以内に接続されている、請求項１に記載の光磁気ヘッド。
4. 上記コイルの最外周よりも外側には、このコイルから発生した熱を受けて放散する放熱体が設けられており、この放熱体には、上記コイルの径方向に沿う側面が形成されており、かつ、上記熱伝導体の一部は、上記放熱体の側面から絶縁可能な間隔離れて設けられている、請求項１ないし３のいずれかに記載の光磁気ヘッド。
5. 請求項１ないし４のいずれかに記載の光磁気ヘッドを備えたことを特徴とする、光磁気ディスク装置。

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