JP2005055553A - ミラー、温度調整機構付きミラー及び露光装置 - Google Patents
ミラー、温度調整機構付きミラー及び露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005055553A JP2005055553A JP2003206760A JP2003206760A JP2005055553A JP 2005055553 A JP2005055553 A JP 2005055553A JP 2003206760 A JP2003206760 A JP 2003206760A JP 2003206760 A JP2003206760 A JP 2003206760A JP 2005055553 A JP2005055553 A JP 2005055553A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- temperature
- substrate
- effective area
- adjustment mechanism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【課題】ミラーの剛性を確保しつつミラー全体を軽量化・コンパクト化できる、あるいは、ミラーの保持変形・熱変形を抑制できる等の利点を有するミラー等を提供する。
【解決手段】ミラー１１の反射面１２には、ミラー使用時に光の照射される有効領域１２Ａ、及び、ミラー使用時に光の照射されない非有効領域１２Ｂが設けられている。非有効領域１２Ｂの部分の基板の厚さの最小値ＴＢは、有効領域１２Ａの部分の基板の厚さの最小値ＴＡよりも薄い。そして、反射面１２とは反対側の面（裏面）には、ミラーの光学鏡筒への保持部１６ａ〜１６ｃから有効領域１２Ａの部分を結ぶように梁１５ａ〜１５ｃが形成されている。このミラー１１によれば、有効領域１２Ａの剛性を確保しつつ、ミラー全体の軽量化を実現でき、ミラーの変形を抑制することもできる。
【選択図】 図２
【解決手段】ミラー１１の反射面１２には、ミラー使用時に光の照射される有効領域１２Ａ、及び、ミラー使用時に光の照射されない非有効領域１２Ｂが設けられている。非有効領域１２Ｂの部分の基板の厚さの最小値ＴＢは、有効領域１２Ａの部分の基板の厚さの最小値ＴＡよりも薄い。そして、反射面１２とは反対側の面（裏面）には、ミラーの光学鏡筒への保持部１６ａ〜１６ｃから有効領域１２Ａの部分を結ぶように梁１５ａ〜１５ｃが形成されている。このミラー１１によれば、有効領域１２Ａの剛性を確保しつつ、ミラー全体の軽量化を実現でき、ミラーの変形を抑制することもできる。
【選択図】 図２
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光装置の光学系などに用いられるミラー、ならびに、温度調整機構付きミラーに関する。さらに、それらのようなミラーを備える露光装置に関する。
【０００２】
【背景技術】
近年のリソグラフィ技術においては、デバイスパターンの微細化に伴い、光の回折限界によって制限される投影光学系の解像力をさらに向上させることが望まれている。そのため、次世代露光技術の一つとして、軟Ｘ線又はＥＵＶ光（Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ光：極端紫外光）と呼ばれる数ｎｍ〜数１０ｎｍ（例えば１３ｎｍ程度）の波長のＸ線を使用したリソグラフィ技術の開発が進められている。
【０００３】
この技術は、光露光の延長上にある波長１９０ｎｍ程度の紫外線を用いた光リソグラフィでは実現不可能な、７０ｎｍ以下の解像力を得られる技術として期待されている。このＥＵＶ光は、ほとんどの物質に吸収されるため、ＥＵＶＬ露光装置の光学系では、透過型投影レンズ系を用いる光ステッパー等とは異なり、反射型投影レンズ系が用いられる。
【０００４】
図７は、ＥＵＶＬ露光装置の投影光学系に用いられる凹面型の反射ミラーの代表的な例を示す図である。（Ａ）は模式的な側面図であり、（Ｂ）は平面図である。
図７に示す反射ミラー１００は、側面の３箇所の保持部１０３、１０４、１０５を介して投影光学系鏡筒（図示されず）内に保持される。この反射ミラー１００は、低熱膨張ガラス等から成形されている。反射ミラー１００の反射面１０１には、ミラー使用時にＥＵＶ光の照射される有効領域１０１Ａ、及び、ミラー使用時にＥＵＶ光の照射されない非有効領域１０１Ｂが設けられている。この反射ミラー１００では、有効領域１０１Ａはミラー中心側に設けられており、非有効領域１０１Ｂは有効領域１０１Ａを囲んで外側に設けられている。
【０００５】
反射ミラー１００では、保持部１０３〜１０５の保持力が加わることに伴い、反射面１０１の形状精度が悪化する場合がある。そこで、この形状精度の悪化を極力低減するため、ミラー１００の外形を大きくしたり厚さを厚くしたりし、ミラー自身の剛性を高めるようにしている。さらに、ミラー１００の変形は、保持部１０３〜１０５の保持力が加わる個所で顕著に現れるため、保持部１０３〜１０５をミラー１００の側面に設けている。つまり、ミラー１００の外形を大きくして非有効領域１０１Ｂを広くし、保持部１０３〜１０５をミラー１００の側面に設けることで、ミラー１００の有効領域１０１Ａと保持部１０３〜１０５との距離を長くし、保持部１０３〜１０５における変形の影響が反射面１０１の有効領域１０１Ａに極力伝わらないようにしている。
【０００６】
ところで、反射ミラー１００の反射面１０１には、ＥＵＶ光の反射率を向上するためのＭｏ／Ｓｉ多層膜（一例）がコートされている。しかしながら、現状では、反射面１０１に多層膜をコートしたとしても１００％近い反射率は得られず（例えば反射率約６５％）、ＥＵＶ光１００のエネルギの一部（残りの約３５％）はミラー１００自身に吸収される。そして、その際に吸収される熱量によってミラー１００の温度が上昇して熱変形し、反射面１０１の形状精度が悪化（熱変形）するおそれがある。そこで、ミラー１００の裏面あるいは側面に冷却機構を設け、ミラー１００の温度上昇を抑制することが行われている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
前述したように、ミラー１００の外形や板厚を大きくすることは、剛性を高める上では有効であるが、ミラー１００全体の重量が大きくなるという欠点がある。これに対し、ミラー１００を軽量化するため、ミラー１００の一部を薄肉化したとすると、ミラー１００の剛性が低下してしまう。そして、ミラー１００の剛性が低下すると、ミラー１００にＥＵＶ光が照射された際の熱の吸収により、ミラー１００が変形し易くなるという問題が起こる。
【０００８】
あるいは、ガラス製のミラーは熱伝導率が低いため、冷却機構でミラーの側面や裏面を冷却しても、ＥＵＶ光が直接照射される反射面の温度上昇を充分に抑制しきれず、冷却効率を高めにくいという問題もある。特に、ミラーの外形や板厚を大きくする場合には、ミラー側面・裏面（冷却面）とミラー反射面（温度上昇面）との距離が長くなるため、冷却効率が一層悪化するという問題が起こる。そして、ミラーの冷却効率が低く、熱変形が生じ易いとなると、投影光学系の波面収差の劣化等が引き起こされるという問題がある。
【０００９】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであって、ミラーの剛性を確保しつつミラー全体を軽量化・コンパクト化できる、あるいは、ミラーの保持変形・熱変形を抑制できる等の利点を有するミラー等を提供することを目的とする。さらに、そのようなミラーを備える露光装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するため、本発明のミラーは、基板及びその一方の面に形成された反射面を有するミラーであって、 該反射面には、ミラー使用時に光の照射される有効領域、及び、ミラー使用時に光の照射されない非有効領域が設けられており、 該非有効領域の部分の基板の厚さの最小値が、前記有効領域の部分の基板の厚さの最小値よりも薄くなるよう構成されており、 ミラー外周域には、該ミラーを光学鏡筒に保持する部分が設けられており、 前記基板の反射面とは反対側の面（裏面）に、前記保持部分から前記有効領域の部分を結ぶように梁が形成されていることを特徴とする。
【００１１】
このミラーによれば、非有効領域の部分の基板の厚さの最小値が、有効領域の部分の基板の厚さの最小値よりも薄くなるよう構成されているので、ミラーの有効領域の剛性を確保しつつ、ミラー全体の軽量化を実現できる。それでいて、保持部分から有効領域の部分を結ぶ梁の部分ではミラーの厚さが大きくなるので、ミラーの変形を抑制することもできる。
なお、前記梁は、その中心線がミラーの有効領域の重心位置附近を通過するように形成することが好ましい。こうすることにより、ミラーの保持変形を抑制し易くなる利点がある。
【００１２】
本発明の温度調整機構付きミラーは、基板及びその一方の面に形成された反射面を有するミラーであって、 該反射面には、ミラー使用時に光の照射される有効領域、及び、ミラー使用時に光の照射されない非有効領域が設けられており、
該非有効領域の部分の基板の厚さの最小値が、前記有効領域の部分の基板の厚さの最小値よりも薄くなるよう構成されており、 ミラー外周域には、該ミラーを光学鏡筒に保持する部分が設けられており、 前記有効領域の部分の基板の裏面及び側面に、温度調整機構が設けられていることを特徴とする。
【００１３】
この温度調整機構付きミラーによれば、非有効領域の部分の基板の厚さの最小値が、有効領域の部分の基板の厚さの最小値よりも薄くなっているので（つまり、非有効領域の部分の厚さが薄いので）、非有効領域の部分では、温度調整機構の設けられる裏面と反射面の距離が短い。また、有効領域の部分の裏面に段部ができる場合には、その段部の側面を冷やすこともできる。そのため、温度調整機構によるミラーの冷却効率を向上することができる。あるいは、非有効領域の部分の板厚を薄くすることによって生じたスペースに温度調整機構の一部を配置することができるので、ミラー全体をコンパクト化できる利点もある。
【００１４】
本発明の温度調整機構付きミラーにおいては、前記反射面の有効領域の温度をＴ１、前記有効領域の部分の基板の側面の温度をＴ２、前記有効領域の部分の基板の裏面の温度をＴ３とすると、
Ｔ１≧Ｔ３＞Ｔ２
となるように前記温度調整機構が作動することができる。
この場合、ミラー内部において、等温線がミラー軸（基板の厚さ方向）と平行に近くなるような温度分布を生じさせることができる。その結果、ミラー厚さ方向の温度分布が小さくなるので、ミラーが厚さ方向に開く形態の変形を抑制できる（詳しくは図５を参照しつつ後述する）。なお、ミラーの半径方向の温度勾配によって生じる変形は、横方向への膨張にしかならないので、ミラー面形状の誤差に与える影響は比較的少なくて済む。このようにして、ミラーの熱変形を抑制できることで、光学系の波面収差の劣化等を抑制できる。
【００１５】
本発明の温度調整機構付きミラーにおいては、前記温度調整機構により、前記有効領域の部分の基板内に、基板厚さ方向に等温線が延び、その直角方向に温度勾配が生じる温度分布が形成されるものとすることができる。
このような温度分布によれば、ミラーの変形をより一層抑制できるので、光学系の波面収差の劣化等を一層抑制できる。
【００１６】
本発明の温度調整機構付きミラーにおいては、前記温度調整機構が、前記有効領域の部分の基板の裏面及び側面近傍に配置される複数の輻射板を有し、これら輻射板がそれぞれ個別に制御可能となっていることも好ましい。
この場合、ミラーの細部ごとに応じた温度制御が可能となる。
【００１７】
本発明の露光装置は、光学鏡筒と、 該鏡筒の外面に固定されるミラーと、を具備し、 前記ミラーが、前記請求項１記載のミラー、あるいは、前記請求項２〜５いずれか１項記載の温度調整機構付きミラーからなることを特徴とする。
なお、本発明における光学系に用いられるエネルギ線は特に限定されない。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係る凹面ミラーを示す図である。（Ａ）は模式的な側面図であり、（Ｂ）は裏面図である。
図２は、本発明の他の実施の形態に係るミラー（回転非対称型）を示す図である。（Ａ）は上面図であり、（Ｂ）は模式的な側面図であり、（Ｃ）は裏面図である。
図３は、本発明の他の実施の形態に係る温度調整機構付きミラー（回転非対称型）を示す図である。（Ａ）は側面断面図であり、（Ｂ）は裏面図である。
図４は、本発明に係る温度調整機構付きミラーを用いたＥＵＶＬ露光装置の６枚投影系の構成を示す模式図である。
【００１９】
図１に示すミラー１の本体（基板）は低熱膨張ガラス製であり、凹面状の反射面２を備えている。このミラー１の反射面２には、ミラー使用時にＥＵＶ光の照射される有効領域２Ａ、及び、ミラー使用時にＥＵＶ光の照射されない非有効領域２Ｂが設けられている。このミラー１では、有効領域２Ａはミラー中心側に設けられており、非有効領域２Ｂは有効領域の外側に設けられている。反射面２には、ＥＵＶ光の反射率を向上するためのＭｏ／Ｓｉ多層膜がコートされている。
【００２０】
ミラー１の裏面側（反射面２と反対側）において、有効領域２Ａの部分に対応する箇所には、円柱状の突部３が一体形成されている。このミラー１においては、非有効領域２Ｂの部分の基板の厚さの最小値ＴＢが、有効領域２Ａの部分の基板の厚さの最小値ＴＡよりも薄くなるよう構成されている（図１（Ａ）参照）。
ミラー１の非有効領域２Ｂの裏側２′及び突部３の側面３′間には、この例での側面３′からミラー１外周に向けて放射状に張り出した梁５ａ〜５ｃが形成されている。各梁５ａ〜５ｃの先端において、ミラー１側面には保持部６ａ〜６ｃが形成されている。これらの保持部６ａ〜６ｃは、ミラー１を露光装置の光学鏡筒に保持する際に用いられる。
【００２１】
図２に示すミラー１１も低熱膨張ガラス製である。このミラー１１は、回転非対称ミラーであって、側面の一部に切り欠き部１１ａが形成されており、非球面軸に対して反射面１２の有効領域１２Ａが偏心している点で、図１のミラー１と大きく異なる。ミラー１１の裏面側の突部１３は、有効領域１２Ａの偏心形状に対応した断面を有する形状となっている（図２（Ｃ）参照）。
【００２２】
図２（Ｂ）に示すように、このミラー１１の有効領域１２Ａの最小厚さはＴＡ＝４５ｍｍに設定されており、非有効領域１２Ｂの最小厚さはＴＢ＝１５ｍｍに設定されている。このミラー１１にも、前述と同様に３つの梁１５ａ〜１５ｃが設けられている。各梁１５ａ〜１５ｃの厚さＴＣは、それぞれ１５ｍｍとなっている。図２（Ｃ）に示すように、各梁１５ａ〜１５ｃの中心線は、反射面１２の有効領域１２Ａの重心Ｃを通過するように設定されている。こうすることにより、ミラー１１側面の保持部１６ａ〜１６ｃ附近に生じるミラー１１の保持変形を抑制し易くなる。
【００２３】
図３に示す温度調整機構付きミラーは、図２を用いて前述したミラー１１において、突部１３の側面及び裏面の近傍に、複数枚に分割された輻射板２８Ｓ（側面側）、２８Ｂ（裏面側）が配置されたものである。各輻射板２８Ｓ、２８Ｂは、厚さ３ｍｍ程度の、輻射率の高い石英板からなる。各輻射板２８Ｓ、２８Ｂには、それぞれ個別に液冷ジャケット、ヒートパイプ、ペルチエ素子等の温度調整部材２９Ｓ、２９Ｂに接続されており、個別に温度制御可能となっている。これら輻射板２８Ｓ、２８Ｂと液冷ジャケット等により、温度調整機構が構成される。
なお、この温度調整機構を用いた温度制御の具体例は、後に図５及び図６を用いて詳細に説明する。
【００２４】
図４には、本発明に係るミラーを用いたＥＵＶＬ露光装置の投影光学系鏡筒４０の内部構成が模式的に描かれている。
図４に示す投影光学系鏡筒４０内には、計６枚のミラーＭ１〜Ｍ６が配置されている。各ミラーは、上流側から順に、第１ミラーＭ１（凹球面ミラー）、第２ミラーＭ２（凸球面ミラー）、第３ミラーＭ３（回転非対称凹面ミラー）、第４ミラーＭ４（回転非対称凹面ミラー）、第５ミラーＭ５（回転非対称凸面ミラー）、第６ミラーＭ６（回転非対称凹面ミラー）からなる。各ミラーＭ１〜Ｍ６には、図３を用いて前述したような輻射板（＋液冷ジャケット等）からなる温度調整機構Ｃ１Ｓ〜Ｃ６Ｓ（側面側）、及び、Ｃ１Ｂ〜Ｃ６Ｂ（裏面側）が設けられている。
【００２５】
この投影光学系鏡筒４０の上流側にはレチクル（パターン原版）Ｒが配置されており、下流側にはウェハ（感応基板）Ｗが配置されている。レチクルＲには、図示せぬ照明光学系からＥＵＶ光ｅが照射される。このＥＵＶ光ｅは、レチクルＲのパターン面で反射して投影光学系鏡筒４０内に入射し、各ミラーＭ１〜Ｍ６の反射面で反射した後、ウェハＷ上面に導かれる。
なお、本実施の形態では投影光学系鏡筒４０のみについて説明しているが、照明光学系鏡筒内においても同様に行うことができる。
【００２６】
次に、本発明に係るミラーの温度制御例について説明する。
図５は、本発明に係る温度調整機構付きミラーの温度制御例を説明するための説明図である。（Ａ）は本発明に係る温度調整機構付きミラーの断面図であり、（Ｂ）及び（Ｃ）はミラーの温度と距離との関係を示すグラフ（縦軸：温度、横軸：距離）であり、（Ｄ）はミラーの変形の形態を模式的に示す図である。
図６は、現状の温度調整機構付きミラーの温度制御例を説明するための説明図である。（Ａ）は現状の温度調整機構付きミラーの断面図であり、（Ｂ）及び（Ｃ）はミラーの温度と距離との関係を示すグラフ（縦軸：温度、横軸：距離）であり、（Ｄ）はミラーの変形の形態を模式的に示す図である。
なお、以下の説明におけるＸ方向及びＹ方向は、図５（Ａ）あるいは図６（Ａ）に示す矢印方向を指すものとする。
【００２７】
図５（Ａ）に示す本発明に係るミラー５１は、図１〜図３を用いて前述したように、裏面側の有効領域５２Ａの部分に対応する箇所に突部５３が一体形成されており、非有効領域５２Ｂの部分の基板の厚さの最小値が、有効領域５２Ａの部分の基板の厚さの最小値ＴＡよりも薄くなっている。そして、突部５３の側面及び裏面の近傍には、輻射板（＋液冷ジャケット等）の温度調整機構５８Ｓ、５８Ｂが配置されている。突部５３と温度調整機構５８Ｓ、５８Ｂとの間には若干の隙間が存在する。この隙間により、温度冷却機構５８Ｓ、５８Ｂから突部５３に力が加わらないようになっている。
【００２８】
このミラー５１において、反射面の有効領域５２Ａの温度をＴ１とし、突部５３の側面の温度をＴ２とし、突部５３の裏面の温度をＴ３とする。反射面の有効領域５２Ａの温度Ｔ１は、光の入射によって上昇する。一方、突部５３の側面の温度Ｔ２、及び、突部５３の裏面の温度Ｔ３は、それぞれ温度調整機構５８Ｓ、５８Ｂによって個別に温度制御可能である。そこで、これらの各温度Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３が、
Ｔ１≧Ｔ３＞Ｔ２
を満たすように、各温度調整機構５８Ｓ、５８Ｂを作動させる。例えば、突部５３の裏面の温度調整機構５８Ｂを加熱作動して、突部５３の裏面の温度Ｔ３が反射面の有効領域５２Ａの温度Ｔ１近くになるようにし、突部５３の側面の温度調整機構Ｔ２を冷却作動して、突部５３の側面の温度Ｔ２が突部５３の裏面の温度Ｔ３よりも低くなるようにする。
【００２９】
このような温度制御を行うと、ミラー５１内部において、等温線（図中点線で示す）がミラー軸（一点鎖線で示す：基板の厚さ方向）と平行になるような温度分布を生じさせることができる。その結果、ミラー厚さ方向（Ｙ方向）の温度分布が小さくなるので、図５（Ｃ）に示すように、Ｙ方向の変形量はほとんど変化しない。一方、ミラー半径方向（Ｘ方向）には、図５（Ｂ）に示す温度勾配によって変形が生じるが、これはＸ方向への膨張にしかならない。したがって、ミラー５１には、図５（Ｄ）に２点差線で示すような形態の熱変形（径方向に単に大きくなる形態）しか起こらず、ミラー５１が厚さ方向に開く形態の変形を抑制できる。
【００３０】
これに対し、図６（Ａ）に示す現状のミラー６１は、ミラー本体の厚さを設定せず、側面及び裏面のそれぞれに単に温度調整機構６８Ｓ、６８Ｂを配置したのみの構成である。このような構成において温度調整機構６８Ｓ、６８Ｂを作動させてミラー６１の側面や裏面を冷却しても、有効領域６２Ａの温度上昇を充分に抑制しきれず、冷却効率を高めにくい。そのため、ミラー６１の内部では、反射面側が高温で且つ側面・裏面が低温の、ミラー軸（基板の厚さ方向）に弧状に広がった温度分布が生じることとなる（図６（Ａ）参照）。その結果、ミラー厚さ方向（Ｙ方向）には図６（Ｃ）に示すような温度勾配に伴う変形が生じ、ミラー半径方向（Ｘ方向）には図６（Ｂ）に示す温度勾配に伴う変形が生じる。したがって、ミラー６１には、図６（Ｄ）に示すような、厚さ方向に開く形態の変形が生じてしまう。
【００３１】
前述した図４の投影光学系鏡筒４０内の各ミラーＭ１〜Ｍ６についても、図５を参照しつつ述べた通り、
Ｔ１≧Ｔ３＞Ｔ２
の関係を満たすように各温度調整機構Ｃ１Ｓ〜Ｃ６Ｓ、Ｃ１Ｂ〜Ｃ６Ｂを作動させる。具体的には、例えば第１ミラーＭ１について、裏面側の温度調整機構Ｃ１Ｂの温度を温度Ｔ３よりも約５度高く設定し、側面側の温度調整機構Ｃ１Ｓの温度を温度Ｔ２よりも約８度低く設定した場合、露光時の第１ミラーＭ１の反射面の温度上昇を最大で約０．５度に抑えることができた。
【００３２】
さらに、温度Ｔ３が温度Ｔ１と概ね同じ温度となるように温度調整機構Ｃ１Ｂ〜Ｃ６Ｂを作動させて、ミラー表裏の温度差が概ね０となるように維持し、温度Ｔ２が約０・３度低下するように温度調整機構Ｃ１Ｓ〜Ｃ６Ｓを作動させて、ミラー内部の平均温度上昇量が約０度となるように制御すると、ミラーの熱変形に伴う波面収差の悪化等を最小限に抑えることができた。
【００３３】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、ミラーの剛性を確保しつつミラー全体を軽量化・コンパクト化できる、あるいは、ミラーの保持変形・熱変形を抑制できる等の利点を有するミラー、温度調整機構付きミラー等を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る凹面ミラーを示す図である。（Ａ）は模式的な側面図であり、（Ｂ）は裏面図である。
【図２】本発明の他の実施の形態に係るミラー（回転非対称型）を示す図である。（Ａ）は上面図であり、（Ｂ）は模式的な側面図であり、（Ｃ）は裏面図である。
【図３】本発明の他の実施の形態に係る温度調整機構付きミラー（回転非対称型）を示す図である。（Ａ）は側面断面図であり、（Ｂ）は裏面図である。
【図４】本発明に係る温度調整機構付きミラーを用いたＥＵＶＬ露光装置の６枚投影系の構成を示す模式図である。
【図５】本発明に係る温度調整機構付きミラーの温度制御例を説明するための説明図である。（Ａ）は本発明に係る温度調整機構付きミラーの断面図であり、（Ｂ）及び（Ｃ）はミラーの温度と距離との関係を示すグラフ（縦軸：温度、横軸：距離）であり、（Ｄ）はミラーの変形の形態を模式的に示す図である。
【図６】現状の温度調整機構付きミラーの温度制御例を説明するための説明図である。（Ａ）は現状の温度調整機構付きミラーの断面図であり、（Ｂ）及び（Ｃ）はミラーの温度と距離との関係を示すグラフ（縦軸：温度、横軸：距離）であり、（Ｄ）はミラーの変形の形態を模式的に示す図である。
【図７】ＥＵＶＬ露光装置の投影光学系に用いられる凹面型の反射ミラーの代表的な例を示す図である。（Ａ）は模式的な側面図であり、（Ｂ）は平面図である。
【符号の説明】
１ ミラー ２ 反射面
２Ａ 有効領域 ２Ｂ 非有効領域
３ 突部 ５ａ〜５ｃ 梁
６ａ〜６ｃ 保持部
１１ ミラー １２ 反射面
１２Ａ 有効領域 １２Ｂ 非有効領域
１３ 突部 １５ａ〜１５ｃ 梁
１６ａ〜１６ｃ 保持部 ２８Ｓ、２８Ｂ 輻射板
２９Ｓ、２９Ｂ 温度調整部材
４０ 投影光学系鏡筒 Ｍ１〜Ｍ６ ミラー
Ｃ１Ｓ〜Ｃ６Ｓ、Ｃ１Ｂ〜Ｃ６Ｂ 温度調整機構
Ｒ レチクル（パターン原版） Ｗ ウェハ（感応基板）
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光装置の光学系などに用いられるミラー、ならびに、温度調整機構付きミラーに関する。さらに、それらのようなミラーを備える露光装置に関する。
【０００２】
【背景技術】
近年のリソグラフィ技術においては、デバイスパターンの微細化に伴い、光の回折限界によって制限される投影光学系の解像力をさらに向上させることが望まれている。そのため、次世代露光技術の一つとして、軟Ｘ線又はＥＵＶ光（Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ光：極端紫外光）と呼ばれる数ｎｍ〜数１０ｎｍ（例えば１３ｎｍ程度）の波長のＸ線を使用したリソグラフィ技術の開発が進められている。
【０００３】
この技術は、光露光の延長上にある波長１９０ｎｍ程度の紫外線を用いた光リソグラフィでは実現不可能な、７０ｎｍ以下の解像力を得られる技術として期待されている。このＥＵＶ光は、ほとんどの物質に吸収されるため、ＥＵＶＬ露光装置の光学系では、透過型投影レンズ系を用いる光ステッパー等とは異なり、反射型投影レンズ系が用いられる。
【０００４】
図７は、ＥＵＶＬ露光装置の投影光学系に用いられる凹面型の反射ミラーの代表的な例を示す図である。（Ａ）は模式的な側面図であり、（Ｂ）は平面図である。
図７に示す反射ミラー１００は、側面の３箇所の保持部１０３、１０４、１０５を介して投影光学系鏡筒（図示されず）内に保持される。この反射ミラー１００は、低熱膨張ガラス等から成形されている。反射ミラー１００の反射面１０１には、ミラー使用時にＥＵＶ光の照射される有効領域１０１Ａ、及び、ミラー使用時にＥＵＶ光の照射されない非有効領域１０１Ｂが設けられている。この反射ミラー１００では、有効領域１０１Ａはミラー中心側に設けられており、非有効領域１０１Ｂは有効領域１０１Ａを囲んで外側に設けられている。
【０００５】
反射ミラー１００では、保持部１０３〜１０５の保持力が加わることに伴い、反射面１０１の形状精度が悪化する場合がある。そこで、この形状精度の悪化を極力低減するため、ミラー１００の外形を大きくしたり厚さを厚くしたりし、ミラー自身の剛性を高めるようにしている。さらに、ミラー１００の変形は、保持部１０３〜１０５の保持力が加わる個所で顕著に現れるため、保持部１０３〜１０５をミラー１００の側面に設けている。つまり、ミラー１００の外形を大きくして非有効領域１０１Ｂを広くし、保持部１０３〜１０５をミラー１００の側面に設けることで、ミラー１００の有効領域１０１Ａと保持部１０３〜１０５との距離を長くし、保持部１０３〜１０５における変形の影響が反射面１０１の有効領域１０１Ａに極力伝わらないようにしている。
【０００６】
ところで、反射ミラー１００の反射面１０１には、ＥＵＶ光の反射率を向上するためのＭｏ／Ｓｉ多層膜（一例）がコートされている。しかしながら、現状では、反射面１０１に多層膜をコートしたとしても１００％近い反射率は得られず（例えば反射率約６５％）、ＥＵＶ光１００のエネルギの一部（残りの約３５％）はミラー１００自身に吸収される。そして、その際に吸収される熱量によってミラー１００の温度が上昇して熱変形し、反射面１０１の形状精度が悪化（熱変形）するおそれがある。そこで、ミラー１００の裏面あるいは側面に冷却機構を設け、ミラー１００の温度上昇を抑制することが行われている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
前述したように、ミラー１００の外形や板厚を大きくすることは、剛性を高める上では有効であるが、ミラー１００全体の重量が大きくなるという欠点がある。これに対し、ミラー１００を軽量化するため、ミラー１００の一部を薄肉化したとすると、ミラー１００の剛性が低下してしまう。そして、ミラー１００の剛性が低下すると、ミラー１００にＥＵＶ光が照射された際の熱の吸収により、ミラー１００が変形し易くなるという問題が起こる。
【０００８】
あるいは、ガラス製のミラーは熱伝導率が低いため、冷却機構でミラーの側面や裏面を冷却しても、ＥＵＶ光が直接照射される反射面の温度上昇を充分に抑制しきれず、冷却効率を高めにくいという問題もある。特に、ミラーの外形や板厚を大きくする場合には、ミラー側面・裏面（冷却面）とミラー反射面（温度上昇面）との距離が長くなるため、冷却効率が一層悪化するという問題が起こる。そして、ミラーの冷却効率が低く、熱変形が生じ易いとなると、投影光学系の波面収差の劣化等が引き起こされるという問題がある。
【０００９】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであって、ミラーの剛性を確保しつつミラー全体を軽量化・コンパクト化できる、あるいは、ミラーの保持変形・熱変形を抑制できる等の利点を有するミラー等を提供することを目的とする。さらに、そのようなミラーを備える露光装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するため、本発明のミラーは、基板及びその一方の面に形成された反射面を有するミラーであって、 該反射面には、ミラー使用時に光の照射される有効領域、及び、ミラー使用時に光の照射されない非有効領域が設けられており、 該非有効領域の部分の基板の厚さの最小値が、前記有効領域の部分の基板の厚さの最小値よりも薄くなるよう構成されており、 ミラー外周域には、該ミラーを光学鏡筒に保持する部分が設けられており、 前記基板の反射面とは反対側の面（裏面）に、前記保持部分から前記有効領域の部分を結ぶように梁が形成されていることを特徴とする。
【００１１】
このミラーによれば、非有効領域の部分の基板の厚さの最小値が、有効領域の部分の基板の厚さの最小値よりも薄くなるよう構成されているので、ミラーの有効領域の剛性を確保しつつ、ミラー全体の軽量化を実現できる。それでいて、保持部分から有効領域の部分を結ぶ梁の部分ではミラーの厚さが大きくなるので、ミラーの変形を抑制することもできる。
なお、前記梁は、その中心線がミラーの有効領域の重心位置附近を通過するように形成することが好ましい。こうすることにより、ミラーの保持変形を抑制し易くなる利点がある。
【００１２】
本発明の温度調整機構付きミラーは、基板及びその一方の面に形成された反射面を有するミラーであって、 該反射面には、ミラー使用時に光の照射される有効領域、及び、ミラー使用時に光の照射されない非有効領域が設けられており、
該非有効領域の部分の基板の厚さの最小値が、前記有効領域の部分の基板の厚さの最小値よりも薄くなるよう構成されており、 ミラー外周域には、該ミラーを光学鏡筒に保持する部分が設けられており、 前記有効領域の部分の基板の裏面及び側面に、温度調整機構が設けられていることを特徴とする。
【００１３】
この温度調整機構付きミラーによれば、非有効領域の部分の基板の厚さの最小値が、有効領域の部分の基板の厚さの最小値よりも薄くなっているので（つまり、非有効領域の部分の厚さが薄いので）、非有効領域の部分では、温度調整機構の設けられる裏面と反射面の距離が短い。また、有効領域の部分の裏面に段部ができる場合には、その段部の側面を冷やすこともできる。そのため、温度調整機構によるミラーの冷却効率を向上することができる。あるいは、非有効領域の部分の板厚を薄くすることによって生じたスペースに温度調整機構の一部を配置することができるので、ミラー全体をコンパクト化できる利点もある。
【００１４】
本発明の温度調整機構付きミラーにおいては、前記反射面の有効領域の温度をＴ１、前記有効領域の部分の基板の側面の温度をＴ２、前記有効領域の部分の基板の裏面の温度をＴ３とすると、
Ｔ１≧Ｔ３＞Ｔ２
となるように前記温度調整機構が作動することができる。
この場合、ミラー内部において、等温線がミラー軸（基板の厚さ方向）と平行に近くなるような温度分布を生じさせることができる。その結果、ミラー厚さ方向の温度分布が小さくなるので、ミラーが厚さ方向に開く形態の変形を抑制できる（詳しくは図５を参照しつつ後述する）。なお、ミラーの半径方向の温度勾配によって生じる変形は、横方向への膨張にしかならないので、ミラー面形状の誤差に与える影響は比較的少なくて済む。このようにして、ミラーの熱変形を抑制できることで、光学系の波面収差の劣化等を抑制できる。
【００１５】
本発明の温度調整機構付きミラーにおいては、前記温度調整機構により、前記有効領域の部分の基板内に、基板厚さ方向に等温線が延び、その直角方向に温度勾配が生じる温度分布が形成されるものとすることができる。
このような温度分布によれば、ミラーの変形をより一層抑制できるので、光学系の波面収差の劣化等を一層抑制できる。
【００１６】
本発明の温度調整機構付きミラーにおいては、前記温度調整機構が、前記有効領域の部分の基板の裏面及び側面近傍に配置される複数の輻射板を有し、これら輻射板がそれぞれ個別に制御可能となっていることも好ましい。
この場合、ミラーの細部ごとに応じた温度制御が可能となる。
【００１７】
本発明の露光装置は、光学鏡筒と、 該鏡筒の外面に固定されるミラーと、を具備し、 前記ミラーが、前記請求項１記載のミラー、あるいは、前記請求項２〜５いずれか１項記載の温度調整機構付きミラーからなることを特徴とする。
なお、本発明における光学系に用いられるエネルギ線は特に限定されない。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係る凹面ミラーを示す図である。（Ａ）は模式的な側面図であり、（Ｂ）は裏面図である。
図２は、本発明の他の実施の形態に係るミラー（回転非対称型）を示す図である。（Ａ）は上面図であり、（Ｂ）は模式的な側面図であり、（Ｃ）は裏面図である。
図３は、本発明の他の実施の形態に係る温度調整機構付きミラー（回転非対称型）を示す図である。（Ａ）は側面断面図であり、（Ｂ）は裏面図である。
図４は、本発明に係る温度調整機構付きミラーを用いたＥＵＶＬ露光装置の６枚投影系の構成を示す模式図である。
【００１９】
図１に示すミラー１の本体（基板）は低熱膨張ガラス製であり、凹面状の反射面２を備えている。このミラー１の反射面２には、ミラー使用時にＥＵＶ光の照射される有効領域２Ａ、及び、ミラー使用時にＥＵＶ光の照射されない非有効領域２Ｂが設けられている。このミラー１では、有効領域２Ａはミラー中心側に設けられており、非有効領域２Ｂは有効領域の外側に設けられている。反射面２には、ＥＵＶ光の反射率を向上するためのＭｏ／Ｓｉ多層膜がコートされている。
【００２０】
ミラー１の裏面側（反射面２と反対側）において、有効領域２Ａの部分に対応する箇所には、円柱状の突部３が一体形成されている。このミラー１においては、非有効領域２Ｂの部分の基板の厚さの最小値ＴＢが、有効領域２Ａの部分の基板の厚さの最小値ＴＡよりも薄くなるよう構成されている（図１（Ａ）参照）。
ミラー１の非有効領域２Ｂの裏側２′及び突部３の側面３′間には、この例での側面３′からミラー１外周に向けて放射状に張り出した梁５ａ〜５ｃが形成されている。各梁５ａ〜５ｃの先端において、ミラー１側面には保持部６ａ〜６ｃが形成されている。これらの保持部６ａ〜６ｃは、ミラー１を露光装置の光学鏡筒に保持する際に用いられる。
【００２１】
図２に示すミラー１１も低熱膨張ガラス製である。このミラー１１は、回転非対称ミラーであって、側面の一部に切り欠き部１１ａが形成されており、非球面軸に対して反射面１２の有効領域１２Ａが偏心している点で、図１のミラー１と大きく異なる。ミラー１１の裏面側の突部１３は、有効領域１２Ａの偏心形状に対応した断面を有する形状となっている（図２（Ｃ）参照）。
【００２２】
図２（Ｂ）に示すように、このミラー１１の有効領域１２Ａの最小厚さはＴＡ＝４５ｍｍに設定されており、非有効領域１２Ｂの最小厚さはＴＢ＝１５ｍｍに設定されている。このミラー１１にも、前述と同様に３つの梁１５ａ〜１５ｃが設けられている。各梁１５ａ〜１５ｃの厚さＴＣは、それぞれ１５ｍｍとなっている。図２（Ｃ）に示すように、各梁１５ａ〜１５ｃの中心線は、反射面１２の有効領域１２Ａの重心Ｃを通過するように設定されている。こうすることにより、ミラー１１側面の保持部１６ａ〜１６ｃ附近に生じるミラー１１の保持変形を抑制し易くなる。
【００２３】
図３に示す温度調整機構付きミラーは、図２を用いて前述したミラー１１において、突部１３の側面及び裏面の近傍に、複数枚に分割された輻射板２８Ｓ（側面側）、２８Ｂ（裏面側）が配置されたものである。各輻射板２８Ｓ、２８Ｂは、厚さ３ｍｍ程度の、輻射率の高い石英板からなる。各輻射板２８Ｓ、２８Ｂには、それぞれ個別に液冷ジャケット、ヒートパイプ、ペルチエ素子等の温度調整部材２９Ｓ、２９Ｂに接続されており、個別に温度制御可能となっている。これら輻射板２８Ｓ、２８Ｂと液冷ジャケット等により、温度調整機構が構成される。
なお、この温度調整機構を用いた温度制御の具体例は、後に図５及び図６を用いて詳細に説明する。
【００２４】
図４には、本発明に係るミラーを用いたＥＵＶＬ露光装置の投影光学系鏡筒４０の内部構成が模式的に描かれている。
図４に示す投影光学系鏡筒４０内には、計６枚のミラーＭ１〜Ｍ６が配置されている。各ミラーは、上流側から順に、第１ミラーＭ１（凹球面ミラー）、第２ミラーＭ２（凸球面ミラー）、第３ミラーＭ３（回転非対称凹面ミラー）、第４ミラーＭ４（回転非対称凹面ミラー）、第５ミラーＭ５（回転非対称凸面ミラー）、第６ミラーＭ６（回転非対称凹面ミラー）からなる。各ミラーＭ１〜Ｍ６には、図３を用いて前述したような輻射板（＋液冷ジャケット等）からなる温度調整機構Ｃ１Ｓ〜Ｃ６Ｓ（側面側）、及び、Ｃ１Ｂ〜Ｃ６Ｂ（裏面側）が設けられている。
【００２５】
この投影光学系鏡筒４０の上流側にはレチクル（パターン原版）Ｒが配置されており、下流側にはウェハ（感応基板）Ｗが配置されている。レチクルＲには、図示せぬ照明光学系からＥＵＶ光ｅが照射される。このＥＵＶ光ｅは、レチクルＲのパターン面で反射して投影光学系鏡筒４０内に入射し、各ミラーＭ１〜Ｍ６の反射面で反射した後、ウェハＷ上面に導かれる。
なお、本実施の形態では投影光学系鏡筒４０のみについて説明しているが、照明光学系鏡筒内においても同様に行うことができる。
【００２６】
次に、本発明に係るミラーの温度制御例について説明する。
図５は、本発明に係る温度調整機構付きミラーの温度制御例を説明するための説明図である。（Ａ）は本発明に係る温度調整機構付きミラーの断面図であり、（Ｂ）及び（Ｃ）はミラーの温度と距離との関係を示すグラフ（縦軸：温度、横軸：距離）であり、（Ｄ）はミラーの変形の形態を模式的に示す図である。
図６は、現状の温度調整機構付きミラーの温度制御例を説明するための説明図である。（Ａ）は現状の温度調整機構付きミラーの断面図であり、（Ｂ）及び（Ｃ）はミラーの温度と距離との関係を示すグラフ（縦軸：温度、横軸：距離）であり、（Ｄ）はミラーの変形の形態を模式的に示す図である。
なお、以下の説明におけるＸ方向及びＹ方向は、図５（Ａ）あるいは図６（Ａ）に示す矢印方向を指すものとする。
【００２７】
図５（Ａ）に示す本発明に係るミラー５１は、図１〜図３を用いて前述したように、裏面側の有効領域５２Ａの部分に対応する箇所に突部５３が一体形成されており、非有効領域５２Ｂの部分の基板の厚さの最小値が、有効領域５２Ａの部分の基板の厚さの最小値ＴＡよりも薄くなっている。そして、突部５３の側面及び裏面の近傍には、輻射板（＋液冷ジャケット等）の温度調整機構５８Ｓ、５８Ｂが配置されている。突部５３と温度調整機構５８Ｓ、５８Ｂとの間には若干の隙間が存在する。この隙間により、温度冷却機構５８Ｓ、５８Ｂから突部５３に力が加わらないようになっている。
【００２８】
このミラー５１において、反射面の有効領域５２Ａの温度をＴ１とし、突部５３の側面の温度をＴ２とし、突部５３の裏面の温度をＴ３とする。反射面の有効領域５２Ａの温度Ｔ１は、光の入射によって上昇する。一方、突部５３の側面の温度Ｔ２、及び、突部５３の裏面の温度Ｔ３は、それぞれ温度調整機構５８Ｓ、５８Ｂによって個別に温度制御可能である。そこで、これらの各温度Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３が、
Ｔ１≧Ｔ３＞Ｔ２
を満たすように、各温度調整機構５８Ｓ、５８Ｂを作動させる。例えば、突部５３の裏面の温度調整機構５８Ｂを加熱作動して、突部５３の裏面の温度Ｔ３が反射面の有効領域５２Ａの温度Ｔ１近くになるようにし、突部５３の側面の温度調整機構Ｔ２を冷却作動して、突部５３の側面の温度Ｔ２が突部５３の裏面の温度Ｔ３よりも低くなるようにする。
【００２９】
このような温度制御を行うと、ミラー５１内部において、等温線（図中点線で示す）がミラー軸（一点鎖線で示す：基板の厚さ方向）と平行になるような温度分布を生じさせることができる。その結果、ミラー厚さ方向（Ｙ方向）の温度分布が小さくなるので、図５（Ｃ）に示すように、Ｙ方向の変形量はほとんど変化しない。一方、ミラー半径方向（Ｘ方向）には、図５（Ｂ）に示す温度勾配によって変形が生じるが、これはＸ方向への膨張にしかならない。したがって、ミラー５１には、図５（Ｄ）に２点差線で示すような形態の熱変形（径方向に単に大きくなる形態）しか起こらず、ミラー５１が厚さ方向に開く形態の変形を抑制できる。
【００３０】
これに対し、図６（Ａ）に示す現状のミラー６１は、ミラー本体の厚さを設定せず、側面及び裏面のそれぞれに単に温度調整機構６８Ｓ、６８Ｂを配置したのみの構成である。このような構成において温度調整機構６８Ｓ、６８Ｂを作動させてミラー６１の側面や裏面を冷却しても、有効領域６２Ａの温度上昇を充分に抑制しきれず、冷却効率を高めにくい。そのため、ミラー６１の内部では、反射面側が高温で且つ側面・裏面が低温の、ミラー軸（基板の厚さ方向）に弧状に広がった温度分布が生じることとなる（図６（Ａ）参照）。その結果、ミラー厚さ方向（Ｙ方向）には図６（Ｃ）に示すような温度勾配に伴う変形が生じ、ミラー半径方向（Ｘ方向）には図６（Ｂ）に示す温度勾配に伴う変形が生じる。したがって、ミラー６１には、図６（Ｄ）に示すような、厚さ方向に開く形態の変形が生じてしまう。
【００３１】
前述した図４の投影光学系鏡筒４０内の各ミラーＭ１〜Ｍ６についても、図５を参照しつつ述べた通り、
Ｔ１≧Ｔ３＞Ｔ２
の関係を満たすように各温度調整機構Ｃ１Ｓ〜Ｃ６Ｓ、Ｃ１Ｂ〜Ｃ６Ｂを作動させる。具体的には、例えば第１ミラーＭ１について、裏面側の温度調整機構Ｃ１Ｂの温度を温度Ｔ３よりも約５度高く設定し、側面側の温度調整機構Ｃ１Ｓの温度を温度Ｔ２よりも約８度低く設定した場合、露光時の第１ミラーＭ１の反射面の温度上昇を最大で約０．５度に抑えることができた。
【００３２】
さらに、温度Ｔ３が温度Ｔ１と概ね同じ温度となるように温度調整機構Ｃ１Ｂ〜Ｃ６Ｂを作動させて、ミラー表裏の温度差が概ね０となるように維持し、温度Ｔ２が約０・３度低下するように温度調整機構Ｃ１Ｓ〜Ｃ６Ｓを作動させて、ミラー内部の平均温度上昇量が約０度となるように制御すると、ミラーの熱変形に伴う波面収差の悪化等を最小限に抑えることができた。
【００３３】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、ミラーの剛性を確保しつつミラー全体を軽量化・コンパクト化できる、あるいは、ミラーの保持変形・熱変形を抑制できる等の利点を有するミラー、温度調整機構付きミラー等を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る凹面ミラーを示す図である。（Ａ）は模式的な側面図であり、（Ｂ）は裏面図である。
【図２】本発明の他の実施の形態に係るミラー（回転非対称型）を示す図である。（Ａ）は上面図であり、（Ｂ）は模式的な側面図であり、（Ｃ）は裏面図である。
【図３】本発明の他の実施の形態に係る温度調整機構付きミラー（回転非対称型）を示す図である。（Ａ）は側面断面図であり、（Ｂ）は裏面図である。
【図４】本発明に係る温度調整機構付きミラーを用いたＥＵＶＬ露光装置の６枚投影系の構成を示す模式図である。
【図５】本発明に係る温度調整機構付きミラーの温度制御例を説明するための説明図である。（Ａ）は本発明に係る温度調整機構付きミラーの断面図であり、（Ｂ）及び（Ｃ）はミラーの温度と距離との関係を示すグラフ（縦軸：温度、横軸：距離）であり、（Ｄ）はミラーの変形の形態を模式的に示す図である。
【図６】現状の温度調整機構付きミラーの温度制御例を説明するための説明図である。（Ａ）は現状の温度調整機構付きミラーの断面図であり、（Ｂ）及び（Ｃ）はミラーの温度と距離との関係を示すグラフ（縦軸：温度、横軸：距離）であり、（Ｄ）はミラーの変形の形態を模式的に示す図である。
【図７】ＥＵＶＬ露光装置の投影光学系に用いられる凹面型の反射ミラーの代表的な例を示す図である。（Ａ）は模式的な側面図であり、（Ｂ）は平面図である。
【符号の説明】
１ ミラー ２ 反射面
２Ａ 有効領域 ２Ｂ 非有効領域
３ 突部 ５ａ〜５ｃ 梁
６ａ〜６ｃ 保持部
１１ ミラー １２ 反射面
１２Ａ 有効領域 １２Ｂ 非有効領域
１３ 突部 １５ａ〜１５ｃ 梁
１６ａ〜１６ｃ 保持部 ２８Ｓ、２８Ｂ 輻射板
２９Ｓ、２９Ｂ 温度調整部材
４０ 投影光学系鏡筒 Ｍ１〜Ｍ６ ミラー
Ｃ１Ｓ〜Ｃ６Ｓ、Ｃ１Ｂ〜Ｃ６Ｂ 温度調整機構
Ｒ レチクル（パターン原版） Ｗ ウェハ（感応基板）
Claims (6)
- 基板及びその一方の面に形成された反射面を有するミラーであって、
該反射面には、ミラー使用時に光の照射される有効領域、及び、ミラー使用時に光の照射されない非有効領域が設けられており、
該非有効領域の部分の基板の厚さの最小値が、前記有効領域の部分の基板の厚さの最小値よりも薄くなるよう構成されており、
ミラー外周域には、該ミラーを光学鏡筒に保持する部分が設けられており、
前記基板の反射面とは反対側の面（裏面）に、前記保持部分から前記有効領域の部分を結ぶように梁が形成されていることを特徴とするミラー。 - 基板及びその一方の面に形成された反射面を有するミラーであって、
該反射面には、ミラー使用時に光の照射される有効領域、及び、ミラー使用時に光の照射されない非有効領域が設けられており、
該非有効領域の部分の基板の厚さの最小値が、前記有効領域の部分の基板の厚さの最小値よりも薄くなるよう構成されており、
ミラー外周域には、該ミラーを光学鏡筒に保持する部分が設けられており、
前記有効領域の部分の基板の裏面及び側面に、温度調整機構が設けられていることを特徴とする温度調整機構付きミラー。 - 前記反射面の有効領域の温度をＴ１、前記有効領域の部分の基板の側面の温度をＴ２、前記有効領域の部分の基板の裏面の温度をＴ３とすると、
Ｔ１≧Ｔ３＞Ｔ２
となるように前記温度調整機構が作動することを特徴とする請求項２記載の温度調整機構付きミラー。 - 前記温度調整機構により、前記有効領域の部分の基板内に、基板厚さ方向に等温線が延び、その直角方向に温度勾配が生じる温度分布が形成されることを特徴とする請求項２又は３記載の温度調整機構付きミラー。
- 前記温度調整機構が、前記有効領域の部分の基板の裏面及び側面近傍に配置される複数の輻射板を有し、これら輻射板がそれぞれ個別に制御可能となっていることを特徴とする請求項２〜４いずれか１項記載の温度調整機構付きミラー。
- 光学鏡筒と、
該鏡筒の外面に固定されるミラーと、
を具備し、
前記ミラーが、前記請求項１記載のミラー、あるいは、前記請求項２〜５いずれか１項記載の温度調整機構付きミラーからなることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003206760A JP2005055553A (ja) | 2003-08-08 | 2003-08-08 | ミラー、温度調整機構付きミラー及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003206760A JP2005055553A (ja) | 2003-08-08 | 2003-08-08 | ミラー、温度調整機構付きミラー及び露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005055553A true JP2005055553A (ja) | 2005-03-03 |
Family
ID=34363504
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003206760A Withdrawn JP2005055553A (ja) | 2003-08-08 | 2003-08-08 | ミラー、温度調整機構付きミラー及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005055553A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008130895A (ja) * | 2006-11-22 | 2008-06-05 | Nikon Corp | 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法 |
| JP2009508150A (ja) * | 2005-09-13 | 2009-02-26 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | マイクロリソグラフィ投影光学系、ある機器を製造するための方法、光学面を設計する方法 |
| US7999917B2 (en) | 2007-07-17 | 2011-08-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Illumination system and microlithographic projection exposure apparatus including same |
| US8018650B2 (en) | 2007-01-17 | 2011-09-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging optical system |
| US8027022B2 (en) | 2007-07-24 | 2011-09-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection objective |
| JP2011204947A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Komatsu Ltd | ミラー装置 |
| US8094380B2 (en) | 2006-03-27 | 2012-01-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil |
| JP2013504218A (ja) * | 2009-09-08 | 2013-02-04 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 表面外形（ｓｕｒｆａｃｅｆｉｇｕｒｅ）変形の少ない光学素子 |
| US8934085B2 (en) | 2007-09-21 | 2015-01-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Bundle-guiding optical collector for collecting the emission of a radiation source |
| US8970819B2 (en) | 2006-04-07 | 2015-03-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Microlithography projection optical system, tool and method of production |
| US9207541B2 (en) | 2010-09-28 | 2015-12-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Arrangement for mirror temperature measurement and/or thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus |
| US9500957B2 (en) | 2011-09-21 | 2016-11-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Arrangement for thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus |
| WO2021246402A1 (ja) * | 2020-06-03 | 2021-12-09 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、合わせガラスの製造方法、および、合わせガラス |
-
2003
- 2003-08-08 JP JP2003206760A patent/JP2005055553A/ja not_active Withdrawn
Cited By (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8967817B2 (en) | 2001-05-25 | 2015-03-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging optical system with at most 11.6% of the illuminated surfaces of the pupil plane being obscured |
| JP2012008574A (ja) * | 2005-09-13 | 2012-01-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | マイクロリソグラフィ投影光学系、ある機器を製造するための方法、光学面を設計する方法 |
| JP2009508150A (ja) * | 2005-09-13 | 2009-02-26 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | マイクロリソグラフィ投影光学系、ある機器を製造するための方法、光学面を設計する方法 |
| JP2010107988A (ja) * | 2005-09-13 | 2010-05-13 | Carl Zeiss Smt Ag | マイクロリソグラフィ投影光学系、ある機器を製造するための方法、光学面を設計する方法 |
| US7719772B2 (en) | 2005-09-13 | 2010-05-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Catoptric objectives and systems using catoptric objectives |
| JP2013210647A (ja) * | 2005-09-13 | 2013-10-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | マイクロリソグラフィ投影光学系、ある機器を製造するための方法、光学面を設計する方法 |
| US9465300B2 (en) | 2005-09-13 | 2016-10-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catoptric objectives and systems using catoptric objectives |
| US8094380B2 (en) | 2006-03-27 | 2012-01-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil |
| US8810927B2 (en) | 2006-03-27 | 2014-08-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil |
| US8970819B2 (en) | 2006-04-07 | 2015-03-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Microlithography projection optical system, tool and method of production |
| US9482961B2 (en) | 2006-04-07 | 2016-11-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Microlithography projection optical system, tool and method of production |
| JP2008130895A (ja) * | 2006-11-22 | 2008-06-05 | Nikon Corp | 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法 |
| US8208200B2 (en) | 2007-01-17 | 2012-06-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging optical system |
| US8018650B2 (en) | 2007-01-17 | 2011-09-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging optical system |
| US8810903B2 (en) | 2007-01-17 | 2014-08-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging optical system |
| US9298100B2 (en) | 2007-01-17 | 2016-03-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging optical system |
| US7999917B2 (en) | 2007-07-17 | 2011-08-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Illumination system and microlithographic projection exposure apparatus including same |
| US8027022B2 (en) | 2007-07-24 | 2011-09-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection objective |
| US8934085B2 (en) | 2007-09-21 | 2015-01-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Bundle-guiding optical collector for collecting the emission of a radiation source |
| US9366976B2 (en) | 2009-09-08 | 2016-06-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical element with low surface figure deformation |
| JP2013504218A (ja) * | 2009-09-08 | 2013-02-04 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 表面外形（ｓｕｒｆａｃｅｆｉｇｕｒｅ）変形の少ない光学素子 |
| JP2011204947A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Komatsu Ltd | ミラー装置 |
| US9207541B2 (en) | 2010-09-28 | 2015-12-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Arrangement for mirror temperature measurement and/or thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus |
| US9500957B2 (en) | 2011-09-21 | 2016-11-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Arrangement for thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus |
| WO2021246402A1 (ja) * | 2020-06-03 | 2021-12-09 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、合わせガラスの製造方法、および、合わせガラス |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6318200B2 (ja) | 光学素子の温度制御装置 | |
| JP5487110B2 (ja) | マイクロリソグラフィ投影露光装置 | |
| TWI464542B (zh) | 微影投射曝光裝置的照射系統 | |
| US20030235682A1 (en) | Method and device for controlling thermal distortion in elements of a lithography system | |
| JP6222594B2 (ja) | マイクロリソグラフィ投影露光装置 | |
| JP6186623B2 (ja) | マイクロリソグラフィ投影露光装置 | |
| JP2005055553A (ja) | ミラー、温度調整機構付きミラー及び露光装置 | |
| KR102572139B1 (ko) | 리소그래피 장치용 미러를 제조하기 위한 방법 | |
| JP2002118058A (ja) | 投影露光装置及び方法 | |
| JP2004095993A (ja) | 光学部品冷却方法、光学部品冷却装置及びそれを有するｅｕｖ露光装置 | |
| WO2009152959A1 (en) | Projection exposure apparatus for semiconductor lithography comprising a device for the thermal manipulation of an optical element | |
| US9366977B2 (en) | Semiconductor microlithography projection exposure apparatus | |
| US7295284B2 (en) | Optical system, exposure apparatus using the same and device manufacturing method | |
| US7360366B2 (en) | Cooling apparatus, exposure apparatus, and device fabrication method | |
| JP2004247438A (ja) | 冷却装置 | |
| JP2004029314A (ja) | 光学素子冷却装置、光学素子冷却方法及び露光装置 | |
| JP2003172858A (ja) | 光学部品保持装置及び露光装置 | |
| US7102727B2 (en) | Optical system for use in exposure apparatus and device manufacturing method using the same | |
| US20230324648A1 (en) | Optical system, and method for operating an optical system | |
| JP2006177740A (ja) | 多層膜反射鏡及びｅｕｖ露光装置 | |
| TW202209010A (zh) | 光學系統與操作光學系統的方法 | |
| JP4273813B2 (ja) | 光学素子保持冷却装置及び露光装置 | |
| JP2004336026A (ja) | 温度調節装置及びそれを有する露光装置、デバイスの製造方法 | |
| JP2005024818A (ja) | 光学素子冷却装置及び露光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060522 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20090402 |