JP2005024818A - 光学素子冷却装置及び露光装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】冷却装置との干渉による光学素子の形状精度の劣化を低減することができる光学素子冷却装置を提供する。
【解決手段】ミラー11は、反射鏡面11aを上に向けて光学素子(ミラー)冷却装置12のミラー嵌合部121上に配置されている。ミラー11は、ミラー11の周辺に複数個(一例で3個)設置されたミラー支持機構14によって、ミラー嵌合部121と接触しないように支持されている。ミラー11の裏面11bとミラー嵌合部121の間は、熱交換媒体131で満たされている。ミラー冷却装置12の冷却媒体循環部122の内部には、冷却媒体132が充填されており、冷却媒体132は、冷却媒体流入口12a及び冷却媒体流出口12bを通じて流れている。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、主に真空中に設置される光学素子の冷却方法及びこれを用いた露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体リソグラフィ等に用いられる露光装置内には、種々の光学素子が設置される。このような光学素子の一つにミラーがある。EUV露光装置に用いられるミラーとしては、ミラーの基板表面に多層膜が成膜されたものが用いられる。この多層膜は、屈折率の異なる2種類以上の物質を、光学的干渉理論に基づいて膜厚を調整しながら成膜したものである。
【0003】
このミラーに照明光が到達すると、光学的干渉により大部分の光はミラーの多層膜によって反射され、露光装置内のほかの光学素子に向けて伝達されるが、照明光の一部はミラーの基板に吸収されるため、ミラーに熱が生じる。
【0004】
ところで、露光装置に用いられるミラーには高い形状精度が要求される。このため、ミラーを露光装置内に固定する際には、例えば、ミラーの3点のみを支持してミラーを保持する等、外力による変形を極力抑えるような固定方法が採られる。このような固定方法を用いた場合には、照明光の吸収によりミラーに生じた熱は、支持手段に接触している部分と、ミラーの周囲を取り巻くガス(大気等)を通じ、熱伝導によって外部に放出される。
【0005】
ところが、熱伝導だけでミラーに生じた熱が十分に放出されるとは限らない。特に、真空紫外線やX線等を用いる露光装置においては、光の経路を真空に維持する必要があるため、ミラーから熱を放出する経路は、放射を除けば支持手段に接触している部分のみとなる。
【0006】
照明光を吸収することによりミラーに生じる熱量は、照明光の強度や照明光に対する多層膜の吸収率によるが、現在開発中のものでは、反射率は最高で70%程度であり、ミラーに当たる光の約30%という相当の割合が熱に変わる。この熱は、ミラーから十分に放出されずに蓄積される。これにより、ミラーが高温に加熱されるため、熱膨張によってミラーに形状精度の劣化が生じ、ミラーの光学性能が損なわれる。さらに、ミラーの温度が数百℃にまで達すると、主に拡散によって多層膜の内部で構造の変化が生じ、ミラーの反射率が低下してしまうという問題も生じる。
【0007】
上記のような問題を回避するため、例えば、ミラーに入射する光量を減らすことでミラーの発熱を抑える方法が提案されている。しかしながら、この方法は、大きな入射光を必要とする部位には用いることができない。
また、ミラーの裏面(反射鏡面の反対側の面)に冷却装置を直接接触させてミラーの発熱を抑えるという方法も提案されている。
【0008】
図5は、ミラーの裏面(反射鏡面の反対側の面)に冷却装置を直接接触させてミラーの発熱を抑える方法を示す断面図である。
図5に示すように、ミラー51は、反射鏡面51aを上に向けてミラー冷却装置52の上に載置されている。ミラー51の側面には、被支持部51cが設けられている。被支持部51cは、ミラー51の周囲を取り巻くように形成されており、ミラー51と一体となっている。
【0009】
ミラー冷却装置52は、ミラー51よりやや大きいタライ状である。ミラー冷却装置52の側壁の上には、Oリング54が取り付けられている。このOリング54の上には、ミラー51の被支持部51cが載せられる。ミラー51とミラー冷却装置52との間には、冷却水53が充填されている。ミラー51は、被支持部51cをクランプ55で締め付けることにより固定される。これにより、冷却水53は密閉され、露光装置内の真空環境が汚染されるのを防いでいる。
【0010】
ミラー冷却装置52の側壁には、冷却水流入口52a及び冷却水流出口52bが設けられている。冷却水53が冷却水流入口52a及び冷却水流出口52bを通じて入れ換えられることにより、熱がミラー51から放出される。
【0011】
しかしながら、上記の構成によると、ミラー51がミラー冷却装置(Oリング54及びクランプ55)と接触しているため、ミラー51に外力による変形が生じ、形状精度が維持できないという問題がある。さらに、ミラー冷却装置52に変形が生じたりすると、その変形がミラー51にも伝わってしまう。
【0012】
【特許文献1】
特開平5−333199号公報
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
上記の点に鑑み、本発明は、冷却装置との干渉による光学素子の形状精度の劣化を低減することができる光学素子冷却装置を提供することを目的とする。また、このような光学素子冷却装置を有し、露光精度を向上することができる露光装置を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するため、本発明の光学素子冷却装置は、光学素子の非光学的機能面(裏面)に沿って、小さい隙間を隔てて配置された冷却装置と、前記隙間に充填された、熱交換媒体となる低蒸気圧液体と、を備えることを特徴とする。
本発明の光学素子冷却装置には、冷却装置と光学素子との間に隙間が設けられており、両者の間で機械的な接触・干渉が生じない構造となっている。このため、冷却装置に多少変形が生じたとしても、ミラーが直接圧迫を受けるようなことがない。また、この隙間は、熱交換媒体で満たされており、光学素子に生じた熱は、この熱交換媒体を介して冷却装置へと伝達される。したがって、本発明によれば、光学素子の形状精度を維持しつつ、効率よく光学素子の冷却を行うことができる。
【0015】
本発明の露光装置は、エネルギー線を感応基板に選択的に照射してパターン形成する露光装置であって、該エネルギー線の光学系の光学素子を保持冷却する、上記の光学素子冷却装置を具備することを特徴とする。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る光学素子冷却装置を示す図である。
図1に示すように、ミラー11は、反射鏡面11aを上に向けて光学素子(ミラー)冷却装置12の上に配置されている。ミラー11は、ミラー11の周辺に複数個(一例で3個)設置されたミラー支持機構14によって、ミラー冷却装置12(ミラー嵌合部121)と接触しないように支持されている(簡単のため、図1ではミラー支持機構14が1つだけ図示されている)。
【0017】
ミラー冷却装置12の上半分(ミラー嵌合部)121は、ミラー11よりやや大きいタライ状である。ミラー冷却装置12のミラー嵌合部121は、ある隙間(例えば1〜4mm)を隔ててミラー11の非光学機能面11bに対面している。ミラー嵌合部121には、熱交換媒体131が張られており、ミラー11の裏面11bとミラー嵌合部121の間の隙間は、熱交換媒体131で満たされている。熱交換媒体131としては、蒸気圧が低く、露光装置内の真空環境を汚染しない液体等を用いる。このような液体の候補としては、例えば、油拡散ポンプに用いられる油等が挙げられる。
【0018】
ミラー冷却装置12の下半分(冷却媒体循環部)122は、ミラー嵌合部121と同様の形状の中空容器で、ミラー嵌合部121と一体となっている。
冷却媒体循環部122の側壁には、冷却媒体流入口12a及び冷却媒体流出口12bが取り付けられている。冷却媒体循環部122の内部には、冷却媒体132が充填されており、冷却媒体132は、冷却媒体流入口12a及び冷却媒体流出口12bを通じて流れている。
【0019】
次に、図1の光学素子冷却装置を用いてミラー11に生じた熱を放出する過程について説明する。
まず、照明光の照射によってミラー11に生じた熱は、熱交換により、ミラー冷却装置12のミラー嵌合部121内に貯まっている熱交換媒体131に伝わる。熱交換媒体131に伝わった熱は、冷却媒体循環部122内の冷却媒体132に伝わる。そして、熱せられた冷却媒体132が、冷却媒体流出口12bから冷却媒体循環部122の外部に排出される。熱せられた冷却媒体132は、冷却媒体流出口12bから排出された後冷やされ、冷めた冷却媒体132は、冷却媒体流入口12aから冷却媒体循環部122内に再び導入される。
【0020】
本実施形態においては、例えば、冷却装置に変形が生じたとしても、ミラーと冷却装置との間の隙間の幅が変化するのみで、冷却装置からの力がミラーに直接作用することがない。
【0021】
なお、上述の実施形態においては、ミラー11の被支持部11cが、図1の場合よりやや斜めになるように加工し、ミラー嵌合部121の側壁の高さを調整すれば、ミラー11の反射面11aを斜め上に向けることもできる。
【0022】
図2は、本発明の第2の実施形態に係る光学素子冷却装置を示す図である。
図2においては、重力の向きを図における下向きとする。
図2に示すミラー21は、反射鏡面21aが重力方向下向きになるように配置されている。ミラー21は、ミラー21の周辺に複数個(一例で3個)設置されたミラー支持機構24によって、ミラー冷却装置22(ミラー嵌合部221)と接触しないように支持されている(簡単のため、図2ではミラー支持機構24が1つだけ図示されている)。
【0023】
ミラー21の裏面(非光学機能面)側は、ミラー冷却装置22のミラー嵌合部221よりやや大きいタライ状の裏面凹部21bとなっている。ミラー21の裏面凹部21bは、ある隙間(例えば1〜4mm)を隔ててミラー冷却装置22のミラー嵌合部221に対面している。ミラー21の裏面凹部21bには、熱交換媒体231が張られており、ミラー21の裏面凹部21bとミラー嵌合部221の間の隙間は、熱交換媒体231で満たされている。熱交換媒体231としては、上述の実施形態と同様、蒸気圧が低く、露光装置内の真空環境を汚染しない液体等を用いる。このような液体の候補としては、例えば、油拡散ポンプに用いられる油等が挙げられる。
【0024】
ミラー冷却装置22の上半分(冷却媒体循環部)222は、中空容器であり、ミラー嵌合部221と一体となっている。
冷却媒体循環部222の側壁には、冷却媒体流入口22a及び冷却媒体流出口22bが取り付けられている。冷却媒体循環部222の内部には、冷却媒体232が充填されており、冷却媒体232は、冷却媒体流入口22a及び冷却媒体流出口22bを通じて流れている。
【0025】
次に、図2の光学素子冷却装置を用いてミラー21に生じた熱を放出する過程について説明する。
まず、照明光の照射によってミラー21に生じた熱は、熱交換により、ミラー21の裏面凹部21b内に貯まっている熱交換媒体231に伝わる。熱交換媒体231に伝わった熱は、冷却媒体循環部222内の冷却媒体232に伝わる。そして、熱せられた冷却媒体232が、冷却媒体流出口22bから冷却媒体循環部222の外部に排出される。熱せられた冷却媒体232は、冷却媒体流出口22bから排出された後冷やされ、冷めた冷却媒体232は、冷却媒体流入口22aから冷却媒体循環部222内に再び導入される。
【0026】
図3は、本発明の第3の実施形態に係る光学素子冷却装置を示す図である。
図3においては、重力の向きを図における下向きとする。
図3に示すミラー31は、反射鏡面31aが重力方向に対して斜め下向きになるように配置されている。ミラー31は、ミラー31の周辺に複数個(一例で3個)設置されたミラー支持機構34によって、ミラー冷却装置32(ミラー嵌合部321)と接触しないように支持されている(簡単のため、図3ではミラー支持機構34が1つだけ図示されている)。
【0027】
ミラー31の裏面(非光学機能面)31b側には、ミラー31の外周から鉛直上向きに堤部31cが形成されており、堤部31cの上端は、ミラー31の上端とほぼ同じ高さまで伸びている。非光学機能面31bと堤部31cとに囲まれた部分を裏面凹部31dという。ミラー31の裏面凹部31dは、ミラー冷却装置32のミラー嵌合部321よりやや大きいタライ状である。ミラー31の裏面凹部31dは、ある隙間(例えば1〜4mm)を隔ててミラー冷却装置32のミラー嵌合部321に対面している。ミラー31の裏面凹部31dには、熱交換媒体331が張られており、ミラー31の裏面凹部31dとミラー嵌合部321の間の隙間は、熱交換媒体331で満たされている。熱交換媒体331としては、上述の実施形態と同様、蒸気圧が低く、露光装置内の真空環境を汚染しない液体等を用いる。このような液体の候補としては、例えば、油拡散ポンプに用いられる油等が挙げられる。
【0028】
ミラー冷却装置32の上半分(冷却媒体循環部)322は、中空容器であり、ミラー嵌合部321と一体となっている。
冷却媒体循環部322の側壁には、冷却媒体流入口32a及び冷却媒体流出口32bが取り付けられている。冷却媒体循環部322の内部には、冷却媒体332が充填されており、冷却媒体332は、冷却媒体流入口32a及び冷却媒体流出口32bを通じて流れている。
【0029】
次に、図3の光学素子冷却装置を用いてミラー31に生じた熱を放出する過程について説明する。
まず、照明光の照射によってミラー31に生じた熱は、熱交換により、ミラー31の裏面凹部31d内に貯まっている熱交換媒体331に伝わる。熱交換媒体331に伝わった熱は、冷却媒体循環部322内の冷却媒体332に伝わる。そして、熱せられた冷却媒体332が、冷却媒体流出口32bから冷却媒体循環部322の外部に排出される。熱せられた冷却媒体332は、冷却媒体流出口32bから排出された後冷やされ、冷めた冷却媒体332は、冷却媒体流入口32aから冷却媒体循環部322内に再び導入される。
【0030】
上述の3つの実施形態においては、いずれも冷却装置として冷却媒体(冷却水)を循環させる機構(冷却媒体循環部)が用いられているが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、上述の冷却媒体循環部に代えて、クライオパネル等の断熱膨張を用いた機構やペルチェ素子等の電子冷却素子を用いることもできる。
【0031】
図4は、本発明の一実施形態に係るEUV露光装置(4枚投影系)の概略構成を示す図である。
図4に示すEUV露光装置は、光源を含む照明系ILを備えている。照明系ILから放射されたEUV光(一般に波長は5〜20nmであり、具体的には13nmや11nmの波長のEUV光が用いられる。)は、折り返しミラー301で反射されてレチクル302に照射される。
【0032】
レチクル302は、裏面(パターンの形成される面の反対側の面)に所要の加工がなされており、レチクルステージ303に固定されたチャック303aにチャック・保持されている。このレチクルステージ303は、走査方向に100mm以上のストロークを持ち、レチクル面内の走査方向と直交する方向に微小ストロークを持ち、光軸方向にも微小ストロークを持っている。レチクルステージ303の走査方向及びこれに直交する方向の位置は図示せぬレーザー干渉計によって高精度にモニターされ、光軸方向はレチクルフォーカス送光系304とレチクルフォーカス受光系305からなるレチクルフォーカスセンサーでモニターされている。
【0033】
レチクル302に反射されたEUV光は、図中下側の光学鏡筒314内に入射する。このEUV光は、レチクル302に描かれた回路パターンの情報を含んでいる。レチクル302にはEUV光を反射する多層膜(例えばモリブデン(Mo)/シリコン(Si)やモリブデン(Mo)/ベリリウム(Be))が形成されており、この多層膜の上に吸収層(例えばニッケル(Ni)やアルミニウム(Al))の有無でパターニングされている。
【0034】
光学鏡筒314内には、4枚のミラー306、307、308及び309が、それぞれミラー冷却装置306c、307c、308c及び309c上に設置されている。これらミラー冷却装置306c、307c、308c及び309cは、本発明の光学素子冷却装置である。
【0035】
光学鏡筒314内に入射したEUV光は、第1ミラー306で反射された後、第2ミラー307、第3ミラー308、第4ミラー309で順次反射され、最終的にはウェハ310に対して垂直に入射する。投影系の縮小倍率は、例えば1/4や1/5である。この図では、ミラーは4枚用いられているが、N.A.(Numerical Aperture)をより大きくするためには、ミラーを6枚あるいは8枚にすると効果的である。鏡筒314の近傍には、アライメント用のオフアクシス顕微鏡315が配置されている。
【0036】
ウェハ310は、ウェハステージ311に固定されたチャック311a上にチャック・保持されている。このウェハステージ311は、光軸と直交するように設置されており、光軸と直交する面内を自由に移動することができる。ウェハステージ311のストロークは、例えば300〜400mmである。このウェハステージ311は、光軸方向にも微小ストロークの移動が可能となっている。ウェハステージ311の光軸方向の位置は、ウェハオートフォーカス送光系312とウェハオートフォーカス受光系313からなるウェハフォーカスセンサーでモニターされている。ウェハステージ311の光軸と直交する面内における位置は、図示せぬレーザー干渉計によって高精度にモニターされている。露光動作において、レチクルステージ303とウェハステージ311は、投影系の縮小倍率と同じ速度比、例えば、(レチクルステージ303の移動速度):(ウェハステージ311の移動速度)が4:1あるいは5:1で同期走査される。
【0037】
なお、本実施形態においては、4枚のミラー306、307、308及び309のみが、本発明のミラー冷却装置によって冷却されているが、レチクル302やウェハ310等の露光装置内に設置されているほかの光学素子も、本発明の冷却装置を用いて冷却することができる。
【0038】
【発明の効果】
以上に述べたように、本発明によると、光学素子と光学素子冷却装置との間に隙間が設けられているので、冷却装置との力学的干渉によって光学素子の形状精度が影響を受けることがない。さらに、熱交換媒体として低蒸気圧の液体がミラーと冷却装置との間に充填されているので、真空環境中においても効率よくミラーの熱を放出させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る光学素子冷却装置を示す図である。
【図2】本発明の第2の実施形態に係る光学素子冷却装置を示す図である。
【図3】本発明の第3の実施形態に係る光学素子冷却装置を示す図である。
【図4】本発明の一実施形態に係るEUV露光装置(4枚投影系)の概略構成を示す図である。
【図5】ミラーの裏面(反射鏡面の反対側の面)に冷却装置を直接接触させてミラーの発熱を抑える方法を示す断面図である。
【符号の説明】
11 ミラー
11a 反射面
11b ミラーの裏面(非光学機能面)
11c ミラーの被支持部
12 光学素子冷却装置
121 ミラー嵌合部
122 冷却媒体循環部
12a 冷却媒体流入口
12b 冷却媒体流出口
131 熱交換媒体
132 冷却媒体
14 ミラー支持機構
21 ミラー
21a 反射面
21b 裏面凹部
22 光学素子冷却装置
221 ミラー嵌合部
222 冷却媒体循環部
22a 冷却媒体流入口
22b 冷却媒体流出口
231 熱交換媒体
232 冷却媒体
24 ミラー支持機構
31 ミラー
31a 反射面
31b ミラーの裏面(非光学機能面)
31c 堤部
31d 裏面凹部
32 光学素子冷却装置
321 ミラー嵌合部
322 冷却媒体循環部
32a 冷却媒体流入口
32b 冷却媒体流出口
331 熱交換媒体
332 冷却媒体
34 ミラー支持機構
IL 照明系
301 折り返しミラー
302 レチクル
303 レチクルステージ
303a チャック
304 レチクルフォーカス送光系
305 レチクルフォーカス受光系
306、307、308、309 ミラー
306c、307c、308c、309c ミラー冷却装置
310 ウェハ
311 ウェハステージ
311a チャック
312 ウェハオートフォーカス送光系
313 ウェハオートフォーカス受光系
314 鏡筒
315 オフアクシス顕微鏡

Claims (2)

  1. 光学素子の非光学的機能面(裏面)に沿って、小さい隙間を隔てて配置された冷却装置と、
    前記隙間に充填された、熱交換媒体となる低蒸気圧液体と、
    を備えることを特徴とする光学素子冷却装置。
  2. エネルギー線を感応基板に選択的に照射してパターン形成する露光装置であって、
    該エネルギー線の光学系の光学素子を保持冷却する、請求項1記載の光学素子冷却装置を具備することを特徴とする露光装置。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011013513A (ja) * 2009-07-03 2011-01-20 Hitachi High-Technologies Corp 液晶露光装置
JP2011048344A (ja) * 2009-06-18 2011-03-10 Carl Zeiss Smt Gmbh 光学要素
JP2013545272A (ja) * 2010-09-28 2013-12-19 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーのミラー温度測定及び/又は熱作動用の構成体
JP2014132694A (ja) * 2008-06-10 2014-07-17 Asml Netherlands Bv 光学要素を熱調整する方法およびシステム
US9500957B2 (en) 2011-09-21 2016-11-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Arrangement for thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus
JP2017058566A (ja) * 2015-09-18 2017-03-23 日東光学株式会社 反射ミラーおよびミラー保持機構

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014132694A (ja) * 2008-06-10 2014-07-17 Asml Netherlands Bv 光学要素を熱調整する方法およびシステム
US9176398B2 (en) 2008-06-10 2015-11-03 Asml Netherlands B.V. Method and system for thermally conditioning an optical element
JP2011048344A (ja) * 2009-06-18 2011-03-10 Carl Zeiss Smt Gmbh 光学要素
JP2011013513A (ja) * 2009-07-03 2011-01-20 Hitachi High-Technologies Corp 液晶露光装置
JP2013545272A (ja) * 2010-09-28 2013-12-19 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーのミラー温度測定及び/又は熱作動用の構成体
US9207541B2 (en) 2010-09-28 2015-12-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Arrangement for mirror temperature measurement and/or thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus
US9500957B2 (en) 2011-09-21 2016-11-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Arrangement for thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus
JP2017058566A (ja) * 2015-09-18 2017-03-23 日東光学株式会社 反射ミラーおよびミラー保持機構

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