JP2005050688A - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents

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雅教 鈴木
Masataka Morita
真登 森田
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Abstract

【課題】放電遅れを適正に制御することにより画像表示特性を優れたものとすることを可能とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】走査電極5aと維持電極5bとからなる表示電極5を覆う誘電体層6の表面に、酸化マグネシウムによる保護層7を有するプラズマディスプレイパネル1の製造方法において、保護層7は、その形成後、酸素濃度が0%〜20%、もしくは70%〜100%の雰囲気中で熱処理することを特徴とする。
このことにより、放電遅れ時間に影響を与える、保護層7の酸素欠損量を適正に制御することが可能となり、もって画像表示特性を優れたPDPを製造することができる。
【選択図】図5

Description

本発明は、大画面で、薄型、軽量のディスプレイ装置として知られているプラズマディスプレイパネルの製造方法に関するもので、特に、保護層の製造方法に関し、放電遅れ時間を制御し点灯不良を解消する方法を提供するものである。
近年、高品質な表示や大画面化など、ディスプレイのさらなる高性能化が要求されるようになり、種々のディスプレイの開発がなされている。注目される代表的なディスプレイとしては、CRTディスプレイ、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)などが挙げられる。
図5に、一例として、3電極構造の面放電型のPDPの一般的な構造を示す。PDP1は、前面板2と背面板3とからなる。前面板2は、前面側のガラスのような透明で絶縁性の基板4に走査電極5aと維持電極5bとからなる表示電極5がストライプ状に形成され、さらにそれが誘電体層6及び酸化マグネシウム(MgO)からなる保護層7により覆われて形成されたものである。
背面板3は、背面側のガラスのような絶縁性の基板8上に、ストライプ状にアドレス電極9が形成され、これを覆うように誘電体層10が形成され、更にアドレス電極9の間に相当する位置の誘電体層10上に、ストライプ状に隔壁11が形成され、この隔壁11の間に蛍光体層12が形成されたものである。蛍光体層12はカラー表示のために通常、赤、緑、青の3色の蛍光体層12がストライプ毎に一色ずつ順に配置されたものである。
そして、このような前面板2と背面板3とが貼り合わせられ、隔壁11で仕切られた放電空間13には放電ガスが封入される。放電ガスとしては、例えばネオンやキセノン等を混合してなるもので、通常、0.67×10-5(Pa)程度の圧力で封入され、表示電極5とアドレス電極9との交差部が単位発光領域となる放電セル14となる。
次に、前記PDP1の駆動方式について説明する。
図6は、前記PDPの駆動回路の概略構成を示すブロック図である。
駆動回路20は、アドレス電極駆動部21と、走査電極駆動部22と、維持電極駆動部23とから構成されている。
そして、PDP1のアドレス電極9にはアドレス電極駆動部21が接続され、走査電極5aには走査電極駆動部22が接続され、また、維持電極5bには維持電極駆動部23が接続されている。
一般に交流型のPDP1では、1フレームの映像を複数のサブフィールド(S.F.)に分割することによって階調表現をする方式が用いられている。そして、この方式では放電セル14中の気体の放電を制御するために、一つのS.F.を更に4つの期間に分割する。この4つの期間について図7を用いて説明する。
図7は、一つのS.F.中の駆動波形を示す図である。
セットアップ期間250では、放電を生じやすくするためにPDP1内の全放電セル14に対して壁電荷を蓄積させる。アドレス期間260では、点灯させる放電セル14に対する書き込み放電を行う。サステイン期間270では、前記アドレス期間260で書き込まれた放電セル14を点灯させ、その点灯を維持させる。イレース期間280では壁電荷を消去させることによって放電セル14の点灯を停止させる。
セットアップ期間250では、走査電極5aに対して、アドレス電極9および維持電極5bに比べ高い電圧を印加し、放電セル14内の気体を放電させる。それによって発生した電荷は、アドレス電極9、走査電極5aおよび維持電極5b間の電位差を打ち消すように放電セル14の壁面に蓄積されるので、走査電極5a付近の保護層7の表面には負の電荷が壁電荷として蓄積され、またアドレス電極9付近の蛍光体層12の表面および維持電極5b付近の保護層7の表面には正の電荷が壁電荷として蓄積される。この壁電荷により走査電極5a−アドレス電極9間、走査電極5a−維持電極5b間には所定の大きさの壁電位が生じる。
アドレス期間260では、放電セル14を点灯させる場合には走査電極5aに対してアドレス電極9および維持電極5bに比べ低い電圧の書き込み電圧を印加させることにより、つまり走査電極5a−アドレス電極9間には前記壁電位と同方向に電圧を印加させるとともに走査電極5a−維持電極5b間に壁電位と同方向に電圧を印加させることにより、書き込み放電を生じさせる。これにより蛍光体層12の表面、保護層7の表面には負の電荷が蓄積され、走査電極5a付近の保護層7の表面には正の電荷が壁電荷として蓄積される。これにより維持電極5b−走査電極5a間には所定の大きさの壁電位が生じる。
サステイン期間270では、走査電極5aに対して、維持電極5bに比べ高い電圧を印加させることにより、つまり維持電極5b−走査電極5a間に前記壁電位と同方向に電圧を印加させることにより維持放電を生じさせる。これにより放電セル14の点灯を開始させることができる。そして、維持電極5b−走査電極5a交互に極性が入れ替わるようにパルスを印加することにより断続的にパルス発光を行うことができる。
イレース期間280では、幅の狭い消去パルスを維持電極5bに印加することによって不完全な放電を発生させ、壁電荷を消滅させることで消去を行う(例えば非特許文献1参照)。
内池平樹、御子柴茂生共著、プラズマディスプレイのすべて、(株)工業調査会、1997年5月1日 初版第1刷、p79−p80 p83−p106 p126−127
近年の、画像表示の高精細化に対応するため、走査線数を増加させることが行われるが、テレビ映像を表示する場合、1フィールド=1/60(s)内で全てのシーケンスを終了させなければならない。このために、アドレス期間260に印加するアドレスパルスのパルス幅を狭くして高速駆動を行うことが行われる。
しかしながらこのような場合、パルスの立ち上がりから放電が発生するまでの時間である放電遅れ時間が長くなってしまう場合には、印加されたパルス幅内で放電が終了する確率が低くなり、本来点灯すべき放電セル14が点灯せず点灯不良となってしまうという課題が発生する。
一方、放電遅れ時間が短すぎる場合にも、保護層7に蓄えられた壁電荷がイレース期間280の経過を待たずに消滅する可能性があり、点灯しなくなってしまうため、点灯不良となるという課題が発生する。
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであって、放電遅れを適正に制御することにより画像表示特性を優れたものとすることを可能とするPDPの製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を実現するために本発明のPDPの製造方法は、走査電極と維持電極とからなる表示電極を覆う誘電体層の表面に、酸化マグネシウムによる保護層を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、保護層は、その形成後、酸素濃度が0%〜20%、もしくは70%〜100%の雰囲気中で熱処理することで、保護層の酸素欠損量を適正なものとすることを特徴とするものである。
本発明のPDPの製造方法によれば、保護層の酸素欠損量が適正なものとなるので、放電遅れが適正に制御されたものとなり、このことにより画像表示特性の優れたPDPを製造することが可能となる。
すなわち、本発明の請求項1に記載の発明は、走査電極と維持電極とからなる表示電極を覆う誘電体層の表面に、酸化マグネシウムによる保護層を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、保護層は、その形成後、酸素濃度が0%〜20%、もしくは70%〜100%の雰囲気中で熱処理することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、熱処理の温度が、300℃〜600℃であることを特徴とするものである。
以下、本発明の一実施の形態によるPDPの製造方法について、図を用いて説明する。
本発明の一実施の形態によるPDPの製造方法により製造されるPDPの概略構造は図5に示したものと、また、駆動回路の概略構成は図6で示したものと、また、駆動電圧の波形は図7で示したものと同様であり、本発明の特徴的な点は、保護層7を形成する際の工程であるので、以下、その部分について詳細に説明する。
まず図1に、本発明の一実施の形態によるPDPの製造方法における全体の工程の概略的な流れを示す。
前面板2を製造する前面板工程は、以下の通りである。基板4を受入れる基板受入れ工程(S11)の後、基板4上に表示電極5を形成する表示電極形成工程(S12)を行う。次に、表示電極形成工程(S12)により形成された表示電極5上を覆うように誘電体層6を形成する誘電体層形成工程(S13)を行う。これは、鉛系のガラス材料(その組成は、例えば、酸化鉛(PbO)70重量%,酸化硼素(B23)15重量%,酸化硅素(SiO2)15重量%。)を含むペーストをスクリーン印刷法で塗布し、その後、焼成するものである。そしてその後、誘電体層6の表面に真空蒸着法などで酸化マグネシウム(MgO)などの保護層7を形成する保護層形成工程(S14)を行い、その後、本発明の特徴的な点である、この保護層7を熱処理する保護層熱処理工程(S15)を行う。以上により前面板2が製造される。
次に、背面板3を製造する背面基板工程について述べる。基板8を受入れる受入れ工程(S21)の後、基板8上にアドレス電極9を形成するアドレス電極形成工程(S22)を行う。次に、アドレス電極9の上に誘電体層10を形成する誘電体層形成工程(S23)を行う。これは、例えば、TiO2粒子と誘電体ガラス粒子とを含む誘電体用ペーストをスクリーン印刷などで塗布する誘電体用ペーストを塗布し、これを焼成するものである。次に、誘電体層10上の、アドレス電極9の間に相当する位置に隔壁11を形成する隔壁形成工程(S24)を行う。これは、ガラス粒子を含む隔壁用ペーストを印刷などで塗布し、その後、焼成するものである。そしてその後、隔壁11間に蛍光体層12を形成する蛍光体層形成工程(S25)を行う。これは、赤色,緑色,青色の各色蛍光体ペーストを作製し、これを隔壁11の間隙毎に塗布し、その後、焼成するものである。以上により背面板3が製造される。
次に、以降の工程について述べる。まず、前面板2および背面板3の少なくとも一方にガラスフリットからなる封着部材(不図示)を形成する封着部材形成工程(S31)を行う。これは、ガラスフリットをペースト状にした封着用ガラスペーストを塗布し、その後、塗布したガラスペーストの樹脂成分等を除去するために仮焼するものである。次に、前面板2と背面板3とを、表示電極5とアドレス電極9とが直交して対向するように重ね合わせる、重ね合わせ工程(S32)を行い、その後、重ね合わせた前面板2と背面板3とを重ね合わせた状態のまま加熱し、封着部材(不図示)を軟化させることによって封着する封着工程(S33)を行う。次に、封着された前面板2と背面板3との間に形成された放電空間13を真空排気し加熱する、排気・ベーキング工程(S34)を行い、その後、放電ガスを所定の圧力で封入する放電ガス封入工程(S35)を行うことによりPDP1が完成する(S36)。
ここで、上述した製造方法における保護層熱処理工程(S15)についてさらに述べる。
図2は、本発明の一実施の形態によるPDPの製造方法における保護層熱処理工程(S15)で使用する、保護層熱処理装置の概略構成を示す斜視図である。
保護層熱処理装置31は、保護層形成工程(S14)において前面板2に保護層7(図5)を形成した後に、酸素を含む雰囲気下で熱処理するためのものであり、例えば真空蒸着法などで酸化マグネシウム(MgO)による保護層7(図5)を形成した前面板2を保護層熱処理装置31内で保持する、前面板2の保持具(不図示)と、保護層熱処理装置31内に雰囲気ガスを供給するためのバルブ32および給気装置33(例えば、ファン)と、前面板2を所定の温度(例えば、300℃〜600℃)に昇温し、保持する、例えばヒーターなどの加熱手段(不図示)と、保護層熱処理装置31内の雰囲気ガスを排気するためのバルブ34および排気装置35(例えば、ファン)とを備える。
ここで、雰囲気ガスは、酸素供給装置36(例えば、酸素富化膜)により、含まれる酸素濃度が制御されたものが、バルブ32および給気装置33により保護層熱処理装置31内に導入される。そして、酸素濃度が制御された雰囲気下で保護層7の熱処理が行われる。このことにより、保護層7に付着した不純ガスの除去、および保護層7表面の膜質を変化させることでの保護層7表面の酸素欠損量の制御を行うことが可能となる。除去された不純ガスは、雰囲気ガスと共にバルブ34および排気装置35により保護層熱処理装置31外に排気される。
ここで、上述のように、保護層7を形成した後に酸素を含む雰囲気下で熱処理を行う理由は、本発明者らが行った、保護層7の放電遅れ時間とカソードルミネッセンス(CL)法による測定結果との相関関係に対する考察に基づくものである。すなわち、本発明者らは、放電遅れ時間が、酸素欠損に起因するとされるF+センターとよばれる吸収ピークと相関があることを確認しており、このことから、放電遅れ時間の長短は酸素欠損に起因する欠陥の増減に関連しているものと考えられる。ここで、保護層7に対して熱処理を行わなかった場合、行った場合に比べ、酸素欠損量(F+の面積強度)は約10分の1程度であり、また、放電遅れ時間は2倍以上長くなり点灯不良が発生してしまうことを確認している。
さらに、酸素濃度を制御する理由は、図3に熱処理時の酸素濃度と酸素欠損量(F+の面積強度)との関係を模式的に、また、図4に熱処理時の酸素濃度と放電遅れ時間との関係を模式的に示すように、熱処理時の酸素濃度に対して、酸素欠損量および放電遅れ時間にそれぞれ相関があることを確認したことに基づくものである。なお、図3および図4は、酸素濃度以外の熱処理条件は全て同じ条件としたものを比較したものである。図4に示す、酸素濃度と放電遅れ時間との関係から、所定の放電遅れ(図中の一点鎖線A)以下とするためには、保護層熱処理装置31内の雰囲気の酸素濃度は、所定値以下あるいは所定値以上であることが必要であり、検討の結果、0%〜約20%、もしくは約70%〜100%とすれば良いことを確認した。また、その際の熱処理の温度は、300℃〜600℃とすれば、上述した保護層7に対する効果が得られやすいことを確認しており、好ましい。
なお、具体的な酸素濃度は上述した範囲の中で、必要とされる放電遅れ時間との関係から、適当に設定すれば良い。
また、本発明では上述のような熱処理をバッチ方式にて行う例を示したが、連続方式にて処理するものであっても、本発明の効果を得ることができる。
以上のように本発明は、保護層の酸素欠損量を適正なものとすることで放電遅れを適正に制御し、もって画像表示特性の優れたPDPを製造することを可能とする。
本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法の工程の流れの概略を示す流れ図 本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法において使用される保護層熱処理装置の概略構成を示す斜視図 熱処理時の酸素濃度とその際の保護層中の酸素欠損量の関係を示す図 熱処理時の酸素濃度と放電遅れ時間との関係を示す図 プラズマディスプレイパネルの概略構成の一例を示す断面斜視図 プラズマディスプレイパネルの駆動回路の概略構成を示すブロック図 プラズマディスプレイパネルの駆動波形の一例を示す図
符号の説明
1 プラズマディスプレイパネル
5 表示電極
5a 走査電極
5b 維持電極
6 誘電体層
7 保護層

Claims (2)

  1. 走査電極と維持電極とからなる表示電極を覆う誘電体層の表面に、酸化マグネシウムによる保護層を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、保護層は、その形成後、酸素濃度が0%〜20%、もしくは70%〜100%の雰囲気中で熱処理することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  2. 熱処理の温度が、300℃〜600℃であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009163895A (ja) * 2007-12-28 2009-07-23 Hitachi Ltd プラズマディスプレイパネル
JP2010185100A (ja) * 2009-02-10 2010-08-26 Ulvac Japan Ltd 成膜方法、パネル製造装置、アニール装置

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