JP2005042709A5

JP2005042709A5 -

Info

Publication number: JP2005042709A5
Application number: JP2004173085A
Authority: JP
Filing date: 2004-06-10
Publication date: 2006-08-24

Claims

気体を排気する真空ポンプにおいて、
第１の軸受により回転自在に支承された主軸と、
前記主軸を回転駆動するモータと、
前記主軸に取り付けられた第１の回転翼と第１のケーシングの内部に固定された第１の固定翼と吸気口とを有する第１の排気部と、
前記主軸に取り付けられた第２の回転翼と第２のケーシングの内部に固定された第２の固定翼と排気口とを有する第２の排気部と、を備え、
前記吸気口を前記主軸の端部近傍に配置し、前記主軸の軸方向に沿って、前記第１の排気部、前記第１の軸受、前記第２の排気部をこの順に配置したことを特徴とする真空ポンプ。
気体を排気する真空ポンプにおいて、
軸受により回転自在に支承された主軸と、
前記主軸を回転駆動するモータと、
前記主軸に取り付けられた回転翼と、
前記回転翼に軸方向に隣接して配置されたリング状部材とを備え、
前記回転翼及び前記リング状部材を含むユニットの線膨張係数と、前記主軸の線膨張係数とが略同一となるように構成したことを特徴とする真空ポンプ。
気体を排気する真空ポンプにおいて、
軸受により回転自在に支承された主軸と、
前記主軸を回転駆動するモータと、
前記主軸に取り付けられる回転翼とを備え、
前記回転翼は、前記主軸に嵌合する円筒部と該円筒部の外周面に固定された翼部とを有し、
前記円筒部の軸方向寸法を前記翼部の軸方向寸法より長くしたことを特徴とする真空ポンプ。
前記翼部は、回転方向に対して後ろ向きに延びる渦巻状羽根と、前記渦巻状羽根が固定される円板状の基部とを備え、
前記円筒部の外周面の位置において、前記基部の上面から前記円筒部の上端までの寸法及び前記基部の下面から前記円筒部の下端までの寸法は、それぞれ前記基部の厚さに対して０．５倍以上であることを特徴とする請求項３に記載の真空ポンプ。
前記翼部は、回転方向に対して後ろ向きに延びる渦巻状羽根と、前記渦巻状羽根が固定される円板状の基部とを備え、
前記渦巻状羽根の軸方向の寸法は、径方向外側に向かって連続的に小さくなっていることを特徴とする請求項３に記載の真空ポンプ。
前記翼部は、回転方向に対して後ろ向きに延びている渦巻状羽根と、前記渦巻状羽根が固定される円板状の基部とを備え、
前記渦巻状羽根と前記基部とが接続される部位には隅肉部が形成されていることを特徴とする請求項３に記載の真空ポンプ。
気体を排気する真空ポンプにおいて、
軸受により回転自在に支承された主軸と、前記主軸を回転駆動するモータと、前記主軸に取り付けられる第１の回転翼及び第２の回転翼とを備え、
前記第１の回転翼は、前記主軸に嵌合する円筒部と該円筒部の外周面に固定された翼部とを有し、該円筒部の軸方向寸法は前記翼部の軸方向寸法よりも長く、前記翼部は回転方向に対して後ろ向きに延びる羽根を有し、
前記第２の回転翼は、前記主軸に嵌合する円筒部と、該円筒部の外周面に固定された円板部とを有し、該円筒部の軸方向寸法は前記円板部の軸方向寸法より長く、
前記第１の回転翼を吸気側に配置すると共に、前記第２の回転翼を排気側に配置し、前記第２の回転翼は前記第１の回転翼以上の直径を有することを特徴とする真空ポンプ。
気体を排気する真空ポンプにおいて、
複数の渦巻状羽根をそれぞれ有する多段の遠心ドラッグ翼と、
複数の渦巻状ガイドをそれぞれ有する多段の固定翼とを備え、
上流側に配置される前記遠心ドラッグ翼の前記渦巻状羽根の高さは、下流側に配置される前記遠心ドラッグ翼の前記渦巻状羽根の高さと同一か、又はそれよりも高く、
上流側に配置される前記固定翼の前記渦巻状ガイドの高さは、下流側に配置される前記固定翼の前記渦巻状ガイドの高さと同一か、又はそれよりも高いことを特徴とする真空ポンプ。
前記遠心ドラッグ翼の前記渦巻状羽根と前記遠心ドラッグ翼に同心上に配置された仮想円の接線とのなす角度は、上流側に配置される前記渦巻状羽根の前記角度が下流側に配置される前記渦巻状羽根の前記角度と同一か、又はそれよりも大きくなるように設定されていることを特徴とする請求項８に記載の真空ポンプ。
軸受により回転自在に支承された主軸と、
前記主軸を回転駆動するモータと、
前記主軸に取り付けられた回転翼とケーシングの内部に固定された固定翼と排気口とを有する排気部と、
前記主軸を軸方向に支持するアキシャル軸受とを備え、
前記主軸にセンサターゲットを固定し、前記センサターゲットの軸方向の変位を測定するアキシャル変位センサを前記回転翼の最終段の近傍に設けたことを特徴とする真空ポンプ。
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の真空ポンプと、
基板を処理するプロセスチャンバとを備え、
前記真空ポンプと前記プロセスチャンバとを直接又は間接に接続したことを特徴とする半導体製造装置。