JP2004245786A - ウェハ外観検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェハ外観検査装置は、ウェハ104の表面に光を照射する光源106と、光源106によって照射されたウェハからの反射光を検出する検出器であるCCDカメラ102と、ウェハを載置したXYステージ101と、XYステージ101を移動して、ウェハ104上の検査チップ107と比較チップ108の同じポイントからCCDカメラ102によって検出された濃度差が所定のしきい値以上の場合に、欠陥と判定する制御部を有する。波長選択範囲の異なる複数の波長選択フィルタ109の内、パターン正常部分からの検出される輝度と、非致命欠陥から検出される輝度の差が、フィルタを用いない場合に比べて、最も小さくなるフィルタを選択して、光路中に挿入する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ウェハ外観検査装置に係り、特に、非検査物の特性にはダメージを与えない欠陥(非致命欠陥)を検査するに好適な光学式のウェハ外観検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ウェハプロセスにおいては、例えばシリコン単結晶などからなるウェハに多数の半導体素子を形成するため、光リソグラフィ技術によってウェハ上に転写されたパターンを所定数だけ重ね合わせて多層状に構成することが行われる。この場合、個々のパターンが所定の形状に形成されることは半導体素子の性能を実現する上で極めて重要であり、通常この個々のパターンを各層毎に光学的に検査することが行われる。
【0003】
このような検査装置としては、例えば、特開2002−005849号公報に記載されているように、ウェハ上に格子状に規則的に配列形成されたチップの内、検査チップと比較チップの2つの濃淡画像データを、光学式顕微鏡とCCDカメラ等の撮像素子で取得し、この2つのチップの同一ポイントからの濃淡差が、予め設定した欠陥判定しきい値よりも大きい場所をパターン欠陥として抽出するようにしている。
【0004】
【特許文献】
特開2002−005849号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開2002−005849号公報に記載されているような光学式ウェハ外観検査装置では、非検査物の表面に、その特性にはダメージを与えない欠陥(色むら,グレインなどと呼ばれるもの。以下、「非致命欠陥」と称する。)があった場合、この非致命欠陥をパターン形状の不良の欠陥として検出する場合があった。光学式ウェハ外観検査装置で検出された欠陥は、その欠陥の致命,非致命を判定する為、最終的には目視確認されることが多い。したがって、非致命欠陥を欠陥をして判断する量が多いと、目視確認に時間を要することとなる。
【0006】
なお、特開2002−005849号公報では、波長選択フィルタを用いることについて開示しているが、この波長選択フィルタは、紫外光と可視光と切り換えて、照明光の波長範囲を狭くして良好な光学像を形成するために用いられている。
【0007】
本発明の目的は、非致命欠陥を検出を低減し、目視確認に要する時間を短縮可能なウェハ外観検査装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
(1)上記目的を達成するために、本発明は、ウェハの表面に光を照射する光源と、この光源によって照射された上記ウェハからの反射光を検出する検出器と、上記ウェハを載置したステージと、このステージを移動して、上記ウェハ上の検査チップと比較チップの同じポイントから上記検出器によって検出された濃度差が所定のしきい値以上の場合に、欠陥と判定する制御部を有するウェハ外観検査装置において、波長選択範囲の異なる複数の波長選択フィルタを備え、これらの複数の波長選択フィルタの内、パターン正常部分からの検出される輝度と、非致命欠陥から検出される輝度の差が、フィルタを用いない場合に比べて、最も小さくなるフィルタを選択して、光路中に挿入するようにしたものである。
かかる構成により、非致命欠陥を検出を低減し、目視確認に要する時間を短縮し得るものとなる。
【0009】
(2)上記(1)において、好ましくは、上記制御部は、上記複数の波長選択フィルタを順次光路中に挿入し、パターン正常部分からの検出される輝度と、非致命欠陥から検出される輝度の差が、フィルタを用いない場合に比べて、最も小さくなるフィルタを選択して、光路中に挿入するようにしたものである。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、図1〜図3を用いて、本発明の一実施形態によるウェハ外観検査装置の構成について説明する。
最初に、図1を用いて、本実施形態によるウェハ外観検査装置の全体構成について説明する。
図1は、本発明の一実施形態によるウェハ外観検査装置の全体構成を示すブロック図である。
【0011】
検査ウェハ104は、X−Yステージ101の上に載置される。検査ウェハ104の上には、格子状にチップが規則的に配列形成されている。制御部103は、X−Yステージ101をチップピッチの整数倍の距離を動かす。
【0012】
光源106からの光が検査ウェハ104に照射される。検査ウェハ104から反射された光は、対物レンズ105を通し、ハーフミラー110により光路分割され、2次元CCDカメラ102により2次元画像として検出される。光源106としては、例えば、輝度の高いキセノンランプを用いている。
【0013】
制御部103によって、X−Yステージ101をチップピッチの整数倍の距離を動かし、検査チップ107と比較チップ108の同一ポイントの濃淡画像を得ることができる。制御部103は、検査チップ107と比較チップ108の同一ポイントの濃淡差に基づいて、濃淡差が所定のしきい値より大きいときは、検査チップ107の検査したポイントに欠陥があると判断する。
【0014】
このとき、欠陥と判断した部分の中には、半導体素子の性能に影響を与えない非致命欠陥の場合もある。非致命欠陥を欠陥を判断しないようにするために、本実施形態では、波長選択フィルタ109を用いている。波長選択フィルタ109は、円盤に固定された4種類のフィルタと、フィルタの取り付けられていない開口部分とから構成されている。円盤を回転することにより、4種類の内の任意の種類のフィルタを光路中に挿入したり、また、フィルタの取り付けられていない開口部のみを光路中に挿入したりすることができる。波長選択フィルタ109は、所定の波長範囲の光のみを選択的に透過するフィルタである。4種類のフィルタは、それぞれ、波長選択範囲が異なっている。
【0015】
図1に示す例では、波長選択フィルタ109は、光源106と、検査ウェハ104の間に配置されている。従って、波長選択フィルタ109によって選択された波長範囲の光のみが検査ウェハ104に照射される。波長選択フィルタ109は、パターン正常部分からの検出される輝度と、非致命欠陥から検出される輝度の差が、フィルタ109を用いない場合に比べて、できるだけ小さくなるようなフィルタが選択され、光路中に挿入するようにしている。波長選択フィルタ109の選び方については、図2,図3を用いて、後述する。波長選択フィルタ109を光路中に挿入する場所としては、例えば、ハーフミラー110とCCD102の間の光路中としてもよいものである。
【0016】
次に、図2及び図3を用いて、本実施形態によるウェハ外観検査装置において用いる波長選択フィルタの選び方について説明する。
図2は、本発明の一実施形態によるウェハ外観検査装置によって検査される検査ウェハの濃淡画像の一例を示す例図である。図3は、本発明の一実施形態によるウェハ外観検査装置によって検査される検査ウェハの濃淡画像と波長選択フィルタの波長特性の一例を示す例図である。
【0017】
図2に示すように、ウェハ外観検査装置によって検査される検査ウェハの濃淡画像では、パターン正常部202と、パターン背景部203がある。パターン正常部202は、ウェハプロセスにおけるメタル配線工程によって形成されたメタル配線パターンの部分である。パターン背景部203は、メタル配線が形成されていない部分である。一般に、パターン正常部202は、金属であるため反射率が高く、輝度も高くなっている。一方、パターン背景部203は、金属以外の絶縁物などであるため反射率も低く、輝度が低くなっている。非致命欠陥201は、パターン正常部202の中に生じる。すなわち、メタル配線に用いられるメタルの結晶粒径が大きくなると、その部分の反射率が異なるため、パターン正常部202の中に、周囲とは違う色を持つ部分が生じる。しかしながら、非致命欠陥201は、半導体素子の性能には影響を与えないものである。
【0018】
図3において、曲線202Aは、パターン正常部202における反射光の波長特性を示している。この波長特性は、CCDカメラ102によって検出された信号によるものであり、光源106の波長特性や、CCDカメラ102の波長特性を含むもので、光学系全体の波長特性を含むパターン正常部202の波長特性ともいうべきものである。パターン正常部202は、メタル部分であるので全反射近く、400〜600nmの広い波長範囲でほぼ等しい反射強度を有している。曲線203Aは、パターン背景部203における反射光の波長特性を示している。パターン背景部203は、パターン正常部202に比べて全体的に低い反射強度を有している。
【0019】
曲線201Aは、非致命欠陥201における反射光の波長特性を示している。ここで示す非致命欠陥201は、550nmにピーク波長を有するとともに、500〜600nmの波長範囲に光強度を有している。パターン正常部202はCCDカメラ102によって検出された画像としては全体として白っぽい画像であるのに対して、非致命欠陥201は緑っぽく見える画像である。従って、肉眼で観察すれば、非致命欠陥であることは識別可能であるが、検査チップ107と比較チップ108の同一ポイントの濃淡差に基づいて、濃淡差が所定のしきい値より大きいときは、検査チップ107の検査したポイントに欠陥があると判断する方法では、非致命欠陥部は、欠陥として判断されてしまうものである。
【0020】
ここで、濃淡の度合いは、便宜的に、図3に示す波長特性の面積で示すことができる。例えば、パターン正常部202の曲線202Aの波長400〜600nmの波長範囲における面積をS2とする。一方、非致命欠陥201の曲線201Aの波長400〜600nmの波長範囲における面積をS1とする。曲線201Aは、波長500〜600nmの範囲にしか輝度分布を有しないため、実質的に波長500〜600nmにおける面積ということになる。ここで、図3の記載から明らかに理解されるように、S2≫S1となる。従って、従来のウェハ外観検査装置において、比較チップ108のパターン正常部202の輝度と、同一ポイントにおける非致命欠陥201の輝度の差(濃淡差)(S2−S1)は、所定のしきい値よりも大きくなるため、非致命欠陥201は欠陥であると判断してしまうことになる。
【0021】
本実施形態において、図1の波長選択フィルタ109に用いる4種類のフィルタの波長選択特性を図3に示すように、F1(500〜600nm),F2(460〜600nm),F3(440〜600nm),F4(420〜600nm)とし、フィルタが挿入されていないときは、400〜600nmの波長範囲とする。例えば、フィルタF1(500〜600nm)を光路中に挿入した場合、500〜600nmの波長範囲の光が比較ウェハ及び検査ウェハに照射される。このとき、パターン正常部202の曲線202Aの波長500〜600nmの波長範囲における面積をS2F1とする。一方、非致命欠陥201の曲線201Aの波長500〜600nmの波長範囲における面積は、上述したものと同様にS1となる。ここで、図3の記載から理解されるように、S2F1≒S1となる。従って、比較チップ108のパターン正常部202の輝度と、同一ポイントにおける非致命欠陥201の輝度の差(濃淡差)(S2F1−S1)は、所定のしきい値よりも小さくなるため、非致命欠陥201は欠陥ではないと判断できることになる。なお、S2F1≒S1とならなくても、比較チップ108のパターン正常部202の輝度と、同一ポイントにおける非致命欠陥201の輝度の差(濃淡差)(S2F1−S1)が、所定のしきい値よりも小さくなれば、非致命欠陥201は欠陥ではないと判断できるものである。
【0022】
波長選択フィルタ109を用いて、円盤を回転することにより、4種類のフィルタを順次光路中に挿入し、正常部分からの検出される輝度と、非致命欠陥から検出される輝度の差が、フィルタ109を用いない場合(単なる開口が光路中に挿入された場合)に比べて、できるだけ小さくなるようなフィルタを4種類の中から選択して用いることにより、非致命欠陥201は欠陥ではないと判断できることになる。
【0023】
以上のようにして、本実施形態では、複数の波長特性を有するフィルタを順次光路中に挿入して、正常部分からの検出される輝度と、非致命欠陥から検出される輝度の差が、フィルタ109を用いない場合に比べて、できるだけ小さくなるようなフィルタが選択して、光路中に挿入することにより、非致命欠陥201は欠陥ではないと判断できることになるものである。非致命欠陥を欠陥として判別しないようになることにより、その後の目視確認による欠陥か非致命欠陥かの識別時間を短縮することができる。
【0024】
次に、図4を用いて、本発明の他の実施形態によるウェハ外観検査装置の構成及び動作について説明する。なお、本実施形態によるウェハ外観検査装置の全体構成は、図1に示したものと同様である。
図4は、本発明の他の実施形態によるウェハ外観検査装置による制御動作を示すフローチャートである。
【0025】
本実施形態では、制御部103が、フィルタの選択設定を自動的に行うようにしている。
【0026】
ステップs10において、制御部103は、波長選択フィルタ109に指令を出し、n番目のフィルタを光路中に挿入し、そのときの濃淡画像をCCDカメラ102によって検出する。なお、図1に示した例では、フィルタは4種類有るため、1〜4番目のフィルタの内に任意のn番目のものを光路中に挿入する。例えば、1番目のフィルタを光路中に挿入する。なお、ステップs10〜s30は、4種類のフィルタについてそれぞれ実行される。
【0027】
次に、ステップs20において、制御部103は、X−Yステージ101をチップピッチの整数倍の距離を動かし、検査チップ107の非致命欠陥の濃度Def−nと、比較チップ108のパターン正常部の濃度Pat−nを求める。
【0028】
次に、ステップs30において、制御部103は、非致命欠陥の濃度Def−nと、パターン正常部の濃度Pat−nとの差Diff−nを求める。そして、以上のステップs10〜s30は、4種類のフィルタ、それぞれについて実行される。実行された結果の差の値は、それぞれ、Diff−1,Diff−2,Diff−3,Diff−4となる、
次に、ステップs40において、差Diff−1,Diff−2,Diff−3,Diff−4の値が最も小さいものを選択する。
【0029】
最後に、ステップs50において、差Diff−nが最も小さかった波長選択フィルタnを光路中に挿入するよう設定する。
【0030】
以上のようにして、本実施形態では、複数の波長特性を有するフィルタを順次光路中に挿入して、正常部分からの検出される輝度と、非致命欠陥から検出される輝度の差が、一番小さくなるようなフィルタが選択して、光路中に挿入することにより、非致命欠陥201は欠陥ではないと判断できることになるものである。非致命欠陥を欠陥として判別しないようになることにより、その後の目視確認による欠陥か非致命欠陥かの識別時間を短縮することができる。
【0031】
【発明の効果】
本発明によれば、非致命欠陥を検出を低減し、目視確認に要する時間が短縮できる。
【0032】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態によるウェハ外観検査装置の全体構成を示すブロック図である。
【図2】本発明の一実施形態によるウェハ外観検査装置によって検査される検査ウェハの濃淡画像の一例を示す例図である。
【図3】本発明の一実施形態によるウェハ外観検査装置によって検査される検査ウェハの濃淡画像と波長選択フィルタの波長特性の一例を示す例図である。
【図4】本発明の他の実施形態によるウェハ外観検査装置による制御動作を示すフローチャートである。
【符号の説明】
101…X−Yステージ
102…2次元CCDカメラ
103…制御部
104…検査ウェハ
105…対物レンズ
106…光源
107…検査チップ
108…比較チップ
109…波長選択フィルタ
110…ハーフミラー
201…非致命欠陥
202…パターン正常部
203…パターン背景部
Claims (2)
- ウェハの表面に光を照射する光源と、この光源によって照射された上記ウェハからの反射光を検出する検出器と、上記ウェハを載置したステージと、このステージを移動して、上記ウェハ上の検査チップと比較チップの同じポイントから上記検出器によって検出された濃度差が所定のしきい値以上の場合に、欠陥と判定する制御部を有するウェハ外観検査装置において、
波長選択範囲の異なる複数の波長選択フィルタを備え、
これらの複数の波長選択フィルタの内、パターン正常部分からの検出される輝度と、非致命欠陥から検出される輝度の差が、フィルタを用いない場合に比べて、最も小さくなるフィルタを選択して、光路中に挿入することを特徴とするウェハ外観検査装置。 - 請求項1記載のウェハ外観検査装置において、
上記制御部は、上記複数の波長選択フィルタを順次光路中に挿入し、パターン正常部分からの検出される輝度と、非致命欠陥から検出される輝度の差が、フィルタを用いない場合に比べて、最も小さくなるフィルタを選択して、光路中に挿入することを特徴とするウェハ外観検査装置。
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