JP2004172628A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 異なる種類の処理液配管が接続された複数のノズル10を待機部50に収納するとともに、垂直および水平方向に移動可能なノズル把持部20がノズル10を選択して把持し、回転処理部1の基板W上の所定位置に搬送して処理液を基板Wに供給する。ノズル把持部20は、ペルチェ素子が取り付けられた一対の挟持アームを有する。ノズル10内の処理液配管は挟持アームに把持される把持部を有する伝熱部材の周囲に巻き付けられており、ノズル把持部20のペルチェ素子からの吸熱作用を処理液配管に及ぼし、処理液配管内の処理液を所定の温度に調整する。
【選択図】 図1
Description
10 ノズル
11 ハウジング
13 ノズルチップ
15 伝熱部材
15a 把持部
15b 胴部
20 ノズル把持部
21 挟持アーム
24 リンク機構
26 駆動シリンダ
27 ペルチェ素子
28 冷却水循環部材
50 待機部
Claims (5)
- 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、
ハウジング、およびそのハウジングから突出し前記基板保持手段に保持された前記基板に処理液を吐出するノズルチップを有するノズルと、
前記ハウジング内で引き回されるように設けられ、処理液を前記ノズルチップに導く処理液配管と、
前記ハウジング内の処理液を所定の温度に調整する温度調整手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記ノズルを把持して移動可能なノズル把持部をさらに備え、
前記温度調整手段は、前記ノズル把持部に設けられた熱電冷却素子を含むことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記温度調整手段の温度調整動作を制御する制御手段をさらに備えたことを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。
- 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段に保持された前記基板に処理液を供給するノズルと、
処理液を前記ノズルに導く処理液配管と、
前記ノズルを把持して移動可能なノズル把持部と、
前記ノズル把持部を前記基板保持手段に保持された前記基板の上方位置と前記基板の外方の待機位置とに移動させる移動手段と、
前記待機位置に配置され、待機時に前記ノズルに接して当該ノズルを収納する待機部と、
前記待機部および前記ノズルの温度を熱伝導により調整する温度調整手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記待機部は前記ノズルを複数個収納し、
前記ノズル把持部は、前記複数のノズルのいずれかを選択的に把持することを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。
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