JP2003300739A - フロートガラスを製造する際にスパウトリップを介して溶融ガラスを供給する装置 - Google Patents
フロートガラスを製造する際にスパウトリップを介して溶融ガラスを供給する装置Info
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- JP2003300739A JP2003300739A JP2003060396A JP2003060396A JP2003300739A JP 2003300739 A JP2003300739 A JP 2003300739A JP 2003060396 A JP2003060396 A JP 2003060396A JP 2003060396 A JP2003060396 A JP 2003060396A JP 2003300739 A JP2003300739 A JP 2003300739A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スパウトリップが１４００℃までの高い温度
安定性、種々の溶融ガラスに対する高い侵食安定性を有
し、溶融ガラスとの不所望の相互作用を有せず、温度変
化に対して安定でなくかつ溶融ガラス内に侵食生成物を
放出しない、フロートガラスを製造する際にスパウトリ
ップを介して溶融ガラスを供給する装置を提供する。 【解決手段】 少なくとも溶融ガラス（１２．１）と接
触するスパウトリップ（２０）の表面が耐熱貴金属層
（２２）で覆われている。 【効果】 金属層とスパウトリップの材料で熱膨張率の
良好な適合が達成されるので、金属層内での皺及び亀裂
形成が回避される。
安定性、種々の溶融ガラスに対する高い侵食安定性を有
し、溶融ガラスとの不所望の相互作用を有せず、温度変
化に対して安定でなくかつ溶融ガラス内に侵食生成物を
放出しない、フロートガラスを製造する際にスパウトリ
ップを介して溶融ガラスを供給する装置を提供する。 【解決手段】 少なくとも溶融ガラス（１２．１）と接
触するスパウトリップ（２０）の表面が耐熱貴金属層
（２２）で覆われている。 【効果】 金属層とスパウトリップの材料で熱膨張率の
良好な適合が達成されるので、金属層内での皺及び亀裂
形成が回避される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス溶融槽から
調節可能な供給通路を介してスパウトリップ（spout li
p: Ueberlaufstein）に供給されかつ該スパウトリップ
の、金属層でライニングされた表面上を導かれてフロー
ト浴のスズ表面上に達するフロートガラスを製造する際
にスパウトリップを介して溶融ガラスを供給する装置に
関する。
調節可能な供給通路を介してスパウトリップ（spout li
p: Ueberlaufstein）に供給されかつ該スパウトリップ
の、金属層でライニングされた表面上を導かれてフロー
ト浴のスズ表面上に達するフロートガラスを製造する際
にスパウトリップを介して溶融ガラスを供給する装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】フロート法に基づきフロートガラスを製
造する際には、ガラスをガラス溶融槽内で溶融させ、清
澄部分で気泡不含に“清澄”にし、ガラス溶融槽とフロ
ート浴の間の供給通路内で均質にしかつ状態調節（成形
のために必要な粘度に調整する）するのが通例である。
状態調節された溶融ガラスは、供給通路の末端部でスパ
ウトリップを介してフロート浴内の液状スズ上に流し出
される。フロート浴内で、溶融ガラスのガラスリボンへ
の成形が行われる。
造する際には、ガラスをガラス溶融槽内で溶融させ、清
澄部分で気泡不含に“清澄”にし、ガラス溶融槽とフロ
ート浴の間の供給通路内で均質にしかつ状態調節（成形
のために必要な粘度に調整する）するのが通例である。
状態調節された溶融ガラスは、供給通路の末端部でスパ
ウトリップを介してフロート浴内の液状スズ上に流し出
される。フロート浴内で、溶融ガラスのガラスリボンへ
の成形が行われる。
【０００３】この場合には、スズの表面までのスパウト
リップの下方エッジの間隔並びにスパウトリップの表面
特性が、フロート浴内での成形プロセス、ひいてはフロ
ート加工されたガラスの品質にとって決定的である。
リップの下方エッジの間隔並びにスパウトリップの表面
特性が、フロート浴内での成形プロセス、ひいてはフロ
ート加工されたガラスの品質にとって決定的である。
【０００４】溶融ガラスと接触するスパウトリップの表
面が亀裂、孔又は侵食プロフィールを有していれば、こ
れはフロート加工されたガラスにおいて表面欠陥（Cros
s Distorsion）を生じる。
面が亀裂、孔又は侵食プロフィールを有していれば、こ
れはフロート加工されたガラスにおいて表面欠陥（Cros
s Distorsion）を生じる。
【０００５】スパウトリップの侵食の増大に基づきフロ
ート浴内のスズの表面までのスパウトリップの下方エッ
ジの間隔が大きくなりすぎれば、フロート浴内への溶融
ガラスの供給条件、例えばバックフロー：フロントフロ
ー比が変化する。その際には、ウエット・バック・バブ
ル（Wet Back Bubble）が生じる。
ート浴内のスズの表面までのスパウトリップの下方エッ
ジの間隔が大きくなりすぎれば、フロート浴内への溶融
ガラスの供給条件、例えばバックフロー：フロントフロ
ー比が変化する。その際には、ウエット・バック・バブ
ル（Wet Back Bubble）が生じる。
【０００６】公知の装置においては、スパウトリップは
耐火性セラミック材料からなる。通常、スパウトリップ
の材料としては、鋳込成形されかつ焼結されたシリカガ
ラスセラミック（溶融シリカ）又は溶融流し込成形され
たＡｌ２Ｏ３が使用される。この材料は、ソーダ石灰ガ
ラスを製造する際には完全に十分でありかつ２〜３年の
スパウトリップの寿命をもたらす。
耐火性セラミック材料からなる。通常、スパウトリップ
の材料としては、鋳込成形されかつ焼結されたシリカガ
ラスセラミック（溶融シリカ）又は溶融流し込成形され
たＡｌ２Ｏ３が使用される。この材料は、ソーダ石灰ガ
ラスを製造する際には完全に十分でありかつ２〜３年の
スパウトリップの寿命をもたらす。
【０００７】しかし、高融点の侵食性ガラス、例えばホ
ウケイ酸ガラス（低アルカリ及びアルカリ分不含）及び
アルミノケイ酸ガラスを製造する際には、この材料から
なるスパウトリップの寿命は最大６ヶ月に過ぎない。従
って、スパウトリップのために別の材料を使用すること
によりその寿命を高めることが既に試みられた。よっ
て、ＺｒＯ２８５〜９７質量％を有する溶融流し込成形
された材料を使用しかつこのようなスパウトリップをホ
ウケイ酸ガラス、特に低アルカリホウケイ酸ガラスを製
造する際に使用することが既に提案された。それによっ
て、スパウトリップの寿命を約１年に高めることができ
た（特開平０６−３４５４６７号公報）。
ウケイ酸ガラス（低アルカリ及びアルカリ分不含）及び
アルミノケイ酸ガラスを製造する際には、この材料から
なるスパウトリップの寿命は最大６ヶ月に過ぎない。従
って、スパウトリップのために別の材料を使用すること
によりその寿命を高めることが既に試みられた。よっ
て、ＺｒＯ２８５〜９７質量％を有する溶融流し込成形
された材料を使用しかつこのようなスパウトリップをホ
ウケイ酸ガラス、特に低アルカリホウケイ酸ガラスを製
造する際に使用することが既に提案された。それによっ
て、スパウトリップの寿命を約１年に高めることができ
た（特開平０６−３４５４６７号公報）。
【０００８】スパウトリップのための従来公知の材料の
欠点は、ガラス品質のための公知の結果（歪み等）を伴
う溶融ガラスによる侵食に基づき制限される寿命にあ
る。更に、セラミック材料のあらゆる侵食は、ガラス品
質を同様に劣化する気泡形成及び侵食物質の溶出と結び
付いている。
欠点は、ガラス品質のための公知の結果（歪み等）を伴
う溶融ガラスによる侵食に基づき制限される寿命にあ
る。更に、セラミック材料のあらゆる侵食は、ガラス品
質を同様に劣化する気泡形成及び侵食物質の溶出と結び
付いている。
【０００９】特開平０６−３４５４６７号公報に記載さ
れたスパウトリップの材料は、確かに比較的良好な侵食
安定性を有しているが、しかしこれは温度変化に対して
敏感である。温度変化の際に、容易に表面における剥離
が生じ、極端な場合にはしかもフロートガラスの公知の
品質欠陥を伴う亀裂を生じる。更に、こられらの材料は
極めて高価である。
れたスパウトリップの材料は、確かに比較的良好な侵食
安定性を有しているが、しかしこれは温度変化に対して
敏感である。温度変化の際に、容易に表面における剥離
が生じ、極端な場合にはしかもフロートガラスの公知の
品質欠陥を伴う亀裂を生じる。更に、こられらの材料は
極めて高価である。
【００１０】金属層を有するスパウトリップを形成する
際には、特にフロート浴からの還元性フォーミングガス
の侵食に対する金属層の保護も考慮しなければならな
い。更に、スパウトリップのための材料を選択する際に
は、スパウトリップの材料と金属層の熱膨張率が類似し
ていることが保証されるべきである。
際には、特にフロート浴からの還元性フォーミングガス
の侵食に対する金属層の保護も考慮しなければならな
い。更に、スパウトリップのための材料を選択する際に
は、スパウトリップの材料と金属層の熱膨張率が類似し
ていることが保証されるべきである。
【００１１】スパウトリップのための通常の材料、例え
ば溶融シリカ、Ａｌ２Ｏ３又はジルコニウムを使用する
場合には、スパウトリップは金属層のような明らかに小
さい熱膨張率を有する。これは１２００℃〜１４００℃
の使用温度で、金属層内に皺形成及び亀裂、極端な場合
に破壊を生じる。
ば溶融シリカ、Ａｌ２Ｏ３又はジルコニウムを使用する
場合には、スパウトリップは金属層のような明らかに小
さい熱膨張率を有する。これは１２００℃〜１４００℃
の使用温度で、金属層内に皺形成及び亀裂、極端な場合
に破壊を生じる。
【００１２】
【特許文献１】特開平０６−３４５４６７号公報
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、スパ
ウトリップが１４００℃までの高い温度安定性、種々の
溶融ガラスに対する高い侵食安定性を有し、溶融ガラス
との不所望の相互作用を有せず、温度変化に対して敏感
でなくかつ溶融ガラス内に侵食生成物を放出しない、冒
頭に記載した形式の装置を提供することである。
ウトリップが１４００℃までの高い温度安定性、種々の
溶融ガラスに対する高い侵食安定性を有し、溶融ガラス
との不所望の相互作用を有せず、温度変化に対して敏感
でなくかつ溶融ガラス内に侵食生成物を放出しない、冒
頭に記載した形式の装置を提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】前記課題は、少なくとも
溶融ガラスと接触するスパウトリップの表面が耐熱（re
fraktraere）貴金属層で覆われていることにより解決さ
れる。
溶融ガラスと接触するスパウトリップの表面が耐熱（re
fraktraere）貴金属層で覆われていることにより解決さ
れる。
【００１５】耐熱貴金属からなる金属層は、溶融ガラス
と接触するスパウトリップの表面に、スパウトリップの
ための優れた侵食安定性、ひいては高い寿命を付与す
る。更に、侵食生成物の溶融ガラス内への侵入が防止さ
れかつスパウトリップの材料の選択のために熱膨張率の
より良好な適合が付与されている。従って、金属層のた
めに白金又は白金合金を、スパウトリップのためにアル
ミン酸マグネシウムスピネルを選択し、そうして類似し
た熱膨張特性を達成することができる。従って、金属層
内の皺及び亀裂形成が容易に回避される。熱膨張率は、
１０〜１４×１０ - ６Ｋ- １の範囲内にある。
と接触するスパウトリップの表面に、スパウトリップの
ための優れた侵食安定性、ひいては高い寿命を付与す
る。更に、侵食生成物の溶融ガラス内への侵入が防止さ
れかつスパウトリップの材料の選択のために熱膨張率の
より良好な適合が付与されている。従って、金属層のた
めに白金又は白金合金を、スパウトリップのためにアル
ミン酸マグネシウムスピネルを選択し、そうして類似し
た熱膨張特性を達成することができる。従って、金属層
内の皺及び亀裂形成が容易に回避される。熱膨張率は、
１０〜１４×１０ - ６Ｋ- １の範囲内にある。
【００１６】金属層としては、白金とロジウム１０質量
％を有する合金、及び白金と金５質量％を有する合金が
好適であることが判明した。
％を有する合金、及び白金と金５質量％を有する合金が
好適であることが判明した。
【００１７】フロート浴からの還元性フォーミングガス
の侵食に対して白金を保護するために、スパウトリップ
の下でノズルを介して８００〜１２００℃の温度を有す
るガス状窒素を供給する。
の侵食に対して白金を保護するために、スパウトリップ
の下でノズルを介して８００〜１２００℃の温度を有す
るガス状窒素を供給する。
【００１８】該装置は、フロート法に基づきフラットパ
ネル・ディスプレイのための基板ガラスを製造するため
に特に好適である。
ネル・ディスプレイのための基板ガラスを製造するため
に特に好適である。
【００１９】まさに白金及びその合金は、ホウケイ酸ガ
ラス及びアルミノケイ酸ガラスに対して優れた侵食安定
性を有する。
ラス及びアルミノケイ酸ガラスに対して優れた侵食安定
性を有する。
【００２０】ホウケイ酸ガラスの場合には、
ＳｉＯ２ ５５〜６５質量％、
Ａｌ２Ｏ３ １２〜２０質量％、
Ｂ２Ｏ３ ≧５質量％、
ＢａＯ ０〜５質量％、
ＣａＯ ３〜９質量％、
ＭｇＯ １〜５質量％、
ＳｒＯ １〜５質量％
を有する組成が特に好適でありかつ本発明に基づき構成
されたスパウトリップは、フロート加工されたガラスリ
ボンの改良された表面品質にとって決定的に重要である
皺及び亀裂の無い表面と同時に高い寿命を有する。
されたスパウトリップは、フロート加工されたガラスリ
ボンの改良された表面品質にとって決定的に重要である
皺及び亀裂の無い表面と同時に高い寿命を有する。
【００２１】
【実施例】図面に示した実施例により、本発明を詳細に
説明する。
説明する。
【００２２】図１による原理図から明らかなように、ガ
ラスはガラス溶融槽１０内で溶融せしめられかつ供給通
路１１に供給され、該供給通路内で清澄にされた溶融ガ
ラスの量が供給通路１１の末端部のスパウトリップ２０
に配属されたガラス量調整装置１４（フロント・ツウィ
ール：Front Tweel）で調整可能である。
ラスはガラス溶融槽１０内で溶融せしめられかつ供給通
路１１に供給され、該供給通路内で清澄にされた溶融ガ
ラスの量が供給通路１１の末端部のスパウトリップ２０
に配属されたガラス量調整装置１４（フロント・ツウィ
ール：Front Tweel）で調整可能である。
【００２３】供給通路１１には遮断装置１３（バック・
ツウィール：Back Tweel）が配属されており、これを用
いてスパウトリップ２０に対する溶融ガラス１３の供給
を完全に遮断することができる。
ツウィール：Back Tweel）が配属されており、これを用
いてスパウトリップ２０に対する溶融ガラス１３の供給
を完全に遮断することができる。
【００２４】図２に明らかに示されているように、スパ
ウトリップ２０の上面に供給される溶融ガラス１２．１
の量はガラス量調整装置１４（フロント・ツウィール）
の調節によて計量供給される。スパウトリップ２０の上
面は、金属層２２で覆われている。この金属層は、この
場合には白金又は白金合金からなる。該金属層は、白金
又は白金合金ピンによってスパウトリップ２０の側面を
制限する側面ブロック内に固定されている。この場合、
固定位置は、ライニングされたスパウトリップ２０上を
流動する溶融ガラス１２．１と接触しないように設定す
ることができる。ここで明確に言及すれば、本発明の範
囲内で金属層２２は前記のように分離された構成部材か
らなっていてもよく、又はこの金属層はスパウトリップ
２０と一体に構成されていてもよい。金属層２２がスパ
ウトリップ２０に蒸着されているか又はその他の方式で
被覆されていることも考えられる。
ウトリップ２０の上面に供給される溶融ガラス１２．１
の量はガラス量調整装置１４（フロント・ツウィール）
の調節によて計量供給される。スパウトリップ２０の上
面は、金属層２２で覆われている。この金属層は、この
場合には白金又は白金合金からなる。該金属層は、白金
又は白金合金ピンによってスパウトリップ２０の側面を
制限する側面ブロック内に固定されている。この場合、
固定位置は、ライニングされたスパウトリップ２０上を
流動する溶融ガラス１２．１と接触しないように設定す
ることができる。ここで明確に言及すれば、本発明の範
囲内で金属層２２は前記のように分離された構成部材か
らなっていてもよく、又はこの金属層はスパウトリップ
２０と一体に構成されていてもよい。金属層２２がスパ
ウトリップ２０に蒸着されているか又はその他の方式で
被覆されていることも考えられる。
【００２５】溶融ガラス１２．１は、入口壁１５及び底
部部材１７で示されかつ液状スズ１８を収容するフロー
ト浴内に達する。流入する溶融ガラス１２．１は、液状
スズ１８の上にガラスリボン１２．２を形成し、該ガラ
スリボンは引出しロールを介してフロート浴から引出さ
れる。
部部材１７で示されかつ液状スズ１８を収容するフロー
ト浴内に達する。流入する溶融ガラス１２．１は、液状
スズ１８の上にガラスリボン１２．２を形成し、該ガラ
スリボンは引出しロールを介してフロート浴から引出さ
れる。
【００２６】スパウトリップ２０の下方エッジは、液状
スズ１８の表面に対して正確な間隔を取らねばならな
い。この場合、スパウトリップ２０は、フロート浴の入
口壁１５の上に配置されていてもよい。スパウトリップ
２０の下にはノズル２１が配置されており、該ノズルを
介して８００〜１２００℃の温度を有する窒素をスパウ
トリップ２０とフロート浴の間の移行部に供給可能であ
る。それにより、白金被覆の、溶融ガラスによって覆わ
れない部分が還元性フロート浴雰囲気に対して保護され
る。
スズ１８の表面に対して正確な間隔を取らねばならな
い。この場合、スパウトリップ２０は、フロート浴の入
口壁１５の上に配置されていてもよい。スパウトリップ
２０の下にはノズル２１が配置されており、該ノズルを
介して８００〜１２００℃の温度を有する窒素をスパウ
トリップ２０とフロート浴の間の移行部に供給可能であ
る。それにより、白金被覆の、溶融ガラスによって覆わ
れない部分が還元性フロート浴雰囲気に対して保護され
る。
【００２７】スパウトリップ２０とフロート浴の間の移
行領域は、供給通路１１に向かってフロントカバー部材
１９によりカバーされている。液状スズ１８は、入口壁
１５及び底部部材１７からなるフロート浴内に、タイル
１６を介してフロート浴の入口壁１５から分離されたフ
ロート加工されたガラスリボン１２．２のための液状支
持体を形成する。
行領域は、供給通路１１に向かってフロントカバー部材
１９によりカバーされている。液状スズ１８は、入口壁
１５及び底部部材１７からなるフロート浴内に、タイル
１６を介してフロート浴の入口壁１５から分離されたフ
ロート加工されたガラスリボン１２．２のための液状支
持体を形成する。
【００２８】スパウトリップ２０は、白金とロジウム１
０質量％又は白金と金５質量％からなる金属層と類似し
た、１０〜１４×１０- ６Ｋ- １の熱膨張率を有するアル
ミン酸マグネシウムスピネルからなる。これらの合わせ
られた熱膨張率は、１２００〜１４００℃の温度で金属
層が皺又は亀裂形成を示さずかつ従ってフロート加工さ
れたガラスリボン１２．２の改良された表面品質のため
に優れた表面を形成することを保証する。スパウトリッ
プ２０の下側で、フロート浴からの還元性雰囲気に対し
て白金を保護するために、ノズル２１を介して８００〜
１２００℃の温度を有するガス状が供給される。
０質量％又は白金と金５質量％からなる金属層と類似し
た、１０〜１４×１０- ６Ｋ- １の熱膨張率を有するアル
ミン酸マグネシウムスピネルからなる。これらの合わせ
られた熱膨張率は、１２００〜１４００℃の温度で金属
層が皺又は亀裂形成を示さずかつ従ってフロート加工さ
れたガラスリボン１２．２の改良された表面品質のため
に優れた表面を形成することを保証する。スパウトリッ
プ２０の下側で、フロート浴からの還元性雰囲気に対し
て白金を保護するために、ノズル２１を介して８００〜
１２００℃の温度を有するガス状が供給される。
【００２９】金属層の下側は、また、フロート浴から流
出するスズ蒸気及び還元性フロートガスに対して金属層
を保護するために、気密の拡散防止層を支持していても
よい。
出するスズ蒸気及び還元性フロートガスに対して金属層
を保護するために、気密の拡散防止層を支持していても
よい。
【００３０】本発明による装置は、フロート法に基づき
フラットパネル・ディスプレイのための基板ガラスを製
造するために特に好適である。このために使用されるホ
ウケイ酸ガラスは、有利には以下の組成： ＳｉＯ２ ５５〜６５質量％、 Ａｌ２Ｏ３ １２〜２０質量％、 Ｂ２Ｏ３ ≧５質量％、 ＢａＯ ０〜５質量％、 ＣａＯ ３〜９質量％、 ＭｇＯ １〜５質量％、 ＳｒＯ １〜５質量％ を有する。
フラットパネル・ディスプレイのための基板ガラスを製
造するために特に好適である。このために使用されるホ
ウケイ酸ガラスは、有利には以下の組成： ＳｉＯ２ ５５〜６５質量％、 Ａｌ２Ｏ３ １２〜２０質量％、 Ｂ２Ｏ３ ≧５質量％、 ＢａＯ ０〜５質量％、 ＣａＯ ３〜９質量％、 ＭｇＯ １〜５質量％、 ＳｒＯ １〜５質量％ を有する。
【図１】スパウトリップを有する、ガラス溶融槽からフ
ロート浴までの移行領域におけるフロートガラスを製造
するためのフロート装置を示す図である。
ロート浴までの移行領域におけるフロートガラスを製造
するためのフロート装置を示す図である。
【図２】１つの遮断スライダだけを有するフロート装置
におけるスパウトリップを有する移行領域を詳細に示す
図である。
におけるスパウトリップを有する移行領域を詳細に示す
図である。
１０ ガラス溶融槽、 １１ 供給通路、 １２，１
２．１ 溶融ガラス、１２．２ ガラスリボン、 １３
遮断装置（バック・ツウィール）、 １４ガラス量調
整装置（フロント・ツウィール）、 １５ 入口壁、
１６ タイル、 １７ 底部部材、 １８ 液状スズ、
１９ フロントカバー部材、 ２０スパウトリップ、
２１ ノズル、 ２２ 金属層
２．１ 溶融ガラス、１２．２ ガラスリボン、 １３
遮断装置（バック・ツウィール）、 １４ガラス量調
整装置（フロント・ツウィール）、 １５ 入口壁、
１６ タイル、 １７ 底部部材、 １８ 液状スズ、
１９ フロントカバー部材、 ２０スパウトリップ、
２１ ノズル、 ２２ 金属層
【手続補正書】
【提出日】平成１５年４月１６日（２００３．４．１
６）
６）
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【図２】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 クラウス シュナイダー
ドイツ連邦共和国 アポルダ ローベルト
−ビルクナー−ヴェーク 16
(72)発明者 アンドレーアス モルシュタイン
ドイツ連邦共和国 イェーナ フライリヒ
ラート−シュトラーセ 71
(72)発明者 ウーヴェ アイヒホルン
ドイツ連邦共和国 マインツ ゼルトリウ
スリング 24
(72)発明者 シュテフェン メアマン
ドイツ連邦共和国 イェーナ オットーゲ
ルト−ミュールマン−シュトラーセ 12
Claims (9)
- 【請求項１】 フロートガラスを製造する際にスパウト
リップを介して溶融ガラスを供給する装置において、少
なくとも溶融ガラス（１２．１）と接触するスパウトリ
ップ（２０）の表面が耐熱貴金属層（２２）で覆われて
いることを特徴とする、フロートガラスを製造する際に
スパウトリップを介してガラス溶融物を供給する装置。 - 【請求項２】 金属層（２２）の、溶融ガラス（１２．
１）と接触しない下側面が気密の拡散遮断層を備えてい
る、請求項１記載の装置。 - 【請求項３】 金属層（２２）が白金又は白金合金から
なる、請求項１又は２記載の方法。 - 【請求項４】 スパウトリップ（２０）が１０〜１４×
１０- ６Ｋ- １の熱膨張率（ＷＡＫ）を有する材料からな
る、請求項１から３までのいずれか１項記載の装置。 - 【請求項５】 スパウトリップ（２０）が、白金又はそ
の合金からなる金属層（２２）の熱膨張特性に合わせら
れた熱膨張特性を有するアルミン酸マグネシウムスピネ
ルからなる、請求項４記載の装置。 - 【請求項６】 金属層（２２）が、白金とロジウム１０
質量％又は白金と金５質量％を有する合金からなる、請
求項３から５までのいずれか１項記載の装置。 - 【請求項７】 スパウトリップ（２０）の下でノズル
（２１）を介して、有利には８００〜１２００℃の温度
を有する窒素を導入可能である、請求項１から６までの
いずれか１項記載の装置。 - 【請求項８】 フロート法に基づきフラットパネル・デ
ィスプレイのための基板ガラスを製造する際に使用され
る、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。 - 【請求項９】 基板ガラスが以下の組成： ＳｉＯ２ ５５〜６５質量％、 Ａｌ２Ｏ３ １２〜２０質量％、 Ｂ２Ｏ３ ≧５質量％、 ＢａＯ ０〜５質量％、 ＣａＯ ３〜９質量％、 ＭｇＯ １〜５質量％、 ＳｒＯ １〜５質量％ を有するホウケイ酸ガラスである、請求項８記載の装
置。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10209737.2 | 2002-03-06 | ||
| DE10209737 | 2002-03-06 | ||
| DE10308031A DE10308031B4 (de) | 2002-03-06 | 2003-02-24 | Vorrichtung zum Zuführen von Glasschmelze über einen Überlaufstein (Spout lip) bei der Herstellung von Floatglas |
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