JP2003232901A - 光学素子、照明装置及び露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、マイクロレンズアレイやマイクロ
ミラーアレイのような非レンズ作用部（ミラーの場合も
含む）を有するレンズアレイやミラーアレイを用いた照
明装置でも被照射面を均一に照明することができる光学
素子、照明装置及び露光装置を提供する。 【解決手段】 複数のレンズがアレイ状に形成されたレ
ンズアレイであって、前記複数のレンズの間に入射光束
の通過を防止する防止部を有するレンズアレイを提供す
る。複数の凹面及び／又は凸面ミラーがアレイ状に形成
されたミラーアレイであって、前記複数のミラーの間に
入射光束の反射を防止する防止部を有するミラーアレイ
を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一般には、光学素
子、照明装置及び露光装置に関し、特に、半導体ウェハ
用の単結晶基板、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用のガラ
ス基板などのデバイスを製造するのに使用される光学素
子、照明装置及び露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年の回路パターンの微細化と高集積化
からリソグラフィー（焼付け）工程に用いられる投影露
光装置の高解像度化への要求はますます高くなってきて
いる。投影露光装置は、一般に、マスクを照明する照明
装置と、マスクと被処理体との間に配置されて照明され
たマスクの回路パターンを被処理体に投影する投影光学
系とを有する。高解像度の回路パターンを得るには被処
理体面上を均一な光量分布で露光する必要があり、従っ
て、マスクを照明する照明装置においては、均一な照明
領域を形成することが求められている。

【０００３】照明装置は、光源からの光束を素子レンズ
が多数アレイ状に配置されたハエの目レンズに導入し、
その射出面を２次光源面としてコンデンサーレンズを利
用してマスク面を均一にケーラー照明する構成をとるこ
とで均一な照明領域を形成している。

【０００４】より均一な照明領域を形成するためにはハ
エの目レンズの素子レンズの数を増やすことが効果的で
あるが、素子レンズは各々独立したレンズであるため数
が増えるほどコストが増加し、更に、相応な公差でそれ
らを配置してハエの目レンズにすることは作業的にも容
易ではない。

【０００５】そこで、マイクロレンズアレイをハエの目
レンズとして用いることが提案されている。マイクロレ
ンズアレイとは、基板にレンズ作用を持つ微小な要素レ
ンズを直に形成したもので、光リソグラフィーを用いて
形成される。

【０００６】図１６は、ハエの目レンズ（多光束形成手
段）１３００としてマイクロレンズアレイ１３００ａ及
び１３００ｂを用いた照明装置１０００の要部概略構成
図である。照明装置１０００は、光源１１００からの光
束を光束調節手段１２００によって所望の断面形状及び
配光分布に整え、多光束形成手段１３００とコンデンサ
ーレンズ１４００により被照射面１５００をケーラー照
明する。

【０００７】なお、多光束形成手段１３００は、マイク
ロレンズアレイ１３００ａ及び１３００ｂの二群から構
成され、光源１１００側のマイクロレンズアレイ１３０
０ａ面の各要素レンズ１３００ａｒは、被照射面１５０
０と略共役に配置されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、マイクロレン
ズアレイ１３００ａの要素レンズ１３００ａｒの間には
マイクロレンズに比してレンズ作用が極めて少ない領域
１３００ａｆが存在し、かかる領域１３００ａｆに入射
した光束は、同様に、マイクロレンズアレイ１３００ｂ
でもレンズ作用（光学的パワーによる集光や発散作用）
を受けずに多光束形成手段１３００を直進して抜ける。

【０００９】ケーラー照明においては、コンデンサーレ
ンズ１４００の入射側における角度の関係を被照射面１
５００での位置関係に置換することになるので、多光束
形成手段１３００でレンズ作用を受けずに抜けてきた直
進光束Ｘは、コンデンサーレンズ１４００への入射位置
に関わらず被照射面１５００上の一点１５００ａに集光
する。

【００１０】従って、多光束形成手段１３００の要素レ
ンズ１３００ａｒのみによって形成される被照射領域の
光強度分布は図１７に示すようになるが、実際には多光
束形成手段１３００のレンズ作用が極めて少ない領域１
３００ａｆの存在のため、形成される被照射領域の光強
度分布は図１８に示すように、図１７に示す光強度分布
に斜線で示す強度を加算した分布となり、均一な照度分
布が得られない。また、多光束形成手段１３００へ入射
した光束に開口数（ＮＡ）がある場合は、図１９に示す
ように、斜線部分は下部程広がる分布となり、図１８に
示した光強度分布程悪くはないがやはり均一な照度分布
とはならない。ここで、図１７は、多光束形成手段１３
００の要素レンズ１３００ａｒのみによって形成される
被照射領域の光強度分布を示すグラフ、図１８は、多光
束形成手段１３００によって形成される被照射領域の光
強度分布を示すグラフ、図１９は、ＮＡを有する光束を
用いた場合に多光束形成手段によって形成される被照明
領域の光強度分布を示すグラフであって、各図とも縦軸
に被照射領域の光強度を、横軸に被照明領域の位置を採
用した。

【００１１】かかる問題は、図２０に示すように、２つ
の多光束形成手段２３００及び２５００を用いた照明装
置２０００でも同様に生じる。ここで、図２０は、マイ
クロレンズアレイ２３００ａ及び２３００ｂの二群から
構成される第１の多光束形成手段２３００、マイクロレ
ンズアレイ２５００ａ及び２５００ｂの二群から構成さ
れる第２の多光束形成手段２５００を有する照明装置２
０００の要部概略構成図である。

【００１２】照明装置２０００は、光源２１００からの
光束調節手段２２００によって所望の断面形状及び配光
分布に整え、多数の２次元光源を形成する第１の多光束
形成手段２３００とコンデンサーレンズ２４００により
第２の多光束形成手段２５００の入射面をケーラー照明
し、第２の多光束形成手段２５００とコンデンサーレン
ズ２６００により被照射面２７００をケーラー照明す
る。

【００１３】マイクロレンズアレイ２３００ａの要素レ
ンズ２３００ａｒの間にはレンズ作用が極めて少ない領
域２３００ａｆが存在し、かかる領域２３００ａｆに入
射した光束は第１の多光束形成手段２３００でレンズ作
用を受けずに直進し、図２１に示すように、第２の多光
束形成手段２５００の入射面上に強いピークを持った光
強度分布を形成する。従って、第２の多光束形成手段２
５００により形成される有効光源が不均一になり、また
一部の要素レンズ２５００ａｒをのみに強い光束が入射
するので被照射面２７００上の光強度分布が悪化する。

【００１４】また、マイクロレンズアレイ２５００ａの
要素レンズ２５００ａｒの間に存在するレンズ作用が極
めて少ない領域２５００ａｆからの直進光は、前段の多
光束形成手段２３００及びコンデンサーレンズ２４００
からなるケーラー照明系によって割合が減ると共にＮＡ
を有する光束が増えるため、図２２に示すように、中心
が高く裾が広い光強度分布を形成する。図２２に示した
光強度分布は、図２１に示した光強度分布程悪くはない
が、均一な照度分布とはならず直に照度ムラを発生させ
る。ここで、図２１は、第１の多光束形成手段２３００
によって形成される第２の多光束形成手段２５００の入
射面上の光強度分布を示すグラフ、図２２は、第２の多
光束形成手段２５００によって形成される被照射面２７
００の光強度分布を示すグラフであって、各図とも縦軸
に被照射領域の光強度を、横軸に被照明領域の位置を採
用した。

【００１５】更に、基板に反射作用を持つ微小な要素を
直に形成した反射型のマイクロレンズアレイを用いた場
合にも上述したような問題を生じる。

【００１６】そこで、本発明は、ハエの目レンズとして
マイクロアレイレンズを用いた場合でも被照射面を均一
に照明することができる光学素子、照明装置及び露光装
置を提供することを例示的目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の一側面としてのレンズアレイは、複数のレ
ンズがアレイ状に形成されたレンズアレイであって、前
記複数のレンズの間に入射光束の通過を防止する防止部
を有する。かかるレンズアレイによれば、複数のレンズ
の間（レンズ作用を持たない領域）に設けた防止部によ
りレンズ作用を受けていない不要な光束を取り除くこと
ができる。

【００１８】本発明の別の側面としてのレンズアレイ
は、屈折作用を有する複数のレンズがアレイ状に基板の
両面に形成されたレンズアレイであって、前記複数のレ
ンズの間に入射光束の通過を防止する防止部を有する。
かかるレンズアレイの作用も上述のレンズアレイと同様
の作用を奏する。

【００１９】本発明の更に別の側面としてのレンズアレ
イは、複数の凹面及び／又は凸面ミラーがアレイ状に形
成されたミラーアレイであって、前記複数のミラーの間
に入射光束の反射を防止する防止部を有する。かかるミ
ラーアレイによれば、複数の凹面及び／又は凸面ミラー
の間（ミラー作用を持たない領域）に設けた防止部によ
りミラー作用を受けていない不要な光束を取り除くこと
ができる。

【００２０】上述のアレイにおいて、前記防止部は、金
属膜及び／又は誘電体膜、又は前記入射光束を拡散させ
る拡散面である。

【００２１】本発明の更に別の側面としての照明装置
は、光源から出射した光束を用いて被照明領域を照明す
る照明装置であって、屈折及び／又は反射作用を有する
複数の要素がアレイ状に形成された光学素子を有し、前
記光源からの光束を用いて多数の２次元光源を形成する
多光束形成手段と、前記複数の要素の間からの前記光束
が前記被照明領域に集光することを防止する防止手段と
を有する。かかる照明装置によれば、集光防止手段を設
けることにより多光束形成手段において屈折及び／又は
反射作用を受けていない不要な光束を取り除き、被照明
領域に均一な照度分布を形成することができる。前記多
光束形成手段は、前記光学素子の前記複数の要素が形成
された面を対向させて構成する。前記光学素子は、前記
複数の要素を基板の両面に有してもよい。前記光学素子
は、シリンドリカルレンズアレイ板である。前記多光束
形成手段は、各組が直交するように配置された複数の組
の前記シリンドリカルレンズアレイ板を有してもよい。
前記防止手段は、前記多光束形成手段と前記被照明領域
の間に配置された前記被照明領域を照明するための照明
領域を定義するマスキングブレードに設けられ、前記光
学素子の複数の要素の間を通過した前記光束を遮蔽する
フィルターである。前記防止手段は、前記光学素子の前
記複数の要素の間に形成され、当該複数の要素の間を通
過する前記光束を遮断する金属膜及び／又は誘電体多層
膜である。前記防止手段は、前記光学素子の前記複数の
要素の間に形成され、前記光束を拡散させる拡散面であ
る。前記多光束形成手段を複数有してもよい。

【００２２】本発明の更に別の側面としての露光装置
は、上述の照明装置と、レチクル及び／又はマスクに形
成されたパターンを被処理体に投影する光学系とを有す
る。かかる露光装置によれば、屈折又は反射作用を受け
ていない光束を取り除いてマスクを均一に照明し、高解
像度のパターンを得ることができる。

【００２３】本発明の更に別の側面としての露光装置
は、上述のアレイを含む光学系を有する。かかる露光装
置の作用も上述の露光装置と同様の作用を奏する。

【００２４】本発明の更に別の側面としてのデバイス製
造方法は、上述の露光装置を用いて被処理体を露光する
ステップと、前記露光された前記被処理体に所定のプロ
セスを行うステップとを有する。上述の露光装置の作用
と同様の作用を奏するデバイス製造方法の請求項は、中
間及び最終結果物であるデバイス自体にもその効力が及
ぶ。また、かかるデバイスは、ＬＳＩやＶＬＳＩなどの
半導体チップ、ＣＣＤ、ＬＣＤ、磁気センサー、薄膜磁
気ヘッドなどを含む。

【００２５】本発明の更なる目的又はその他の特徴は、
以下添付図面を参照して説明される好ましい実施例によ
って明らかにされるであろう。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の例示的な露光装置１及び照明装置１００について説
明する。但し、本発明はこれらの実施例に限定するもの
ではなく、本発明の目的が達成される範囲において、各
構成要素が代替的に置換されてもよい。ここで、図１
は、本発明の例示的な露光装置１の概略構成図である。

【００２７】露光装置１は、図１に示すように、回路パ
ターンが形成されたマスク又はレチクル（本出願ではこ
れらの用語を交換可能に使用する）２００を照明する照
明装置１００と、照明されたマスクパターンから生じる
回折光をプレート４００に投影する投影光学系３００
と、プレート４００を支持するステージ４５０とを有す
る。

【００２８】露光装置１は、例えば、ステップアンドリ
ピート方式やステップアンドスキャン方式でマスク２０
０に形成された回路パターンをプレート４００に露光す
る投影露光装置である。かかる露光装置は、サブミクロ
ンやクオーターミクロン以下のリソグラフィー工程に好
適であり、以下、本実施形態ではステップアンドスキャ
ン方式の露光装置（「スキャナー」とも呼ばれる）を例
に説明する。ここで、「ステップアンドスキャン方式」
は、マスクに対してウェハを連続的にスキャンしてマス
クパターンをウェハに露光すると共に、１ショットの露
光終了後ウェハをステップ移動して、次のショットの露
光領域に移動する露光方法である。「ステップアンドリ
ピート方式」は、ウェハのショットの一括露光ごとにウ
ェハをステップ移動して次のショットの露光領域に移動
する露光方法である。

【００２９】照明装置１００は、転写用パターンが形成
されたマスク２００を照明する。照明装置１００は、図
２に示すように、光源部１１０と、照明光学系１２０と
を有する。ここで、図２は、本発明の例示的な露光装置
１の一部である照明装置１００の要部概略構成図であ
る。

【００３０】光源部１１０は、例えば、光源としてレー
ザーを使用する。レーザーは、波長約２４８ｎｍのＫｒ
Ｆエキシマレーザー、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシ
マレーザー、波長約１５７ｎｍのＦ_２レーザーなどを使
用できるが、レーザーの種類はエキシマレーザーに限定
されず、例えば、ＹＡＧレーザーを使用してもよいし、
そのレーザーの個数も限定されない。例えば、独立に動
作する２個の固体レーザーを使用すれば固体レーザー間
相互のコヒーレンスはなく、コヒーレンスに起因するス
ペックルはかなり低減する。更に、スペックルを低減す
るために光学系を直線的又は回動的に揺動させてもよ
い。また、光源部１１０に使用可能な光源はレーザーに
限定されるものではなく、一又は複数の水銀ランプやキ
セノンランプなどのランプ、ＥＵＶ光源も使用可能であ
る。なお、ＥＵＶ光源を使用する場合には、光学系にレ
ンズは使用できないので、光学系の各要素は全てミラー
となる。

【００３１】照明光学系１２０は、マスク２００を照射
する光学系であり、光束調整手段１２２と、多光束形成
手段１２４と、コンデンサーレンズ１２６と、結像光学
系１２８とを有する。

【００３２】光束調整手段１２２は、光源部１１０から
の光束を所望の断面形状及び配光分布に整える手段であ
る。光束調整手段１２２としては、例えば、光束整形光
学系、インコヒーレント化光学系などが考えられる。光
束整形光学系は、例えば、複数のシリンドリカルレンズ
やビームエクスパンダ等を使用することができ、レーザ
ー光源からの平行光束の断面形状の寸法の縦横比率を所
望の値に変換する。インコヒーレント化光学系は、コヒ
ーレントなレーザー光束をインコヒーレント化し、例え
ば、入射光束を光分割面で少なくとも２つの光束（例え
ば、ｐ偏光とｓ偏光）に分岐した後で一方の光束を光学
部材を介して他方の光束に対してレーザー光のコヒーレ
ンス長以上の光路長差を与えてから分割面に再誘導して
他方の光束と重ね合わせて射出されるようにした折り返
し系を少なくとも一つ備える光学系を用いることができ
る。

【００３３】多光束形成手段１２４は、光源部１１０か
ら出射した光束を用いて多数の２次元光源を形成するた
めに（即ち、ハエの目レンズの機能を持たせるため
に）、マイクロレンズアレイ１２４ａ及び１２４ｂの２
群で構成されている。

【００３４】マイクロレンズアレイ１２４ａは、レンズ
作用を有する複数の要素１２４ａｐがアレイ状に基板Ｓ
１と一体で形成されている。マイクロレンズアレイ１２
４ａの複数の要素１２４ａｐの間（即ち、レンズ作用を
持たない領域）１２４ａｎには、防止部１２４ａｓが形
成されている。防止部１２４ａｓは、光源１１０からの
光束がマイクロレンズアレイ１２４ａの複数の要素１２
４ａｐの間（即ち、レンズ作用を持たない領域）１２４
ａｎを通過することを防止する。

【００３５】マイクロレンズアレイ１２４ｂも同様に、
レンズ作用を有する複数の要素１２４ｂｐがアレイ状に
基板Ｓ１´と一体で形成され、かかる複数の要素１２４
ｂｐの間（即ち、レンズ作用を持たない領域）１２４ｂ
ｎに防止部１２４ｂｓが形成されている。防止部１２４
ｂｓは、マイクロレンズアレイ１２４ａを通過した光束
が複数の要素１２４ｂｐの間（即ち、レンズ作用を持た
ない領域）１２４ｂｎを通過することを防止する。但
し、本実施例では、マイクロレンズアレイ１２４ａ及び
１２４ｂの両方に防止部１２４ａｓ及び１２４ｂｓを設
けたが、少なくとも片方、より好ましくは被照射面Ｔと
共役な位置にある前群、即ち、マイクロレンズアレイ１
２４ａにのみ設けてもよい。

【００３６】防止部１２４ａｓ及び１２４ｂｓには、ク
ロム（Ｃｒ）等の金属膜の蒸着や誘電体多層膜のコート
等が考えられる。但し、防止部１２４ａｓ及び１２４ｂ
ｓはこれらに限定するものではなく、マイクロレンズア
レイのレンズ作用を持たない領域を遮光するものであれ
ば当業界で周知の如何なる構成をも適用することが可能
である。

【００３７】従って、多光束形成手段１２４は、マイク
ロレンズアレイ１２４ａ及び１２４ｂのレンズ作用を持
たない領域１２４ａｎ及び１２４ｂｎに防止部１２４ａ
ｓ及び１２４ｂｓを設けることで、レンズ作用を受けて
いない不要な光束を削除して被照射面Ｔを均一な照度分
布にすることができる。

【００３８】コンデンサーレンズ１２６は、ケーラー照
明においては、入射側における角度の関係を被照射面Ｔ
での位置関係に置換する。従って、コンデンサーレンズ
１２６は、多光束形成手段１２４でレンズ作用を受けた
光束を用いて被照射面Ｔをケーラー照明する。

【００３９】結像光学系１２８は、被照射面Ｔに形成さ
れた均一な照明領域を所望の大きさに拡大してマスク２
００をケーラー照明する。

【００４０】ここで、図３乃至図５、図８、図９、図１
２を参照して、照明装置１００の変形例である照明装置
１００Ａ乃至１００Ｆについて説明する。なお、照明装
置１００と同一の部材については、同一の参照番号を付
し、重複する説明は省略する。ここで、図３は、図２に
示した多光束形成手段１２４の変形例である多光束形成
手段１３０を有する照明装置１００Ａの要部概略構成
図、図４は、図２に示した多光束形成手段１２４の変形
例である多光束形成手段１４０を有する照明装置１００
Ｂの要部概略構成図、図５は、２つの多光束形成手段１
５０及び１６０を有する照明装置１００Ｃの要部概略構
成図、図８は、シリンドリカルレンズアレイ板１７０ａ
乃至１７０ｄで構成された多光束形成手段１７０を有す
る照明装置１００Ｄの要部概略構成図であって、図８
（ａ）は、照明装置１００ＤのＹＺ平面断面図、図８
（ｂ）は、照明装置１００ＤのＸＺ平面断面図、図９
は、反射型のマイクロレンズアレイ板で構成された多光
束形成手段１８０を有する照明装置１００Ｅの要部概略
構成図、図１２は、マスキングブレード１９２に集光防
止手段１９４を設けた照明装置１００Ｆの要部概略構成
図である。

【００４１】以下、照明装置１００Ａについて説明す
る。図３を参照するに、照明装置１００Ａは、照明装置
１００と比べて多光束形成手段１３０に関して異なる。
多光束形成手段１３０は、マイクロレンズアレイ１３０
ａの１群で構成され、光源部１１０から出射した光束を
用いて多数の２次元光源を形成する。

【００４２】マイクロレンズアレイ１３０ａは、レンズ
作用を有する複数の要素１３０ａｐがアレイ状に基板Ｓ
２の両面（即ち、マイクロレンズアレイ１３０ａの入射
側及び出射側）に直接形成されている。マイクロレンズ
アレイ１３０ａの複数の要素１３０ａｐの間（即ち、レ
ンズ作用を持たない領域）１３０ａｎには、防止部１３
０ａｓが形成されている。防止部１３０ａｓは、光源１
１０からの光束がマイクロレンズアレイ１３０ａの複数
の要素１３０ａｐの間（即ち、レンズ作用を持たない領
域）１３０ａｎを通過することを防止する。本実施例で
も、マイクロレンズアレイ１３０ａの入射側及び出射側
（基板Ｓ２両面）に防止部１３０ａｓを設けたが、少な
くとも片側、より好ましくは被照射面Ｔと共役な位置に
ある入射側にのみ設けてもよい。

【００４３】従って、多光束形成手段１３０は、マイク
ロレンズアレイ１３０ａのレンズ作用を持たない領域１
３０ａｓを設けることで、レンズ作用を受けていない不
用な光束を削除して被照射面Ｔを均一な照度分布にする
ことができる。

【００４４】以下、照明装置１００Ｂについて説明す
る。図４を参照するに、照明装置１００Ｂは、照明装置
１００と比べて多光束形成手段１４０に関して異なる。
多光束形成手段１４０は、光源部１１０から出射した光
束を用いて多数の２次元光源を形成するために（即ち、
ハエの目レンズの機能を持たせるために）、マイクロレ
ンズアレイ１４０ａ及び１４０ｂの２群で構成されてい
る。

【００４５】マイクロレンズアレイ１４０ａは、レンズ
作用を有する複数の要素１４０ａｐがアレイ状に基板Ｓ
３と一体で形成されている。マイクロレンズアレイ１４
０ａの複数の要素１４０ａｐの間（即ち、レンズ作用を
持たない領域）１４０ａｎには、拡散面１４０ａｓが形
成されている。拡散面１４０ａｓは、リソグラフィー技
術でパターニングを行うことなどで形成する。拡散面１
４０ａｓは、光源部１１０からの光束を拡散させて、か
かる光束がマイクロレンズアレイ１４０ａの複数の要素
１４０ａｐの間（即ち、レンズ作用を持たない領域）１
４０ａｎを通過することを防止する。

【００４６】マイクロレンズアレイ１４０ｂは、レンズ
作用を有する複数の要素１４０ｂｐがアレイ状に基板Ｓ
３´と一体で形成されている。本実施例では、マイクロ
レンズアレイ１４０ｂの複数の要素１４０ｂｐの間（即
ち、レンズ作用を持たない領域）１４０ｂｎには拡散面
は形成されていないが、拡散面を形成することを妨げる
ものではない。

【００４７】従って、多光束形成手段１４０は、マイク
ロレンズアレイ１４０ａのレンズ作用を持たない領域１
４０ａｎに拡散面１４０ａｓを設けることで、レンズ作
用を受けていない不要な光束を削除して被照射面Ｔを均
一な照度分布にすることができる。

【００４８】以下、照明装置１００Ｃについて説明す
る。図５を参照するに、照明装置１００Ｃは、第１の多
光束形成手段１５０及び第２の多光束形成手段１６０を
有する。

【００４９】第１の多光束形成手段１５０は、光源部１
１０から出射した光束を用いて多数の２次元光源を形成
するために（即ち、ハエの目レンズの機能を持たせるた
めに）、マイクロレンズアレイ１５０ａ及び１５０ｂの
２群で構成されている。

【００５０】マイクロレンズアレイ１５０ａは、レンズ
作用を有する複数の要素１５０ａｐがアレイ状に基板Ｓ
４と一体で形成されている。マイクロレンズアレイ１５
０ａの複数の要素１５０ａｐの間（即ち、レンズ作用を
持たない領域）１５０ａｎには、防止部１５０ａｓが形
成されている。防止部１５０ａｓは、クロム（Ｃｒ）等
の金属膜の蒸着、誘電体多層膜のコート、拡散面などに
よって形成され、光源部１１０からの光束がマイクロレ
ンズアレイ１５０ａの複数の要素１５０ａｐの間（即
ち、レンズ作用を持たない領域）１５０ａｎを通過する
ことを防止する。

【００５１】マイクロレンズアレイ１５０ａの複数の要
素１５０ａｐは、図６に示すように、一般に、六角形素
子レンズから構成され、その周りに防止部１５０ａｓが
形成されている。ここで、図６は、マイクロレンズアレ
イ１５０ａの一例を示す概略正面図である。照明σ（コ
ヒーレンシー）は円に近いことが求められるが、それは
後段の第２の多光束形成手段１６０を円く照明すること
と等価である。第１の多光束形成手段１５０の複数の要
素１５０ａｐに六角形レンズ素子を用いても第２の多光
束形成手段１６０を照明する光は円にはならないが、第
２の多光束形成手段１６０の後段に円形絞りを置くなど
の切り出しをする際に光効率の低下が少なくてすむ。

【００５２】また、図７に示すように、予め、マイクロ
レンズアレイ１５０ａの複数の要素１５２ａｐ（六角素
子レンズ）の透過部分が円になるように、防止部１５０
ａｓを設けてもよい。ここで、図７は、マイクロレンズ
アレイ１５０ａの一例を示す概略正面図である。

【００５３】マイクロレンズアレイ１５０ｂは、レンズ
作用を有する複数の要素１５０ｂｐがアレイ状に基板Ｓ
４´と一体で形成されている。なお、防止部は少なくと
も入射側のマイクロレンズアレイ１５０ａのみに形成す
ればよく、本実施例では、マイクロレンズアレイ１５０
ｂのレンズ作用を持たない領域１５０ｂｎに防止部は形
成していない。

【００５４】第２の多光束形成手段１６０は、第１の多
光束形成手段１５０及びコンデンサーレンズ１２６から
の光束を用いて多数の２次元光源を形成するために（即
ち、ハエの目レンズの機能を持たせるために）、マイク
ロレンズアレイ１６０ａ及び１６０ｂの２群で構成され
ている。

【００５５】マイクロレンズアレイ１６０ａは、レンズ
作用を有する複数の要素１６０ａｐがアレイ状に基板Ｓ
５と一体で形成されている。マイクロレンズアレイ１６
０ａの複数の要素１６０ａｐの間（即ち、レンズ作用を
持たない領域）１６０ａｎには、防止部１６０ａｓが形
成されている。防止部１６０ａｓは、クロム（Ｃｒ）等
の金属膜の蒸着、誘電体多層膜のコート、拡散面などに
よって形成され、第１の多光束形成手段１５０及びコン
デンサーレンズ１２６からの光束がマイクロレンズアレ
イ１６０ａの複数の要素１６０ａｐの間（即ち、レンズ
作用を持たない領域）１６０ａｎを通過することを防止
する。

【００５６】マイクロレンズアレイ１６０ｂは、レンズ
作用を有する複数の要素１６０ｂｐがアレイ状に基板Ｓ
５´と一体で形成されている。なお、防止部は少なくと
も入射側のマイクロレンズアレイ１６０ａのみに形成す
ればよく、本実施例では、マイクロレンズアレイ１６０
ｂのレンズ作用を持たない領域１６０ｂｎに防止部は形
成していない。

【００５７】従って、第１の多光束形成手段１５０は有
効光源をフラットに形成し、かかる有効光源を用いて第
２の多光束形成手段１６０は照度ムラがなく均一に被照
射面Ｔを照明することができる。

【００５８】以下、照明装置１００Ｄについて説明す
る。図８を参照するに、照明装置１００Ｄは、シリンド
リカルマイクロレンズアレイ板１７０ａ乃至１７０ｄを
有する。多光束形成手段１７０は、シリンドリカルレン
ズアレイ板１７０ａ及び１７０ｃとシリンドリカルレン
ズアレイ板１７０ｂ及び１７０ｄとを直交するように配
置して形成する。多光束形成手段１７０は、シリンドリ
カルレンズアレイ板１７０ａ及び１７０ｃの組とシリン
ドリカルレンズアレイ板１７０ｂ及び１７０ｄの組とが
コンデンサーレンズ１２６を介して被照射面Ｔをケーラ
ー照明するように配置されており、被照射面Ｔの照明形
状は矩形（スリット状）になる。

【００５９】シリンドリカルレンズアレイ板１７０ａ及
び１７０ｃは、ＹＺ断面でレンズ作用を有する複数の要
素１７０ａｐ及び１７０ｃｐがアレイ状に基板Ｓ６ａ及
びＳ６ｃと一体で形成されている。シリンドリカルレン
ズアレイ板１７０ｂ及び１７０ｄは、ＸＺ断面でレンズ
作用を有する複数の要素１７０ｂｐ及び１７０ｄｐがア
レイ状に基板Ｓ６ｂ及びＳ６ｄと一体で形成されてい
る。

【００６０】シリンドリカルレンズアレイ板１７０ｃ及
び１７０ｄの複数の要素１７０ｃｐ及び１７０ｄｐの間
（即ち、レンズ作用を持たない領域）１７０ｃｎ及び１
７０ｄｎには、防止部１７０ｃｓ及び１７０ｄｓが形成
されている。

【００６１】防止部１７０ｃｓ及び１７０ｄｓは、クロ
ム（Ｃｒ）等の金属膜の蒸着、誘電体多層膜のコートな
どによって形成され、光束がシリンドリカルレンズアレ
イ板１７０ｃ及び１７０ｄの複数の要素１７０ｃｐ及び
１７０ｄｐの間（即ち、レンズ作用を持たない領域）１
７０ｃｎ及び１７０ｄｎを通過することを防止する。防
止部１７０ｃｓ及び１７０ｄｎは、線状であるので正方
形素子レンズで形成されるマイクロレンズに設けるより
も容易に設けることができる。

【００６２】また、多光束形成手段１７０は、シリンド
リカルレンズアレイ板１７０ａ乃至１７０ｄを互い違い
に配置して構成しているので、シリンドリカルレンズア
レイ板１７０ｃ及び１７０以外のシリンドリカルレンズ
アレイ板１７０ａ及び１７０ｂに防止部を形成するとケ
ラレを生じてしまう。

【００６３】従って、多光束形成手段１７０は、シリン
ドリカルレンズアレイ板１７０ｃ及び１７０ｄのレンズ
作用を持たない領域１７０ｃｎ及び１７０ｄｎに防止部
１７０ｃｓ及び１７０ｄｓを設けることで、レンズ作用
を受けていない不要な光束を削除して被照射面Ｔを均一
な照度分布にすることができる。

【００６４】以下、照明装置１００Ｅを説明する。照明
装置１００Ｅは、極紫外線（ＥＵＶ：Ｅｘｔｒｅｍｅ
ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光を用いて転写用パターンが
形成されたマスク２００を照明する。照明装置１００Ｅ
は、ＥＵＶ光源１１０Ｅと、多光束形成手段１８０と、
コンデンサー光学系１８２とを有する。

【００６５】ＥＵＶ光源１１０Ｅは、例えば、レーザー
プラズマ光源を使用する。レーザープラズマ光源は、真
空中に置かれたターゲット材に高強度のパルスレーザー
光を照射し、高温のプラズマを発生させる。そして、こ
れから放射される波長１３．４ｎｍ程度のＥＵＶ光を利
用するものである。ターゲット材は、金属薄膜、不活性
ガス、液滴などが用いられる。放射されるＥＵＶ光の平
均強度を高くするためには、パルスレーザーの繰り返し
周波数は高い方がよく、通常数ｋＨｚの繰り返し周波数
で運転される。あるいは、ＥＵＶ光源１１０Ｅは、放電
プラズマ光源を用いる。放電プラズマ光源は、真空中に
置かれた電極周辺にガスを放出し、電極にパルス電圧を
印加して放電を起こし高温のプラズマを発生させる。そ
して、これから放射される波長１３．４ｎｍ程度のＥＵ
Ｖ光を利用するものである。但し、ＥＵＶ光源１１０Ｅ
は、これらに限定するものではなく、当業界で周知のい
かなる技術も適用可能である。

【００６６】多光束形成手段１８０は、ＥＵＶ光源１１
０Ｅから出射したＥＵＶ光を用いて多数の２次元光源を
形成するために（即ち、ハエの目レンズの機能を持たせ
るために）反射型のマイクロレンズアレイ１８０ａ（凸
曲面マイクロミラーアレイや、凹曲面マイクロミラーア
レイ）で構成される。

【００６７】マイクロレンズアレイ１８０ａは、反射作
用を有する複数の要素１８０ａｐが基板Ｓ７と一体で形
成されている。マイクロレンズアレイ１８０ａの複数の
要素１８０ａｐの間（即ち、反射作用を持たない領域）
１８０ａｎには、防止部１８０ａｓが形成されている。
防止部１８０ａｓは、非反射部材で形成され、ＥＵＶ光
源部１１０ＥからのＥＵＶ光がマイクロレンズアレイ１
８０ａの複数の要素１８０ａｐの間（即ち、反射作用を
持たない領域）１８０ａｎで反射することを防止する。

【００６８】多光束形成手段１８０がシリンドリカル反
射面をその母線に垂直な方向へアレイ状に並べたマイク
ロレンズアレイ１８０ａの場合は、図１０に示すよう
に、線状に防止部１８０ａｓを設ける。多光束形成手段
１８０が正方形素子レンズのマイクロレンズアレイ１８
０ａである場合は、図１１に示すように、格子状に防止
部１８０ａｓを設ける。ここで、図１０は、シリンドリ
カル反射面をその母線に垂直な方向へアレイ状に並べた
マイクロレンズアレイ１８０ａの一例を示す概略正面
図、図１１は、正方形素子レンズのマイクロレンズアレ
イ１８０ａの一例を示す概略正面図である。

【００６９】ＥＵＶ光のように通常の材料ではほとんど
反射せず、反射させるために４０層もの多層膜を付ける
必要がある場合、防止部１８０ａｓを非反射部材で形成
するのではなく、反射層である多層膜を意図的に付けな
い、又は、剥がすことでもよい。更に、防止部１８０ａ
ｓを拡散面に加工しておけば、その後、全体に多層膜を
付ければよいので製作も容易である。

【００７０】コンデンサー光学系１８２は、多光束形成
手段１８０と被照射面Ｔと光学的に共役な位置に配置さ
れ、多光束形成手段１８０からのＥＵＶ光を反射して被
照射面Ｔを照明する。

【００７１】従って、多光束形成手段１８０は、マイク
ロレンズアレイ１８０ａの反射作用を持たない領域１８
０ａｎに防止部１８０ａｓを設けることで、不要な光束
を削除して被照射面Ｔを均一な照度分布にすることがで
きる。

【００７２】以下、照明装置１００Ｆについて説明す
る。図１２を参照するに、照明装置１００Ｆは、多光束
形成手段１９０と、マスキングブレード１９２と、集光
防止手段１９４と、結像光学系１９６とを有する。

【００７３】多光束形成手段１９０は、光源部１１０か
ら出射した光束を用いて多数の２次元光源を形成するた
めに（即ち、ハエの目レンズの機能を持たせるため
に）、マイクロレンズアレイ１９０ａ及び１９０ｂの２
群で構成されている。

【００７４】マイクロレンズアレイ１９０ａ及び１９０
ｂは、レンズ作用を有する複数の要素１９０ａｐ及び１
９０ｂｐがアレイ状に基板Ｓ８及びＳ８´と一体で形成
されている。但し、マイクロレンズアレイ１９０ａ及び
１９０ｂの複数の要素１９０ａｐ及び１９０ｂｐの間
（即ち、レンズ作用を持たない領域）１９０ａｎ及び１
９０ｂｎには光束の通過を防止する防止部が設けられて
いない。従って、第１の被照射面Ｔ´上にはマイクロレ
ンズアレイ１９０ａ及び１９０ｂのレンズ作用を持たな
い領域１９０ａｎ及び１９０ｂｎを通過してきた光束に
より中心に照度が高い部分が生じる。

【００７５】そこで、第１の被照射面Ｔ´に、図１３に
示すように、被照明領域を規制するマスキングブレード
１９２を配置し、かかるマスキングブレード１９２の中
心部に遮光（又は減光）機能を有するフィルター等の集
光防止手段１９４を設ける。集光防止手段１９４は、マ
イクロレンズアレイ１９０ａ及び１９０ｂのレンズ作用
を持たない領域１９０ａｎ及び１９０ｂｎを通過してき
た光束が第２の被照射面Ｔ´´に集光（即ち、到達）す
ることを防止する。ここで、図１３は、集光防止手段１
９４を有するマスキングブレード１９２の概略正面図で
ある。

【００７６】結像光学系１９６は、マスキングブレード
１９２の像を第２の被照射面Ｔ´´に共役に決像する。

【００７７】従って、照明装置１００Ｆは、マスキング
ブレード１９２に集光防止手段１９４を設けることで、
マイクロレンズアレイ１９０ａ及び１９０ｂのレンズ作
用を持たない領域１９０ａｎ及び１９０ｂｎを抜けてき
た光束を削除して第２の被照射面Ｔ´´を均一な照度分
布にすることができる。

【００７８】再び、図１に戻って、マスク２００は、例
えば、石英製で、その上には転写されるべき回路パター
ン（又は像）が形成され、図示しないマスクステージに
支持及び駆動される。マスク２００から発せられた回折
光は、投影光学系３００を通りウェハ４００上に投影さ
れる。ウェハ４００は、被処理体でありレジストが塗布
されている。マスク２００とウェハ４００を走査するこ
とによりマスク２００のパターンをウェハ４００上に転
写する。ステッパー（ステップアンドリピート方式の露
光装置）の場合は、マスク２００とウェハ４００を静止
させた状態で露光が行なわれる。

【００７９】投影光学系３００は、マスク２００の回路
パターンを所望の倍率でウェハ４００に縮小投影する。
投影光学系３００は、複数のレンズ素子のみからなる光
学系、複数のレンズ素子と少なくとも一枚の凹面鏡とを
有する光学系（カタディオプトリック光学系）、複数の
レンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折
光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等を使
用することができる。色収差の補正の必要な場合には、
互いに分散値（アッベ値）の異なるガラス材からなる複
数のレンズ素子を使用したり、回折光学素子をレンズ素
子と逆方向の分散が生じるように構成したりする。

【００８０】ウェハ４００は、フォトレジストが塗布さ
れている。フォトレジスト塗布工程は、前処理と、密着
性向上剤塗布処理と、フォトレジスト塗布処理と、プリ
ベーク処理とを含む。前処理は、洗浄、乾燥などを含
む。密着性向上剤塗布処理は、フォトレジストと下地と
の密着性を高めるための表面改質（即ち、界面活性剤塗
布による疎水性化）処理であり、ＨＭＤＳ（Ｈｅｘａｍ
ｅｔｈｙｌ−ｄｉｓｉｌａｚａｎｅ）などの有機膜をコ
ート又は蒸気処理する。プリベークは、ベーキング（焼
成）工程であるが現像後のそれよりもソフトであり、溶
剤を除去する。

【００８１】ステージ４５０は、ウェハ４００を支持す
る。ステージ４５０は、当業界で周知のいかなる構成を
も適用することができるので、ここでは詳しい構造及び
動作の説明は省略する。例えば、ステージ４５０は、リ
ニアモータを利用してＸＹ方向にウェハ４００を移動す
ることができる。マスク２００とウェハ４００は、例え
ば、同期走査され、ステージ４５０と図示しないマスク
ステージの位置は、例えば、レーザー干渉計などにより
監視され、両者は一定の速度比率で駆動される。ステー
ジ４５０は、例えば、ダンパを介して床等の上に支持さ
れるステージ定盤上に設けられ、マスクステージ及び投
影光学系３００は、例えば、床等に載置されたベースフ
レーム上にダンパ等を介して支持される図示しない鏡筒
定盤上に設けられる。

【００８２】露光において、光源部１１０から発せられ
た光束は、照明光学系１２０によりマスク２００をケー
ラー照明により均一に照明する。マスク２００を通過し
てマスクパターンを反映する光は、投影光学系３００に
よりウェハ４００に結像される。

【００８３】かかる照明装置１００Ａ乃至１００Ｆを使
用する露光装置１は均一な光強度分布で照明を行えるた
め、レジストへのパターン転写を高精度に行って高品位
なデバイス（半導体素子、ＬＣＤ素子、撮像素子（ＣＣ
Ｄなど）、薄膜磁気ヘッドなど）を提供することができ
る。

【００８４】次に、図１４及び図１５を参照して、上述
の露光装置１を利用したデバイス製造方法の実施例を説
明する。図１４は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導
体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するための
フローチャートである。ここでは、半導体チップの製造
を例に説明する。ステップ１（回路設計）では、デバイ
スの回路設計を行なう。ステップ２（マスク製作）で
は、設計した回路パターンを形成したマスクを製作す
る。ステップ３（ウェハ製造）では、シリコンなどの材
用を用いてウェハを製造する。ステップ４（ウェハプロ
セス）は、前工程と呼ばれ、マスクとウェハを用いてリ
ソグラフィー技術によってウェハ上に実際の回路を形成
する。ステップ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ス
テップ４によって作成されたウェハを用いて半導体チッ
プ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、
ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等
の工程を含む。ステップ６（検査）では、ステップ５で
作成された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テ
ストなどの検査を行なう。こうした工程を経て半導体デ
バイスが完成し、それが出荷（ステップ７）される。

【００８５】図１５は、ステップ４のウェハプロセスの
詳細なフローチャートである。ステップ１１（酸化）で
は、ウェハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶ
Ｄ）では、ウェハの表面に絶縁膜を形成する。ステップ
１３（電極形成）では、ウェハ上に電極を蒸着などによ
って形成する。ステップ１４（イオン打ち込み）では、
ウェハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処
理）では、ウェハに感光剤を塗布する。ステップ１６
（露光）では、露光装置１によってマスクの回路パター
ンをウェハに露光する。ステップ１７（現像）では、露
光したウェハを現像する。ステップ１８（エッチング）
では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステ
ップ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不
要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰
り返し行なうことによってウェハ上に多重に回路パター
ンが形成される。本実施例の製造方法によれば、従来よ
りも高品位のデバイスを製造することができる。

【００８６】以上、本発明の好ましい実施例を説明した
が、本発明はこれらに限定されずその要旨の範囲内で様
々な変形や変更が可能である。

【００８７】

【発明の効果】本発明によれば、マイクロレンズアレイ
やマイクロミラーアレイのような非レンズ作用部（ミラ
ーの場合も含む）を有するレンズアレイやミラーアレイ
を用いた照明装置でも被照射面を均一に照明することが
できる。かかる照明装置を有する露光装置は高い解像度
を達成し、高品位なデバイスを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の例示的な露光装置の概略構成図であ
る。

【図２】 本発明の例示的な露光装置の一部である照明
装置の要部概略構成図である。

【図３】 図２に示した多光束形成手段の変形例である
多光束形成手段を有する照明装置の要部概略構成図であ
る。

【図４】 図２に示した多光束形成手段の変形例である
多光束形成手段を有する照明装置の要部概略構成図であ
る。

【図５】 ２つの多光束形成手段を有する照明装置の要
部概略構成図である。

【図６】 図５に示すマイクロレンズアレイの一例を示
す概略正面図である。

【図７】 図５に示すマイクロレンズアレイの一例を示
す概略正面図である。

【図８】 シリンドリカルレンズアレイ板で構成された
多光束形成手段を有する照明装置の要部概略構成図であ
る。

【図９】 反射型のマイクロレンズアレイで構成された
多光束形成手段を有する照明装置の要部概略構成図であ
る。

【図１０】 図９に示すシリンドリカルのマイクロレン
ズアレイの一例を示す概略正面図である。

【図１１】 図９に示す正方形素子レンズのマイクロレ
ンズアレイの一例を示す概略正面図である。

【図１２】 マスキングブレードに集光防止手段を設け
た照明装置の要部概略構成図である。

【図１３】 図１２に示す集光防止手段を有するマスキ
ングブレードの概略正面図である。

【図１４】 本発明の露光装置を有するデバイス製造方
法を説明するためのフローチャートである。

【図１５】 図１４に示すステップ４の詳細なフローチ
ャートである。

【図１６】 ハエの目レンズとしてマイクロレンズアレ
イを用いた従来の照明装置の要部概略構成図である。

【図１７】 図１６に示す多光束形成手段の要素レンズ
のみによって形成される被照射領域の光強度分布を示す
グラフである。

【図１８】 図１６に示す多光束形成手段によって形成
される被照射領域の光強度分布を示すグラフである。

【図１９】 ＮＡを有する光束を用いた場合に図１６に
示す多光束形成手段によって形成される被照射領域の光
強度分布を示すグラフである。

【図２０】 ２つの多光束形成手段を有する従来の照明
装置の要部概略構成図である。

【図２１】 図２０に示す第１の多光束形成手段によっ
て形成される第２の多光束形成手段の入射面上の光強度
分布を示すグラフである。

【図２２】 図２０に示す第２の多光束形成手段によっ
て形成される被照射面の光強度分布を示すグラフであ
る。

【符号の説明】

１ 露光装置 １００、１００Ａ乃至１００Ｆ 照明装置 １２４ 多光束形成手段 １２４ａ、１２４ｂ マイクロレンズア
レイ １２４ａｐ、１２４ｂｐ 要素（レンズ） １２４ａｓ、１２４ｂｓ 防止部 Ｓ１ 基板 １４０ 多光束形成手段 １４０ａ、１４０ｂ マイクロレンズア
レイ １４０ａｐ、１４０ｂｐ 要素（レンズ） １４０ａｓ 拡散面 Ｓ３ 基板 １８０ 多光束形成手段 １８０ａ 反射型マイクロレ
ンズアレイ １８０ａｐ 要素（ミラー） １８０ａｓ 防止部 Ｓ７ 基板 １９０ 多光束形成手段 １９０ａ、１９０ｂ マイクロレンズア
レイ １９０ａｐ、１９０ｂｐ 要素（レンズ） １９２ マスキングブレー
ド １９４ 集光防止手段 Ｓ８ 基板

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数のレンズがアレイ状に形成されたレ
   ンズアレイであって、 前記複数のレンズの間に入射光束の通過を防止する防止
   部を有するレンズアレイ。
2. 【請求項２】 屈折作用を有する複数のレンズがアレイ
   状に基板の両面に形成されたレンズアレイであって、 前記複数のレンズの間に入射光束の通過を防止する防止
   部を有するレンズアレイ。
3. 【請求項３】 複数の凹面及び／又は凸面ミラーがアレ
   イ状に形成されたミラーアレイであって、 前記複数のミラーの間に入射光束の反射を防止する防止
   部を有するミラーアレイ。
4. 【請求項４】 前記防止部は、金属膜及び／又は誘電体
   膜である請求項１乃至３のうちいずれか一項記載のアレ
   イ。
5. 【請求項５】 前記防止部は、前記入射光束を拡散させ
   る拡散面である請求項１乃至３のうちいずれか一項記載
   のアレイ。
6. 【請求項６】 光源から出射した光束を用いて被照明領
   域を照明する照明装置であって、 屈折及び／又は反射作用を有する複数の要素がアレイ状
   に形成された光学素子を有し、前記光源からの光束を用
   いて多数の２次元光源を形成する多光束形成手段と、 前記複数の要素の間からの前記光束が前記被照明領域に
   集光することを防止する防止手段とを有する照明装置。
7. 【請求項７】 前記多光束形成手段は、前記光学素子の
   前記複数の要素が形成された面を対向させて構成する請
   求項６記載の照明装置。
8. 【請求項８】 前記光学素子は、前記複数の要素を基板
   の両面に有する請求項６記載の照明装置。
9. 【請求項９】 前記光学素子は、シリンドリカルレンズ
   アレイ板である請求項６記載の照明装置。
10. 【請求項１０】 前記多光束形成手段は、各組が直交す
    るように配置された複数の組の前記シリンドリカルレン
    ズアレイ板を有する請求項９記載の照明装置。
11. 【請求項１１】 前記防止手段は、前記多光束形成手段
    と前記被照明領域の間に配置された前記被照明領域を照
    明するための照明領域を定義するマスキングブレードに
    設けられ、前記光学素子の複数の要素の間を通過した前
    記光束を遮蔽するフィルターである請求項６記載の照明
    装置。
12. 【請求項１２】 前記防止手段は、前記光学素子の前記
    複数の要素の間に形成され、当該複数の要素の間を通過
    する前記光束を遮断する金属膜及び／又は誘電体多層膜
    である請求項６又は１１記載の照明装置。
13. 【請求項１３】 前記防止手段は、前記光学素子の前記
    複数の要素の間に形成され、前記光束を拡散させる拡散
    面である請求項６又は１１記載の照明装置。
14. 【請求項１４】 前記多光束形成手段を複数有する請求
    項６又は１１記載の照明装置。
15. 【請求項１５】 請求項１乃至６のうちいずれか一項記
    載のアレイを含む光学系を有する露光装置。
16. 【請求項１６】 請求項６乃至１４のうちいずれか一項
    記載の照明装置と、前記照明装置により照明されたレチ
    クル及び／又はマスクに形成されたパターンを被処理体
    に投影する光学系とを有する露光装置。
17. 【請求項１７】 請求項１５又は１６記載の露光装置を
    用いて被処理体を露光するステップと、 前記露光された前記被処理体に所定のプロセスを行うス
    テップとを有するデバイス製造方法。