JP2016075936A - レーザ放射線を均一化するためのデバイス及びそれを製造する方法 - Google Patents
レーザ放射線を均一化するためのデバイス及びそれを製造する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016075936A JP2016075936A JP2015236486A JP2015236486A JP2016075936A JP 2016075936 A JP2016075936 A JP 2016075936A JP 2015236486 A JP2015236486 A JP 2015236486A JP 2015236486 A JP2015236486 A JP 2015236486A JP 2016075936 A JP2016075936 A JP 2016075936A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylindrical lens
- lens element
- transition region
- convex cylindrical
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0905—Dividing and/or superposing multiple light beams
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0955—Lenses
- G02B27/0961—Lens arrays
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
【解決手段】照明視野内のレーザ放射線を均一化するためのデバイスは、レーザ放射線(LR)が、入射側から照明視野(ILR)の方向に通過することができる第1の基板(S1)を含み、第1の基板は、第1の光学的機能基板面(S1-1)を有し、第1の光学的機能基板面(S1-1)において、互いに平行な円柱軸を有する複数の凸円柱レンズ要素面が、互いに横並びに位置する方式で形成され、互いに直接隣接して位置する凸円柱レンズ要素面は、各場合に遷移領域(TR)内で互いに融合する。遷移領域(TR)は、照明視野(ILF)内に遷移領域によって発生する照明強度の部分が、照明視野内に凸円柱レンズ要素面によって発生する照明強度の部分と比較して小さく、照明視野内のこの部分の局所分布が、デバイス内に入射するレーザ放射線の変動に実質的に依存しないように設計される。
【選択図】図2
Description
S1 第1の基板
S1−1 第1の光学的機能基板面
S1−2 第2の基板面
TR1、TR2、TR3 遷移領域
W 凸円柱レンズ要素面の幅
WTR ランダム面形状を有する領域の幅
Claims (20)
- レーザ放射線(LR)が、入射側から照明視野(ILR)の方向に通過することができる第1の基板(S1)を含み、
前記第1の基板が、第1の光学的機能基板面(S1−1)を有し、
前記第1の光学的機能基板面(S1−1)において、互いに平行な円柱軸を有する複数の凸円柱レンズ要素面が、互いに横並びに位置する方式で形成され、
互いに直接隣接して位置する凸円柱レンズ要素面が、各場合に遷移領域(TR)内で互いに融合する、
照明視野内のレーザ放射線を均一化するためのデバイスであって、
前記遷移領域によって発生する照明視野(ILF)内の照明強度の部分が、該照明視野内に前記凸円柱レンズ要素面によって発生する照明強度の部分と比較して小さく、前記照明視野内のこの部分の局所分布が、前記デバイス内に入射する前記レーザ放射線の変動に実質的に依存しないように、前記遷移領域(TR)が設計される、
ことを特徴とするデバイス。 - 前記遷移領域(TR1,TR2,TR3)が、前記隣接する凸円柱レンズ要素面が互いに横並びに位置する方向に異なる不規則面形状を有することを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
- 前記遷移領域(TR1,TR2,TR3)の各々が、前記隣接する凸円柱レンズ要素面が互いに横並びに位置する前記方向に異なる面形状を有し、該面形状は、好ましくは、不規則面形状であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のデバイス。
- 前記遷移領域(TR1,TR2,TR3)は、前記隣接する凸円柱レンズ要素面が互いに横並びに位置する前記方向に異なる面形状のランダム分布を有し、該異なる面形状は、好ましくは、不規則又は凹であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のデバイス。
- 前記遷移領域(TR1,TR2,TR3)は、前記隣接する凸円柱レンズ要素面が互いに横並びに位置する前記方向に非凹面形状を有することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のデバイス。
- 前記遷移領域(TR1,TR2,TR3)は、前記隣接する凸円柱レンズ要素面が互いに横並びに位置する前記方向に、この方向に接合する該凸円柱レンズ要素面の幅(W)の5%よりも小さい幅(WTR)を有し、及び/又は
前記遷移領域は、前記隣接する凸円柱レンズ要素面が互いに横並びに位置する前記方向に、この方向に接合する該凸円柱レンズ要素面の間の中心間距離(PI)の5%よりも小さく、特にこの中心間距離の3%よりも小さい幅を有する、
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のデバイス。 - 前記遷移領域(TR1,TR2,TR3)は、前記隣接する凸円柱レンズ要素面が互いに横並びに位置する前記方向に30μmよりも小さい幅を有し、該幅は、好ましくは、15μm又はそれ未満、特に10μm又はそれ未満であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のデバイス。
- 前記遷移領域は、実質的に光不透過であり、前記基板面は、好ましくは、該遷移領域(TR5)内に光不透過コーティング(CT)を担持することを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のデバイス。
- 前記凸円柱レンズ要素は、該凹円柱レンズ要素が互いに横並びに位置する前記方向の頂点線の間に均一な距離を有することを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のデバイス。
- 前記レーザ放射線が入射側から前記照明視野の方向に通過することができる第2の基板(S2)を含み、
前記第2の基板は、少なくとも1つの光学的機能基板面(S2−1)を有し、
前記少なくとも1つの光学的機能基板面(S2−1)において、平行な円柱軸を有する複数の凸円柱レンズ要素面が、互いに横並びに位置する方式で形成され、
互いに直接隣接して位置する凸円柱レンズ要素面が、各場合に遷移領域内で互いに融合する、
ことを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のデバイス。 - 前記第2の基板(S2)は、前記第1の基板(S1)によって透過された前記レーザ放射線が、入射側から前記照明視野(ILR)の方向に通過することができるように、該第1の基板(S1)の背後に距離を置いて配置されることを特徴とする請求項10に記載のデバイス。
- 特に照明視野内のレーザ放射線を均一化するためのデバイスのためのレーザ放射線が通過することができる基板を製造する方法であって、
基板が、第1の光学的機能基板面(S1−1)を有し、
前記第1の光学的機能基板面(S1−1)において、互いに平行な円柱軸を有する複数の凸円柱レンズ要素面が、互いに横並びに位置する方式で形成され、
互いに直接隣接して位置する凸円柱レンズ要素面が、各場合に遷移領域(TR)内で互いに融合し、
請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の第1の光学的機能基板面を有する第1の基板が、この方法によって製造される、
ことを特徴とする方法。 - 前記第1の光学的機能基板面は、リソグラフィパターン形成法を用いて製造されることを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 前記第1の光学的機能基板面の前記凸円柱レンズ要素面は、材料除去加工ツールを用いて製造され、前記基板面は、前記遷移領域内でリソグラフィパターン形成法を用いてパターン形成されることを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 前記第1の基板面は、互いに横並びに位置する凸円柱レンズ要素面及び後記凹区画の間の遷移領域を成形するために、互いに横並びに位置する凹区画を有する加工ツールを用いてパターン形成され、前記遷移領域が、該隣接する凸円柱レンズ要素面が互いに横並びに位置する方向に異なる面形状、好ましくは、不規則な及び/又はランダム分布に従って成形された面形状を有することを特徴とする請求項12から請求項14のいずれか1項に記載の方法。
- 前記基板面は、前記凸円柱レンズ要素が互いに横並びに位置する前記方向に前記遷移領域の幅よりも有意に小さい幅を有する加工区域を有する材料除去加工ツールを用いてパターン形成されることを特徴とする請求項12から請求項14のいずれか1項に記載の方法。
- レーザ放射線が、入射側から照明視野の方向に通過することができる第1の基板(S1)を含み、
前記第1の基板が、第1の光学的機能基板面(S1−1)を有し、
前記第1の光学的機能基板面(S1−1)において、互いに平行な円柱軸を有する複数の凸円柱レンズ要素面が、互いに横並びに位置する方式で形成され、
互いに直接隣接して位置する凸円柱レンズ要素面が、各場合に遷移領域内で互いに融合する、
照明視野内のレーザ放射線を均一化するためのデバイスであって、
前記遷移領域(TR1,TR2,TR3)が、隣接する凸円柱レンズ要素面が互いに横並びに位置する方向に異なる面形状のランダム分布を有する、
ことを特徴とするデバイス。 - 前記異なる面形状は、不規則又は凹であることを特徴とする請求項17に記載のデバイス。
- 照明視野を1次光源からの光で照明するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明系であって、
請求項1から請求項11又は請求項17から請求項18のいずれか1項に記載のデバイス、
を特徴とする照明系。 - 照明系が、1次光源から光を受光するためのかつ照明系の瞳形成面(PUP)内に可変的に調節可能な2次元強度分布を発生させるための可変的に調節可能な瞳形成ユニット(PFU)を含み、
前記均一化デバイス(HOM)は、前記瞳形成面の領域に配置される、
ことを特徴とする請求項19に記載の照明系。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201210205790 DE102012205790B4 (de) | 2012-04-10 | 2012-04-10 | Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung sowie Verfahren zu ihrer Herstellung |
DE102012205790.0 | 2012-04-10 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013094569A Division JP5852043B2 (ja) | 2012-04-10 | 2013-04-10 | レーザ放射線を均一化するためのデバイス及びそれを製造する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016075936A true JP2016075936A (ja) | 2016-05-12 |
JP2016075936A5 JP2016075936A5 (ja) | 2018-11-08 |
Family
ID=49209981
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013094569A Active JP5852043B2 (ja) | 2012-04-10 | 2013-04-10 | レーザ放射線を均一化するためのデバイス及びそれを製造する方法 |
JP2015236486A Pending JP2016075936A (ja) | 2012-04-10 | 2015-12-03 | レーザ放射線を均一化するためのデバイス及びそれを製造する方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013094569A Active JP5852043B2 (ja) | 2012-04-10 | 2013-04-10 | レーザ放射線を均一化するためのデバイス及びそれを製造する方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP5852043B2 (ja) |
DE (1) | DE102012205790B4 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102015214196B4 (de) | 2015-07-27 | 2017-11-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung sowie Beleuchtungssystem |
CN114967163A (zh) * | 2022-05-17 | 2022-08-30 | 嘉兴驭光光电科技有限公司 | 匀光装置、投射器以及匀光装置的设计方法 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000162414A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-06-16 | Nikon Corp | 反射鏡の製造方法又は反射型照明装置又は半導体露光装置 |
JP2001284212A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-10-12 | Canon Inc | 照明装置及びそれを有する露光装置 |
JP2002311216A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-23 | Nikon Corp | 反射鏡の製造方法又は反射型照明装置又は半導体露光装置 |
JP2003232901A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-08-22 | Canon Inc | 光学素子、照明装置及び露光装置 |
JP2004317678A (ja) * | 2003-04-14 | 2004-11-11 | Nikon Corp | 柱面レンズの製造方法、グレースケールマスク、インテグレータの製造方法、インテグレータ、照明光学系、及び投影露光装置 |
JP2005352062A (ja) * | 2004-06-09 | 2005-12-22 | Nikon Corp | マイクロレンズおよび露光装置 |
JP2009071011A (ja) * | 2007-09-13 | 2009-04-02 | Nikon Corp | オプティカルインテグレータ、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
WO2009087805A1 (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-16 | Nikon Corporation | 空間光変調器、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2009527114A (ja) * | 2006-02-17 | 2009-07-23 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム用の光結合器 |
JP2009194159A (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Nikon Corp | 光学ユニット、照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2009267390A (ja) * | 2008-04-29 | 2009-11-12 | Nikon Corp | オプティカルインテグレータ、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2011507292A (ja) * | 2007-12-21 | 2011-03-03 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ露光装置のマスク照明用の照明系 |
JP2011137970A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Nikon Corp | レンズアレイ及び光学系 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10225674B4 (de) | 2002-06-10 | 2013-03-28 | Coherent Gmbh | Linsensystem zum Homogenisieren von Laserstrahlung |
US7486856B2 (en) * | 2004-03-24 | 2009-02-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Beam homogenizer and laser irradiation apparatus |
DE102004020250A1 (de) * | 2004-04-26 | 2005-11-10 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung und Verfahren zur optischen Strahlhomogenisierung |
WO2006072263A1 (de) | 2005-01-07 | 2006-07-13 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur homogenisierung von licht |
WO2008087012A1 (de) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur homogenisierung von licht sowie vorrichtung zur erzeugung einer linienförmigen intensitätsverteilung in einer arbeitsebene |
DE102009021251A1 (de) * | 2009-05-14 | 2010-11-18 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung sowie Laservorrichtung mit einer derartigen Vorrichtung |
-
2012
- 2012-04-10 DE DE201210205790 patent/DE102012205790B4/de active Active
-
2013
- 2013-04-10 JP JP2013094569A patent/JP5852043B2/ja active Active
-
2015
- 2015-12-03 JP JP2015236486A patent/JP2016075936A/ja active Pending
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000162414A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-06-16 | Nikon Corp | 反射鏡の製造方法又は反射型照明装置又は半導体露光装置 |
JP2001284212A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-10-12 | Canon Inc | 照明装置及びそれを有する露光装置 |
JP2002311216A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-23 | Nikon Corp | 反射鏡の製造方法又は反射型照明装置又は半導体露光装置 |
JP2003232901A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-08-22 | Canon Inc | 光学素子、照明装置及び露光装置 |
JP2004317678A (ja) * | 2003-04-14 | 2004-11-11 | Nikon Corp | 柱面レンズの製造方法、グレースケールマスク、インテグレータの製造方法、インテグレータ、照明光学系、及び投影露光装置 |
JP2005352062A (ja) * | 2004-06-09 | 2005-12-22 | Nikon Corp | マイクロレンズおよび露光装置 |
JP2009527114A (ja) * | 2006-02-17 | 2009-07-23 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム用の光結合器 |
JP2009071011A (ja) * | 2007-09-13 | 2009-04-02 | Nikon Corp | オプティカルインテグレータ、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2011507292A (ja) * | 2007-12-21 | 2011-03-03 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ露光装置のマスク照明用の照明系 |
WO2009087805A1 (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-16 | Nikon Corporation | 空間光変調器、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2009194159A (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Nikon Corp | 光学ユニット、照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2009267390A (ja) * | 2008-04-29 | 2009-11-12 | Nikon Corp | オプティカルインテグレータ、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2011137970A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Nikon Corp | レンズアレイ及び光学系 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102012205790B4 (de) | 2015-02-05 |
JP2013232648A (ja) | 2013-11-14 |
DE102012205790A1 (de) | 2013-10-10 |
JP5852043B2 (ja) | 2016-02-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5640037B2 (ja) | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム用の光結合器 | |
JP4852617B2 (ja) | マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システム | |
US20190137886A1 (en) | Exposure method and apparatus, and method for fabricating device with light amount distribution having light larger in four areas | |
US20030156266A1 (en) | Method and apparatus for illuminating a surface using a projection imaging apparatus | |
JP3201027B2 (ja) | 投影露光装置及び方法 | |
JP5762051B2 (ja) | マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学ラスタ要素、光学インテグレータ、及び照明系 | |
JP5852043B2 (ja) | レーザ放射線を均一化するためのデバイス及びそれを製造する方法 | |
JP2008182244A (ja) | マイクロリソグラフ投影露光装置の照明系用光インテグレータ | |
JP5504763B2 (ja) | レンズアレイ及び光学系 | |
KR101980939B1 (ko) | 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치의 광학 시스템 | |
JP5446856B2 (ja) | レンズアレイ及び光学系 | |
JP7446069B2 (ja) | 露光装置及び物品の製造方法 | |
KR20160034806A (ko) | 조명 광학장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법 | |
CN115343915A (zh) | 反射镜、光刻装置及其控制方法 | |
JP2022142328A (ja) | 照明光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160411 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160411 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170501 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20170721 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20171101 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180416 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20180717 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20180918 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20190122 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20190307 |