JP2003231896A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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Abstract
な洗浄剤組成物の提供。 【解決手段】 (a)アルキルリン酸エステル、及び
(b)一般式(1)又は(2)で表される化合物から選
ばれる少なくとも1種のカチオン化合物を含有する洗浄
剤組成物。 【化1】 〔式中、R1は炭素数8〜18の飽和又は不飽和の炭化
水素基、R2及びR3はそれぞれ独立に、メチル基又はエ
チル基、X-は陰イオン基を示す。〕
Description
存安定性に優れ、更に皮膚に温和な洗浄剤組成物に関す
る。
エステル系界面活性剤は皮膚に対し温和であることが知
られている(特開昭53−26806号)。しかし、こ
れは、泡性能、特に速泡性が十分でなく、また、生成し
た泡は軽く、壊れやすい。従って、泡立ちが素速く、泡
質がクリーミーで、更に泡の安定性も良好な洗浄剤組成
物が要望されている。
れ、更に皮膚に温和な洗浄剤組成物を提供することにあ
る。
チオン化合物をアルキルリン酸エステルと組み合わせる
ことにより、コンプレックスを形成せず、起泡力や洗浄
性能を低下させずにクリーミーな泡が豊かに立ち、また
結晶析出や相分離を起こさず保存安定性が良好な洗浄剤
組成物が得られることを見出した。
ル、及び(b)一般式(1)又は(2)で表される化合
物から選ばれる少なくとも1種のカチオン化合物を含有
する洗浄剤組成物、並びに更に(c)ヒドロキシスルホ
ベタイン及びアミドベタインから選ばれる少なくとも1
種を含有する洗浄剤組成物を提供する。
不飽和の炭化水素基、R2及びR3はそれぞれ独立に、メ
チル基又はエチル基、X-は陰イオン基を示す。〕
分としては、一般式(3)で表される化合物(MAP)
及び一般式(4)で表される化合物(DAP)から選ば
れる少なくとも1種が挙げられる。
に、炭素数8〜18の飽和又は不飽和の炭化水素基、M
1,M2及びM3はそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ
金属、アンモニウム又は炭素数2〜3のヒドロキシアル
キル基を有するアルカノールアミン、p,q及びrはそ
れぞれ独立に、0〜10の数を示す。〕一般式(3)及
び(4)において、R4,R5及びR6で示される炭化水
素基としては、アルキル基、アルケニル基が好ましく、
特に炭素数11〜15の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が
好ましい。M1,M2及びM3は、水素原子、ナトリウ
ム、カリウム等のアルカリ金属が好ましく、アルカリ金
属が更に好ましい。エチレンオキサイドの平均付加モル
数を示すp,q及びrは0〜3の数が好ましい。
えばモノ又はジラウリルリン酸ナトリウム、モノ又はジ
ラウリルリン酸カリウム、モノ又はジミリスチルリン酸
ナトリウム、モノ又はジミリスチルリン酸カリウム、モ
ノ又はジ(2−メチルカプリン)リン酸ナトリウム、モ
ノ又はジ(2−メチルカプリン)リン酸カリウム、モノ
又はジポリオキシエチレン(3)ラウリルリン酸ナトリ
ウム、モノ又はジポリオキシエチレン(2)(2−メチ
ルラウリル)リン酸ナトリウム等が挙げられる。
比で、MAP/DAP=100/0〜50/50、特に
100/0〜70/30の割合で含有するものが好まし
い。
式(1)で表される(以下化合物(1)という)又は一
般式(2)で表される化合物(以下化合物(2)とい
う)から選ばれる少なくとも1種のカチオン化合物であ
るが、一般式(1)及び(2)において、R1で示され
る炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基が好
ましく、特に炭素数11〜15の直鎖又は分岐鎖のアル
キル基が好ましい。X-で示される陰イオン基として
は、Cl-,Br-,I-等のハロゲンイオン、硫酸イオ
ン、亜硫酸イオン、炭素数1〜3のアルキル硫酸イオン
等が挙げられ、ハロゲンイオンが好ましい。
味を示す。〕で表される3級アミンとグリシドールと
を、塩酸等の酸の存在下で反応させることにより製造す
ることができる。また化合物(2)は、前記一般式
(7)で表される3級アミンと、エピクロロヒドリンと
を反応させた後、トリエチルアミンを添加して更に反応
させることにより製造することができる。
て、ヒドロキシスルホベタインとしては、一般式(5)
で表される化合物が挙げられ、アミドベタインとして
は、一般式(6)で表される化合物が挙げられる。
不飽和の炭化水素基、R8及びR9はそれぞれ独立に、メ
チル基又はエチル基、R10は炭素数8〜18の飽和又は
不飽和の炭化水素基、R11はエチレン基又はプロピレン
基を示す。〕 一般式(5)及び(6)において、R7及びR10で示さ
れる炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基が
好ましく、特に炭素数11〜15の直鎖又は分岐鎖のア
ルキル基が好ましい。
R8及びR9がメチル基で、R7がラウリル基又はミリス
チル基であるもの、すなわちラウリルジメチルヒドロキ
シスルホベタイン及びミリスチルジメチルヒドロキシス
ルホベタインが特に好ましい。一般式(6)で表される
化合物としては、R10CO−が、ラウロイル基又はミリ
ストイル基のものが特に好ましい。
の、(a)成分の含有量は、5〜40重量%が好まし
く、10〜30重量%が更に好ましい。また、(b)成
分の配合割合は、優れた泡特性を得るために、(a)成
分100重量部に対し、0.1〜10重量部が好まし
く、0.1〜5.0重量部が更に好ましい。
分を組み合わせることで、すすぎ性が更に良好となる。
(c)成分の配合割合は、(a)成分100重量部に対
し、1.0〜100重量部が好ましく、1.0〜30重
量部が更に好ましい。
(c)成分以外に、洗浄剤組成物に一般に使用されてい
る成分、例えばプロピレングリコール、グリセリン等の
保湿剤、エタノール、無機塩、高級アルコール、ヒドロ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース等の
粘度調整剤、その他香料、色素、紫外線吸収剤、酸化防
止剤、抗フケ剤、殺菌剤、防腐剤等を必要に応じて適宜
配合することができる。
て特に制限はなく、従来より公知の種々の剤型、例えば
液体シャンプー、クリーム状洗顔料、ゲル状洗顔料、ボ
ディーシャンプー等とすることができる。
(株)製「カルコール2098」)819.8g(4.
40モル)及び85重量%のオルトリン酸(日本化学工
業(株)製)75.0g(P2O5・nH20として表す
とP2O546.2g(0.32モル)、H2028.8
g(1.60モル))を撹拌・混合し、温度を60〜7
0℃に保ちながら五酸化リン(ラサ工業(株)製、有効
分98.5重量%)258.7g(1.80モル)を徐
々に添加した後、80℃に昇温し9時間反応を行い、モ
ノラウリルリン酸エステルとジラウリルリン酸エステル
の75/25(重量比)の混合物を得た。この混合物を
更に水酸化カリウムを用いて中和し、モノ/ジ混合(7
5/25)ラウリルリン酸エステルカリウムを得た。
し、反応時間を6時間とする以外は合成例1と同様にし
て反応を行い、モノラウリルリン酸エステルとジラウリ
ルリン酸エステルの75/25(重量比)の混合物を得
た。この混合物を更に水酸化カリウムを用いて中和し、
モノ/ジ混合(75/25)ラウリルリン酸エステルカ
リウムを得た。
ルアミン100g(0.47mol)、イオン交換水40
0g、35%塩酸49.0g(0.47mol)を仕込
み、50℃に加熱した。同温度で、グリシドール34.
8g(0.47mol)を2時間かけて滴下した。同温度
で5時間熟成後、N−(2,3−ジヒドロキシプロピ
ル)−N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニウムク
ロライド140.1gを含む24.0%水溶液583g
を得た。
アミン100g(0.47mol)、2−プロパノール5
0gを仕込み、70℃に加熱した。同温度で、エピクロ
ロヒドリン43.5g(0.47mol)を2時間かけて
滴下した。同温度で5時間熟成し、N−(2,3−エポ
キシプロピル)−N,N−ジメチル−N−ドデシルアン
モニウムクロライド125gを含む64.8%2−プロ
パノール溶液193gを得た。ここにトリエチルアミン
200g(2.0mol)を加え、90℃で20時間熟
成した。これを5℃に冷却した3Lのアセトン中に添加
し、結晶を得た。更にこの結晶を逆相クロマトグラフィ
で精製することにより、N−(3−ヒドロキシ−1−プ
ロペニル)−N,N−ジメチル−N−ドデシルアンモニ
ウムクロライドを50.2g得た。
法で泡安定性試験、手洗い試験及び低温安定性試験を行
った。結果を表1及び2に示す。
としてラノリンを0.5重量%加え、平型プロペラで4
0℃において回転数1000rpmで10秒毎反転の条
件下で5分間シリンダー中で撹拌し、撹拌終了後3分後
の泡量により評価した。
善し悪し、泡質及びすすいだ時のすすぎ性を、次の評価
基準で評価した。 <速泡性> 5:素速く泡立つ 4:やや素速く泡立つ 3:ふつう 2:やや泡立ちに時間がかかる 1:泡立ちに時間がかかる <泡質> 5:クリーミーな泡 4:ややクリーミーな泡 3:ふつう 2:やや軽い泡 1:軽い泡 <すすぎ性> 5:さっぱりすすげる 4:ややさっぱりすすげる 3:ふつうにすすげる 2:ややぬるつく 1:ぬるつく。
存し、外観を肉眼で観察し、次の評価基準で評価した。 ○:透明 △:やや濁る ×:沈殿を生じる
Claims (5)
- 【請求項1】 (a)アルキルリン酸エステル、及び
(b)一般式(1)又は(2)で表される化合物から選
ばれる少なくとも1種のカチオン化合物を含有する洗浄
剤組成物。 【化1】 〔式中、R1は炭素数8〜18の飽和又は不飽和の炭化
水素基、R2及びR3はそれぞれ独立に、メチル基又はエ
チル基、X-は陰イオン基を示す。〕 - 【請求項2】 更に(c)ヒドロキシスルホベタイン及
びアミドベタインから選ばれる少なくとも1種を含有す
る請求項1記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項3】 (a)成分が一般式(3)で表される化
合物(MAP)及び一般式(4)で表される化合物(D
AP)から選ばれる少なくとも1種である請求項1又は
2記載の洗浄剤組成物。 【化2】 〔式中、R4,R5及びR6はそれぞれ独立に、炭素数8
〜18の飽和又は不飽和の炭化水素基、M1,M2及びM
3はそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属、アンモ
ニウム又は炭素数2〜3のヒドロキシアルキル基を有す
るアルカノールアミン、p,q及びrはそれぞれ独立
に、0〜10の数を示す。〕 - 【請求項4】 (a)成分が、MAPとDAPを重量比
で、MAP/DAP=100/0〜50/50の割合で
含有するものである請求項3記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項5】 ヒドロキシスルホベタインが一般式
(5)で表される化合物であり、アミドベタインが一般
式(6)で表される化合物である請求項2〜4のいずれ
かに記載の洗浄剤組成物。 【化3】 〔式中、R7は炭素数8〜18の飽和又は不飽和の炭化
水素基、R8及びR9はそれぞれ独立に、メチル基又はエ
チル基、R10は炭素数8〜18の飽和又は不飽和の炭化
水素基、R11はエチレン基又はプロピレン基を示す。〕
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JP2007197670A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-08-09 | Kao Corp | 洗浄剤組成物 |
WO2007094603A1 (en) * | 2006-02-15 | 2007-08-23 | Lg Household & Health Care Ltd. | Manufacturing method of mixed surfactant system |
CN107098820A (zh) * | 2017-05-05 | 2017-08-29 | 如皋市万利化工有限责任公司 | 十二烷基二甲基二羟丙基氯化铵的生产工艺 |
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2002
- 2002-02-12 JP JP2002033957A patent/JP3868823B2/ja not_active Expired - Fee Related
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