JPH10330784A - 新規な界面活性剤及びこれを含有する洗浄剤組成物 - Google Patents
新規な界面活性剤及びこれを含有する洗浄剤組成物Info
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- JPH10330784A JPH10330784A JP9158111A JP15811197A JPH10330784A JP H10330784 A JPH10330784 A JP H10330784A JP 9158111 A JP9158111 A JP 9158111A JP 15811197 A JP15811197 A JP 15811197A JP H10330784 A JPH10330784 A JP H10330784A
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- carbon atoms
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高濃度水溶液の液安定性に優れ、起泡性、洗
浄力、マイルド性にも優れた界面活性剤及びそれを含有
する洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 下記一般式（１）に表わされる界面活性
剤、及びそれを用いた洗浄剤組成物。 （式中、Ｒ1、Ｒ2；Ｈ、Ｃ1〜30のアルキル基、アルケ
ニル基、Ｒ3；Ｈ、Ｃ1〜4のアルキル基、Ｙ；アニオン
基）
浄力、マイルド性にも優れた界面活性剤及びそれを含有
する洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 下記一般式（１）に表わされる界面活性
剤、及びそれを用いた洗浄剤組成物。 （式中、Ｒ1、Ｒ2；Ｈ、Ｃ1〜30のアルキル基、アルケ
ニル基、Ｒ3；Ｈ、Ｃ1〜4のアルキル基、Ｙ；アニオン
基）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水溶性が高く、液
安定性に優れ、泡立ち、洗浄力に優れ、皮膚や毛髪に対
してマイルドであり、毛髪、皮膚化粧料や、洗浄剤の成
分として有用な新規界面活性剤、及びこれを含有する洗
浄剤組成物に関する。
安定性に優れ、泡立ち、洗浄力に優れ、皮膚や毛髪に対
してマイルドであり、毛髪、皮膚化粧料や、洗浄剤の成
分として有用な新規界面活性剤、及びこれを含有する洗
浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から工業分野や家庭用分野におい
て、洗浄剤の成分としては、界面活性剤の中でもアニオ
ン界面活性剤が広く用いられている。このアニオン界面
活性剤には各種の構造のものがあるが、最近では、省エ
ネルギー、省資源や持ち運びの容易さなどから、水溶性
がよく、高濃度でも安定で、洗浄力、泡立ちが優れ、皮
膚や毛髪にマイルドなものや、少量で効果のあるものが
望まれている。
て、洗浄剤の成分としては、界面活性剤の中でもアニオ
ン界面活性剤が広く用いられている。このアニオン界面
活性剤には各種の構造のものがあるが、最近では、省エ
ネルギー、省資源や持ち運びの容易さなどから、水溶性
がよく、高濃度でも安定で、洗浄力、泡立ちが優れ、皮
膚や毛髪にマイルドなものや、少量で効果のあるものが
望まれている。
【０００３】このような界面活性剤として、アルコール
エーテル硫酸塩のほか、エーテルカルボン酸やアミドエ
ーテルカルボン酸、アミドエーテル硫酸塩などのように
親油基と親水基との間にポリオキシエチレン鎖を挿入し
たタイプの界面活性剤や分子中に複数の親油基と複数の
親水基を有するジェミニ型界面活性剤も知られている。
しかしながら、これらは水溶性は良好であるが、組成物
中での安定性、特に高濃度での安定性においては要求を
充分満足してるとはいえない。
エーテル硫酸塩のほか、エーテルカルボン酸やアミドエ
ーテルカルボン酸、アミドエーテル硫酸塩などのように
親油基と親水基との間にポリオキシエチレン鎖を挿入し
たタイプの界面活性剤や分子中に複数の親油基と複数の
親水基を有するジェミニ型界面活性剤も知られている。
しかしながら、これらは水溶性は良好であるが、組成物
中での安定性、特に高濃度での安定性においては要求を
充分満足してるとはいえない。
【０００４】また、特定のアルカンジオールのアルキレ
ンオキシド付加物、或いはその硫酸化物からなる界面活
性剤がアルキルグルコシドとの併用により、皮膚刺激が
緩和されるとともに、洗浄力、気泡力も増強され、しか
もすすぎ性、手の感触も改善されることが開示されてい
る（特開平２−２０６６９６号公報）。しかしながら、
該アルカンジオールのアルキレンオキシド付加物の一方
のみ硫酸化しうることが記載されているのみであって、
その具体例の記載はなく、またこのような界面活性剤を
高濃度の洗浄剤とした具体例の記載もない。
ンオキシド付加物、或いはその硫酸化物からなる界面活
性剤がアルキルグルコシドとの併用により、皮膚刺激が
緩和されるとともに、洗浄力、気泡力も増強され、しか
もすすぎ性、手の感触も改善されることが開示されてい
る（特開平２−２０６６９６号公報）。しかしながら、
該アルカンジオールのアルキレンオキシド付加物の一方
のみ硫酸化しうることが記載されているのみであって、
その具体例の記載はなく、またこのような界面活性剤を
高濃度の洗浄剤とした具体例の記載もない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、組成
物中高濃度でも安定性に優れ、皮膚などに対して刺激が
少なく、泡立ちも良好な界面活性剤、及びこれを含有す
る洗浄剤組成物を提供することにある。
物中高濃度でも安定性に優れ、皮膚などに対して刺激が
少なく、泡立ちも良好な界面活性剤、及びこれを含有す
る洗浄剤組成物を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式(１)で表される界面活性剤が提供される。 （式中、Ｒ1,Ｒ2；それぞれＨまたは炭素数１〜３０、
好ましくは１〜２０のアルキル基またはアルケニル基
で、エーテル基を含有していても良い。Ｒ1とＲ2の炭素
数の合計は６〜３２である。 Ｒ3; Ｈまたは炭素数１〜４のアルキル基。 Ｘ； 炭素数１から１０の直鎖または分岐のアルキレン
基で、アルキレン鎖中にエーテル、エステル、アミド、
カルボニル、チオエーテル、スルホキシド、スルホン基
を含んでいてもよい。 Ｂ ; 炭素数２〜４のアルキレンオキシ基、好ましくは
エチレンオキシ基 ｌ ; ０又は１ ｍ ; １〜２０、好ましくは３〜１０ ｎ ; ０〜２０ Ｙ ; −(ＣＨ2)pＣＯＯＭ、−Ｐ(Ｏ)(ＯＭ)2、−(Ｃ
Ｈ2)qＳＯ3Ｍまたは、−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2ＳＯ3Ｍ ｐ ; １〜３ ｑ ; ２〜４ Ｍ ; Ｈ、アルカリまたはアルカリ土類金属、或いはア
ンモニウム、有機アンモニウム。） また、本発明によれば、上記一般式(１)で表される界面
活性剤を含有する洗浄剤組成物が提供される。
般式(１)で表される界面活性剤が提供される。 （式中、Ｒ1,Ｒ2；それぞれＨまたは炭素数１〜３０、
好ましくは１〜２０のアルキル基またはアルケニル基
で、エーテル基を含有していても良い。Ｒ1とＲ2の炭素
数の合計は６〜３２である。 Ｒ3; Ｈまたは炭素数１〜４のアルキル基。 Ｘ； 炭素数１から１０の直鎖または分岐のアルキレン
基で、アルキレン鎖中にエーテル、エステル、アミド、
カルボニル、チオエーテル、スルホキシド、スルホン基
を含んでいてもよい。 Ｂ ; 炭素数２〜４のアルキレンオキシ基、好ましくは
エチレンオキシ基 ｌ ; ０又は１ ｍ ; １〜２０、好ましくは３〜１０ ｎ ; ０〜２０ Ｙ ; −(ＣＨ2)pＣＯＯＭ、−Ｐ(Ｏ)(ＯＭ)2、−(Ｃ
Ｈ2)qＳＯ3Ｍまたは、−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2ＳＯ3Ｍ ｐ ; １〜３ ｑ ; ２〜４ Ｍ ; Ｈ、アルカリまたはアルカリ土類金属、或いはア
ンモニウム、有機アンモニウム。） また、本発明によれば、上記一般式(１)で表される界面
活性剤を含有する洗浄剤組成物が提供される。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の界面活性剤は、下記一般
式（１）で表されるものであるが、特に分子中に−Ｏ
(Ｂ)m−Ｒ3で表される非イオン性のエーテル基と、−Ｏ
(Ｂ)n−Ｙで表されるアニオン基を含有し、Ｒ1とＲ2の
炭素数の合計が６〜３２であることを特徴とするもので
ある。 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｘ、Ｂ、Ｙ、Ｍ、ｌ、ｍ、
ｎ、ｐ、ｑは前記定義のとおり）
式（１）で表されるものであるが、特に分子中に−Ｏ
(Ｂ)m−Ｒ3で表される非イオン性のエーテル基と、−Ｏ
(Ｂ)n−Ｙで表されるアニオン基を含有し、Ｒ1とＲ2の
炭素数の合計が６〜３２であることを特徴とするもので
ある。 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｘ、Ｂ、Ｙ、Ｍ、ｌ、ｍ、
ｎ、ｐ、ｑは前記定義のとおり）
【０００８】本発明の界面活性剤の前記一般式（１）に
おいて、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれＨ、またはエーテル基を含
有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基またはア
ルケニル基であり、好ましくはＨまたは炭素数１〜２０
のアルキル基またはアルケニル基で、エーテル基を含有
していてもよい。そして、Ｒ1とＲ2の炭素数の合計は６
〜３２であり、好ましくは１０〜２５である。Ｒ1とＲ2
の炭素数の合計が６未満であると界面活性剤としての効
果が低く、また３２を超えると溶解性が低下するため好
ましくない。Ｒ3はＨまたは炭素数１〜４のアルキル基
であり、好ましくはＨまたはメチル基である。Ｂは炭素
数２〜４のアルキレンオキシ基であり、好ましくはエチ
レンオキシ基、プロピレンオキシ基である。ｍは１〜２
０、ｎは０〜２０であり、ｍ＋ｎ＝１〜３０が好まし
い。
おいて、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれＨ、またはエーテル基を含
有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基またはア
ルケニル基であり、好ましくはＨまたは炭素数１〜２０
のアルキル基またはアルケニル基で、エーテル基を含有
していてもよい。そして、Ｒ1とＲ2の炭素数の合計は６
〜３２であり、好ましくは１０〜２５である。Ｒ1とＲ2
の炭素数の合計が６未満であると界面活性剤としての効
果が低く、また３２を超えると溶解性が低下するため好
ましくない。Ｒ3はＨまたは炭素数１〜４のアルキル基
であり、好ましくはＨまたはメチル基である。Ｂは炭素
数２〜４のアルキレンオキシ基であり、好ましくはエチ
レンオキシ基、プロピレンオキシ基である。ｍは１〜２
０、ｎは０〜２０であり、ｍ＋ｎ＝１〜３０が好まし
い。
【０００９】本発明の界面活性剤は、いずれも公知の方
法を組み合わせることにより製造できる。例えば、次に
記載するグリコール類にアルキレンオキサイドを付加
し、一方をアニオン化する方法（方法１）と、ヒドロキ
シル基を含有するアニオン性化合物にアルキレンオキサ
イドを付加する方法（方法２）などがある。
法を組み合わせることにより製造できる。例えば、次に
記載するグリコール類にアルキレンオキサイドを付加
し、一方をアニオン化する方法（方法１）と、ヒドロキ
シル基を含有するアニオン性化合物にアルキレンオキサ
イドを付加する方法（方法２）などがある。
【００１０】（方法１）原料のグリコール類としては、
例えばアルカン−２,３−グリコール、アルカン−３,４
−ジオールなど(一般式２)のほか、２倍モルのアルキレ
ンオキサイドまたはアルキルグリシジルエーテルとα,
ω−ジオールとの反応生成物（一般式３、４）、或い
は、ジグリシジルエーテル(特開平１−３０４０３３)と
アルコールとの反応生成物であるエーテルジオール
（５）などが用いられる。 これらのジオール類にアルキレンオキサイドを付加後、
ヒドロキシル基に対してほぼ２分の１モルの次に示すア
ニオン化剤を反応させ、一般式(１)で表される界面活性
剤が製造される。
例えばアルカン−２,３−グリコール、アルカン−３,４
−ジオールなど(一般式２)のほか、２倍モルのアルキレ
ンオキサイドまたはアルキルグリシジルエーテルとα,
ω−ジオールとの反応生成物（一般式３、４）、或い
は、ジグリシジルエーテル(特開平１−３０４０３３)と
アルコールとの反応生成物であるエーテルジオール
（５）などが用いられる。 これらのジオール類にアルキレンオキサイドを付加後、
ヒドロキシル基に対してほぼ２分の１モルの次に示すア
ニオン化剤を反応させ、一般式(１)で表される界面活性
剤が製造される。
【００１１】アニオン化： 〔−（ＣＨ2)pＣＯＯＭ基の導入〕モノカルボキシアル
キル化するには、アルカリの存在下にジオールに対して
１.０〜１.５モルのモノクロル酢酸塩と反応するか、ア
ルカリの存在下にアクリロニトリル又はアクリル酸エス
テル或いはメタクリル酸エステルを付加させ、加水分解
することにより製造できる。 〔−Ｐ(Ｏ)(ＯＭ)2基の導入〕モノリン酸エステル塩と
するには、１.０〜２.０モル倍のリン酸エステル化剤を
反応させることにより製造できる。このリン酸化剤とし
ては、五酸化燐、ピロ燐酸、オキシ塩化燐などが用いら
れる。 〔−(ＣＨ)qＳＯ3Ｍ基、−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ）ＣＨ2ＳＯ3
Ｍ基の導入〕モノスルホン酸塩とするには、アルカリの
存在下に、ジオールに対して、１.０〜１.５モル倍のプ
ロパンサルトン、又はブタンサルトンを反応させるか、
クロルエタンスルホン酸或いは３−クロロ−２−ヒドロ
キシプロパンスルホン酸塩を反応させることによって製
造できる。
キル化するには、アルカリの存在下にジオールに対して
１.０〜１.５モルのモノクロル酢酸塩と反応するか、ア
ルカリの存在下にアクリロニトリル又はアクリル酸エス
テル或いはメタクリル酸エステルを付加させ、加水分解
することにより製造できる。 〔−Ｐ(Ｏ)(ＯＭ)2基の導入〕モノリン酸エステル塩と
するには、１.０〜２.０モル倍のリン酸エステル化剤を
反応させることにより製造できる。このリン酸化剤とし
ては、五酸化燐、ピロ燐酸、オキシ塩化燐などが用いら
れる。 〔−(ＣＨ)qＳＯ3Ｍ基、−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ）ＣＨ2ＳＯ3
Ｍ基の導入〕モノスルホン酸塩とするには、アルカリの
存在下に、ジオールに対して、１.０〜１.５モル倍のプ
ロパンサルトン、又はブタンサルトンを反応させるか、
クロルエタンスルホン酸或いは３−クロロ−２−ヒドロ
キシプロパンスルホン酸塩を反応させることによって製
造できる。
【００１２】（方法２）例えば、下記一般式(６)で表さ
れる化合物に、定法に基づき、アルキレンオキサイドを
付加することによって製造できる。
れる化合物に、定法に基づき、アルキレンオキサイドを
付加することによって製造できる。
【００１３】以上のような製造法において、特別に精製
しない限り、ジオールの両方がアニオン化されたもの及
び未反応のジオールが混入するが、これを再結晶、クロ
マト分離、抽出などの手段により精製してもよいが、そ
のまま使用しても良い。この際、未反応ジオールの含有
量は４０％以下が好ましく、ジアニオン化物の含量は５
０％以下が好ましい。ジオールとジアニオン化物の合計
量は５０％以下が好ましい。また、ジオールの一方のヒ
ドロキシル基を前もってメチル、エチル、プロピル、ブ
チル基などで封鎖しておいても良い。
しない限り、ジオールの両方がアニオン化されたもの及
び未反応のジオールが混入するが、これを再結晶、クロ
マト分離、抽出などの手段により精製してもよいが、そ
のまま使用しても良い。この際、未反応ジオールの含有
量は４０％以下が好ましく、ジアニオン化物の含量は５
０％以下が好ましい。ジオールとジアニオン化物の合計
量は５０％以下が好ましい。また、ジオールの一方のヒ
ドロキシル基を前もってメチル、エチル、プロピル、ブ
チル基などで封鎖しておいても良い。
【００１４】このようにして得られた本発明の一般式
(１)で表される界面活性剤は、高濃度でも安定性に優
れ、皮膚などに対して刺激が少なく、泡立ちも良好であ
る。そして、これらを含有する本発明の洗浄剤組成物
は、衣料用洗浄剤、食器野菜用洗浄剤、住居用洗浄剤、
シャンプ、ボディシャンプー、ハンドソープ、歯磨用発
泡剤、工業用洗浄剤などに有効である。
(１)で表される界面活性剤は、高濃度でも安定性に優
れ、皮膚などに対して刺激が少なく、泡立ちも良好であ
る。そして、これらを含有する本発明の洗浄剤組成物
は、衣料用洗浄剤、食器野菜用洗浄剤、住居用洗浄剤、
シャンプ、ボディシャンプー、ハンドソープ、歯磨用発
泡剤、工業用洗浄剤などに有効である。
【００１５】以下、本発明の洗浄剤組成物について詳細
に説明する。本発明の、一般式(１)で表される界面活性
剤は、単独でも、或るいは他の界面活性剤を併用するこ
とによって高濃度でも安定な組成物を形成することがで
きる。他の界面活性剤を併用する場合は、その使用量は
界面活性剤全量の８０重量％以下であることが好まし
い。併用できる界面活性剤としては、全てのアニオン活
性剤、非イオン界面活性剤、両性界面活性剤、カチオン
界面活性剤と併用できるが、皮膚、毛髪など人体にマイ
ルドな界面活性剤であるため、マイルドな界面活性剤と
組み合わせて使用するのが好ましい。
に説明する。本発明の、一般式(１)で表される界面活性
剤は、単独でも、或るいは他の界面活性剤を併用するこ
とによって高濃度でも安定な組成物を形成することがで
きる。他の界面活性剤を併用する場合は、その使用量は
界面活性剤全量の８０重量％以下であることが好まし
い。併用できる界面活性剤としては、全てのアニオン活
性剤、非イオン界面活性剤、両性界面活性剤、カチオン
界面活性剤と併用できるが、皮膚、毛髪など人体にマイ
ルドな界面活性剤であるため、マイルドな界面活性剤と
組み合わせて使用するのが好ましい。
【００１６】本発明の界面活性剤と併用できる界面活性
剤の例を以下に示す。 アニオン界面活性剤 ; アルキル硫酸塩、ポリオキシエ
チレンアルキル硫酸塩、脂肪酸塩、アルキルベンゼンス
ルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、α-オレフィンス
ルホン酸塩、α-スルホ脂肪酸エステル塩、モノアルキ
ル燐酸エステル塩、アルキル又はヒドロキシアルキルエ
ーテルカルボン酸塩、アルキルアミドエーテル硫酸エス
テル塩、Ｎ−アルキルアミドアルカノール硫酸エステル
塩、アシルザルコシネート、Ｎ−アシルタウライド、Ｎ
−アシル−Ｎ−メチルタウライド、脂肪酸モノグリセラ
イド硫酸エステル塩、アシルアミノ酸塩、アルキルイミ
ノジカルボン酸塩、二級アミド型Ｎ−アシルアミノ酸
塩、酒石酸アルキルアミド、リンゴ酸アルキルアミド、
クエン酸アルキルアミドなど 非イオン界面活性剤 ; 高級アルコールエトキシレー
ト、蔗糖脂肪酸エステル、アルキル(ポリ)グルコシド、
ポリグリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ジエタノールア
ミド、脂肪酸２,３−ジヒドロキシプロピルアミド、脂
肪酸ポリオキシエチレンアミド、アルキルアミンオキサ
イド、アルキルアミドアミンオキサイド、ポリオキシエ
チレン脂肪酸エステル、メチルあるいはエチルグルコシ
ド脂肪酸エステル、アシルグルカミドなど カチオン界面活性剤 ; モノ或いはジアルキル四級アン
モニウム塩、エーテル基或いはエステル基を含有するモ
ノ或いはジアルキル四級アンモニウム塩、或いはこれら
の塩酸塩、硫酸塩、有機酸塩など 両性界面活性剤 ; カルボキシベタイン、スルホベタイ
ン、ホスホベタイン、アミドアミノ酸、イミダゾリニウ
ムベタイン系界面活性剤など
剤の例を以下に示す。 アニオン界面活性剤 ; アルキル硫酸塩、ポリオキシエ
チレンアルキル硫酸塩、脂肪酸塩、アルキルベンゼンス
ルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、α-オレフィンス
ルホン酸塩、α-スルホ脂肪酸エステル塩、モノアルキ
ル燐酸エステル塩、アルキル又はヒドロキシアルキルエ
ーテルカルボン酸塩、アルキルアミドエーテル硫酸エス
テル塩、Ｎ−アルキルアミドアルカノール硫酸エステル
塩、アシルザルコシネート、Ｎ−アシルタウライド、Ｎ
−アシル−Ｎ−メチルタウライド、脂肪酸モノグリセラ
イド硫酸エステル塩、アシルアミノ酸塩、アルキルイミ
ノジカルボン酸塩、二級アミド型Ｎ−アシルアミノ酸
塩、酒石酸アルキルアミド、リンゴ酸アルキルアミド、
クエン酸アルキルアミドなど 非イオン界面活性剤 ; 高級アルコールエトキシレー
ト、蔗糖脂肪酸エステル、アルキル(ポリ)グルコシド、
ポリグリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ジエタノールア
ミド、脂肪酸２,３−ジヒドロキシプロピルアミド、脂
肪酸ポリオキシエチレンアミド、アルキルアミンオキサ
イド、アルキルアミドアミンオキサイド、ポリオキシエ
チレン脂肪酸エステル、メチルあるいはエチルグルコシ
ド脂肪酸エステル、アシルグルカミドなど カチオン界面活性剤 ; モノ或いはジアルキル四級アン
モニウム塩、エーテル基或いはエステル基を含有するモ
ノ或いはジアルキル四級アンモニウム塩、或いはこれら
の塩酸塩、硫酸塩、有機酸塩など 両性界面活性剤 ; カルボキシベタイン、スルホベタイ
ン、ホスホベタイン、アミドアミノ酸、イミダゾリニウ
ムベタイン系界面活性剤など
【００１７】本発明の洗浄剤組成物には、必要に応じて
洗浄剤に配合される公知の補助成分を配合することもで
きる。このような補助成分としてはビルダー類、保湿
剤、粘度調節剤、防腐剤、抗炎症剤、酸化防止剤、紫外
線吸収剤、金属イオン封鎖剤、移染防止剤、殺菌剤、水
溶性高分子化合物、水溶性無機物、ｐＨ調節に用いられ
る有機及び無機化合物、パール光沢剤、色素、香料、酵
素、漂白剤などがあげられる。
洗浄剤に配合される公知の補助成分を配合することもで
きる。このような補助成分としてはビルダー類、保湿
剤、粘度調節剤、防腐剤、抗炎症剤、酸化防止剤、紫外
線吸収剤、金属イオン封鎖剤、移染防止剤、殺菌剤、水
溶性高分子化合物、水溶性無機物、ｐＨ調節に用いられ
る有機及び無機化合物、パール光沢剤、色素、香料、酵
素、漂白剤などがあげられる。
【００１８】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【００１９】[合成例１]一般式(１)で、Ｒ1,Ｒ2; Ｃ10
Ｈ21ＯＣＨ2−、Ｒ3; Ｈ、Ｘ; −ＣＨ2ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ2
−、ｌ; １、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、ｍ,ｎ; ６.５、Ｙ; −ＰＯ
(ＯＭ)2の製造 ４９ｇの１,８−ビス(デシルオキシメチル)−３,６−ジ
オキサオクタン−１,８−ジオールと０.６ｇの水酸化カ
リウムをガス圧入管をつけたオートクレーブに仕込み、
窒素雰囲気で１３０℃に加熱脱水した後、徐々に５９ｇ
のエチレンオキサイドを圧入する。圧入終了後更に２時
間熟成を行う。反応終了後、生成物をエタノールに溶解
し、燐酸で中和し、ろ過する。エタノールを除去し、
１,８−ビス(デシルオキシメチル)−３,６−ジオキサオ
クタン−１,８−ジオールのエチレンオキサイド付加物
(ｍ,ｎ＝６.５)を得た。攪拌機、冷却管、滴下ロート、
温度計を付けた５００ｍｌ四つ口フラスコに、上で得た
１,８−ビス(デシルオキシメチル)−３,６−ジオキサオ
クタン−１,８−ジオールのエチレンオキサイド付加物
(ｍ,ｎ＝６.５) ２１.２ｇをクロロホルムに溶解させ、
６ｇのオキシ塩化燐を１０℃に保ちながら徐々に滴下し
た。滴下終了後、室温で更に２時間熟成させた後、減圧
にてトッピングし、ヘキサン、水及びイソプロピルアル
コールを加えてヘキサン相から、燐酸エステル１９.３
ｇを得た。ＨＰＬＣにより、未反応ジオールとビス−燐
酸エステル化物を１４％含んでいた。これをカセイカリ
で中和した。
Ｈ21ＯＣＨ2−、Ｒ3; Ｈ、Ｘ; −ＣＨ2ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ2
−、ｌ; １、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、ｍ,ｎ; ６.５、Ｙ; −ＰＯ
(ＯＭ)2の製造 ４９ｇの１,８−ビス(デシルオキシメチル)−３,６−ジ
オキサオクタン−１,８−ジオールと０.６ｇの水酸化カ
リウムをガス圧入管をつけたオートクレーブに仕込み、
窒素雰囲気で１３０℃に加熱脱水した後、徐々に５９ｇ
のエチレンオキサイドを圧入する。圧入終了後更に２時
間熟成を行う。反応終了後、生成物をエタノールに溶解
し、燐酸で中和し、ろ過する。エタノールを除去し、
１,８−ビス(デシルオキシメチル)−３,６−ジオキサオ
クタン−１,８−ジオールのエチレンオキサイド付加物
(ｍ,ｎ＝６.５)を得た。攪拌機、冷却管、滴下ロート、
温度計を付けた５００ｍｌ四つ口フラスコに、上で得た
１,８−ビス(デシルオキシメチル)−３,６−ジオキサオ
クタン−１,８−ジオールのエチレンオキサイド付加物
(ｍ,ｎ＝６.５) ２１.２ｇをクロロホルムに溶解させ、
６ｇのオキシ塩化燐を１０℃に保ちながら徐々に滴下し
た。滴下終了後、室温で更に２時間熟成させた後、減圧
にてトッピングし、ヘキサン、水及びイソプロピルアル
コールを加えてヘキサン相から、燐酸エステル１９.３
ｇを得た。ＨＰＬＣにより、未反応ジオールとビス−燐
酸エステル化物を１４％含んでいた。これをカセイカリ
で中和した。
【００２０】[合成例２]一般式(１)で、Ｒ1,Ｒ2; Ｃ8Ｈ
17ＯＣＨ2−、Ｒ3; Ｈ、Ｘ; −ＣＨ2ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ
2−、ｌ; １、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、ｍ,ｎ; ６.０、Ｙ; −Ｃ
Ｈ2ＣＯ2Ｎaの製造 攪拌機、冷却管、滴下ロート、温度計を付けた５００ｍ
ｌ四つ口フラスコに、合成例１と同様にして得た１,８
−ビス(オクチルオキシメチル)−３,６−ジオキサオク
タン−１,８−ジオールのエチレンオキサイド付加物
(ｍ,ｎ＝６.０) １９.２ｇをｔ-ブタノールに溶解さ
せ、ついで金属ナトリウム０.６ｇ及び ４.３ｇのブロ
モ酢酸Ｎaを滴下し７５℃、２０時間反応させた後、分
別抽出により精製してモノカルボキシメチル化物１５.
６ｇを得た。
17ＯＣＨ2−、Ｒ3; Ｈ、Ｘ; −ＣＨ2ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ
2−、ｌ; １、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、ｍ,ｎ; ６.０、Ｙ; −Ｃ
Ｈ2ＣＯ2Ｎaの製造 攪拌機、冷却管、滴下ロート、温度計を付けた５００ｍ
ｌ四つ口フラスコに、合成例１と同様にして得た１,８
−ビス(オクチルオキシメチル)−３,６−ジオキサオク
タン−１,８−ジオールのエチレンオキサイド付加物
(ｍ,ｎ＝６.０) １９.２ｇをｔ-ブタノールに溶解さ
せ、ついで金属ナトリウム０.６ｇ及び ４.３ｇのブロ
モ酢酸Ｎaを滴下し７５℃、２０時間反応させた後、分
別抽出により精製してモノカルボキシメチル化物１５.
６ｇを得た。
【００２１】[合成例３]一般式(１)で、Ｒ1,Ｒ2; Ｃ8Ｈ
17ＯＣＨ2−、Ｒ3; Ｈ、Ｘ; −ＣＨ2ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ
2−、ｌ; １、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、ｍ,ｎ; ６.０、Ｙ; −Ｃ
Ｈ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2ＳＯ3Ｎaの製造 攪拌機、冷却管、滴下ロート、温度計を付けた５００ｍ
ｌ四つ口フラスコに、合成例１と同様にして得た１,８
−ビス(オクチルオキシメチル)−３,６−ジオキサオク
タン−１,８−ジオールのエチレンオキサイド付加物
(ｍ,ｎ＝６.０) １９.２ｇをイソプロパノールと水に溶
解させ、ついで炭酸ナトリウム５.０ｇ及び４.３ｇの３
−クロロ−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸Ｎaを加
え７５℃、１０時間反応させた後、クロマト分離してモ
ノスルホン化物１８.９ｇを得た。
17ＯＣＨ2−、Ｒ3; Ｈ、Ｘ; −ＣＨ2ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ
2−、ｌ; １、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、ｍ,ｎ; ６.０、Ｙ; −Ｃ
Ｈ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2ＳＯ3Ｎaの製造 攪拌機、冷却管、滴下ロート、温度計を付けた５００ｍ
ｌ四つ口フラスコに、合成例１と同様にして得た１,８
−ビス(オクチルオキシメチル)−３,６−ジオキサオク
タン−１,８−ジオールのエチレンオキサイド付加物
(ｍ,ｎ＝６.０) １９.２ｇをイソプロパノールと水に溶
解させ、ついで炭酸ナトリウム５.０ｇ及び４.３ｇの３
−クロロ−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸Ｎaを加
え７５℃、１０時間反応させた後、クロマト分離してモ
ノスルホン化物１８.９ｇを得た。
【００２２】[合成例４]一般式(１)で、Ｒ1,Ｒ2; Ｃ10
Ｈ21−、Ｒ3; Ｈ、Ｘ; ＣＨ2ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ2、ｌ;
１、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、ｍ,ｎ; ６.８、Ｙ; Ｃ2Ｈ4ＣＯ2Ｈ
の製造 １,２−エポキシドデカンとエチレングリコールとから
１,８−ビスデシル−３,６−ジオキサオクタン−１,８
−ジオールを合成し、合成例１の場合と同様にエチレン
オキサイド６.８モル付加物を得た。 攪拌機、冷却
管、滴下ロート、温度計を付けた５００ｍｌ四つ口フラ
スコに、このジオールエトキシ化物(ｍ,ｎ＝６.８) ２
０.５ｇと１.０ｇのナトリウムメチラートを加え、減圧
下９０℃に加熱してメタノールを除き、少量のハイドロ
キノンを添加し、２ｇのアクリロニトリルを８０℃で滴
下した。滴下終了後更に３時間熟成し、減圧で未反応の
アクリロニトリルを留去する。このシアノエチル化物に
塩酸を加えて１００℃で８時間攪拌し、静置分離し、カ
ルボキシエチル化物１７.８ｇを得た。ＨＰＬＣにより
ジカルボキシエチル化物を１０％含んでいた。
Ｈ21−、Ｒ3; Ｈ、Ｘ; ＣＨ2ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ2、ｌ;
１、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、ｍ,ｎ; ６.８、Ｙ; Ｃ2Ｈ4ＣＯ2Ｈ
の製造 １,２−エポキシドデカンとエチレングリコールとから
１,８−ビスデシル−３,６−ジオキサオクタン−１,８
−ジオールを合成し、合成例１の場合と同様にエチレン
オキサイド６.８モル付加物を得た。 攪拌機、冷却
管、滴下ロート、温度計を付けた５００ｍｌ四つ口フラ
スコに、このジオールエトキシ化物(ｍ,ｎ＝６.８) ２
０.５ｇと１.０ｇのナトリウムメチラートを加え、減圧
下９０℃に加熱してメタノールを除き、少量のハイドロ
キノンを添加し、２ｇのアクリロニトリルを８０℃で滴
下した。滴下終了後更に３時間熟成し、減圧で未反応の
アクリロニトリルを留去する。このシアノエチル化物に
塩酸を加えて１００℃で８時間攪拌し、静置分離し、カ
ルボキシエチル化物１７.８ｇを得た。ＨＰＬＣにより
ジカルボキシエチル化物を１０％含んでいた。
【００２３】[合成例５]一般式(１)で、Ｒ1,Ｒ2; Ｃ10
Ｈ21−、Ｒ3; Ｈ、Ｘ; ＣＨ2ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ2、ｌ;
１、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、ｍ,ｎ; ６.８、Ｙ; ＰＯ(ＯＭ)2の
製造 合成例１で得た１,８−ビスデシル−３,６−ジオキサオ
クタン−１,８−ジオールのエチレンオキサイド６.８モ
ル付加物を用いて合成例１と同様にしてモノ燐酸エステ
ルを得た。ＨＰＬＣにより、未反応ジオールとビス−燐
酸エステル化物を１４％含んでいた。これをトリエタノ
ールアミンで中和した。
Ｈ21−、Ｒ3; Ｈ、Ｘ; ＣＨ2ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ2、ｌ;
１、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、ｍ,ｎ; ６.８、Ｙ; ＰＯ(ＯＭ)2の
製造 合成例１で得た１,８−ビスデシル−３,６−ジオキサオ
クタン−１,８−ジオールのエチレンオキサイド６.８モ
ル付加物を用いて合成例１と同様にしてモノ燐酸エステ
ルを得た。ＨＰＬＣにより、未反応ジオールとビス−燐
酸エステル化物を１４％含んでいた。これをトリエタノ
ールアミンで中和した。
【００２４】[合成例６]一般式(１)で、Ｒ1,Ｒ2; Ｃ10
Ｈ21−、Ｒ3; Ｈ、Ｘ; ＣＨ2ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ2、ｌ;
１、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、ｍ,ｎ; ６.８、Ｙ; −ＣＨ2ＣＨ(Ｏ
Ｈ)ＣＨ2ＳＯ3Ｎaの製造 合成例６で得た１,８−ビスデシル−３,６−ジオキサオ
クタン−１,８−ジオールのエチレンオキサイド６.８モ
ル付加物を用いて合成例３と同様にしてモノスルホン化
物を得た。
Ｈ21−、Ｒ3; Ｈ、Ｘ; ＣＨ2ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ2、ｌ;
１、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、ｍ,ｎ; ６.８、Ｙ; −ＣＨ2ＣＨ(Ｏ
Ｈ)ＣＨ2ＳＯ3Ｎaの製造 合成例６で得た１,８−ビスデシル−３,６−ジオキサオ
クタン−１,８−ジオールのエチレンオキサイド６.８モ
ル付加物を用いて合成例３と同様にしてモノスルホン化
物を得た。
【００２５】[合成例７]一般式(１)で、Ｒ1; Ｃ9Ｈ
19−、Ｒ2; ＣＨ3、Ｒ3; Ｈ、ｌ; ０、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、
ｍ,ｎ; ７.３、Ｙ; −ＣＨ2ＣＯＯＭの製造 ドデカン−２,３−ジオールを用いて合成例１の場合と
同様にエチレンオキサイド４.３モル付加物を得た。
このジオールエトキシ化物(ｍ,ｎ＝７.３)を用いて合成
例２と同様にしてモノカルボキシメチル化物を得た。
19−、Ｒ2; ＣＨ3、Ｒ3; Ｈ、ｌ; ０、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、
ｍ,ｎ; ７.３、Ｙ; −ＣＨ2ＣＯＯＭの製造 ドデカン−２,３−ジオールを用いて合成例１の場合と
同様にエチレンオキサイド４.３モル付加物を得た。
このジオールエトキシ化物(ｍ,ｎ＝７.３)を用いて合成
例２と同様にしてモノカルボキシメチル化物を得た。
【００２６】[合成例８]一般式(１)で、Ｒ1; Ｃ9Ｈ
19−、Ｒ2; ＣＨ3、Ｒ3; Ｈ、ｌ; ０、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、
ｍ,ｎ; ７.３、Ｙ; −ＰＯ(ＯＭ)2の製造 合成例７で得たドデカン−２,３−ジオールのエトキシ
化物(ｍ,ｎ＝７.３)を用いて合成例１と同様にしてモノ
燐酸エステルを得た。ＨＰＬＣにより、未反応ジオール
とビス−燐酸エステル化物を１１％含んでいた。これを
カセイソーダで中和した。
19−、Ｒ2; ＣＨ3、Ｒ3; Ｈ、ｌ; ０、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、
ｍ,ｎ; ７.３、Ｙ; −ＰＯ(ＯＭ)2の製造 合成例７で得たドデカン−２,３−ジオールのエトキシ
化物(ｍ,ｎ＝７.３)を用いて合成例１と同様にしてモノ
燐酸エステルを得た。ＨＰＬＣにより、未反応ジオール
とビス−燐酸エステル化物を１１％含んでいた。これを
カセイソーダで中和した。
【００２７】[合成例９]一般式(１)で、Ｒ1; Ｃ9Ｈ
19−、Ｒ2; ＣＨ3、Ｒ3; Ｈ、ｌ; ０、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、
ｍ,ｎ; ７.３、Ｙ; −ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2ＳＯ3Ｎaの
製造 合成例７で得たドデカン−２,３−ジオールのエトキシ
化物(ｍ,ｎ＝７.３)を用いて合成例４と同様にしてモノ
スルホン化物を得た。
19−、Ｒ2; ＣＨ3、Ｒ3; Ｈ、ｌ; ０、Ｂ; Ｃ2Ｈ4Ｏ、
ｍ,ｎ; ７.３、Ｙ; −ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2ＳＯ3Ｎaの
製造 合成例７で得たドデカン−２,３−ジオールのエトキシ
化物(ｍ,ｎ＝７.３)を用いて合成例４と同様にしてモノ
スルホン化物を得た。
【００２８】[合成例10]一般式(１)で、Ｒ1,Ｒ2; 一方
がＣ10Ｈ21−で他方がＨ、Ｒ3; ＣＨ3、ｌ; ０、Ｂ; Ｃ
2Ｈ4Ｏ、ｍ; ６.０、ｎ; ０、Ｙ; −ＣＨ2ＣＯ2Ｎaの製
造 攪拌機、冷却管、滴下ロート、温度計を付けた５００ｍ
ｌ四つ口フラスコに、１,２−ドデカンジオール２０.２
ｇ、ジオキサン２００ｍｌ、金属ナトリウム２.４ｇを
加え、窒素気流下１００℃で５時間攪拌後、７５℃でモ
ノブロモ酢酸Ｎa１２ｇを徐々に添加する。添加終了後
更に２時間熟成する。カラムクロマト分離によりモノカ
ルボキシメチル化物２３ｇを得た。この生成物を塩酸／
イオン交換水で酸とし、ジエチルエーテル中５倍モルの
塩化チオニルでヒドロキシル基およびカルボキシル基を
塩素化し、クロルアルキルエーテル酢酸クロライド２１
ｇを得た。四つ口フラスコに１００ｇのヘキサエチレン
グリコールモノメチルエーテルと２.３ｇの金属ナトリ
ウムを加え、窒素雰囲気下１００℃で５時間加熱した。
この溶液に１３０℃で１４.８ｇのクロルアルキルエー
テル酢酸クロライドを徐々に加え、更に１時間加熱後、
室温で１０時間攪拌した。塩酸で中和し、５０ｍｌのキ
シレンを加えイオン交換水でテトラエチレングリコール
モノメチルエーテルを抽出した。キシレン相をトッピン
グ後、カセイソーダ水溶液を加えて８０℃で１０時間加
熱し、２０ｇの生成物を得た。
がＣ10Ｈ21−で他方がＨ、Ｒ3; ＣＨ3、ｌ; ０、Ｂ; Ｃ
2Ｈ4Ｏ、ｍ; ６.０、ｎ; ０、Ｙ; −ＣＨ2ＣＯ2Ｎaの製
造 攪拌機、冷却管、滴下ロート、温度計を付けた５００ｍ
ｌ四つ口フラスコに、１,２−ドデカンジオール２０.２
ｇ、ジオキサン２００ｍｌ、金属ナトリウム２.４ｇを
加え、窒素気流下１００℃で５時間攪拌後、７５℃でモ
ノブロモ酢酸Ｎa１２ｇを徐々に添加する。添加終了後
更に２時間熟成する。カラムクロマト分離によりモノカ
ルボキシメチル化物２３ｇを得た。この生成物を塩酸／
イオン交換水で酸とし、ジエチルエーテル中５倍モルの
塩化チオニルでヒドロキシル基およびカルボキシル基を
塩素化し、クロルアルキルエーテル酢酸クロライド２１
ｇを得た。四つ口フラスコに１００ｇのヘキサエチレン
グリコールモノメチルエーテルと２.３ｇの金属ナトリ
ウムを加え、窒素雰囲気下１００℃で５時間加熱した。
この溶液に１３０℃で１４.８ｇのクロルアルキルエー
テル酢酸クロライドを徐々に加え、更に１時間加熱後、
室温で１０時間攪拌した。塩酸で中和し、５０ｍｌのキ
シレンを加えイオン交換水でテトラエチレングリコール
モノメチルエーテルを抽出した。キシレン相をトッピン
グ後、カセイソーダ水溶液を加えて８０℃で１０時間加
熱し、２０ｇの生成物を得た。
【００２９】[実施例１〜１０]合成例１〜１０で得られ
た一般式(１)で表される界面活性剤及び比較例１〜の界
面活性剤の水溶液を調製した。これらの水溶液のクラフ
ト点、外観性状、液安定性を下記の方法で評価した。そ
の結果を表１に示す。 クラフト点 ; １重量％水溶液が透明となる温度を目視
で観察した。 外観 ; 各サンプルの５０重量％水溶液を調製し、次の
基準で２５℃での外観性状の観察を行った。 ○ : 透明均一で流動性有り △ : 透明均一であるが流動性なし × : 分離、濁りまたは結晶析出 液安定性 ; 各サンプルの５０重量％水溶液を調製し、
５℃にて一週間放置し、その外観を、上記外観と同じ基
準で評価した。
た一般式(１)で表される界面活性剤及び比較例１〜の界
面活性剤の水溶液を調製した。これらの水溶液のクラフ
ト点、外観性状、液安定性を下記の方法で評価した。そ
の結果を表１に示す。 クラフト点 ; １重量％水溶液が透明となる温度を目視
で観察した。 外観 ; 各サンプルの５０重量％水溶液を調製し、次の
基準で２５℃での外観性状の観察を行った。 ○ : 透明均一で流動性有り △ : 透明均一であるが流動性なし × : 分離、濁りまたは結晶析出 液安定性 ; 各サンプルの５０重量％水溶液を調製し、
５℃にて一週間放置し、その外観を、上記外観と同じ基
準で評価した。
【００３０】
【表１】表１
【００３１】 [処方例１] 濃厚シャンプー組成 合成例２で得られた生成物 １５ (重量％) ホ゜リオキシエチレン(P=4)ト゛テ゛シルエーテル酢酸トリエタノールアミン塩 １０ 合成例７で得られた生成物 ８ 3,4-ヒ゛ス(ホ゜リオキシエチレンP=3)ト゛テ゛カンシ゛オールシ゛硫酸Ｎa ５ ラウロイル-N-メチル-β-アラニンナトリウム ５ ラウロイルジエタノールアミド ３ カチオン化セルロース ０.１ 安息香酸ナトリウム ０.３ 色素、香料 適量 クエン酸 適量 精製水 バランス このシャンプーは、豊かなな泡立ちで、すすぎ時の泡ぎ
れがが良好であった。
れがが良好であった。
【００３２】 [処方例２] 濃厚シャンプー組成 合成例７で得られた生成物 １５ (重量％) ラウリルアミト゛ホ゜リオキシエチレン(EO 4)エーテル酢酸ナトリウム １５ 合成例４で得られた生成物 １０ ラウロイルジエタノールアミド ５ セチルトリメチルアンモニウムクロライド ２ カチオン化セルロース ０.３ 安息香酸ナトリウム ０.３ 色素、香料 適量 クエン酸 適量 精製水 バランス このシャンプーは、安定性が良く、豊かなな泡立ちで、
すすぎやすく、使用後の感触が良好であった。
すすぎやすく、使用後の感触が良好であった。
【００３３】 [処方例３] 濃厚食器野菜用洗剤組成 合成例７で得られた生成物 １５ (重量％) 合成例４で得られた生成物 １０ ポリオキシエチレン(ＥＯ ３)ラウリル硫酸ナトリウム ２５ 3,4-ヒ゛ス(ホ゜リオキシエチレンP=4)ト゛テ゛カンシ゛オールシ゛硫酸Ｎa ５ ラウリルジメチルアミンオキシド ５ 変性エタノール ５ 安息香酸ナトリウム ０.５ 色素、香料 適量 クエン酸 適量 水道水 バランス この食器野菜用洗浄剤は、安定性がよく、泡立ちも良好
で、すすぎ性も良い。
で、すすぎ性も良い。
【００３４】 [処方例４] ボディシャンプー組成 合成例８で得られた生成物 １０ (重量％) ミリスチン酸カリウム ８ ラウリン酸カリウム ８ ラウリン酸アミドプロピルベタイン ６ プロピレングリコール ８ 色素、香料 適量 クエン酸 適量 トリエタノールアミン 適量 精製水 バランス このボディシャンプーは、泡立ちが良好で、使用後の皮
膚や毛髪の感触が良好であった。
膚や毛髪の感触が良好であった。
【００３５】 [処方例５] 濃厚ボディシャンプー組成 合成例２で得られた生成物 ２０ (重量％) 合成例５で得られた生成物 １０ ラウリル燐酸エステル １７ ラウリン酸アミドプロピルベタイン ３ プロピレングリコール ３ 色素、香料 適量 クエン酸 適量 トリエタノールアミン 適量 精製水 バランス このボディシャンプーは、安定性が良く、泡立ちも良好
で、すすぎ時の泡ぎれが良い。
で、すすぎ時の泡ぎれが良い。
【００３６】
【発明の効果】本発明の界面活性剤は、前記特定の化学
構造を有するものであり、その水溶液は高濃度であって
も長期間安定を保護しうるものであり、泡立ち、洗浄
力、マイルド性にも優れている。そして、このような優
れた性能を有する界面活性剤を含有する本発明の洗浄剤
組成物は衣料用、食器野菜用、住居用、皮膚用、毛髪用
等各種の洗浄剤組成物として極めて有用である。
構造を有するものであり、その水溶液は高濃度であって
も長期間安定を保護しうるものであり、泡立ち、洗浄
力、マイルド性にも優れている。そして、このような優
れた性能を有する界面活性剤を含有する本発明の洗浄剤
組成物は衣料用、食器野菜用、住居用、皮膚用、毛髪用
等各種の洗浄剤組成物として極めて有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 317/18 Ｃ０７Ｃ 317/18 323/12 323/12 Ｃ０７Ｆ 9/38 Ｃ０７Ｆ 9/38 Ｂ Ｃ１１Ｄ 1/06 Ｃ１１Ｄ 1/06 1/34 1/34 // Ａ６１Ｋ 7/075 Ａ６１Ｋ 7/075 7/50 7/50
Claims (2)
- 【請求項１】下記一般式(１)で表される界面活性剤。 (式中、Ｒ1,Ｒ2; それぞれＨまたは炭素数１〜３０のア
ルキル基またはアルケニル基で、エーテル基を含有して
いても良い。Ｒ1とＲ2の炭素数の合計は６〜３２であ
る。 Ｒ3; Ｈまたは炭素数１〜４のアルキル基。 Ｘ ; 炭素数１から１０の直鎖または分岐のアルキレン
基で、アルキレン鎖中にエーテル、エステル、アミド、
カルボニル、チオエーテル、スルホキシド、スルホン基
を含んでいてもよい。 Ｂ ; 炭素数２〜４のアルキレンオキシ基。 ｌ ; ０又は１ ｍ ; １〜２０ ｎ ; ０〜２０ Ｙ ; −(ＣＨ2)pＣＯＯＭ、−Ｐ(Ｏ)(ＯＭ)2、−(Ｃ
Ｈ2)qＳＯ3Ｍまたは、−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2ＳＯ3Ｍ ｐ ; １〜３ ｑ ; ２〜４ Ｍ ; Ｈ、アルカリまたはアルカリ土類金属、或いはア
ンモニウム、有機アンモニウム。） - 【請求項２】 請求項１記載の界面活性剤を含有するこ
とを特徴とする洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9158111A JPH10330784A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | 新規な界面活性剤及びこれを含有する洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9158111A JPH10330784A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | 新規な界面活性剤及びこれを含有する洗浄剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10330784A true JPH10330784A (ja) | 1998-12-15 |
Family
ID=15664551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9158111A Pending JPH10330784A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | 新規な界面活性剤及びこれを含有する洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10330784A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008144057A (ja) * | 2006-12-11 | 2008-06-26 | Sanyo Chem Ind Ltd | 洗浄剤組成物 |
| JP2008214263A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Kao Corp | 毛髪洗浄剤 |
| JP2011001277A (ja) * | 2009-06-17 | 2011-01-06 | Daicel Chemical Industries Ltd | 新規なポリグリセリン誘導体又はその塩、及びその製造方法 |
-
1997
- 1997-05-30 JP JP9158111A patent/JPH10330784A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008144057A (ja) * | 2006-12-11 | 2008-06-26 | Sanyo Chem Ind Ltd | 洗浄剤組成物 |
| JP2008214263A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Kao Corp | 毛髪洗浄剤 |
| JP2011001277A (ja) * | 2009-06-17 | 2011-01-06 | Daicel Chemical Industries Ltd | 新規なポリグリセリン誘導体又はその塩、及びその製造方法 |
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