JP2003196979A - 半導体メモリ素子の電圧発生装置 - Google Patents

半導体メモリ素子の電圧発生装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 駆動能力が高く、安定的なセルプレート電圧
を供給可能な半導体メモリ素子の電圧発生装置を提供す
ること。 【解決手段】 セルプレート電圧がセルプレート基準電
圧よりも高い場合に内部電源電圧の値を有し、前記セル
プレート電圧が前記セルプレート基準電圧よりも低い場
合に前記セルプレート電圧以下の値を有するプルアップ
信号、及びプルダウン動作を制御するためのプルダウン
信号を発生させる出力電圧制御手段と、前記プルアップ
信号及び前記プルダウン信号に応じて安定したセルプレ
ート電圧を発生させる出力駆動手段とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体メモリ素子
の電圧発生装置に関し、特に、セルプレート電圧発生装
置の出力駆動器の駆動能力を向上させて安定したセルプ
レート電圧を発生させる半導体メモリ素子の電圧発生装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、DRAMにおいてビットライン
をプリチャージするためのビットラインプリチャージ電
圧Vblpには、セルに供給される高電圧データ信号と
低電圧データ信号との中間の電圧値を用いる。該ビット
ラインプリチャージ電圧VblpはDRAMセルに供給
される電圧の1/2に設定される。かかる理由はイコラ
イザー動作で電力消費を最小化するためである。
【0003】セルプレート電圧VcpはDRAMセルの
キャパシターの基準端子に印加される電圧である。該セ
ルプレート電圧Vcpはビットラインプリチャージ電圧
Vblpと同様にVcc×1/2に設定される。該セル
プレート電圧Vcpは、DRAMセルに供給されるデー
タ信号の電圧に関係することなく、DRAMセルのキャ
パシターの両端にVcc×1/2の大きさの電圧として
加えられ、DRAMセルのキャパシターの信頼性を確保
するために用いられる。
【0004】図1はセルプレート電圧発生装置の一例を
示す回路図である。かかる回路はビットラインプリチャ
ージ電圧発生装置にも同様に適用される。図1に示すよ
うに、従来のセルプレート電圧発生装置は、電圧分圧器
10、バイアス電圧発生器20、ゲート電圧発生器3
0、出力電圧制御器40及び出力駆動器50を備えてい
る。電圧分圧器10は、電源電圧Vccと接地電圧Vs
sとの間に直列接続された抵抗R1及び抵抗R2によっ
て構成されて、電源電圧Vccが外部から印加される場
合に該電源電圧Vccを分圧してセルプレート基準電圧
Vcp_refを発生させる。バイアス電圧発生器20
は、ゲートにセルプレート基準電圧Vcp_refが入
力されるPMOSトランジスタP1と、カレントミラー
構造を有するPMOSトランジスタP2及びNMOSト
ランジスタN1、N2とからなり、接地電圧Vssに一
定の電流を流すためのn−バイアス電圧Nbiasと内
部電源電圧Vccから一定の電流を流すためのp−バイ
アス電圧Pbiasとを発生させる。
【0005】ゲート電圧発生器30は、カレントミラー
構造を有するPMOSトランジスタP3、P4及びNM
OSトランジスタN3、P4からなり、セルプレート基
準電圧Vcp_refよりもNMOSトランジスタN3
のしきい値電圧Vtだけ高いn−ゲート電圧Ngateとセ
ルプレート基準電圧Vcp_refよりもPMOSトラ
ンジスタP4のしきい値電圧Vtだけ低いp−ゲート電
圧Pgateを発生させる。出力電圧制御器40は、内
部電源電圧Vccと接地電圧Vssとの間に直列に接続
され、各々のゲートにp−バイアス電圧Pbias、n−ゲ
ート電圧Ngate、p−ゲート電圧Pgate及びn−バイア
ス電圧Nbiasが印加されるPMOSトランジスタP5、
P6及びNMOSトランジスタN5、N6から構成さ
れ、プルアップ信号PUとプルダウン信号PDとを発生
させる。出力駆動器50は、内部電源電圧Vccと接地
電圧Vssとの間に接続され、各々のゲートにプルアッ
プ信号PUとプルダウン信号PDとが印加されるPMO
SトランジスタP7及びNMOSトランジスタN7から
なり、セルプレート電圧Vcpを発生させる。
【0006】ここで、NMOSトランジスタN1、N
2、N4、N6は、n−バイアス電圧Nbiasが印加され
て接地電圧Vssに些かの誤差範囲で同じ大きさの電流
が流れるようにし、PMOSトランジスタP2、P3、
P5は、p−バイアス電圧Pbiasが印加されて内部電源
電圧Vccに些かの誤差範囲で同じ大きさの電流が流れ
るようにする。
【0007】また、平衡状態では、ゲート電圧発生器3
0のPMOSトランジスタP3、NMOSトランジスタ
N3に同じ大きさの電流が流れるようにn−ゲート電圧
Ngateが決められる。もし、セルプレート電圧Vcpが
セルプレート基準電圧Vcp_refよりも高い場合、
NMOSトランジスタN5に流れる電流が減少してプル
アップ信号PUの電圧は高くなる。従って、PMOSト
ランジスタP7がターンオフする。反対にセルプレート
電圧Vcpがセルプレート基準電圧Vcp_refより
も低い場合には、NMOSトランジスタN5に流れる電
流が増加してプルアップ信号PUの電圧が低くなり、P
MOSトランジスタP7がターンオンする。
【0008】かかる従来のセルプレート電圧発生装置に
おいて、出力端のセルプレート電圧VcpがVcc/2
付近の領域に設定されると、プルアップ信号PUの電圧
が内部電源電圧VccとVcc/2の電圧との間を変動
し、プルダウン信号PDの電圧がVcc/2と接地電圧
との間を変動する。
【0009】かかる状況で、内部電源電圧Vccが低く
なると、セルプレート電圧Vcpがしきい値電圧Vtに
比べて低くなる。従って、PMOSトランジスタP7が
十分にターンオンできない問題が発生する。かかる問題
は、NMOSトランジスタN7においても同様に生じ
る。但し、通常PMOSトランジスタのしきい値電圧が
NMOSトランジスタのしきい値電圧に比べて相対的に
高く、同一サイズにおける電流駆動能力はPMOSトラ
ンジスタの方が低いので、通常はプルアップ装置(devi
ce;デバイス)であるPMOSトランジスタP7におい
て、この問題が先ず発生する。
【0010】図2は図1に示した各電圧に関する計算結
果のグラフを示した図であり、図3は図1に示した出力
ノードにおけるセルプレート電圧Vcpの出力端子にお
ける電流波形を示した図であり、0.13μmデザイン
ルールで温度0℃における電源電圧が1.5Vの場合に
おけるセルプレート電圧Vcpの電流駆動能力に関する
シミュレーション結果を示した図である。図2、3にお
いて横軸は、セルプレート電圧Vcpである。
【0011】一般的にセルプレート電圧Vcpは、待機
状態で出力端の電圧変化がない場合、1.5Vの1/2
である0.75Vを保持するものと予想される。しかし
ながら、セルプレート電圧Vcpで消費する電流が+4
mA程度となる場合には、図3に示すように、セルプレ
ート電圧Vcpは約0.3Vまで減少するということが
わかる。結果的にプルアップ信号PUの電圧が内部電源
電圧VccとVcc/2の電位との間を変動し、プルダ
ウン信号PDの電圧がVcc/2と接地電圧との間を変
動する状況で内部電源電圧が低くなるとセルプレート電
圧Vcpも低くなる。しかしながら、トランジスタのし
きい値電圧Vtはセルプレート電圧Vcpに比例して低
くできず、セルプレート電圧Vcpがトランジスタのし
きい値電圧Vtよりも低い場合にはセルプレート電圧発
生器の出力駆動機を十分に駆動できなくなる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した従
来技術の問題点を解決するためのものであり、セルプレ
ート電圧発生装置の出力駆動器のゲート信号を電源電圧
と接地電圧との間で変動するように調整し、前記出力駆
動器の駆動能力を向上させることによって、安定的なセ
ルプレート電圧を確保することができる半導体メモリ素
子の電圧発生装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る半導体メモリ素子の電圧発生装置は、
セルプレート電圧がセルプレート基準電圧よりも高い場
合に内部電源電圧の値を有し、前記セルプレート電圧が
前記セルプレート基準電圧よりも低い場合に前記セルプ
レート電圧以下の値を有するプルアップ信号、及びプル
ダウン動作を制御するためのプルダウン信号を発生させ
る出力電圧制御手段と、前記プルアップ信号及び前記プ
ルダウン信号に応じて安定した前記セルプレート電圧を
発生させる出力駆動手段とを備えていることを特徴とす
る。
【0014】また、本発明に係る別の態様の半導体メモ
リ素子の電圧発生装置は、セルプレート電圧がセルプレ
ート基準電圧よりも高い場合に内部電源電圧の値を有
し、前記セルプレート電圧が前記セルプレート基準電圧
よりも低い場合に前記セルプレート電圧以下の値を有す
るプルアップ制御信号、及び前記セルプレート電圧が前
記セルプレート基準電圧よりも高い場合に前記セルプレ
ート電圧以上の値を有し、前記セルプレート電圧が前記
セルプレート基準電圧よりも低いと接地電圧の値を有す
るプルダウン制御信号を発生させる出力電圧制御手段
と、前記プルアップ制御信号及び前記プルダウン制御信
号に応じて安定した前記セルプレート電圧を発生させる
出力駆動手段とを備えていることを特徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照して本発
明を更に詳細に説明する。
【0016】先ず、図4は本発明の好ましい第1の実施
の形態に係るセルプレート電圧発生装置を示す回路図で
あって、本実施の形態に係るセルプレート電圧発生装置
は、電圧分圧器110、バイアス電圧発生器120、ゲ
ート電圧発生器130、プルアップ制御器140、プル
ダウン制御器150及び出力駆動器160を備えてい
る。ここで、電圧分圧器110は、内部電源電圧Vcc
と接地電圧Vssとの間に直列に接続された抵抗R3、
R4を備え、セルプレート基準電圧Vcp_refを発
生させる。
【0017】この時、内部電源電圧Vccが外部から印
加される場合には外部から印加された内部電源電圧Vc
cを分圧してセルプレート基準電圧Vcp_refを発
生させるが、内部電源電圧Vccを内部で生成する場合
には他の基準電圧発生装置を介してかかるセルプレート
基準電圧Vcp_refを発生させることもできる。バ
イアス電圧発生器120は、内部電源電圧Vccと接地
電圧Vssとの間に直列に接続されたPMOSトランジ
スタP11及びNMOSトランジスタN11と、内部電
源電圧Vccと接地電圧Vssとの間に直列に接続され
たPMOSトランジスタP12及びNMOSトランジス
タN12とを備えている。
【0018】ここで、PMOSトランジスタP11は、
ゲートにセルプレート基準電圧Vcp_refが印加さ
れ、ソースが内部電源電圧Vccに接続されている。N
MOSトランジスタN11は、ゲートが自身のドレイン
に接続され、ソースが接地電圧Vssに接続され、ドレ
インがPMOSトランジスタP11のドレインに接続さ
れている。PMOSトランジスタP12は、ゲートが自
身のドレインに接続され、ソースが内部電源電圧Vcc
に接続されている。NMOSトランジスタN12は、N
MOSトランジスタN11とカレントミラー構成で接続
されてゲートにn−バイアス電圧Nbiasが印加され、ド
レインがPMOSトランジスタP12のドレインに接続
され、ソースが接地電圧Vssに接続されている。
【0019】かかるバイアス電圧発生器120は、接地
電圧Vssに一定の電流を流すためのn−バイアス電圧
Nbiasと、内部電源電圧Vccから一定の電流を流すた
めのp−バイアス電圧Pbiasとを発生させる。
【0020】ゲート電圧発生器130は、内部電源電圧
Vccと接地電圧Vssとの間に直列に順次接続された
PMOSトランジスタP13、NMOSトランジスタN
13、PMOSトランジスタP14及びNMOSトラン
ジスタN14を備えている。ここでPMOSトランジス
タP13は、PMOSトランジスタP12とカレントミ
ラー構成で接続されてゲートにp−バイアス電圧Pbias
が印加され、ソースが内部電源電圧Vccに接続されて
いる。NMOSトランジスタN13は、ゲートが自身の
ドレインに接続され、ドレインがPMOSトランジスタ
P13のドレインに接続され、ソースがノードSN11
に接続されている。PMOSトランジスタP14は、ゲ
ートが自身のドレインに接続され、ソースがノードSN
11に接続されている。NMOSトランジスタN14
は、NMOSトランジスタN11及びN12とカレント
ミラー構成で接続されてゲートにn−バイアス電圧Nbi
asが印加され、ソースが接地電圧Vssに接続され、ド
レインがPMOSトランジスタP14のドレインに接続
されている。
【0021】かかるゲート電圧発生器130は、セルプ
レート基準電圧Vcp_refよりNMOSトランジス
タN13のしきい値電圧Vtだけ高いn−ゲート電圧N
gateと、セルプレート基準電圧Vcp_refよりもP
MOSトランジスタN14のしきい値電圧Vtだけ低い
p−ゲート電圧Pgateとを発生させる。プルアップ制御
器140は、内部電源電圧Vccと接地電圧Vssとの
間に直列に接続されたPMOSトランジスタP15及び
NMOSトランジスタN15、N16と、内部電源電圧
Vccと接地電圧Vssとの間に接続されたPMOSト
ランジスタP16及びNMOSトランジスタN17、N
18とを備えている。ここでPMOSトランジスタP1
5は、PMOSトランジスタP12、P13とカレント
ミラー構成で接続されて、ゲートにp−バイアス電圧P
biasが印加され、ソースが内部電源電圧Vccに接続さ
れ、ドレインがノードSN12に接続されている。
【0022】NMOSトランジスタN15は、ゲートに
セルプレート基準電圧Vcp_refが印加され、ドレ
インがノードSN12に接続され、ソースがノードSN
13に接続されている。NMOSトランジスタN16
は、NMOSトランジスタN11、N12、N14とカ
レントミラー構成で接続されて、ゲートにn−バイアス
電圧Nbiasが印加され、ドレインがノードSN13に接
続され、ソースが接地電圧Vssに接続されている。P
MOSトランジスタP16は、PMOSトランジスタP
12、P13、P15とカレントミラー構成で接続さ
れ、ゲートにp−バイアス電圧Pbiasが印加され、ソー
スが内部電源電圧Vccに接続されている。NMOSト
ランジスタN17は、ゲートにノードSN15の電圧が
印加され、ドレインがPMOSトランジスタP16のド
レインに接続され、ソースがノードSN14に接続され
ている。NMOSトランジスタN18は、NMOSトラ
ンジスタN11、N12、N14、N16とカレントミ
ラー構成で接続されて、ゲートにn−バイアス電圧Nbi
asが印加され、ドレインがノードSN14に接続され、
ソースが接地電圧Vssに接続されている。また、NM
OSトランジスタN15及びN17のソースは接続され
ている。
【0023】かかるプルアップ制御器140は、セルプ
レート電圧Vcpがセルプレート基準電圧Vcp_re
fよりも高い場合、内部電源電圧Vccの値を有するプ
ルアップ信号PUを出力し、セルプレート電圧Vcpが
セルプレート基準電圧Vcp_refよりも低い場合、
セルプレート電圧Vcp以下の値(殆ど接地電圧Vss
に近い電圧値)を有するプルアップ信号PUを出力す
る。上記のようにプルアップ信号PUを、内部電源電圧
Vccと接地電圧Vssとの間で変動させることによっ
て、セルプレート電圧発生装置の出力駆動器160の駆
動能力を大きく向上させることができる。
【0024】プルダウン制御器150は、内部電源電圧
Vccと出力ノードSN15との間に直列に接続された
PMOSトランジスタP17及びNMOSトランジスタ
N19と、ノードSN15と接地電圧Vssとの間に直
列に接続されたPMOSトランジスタP18及びNMO
SトランジスタN20とを備えている。ここでPMOS
トランジスタP17は、PMOSトランジスタP12、
P13、P15、P16とカレントミラー構成で接続さ
れて、ゲートにp−バイアス電圧Pbiasが印加され、ソ
ースが内部電源電圧Vccに接続されている。
【0025】NMOSトランジスタN19は、NMOS
トランジスタN13とカレントミラー構成で接続され
て、ゲートにn−ゲート電圧Ngateが印加され、ドレイ
ンがPMOSトランジスタP17のドレインに接続さ
れ、ソースがノードSN15に接続されている。PMO
SトランジスタP18は、PMOSトランジスタP14
とカレントミラー構成で接続されて、ゲートにp−ゲー
ト電圧Pgateが印加され、ソースがノードSN15に接
続され、ドレインがプルダウン制御器150の出力ノー
ドSN16に接続されている。NMOSトランジスタN
20は、NMOSトランジスタN11、N12、N1
4、N16、N18とカレントミラー構成で接続され
て、ゲートにn−バイアス電圧Nbiasが印加され、ドレ
インがノードSN16に接続され、ソースが接地電圧V
ssに接続されている。
【0026】かかるプルダウン制御器150は、出力駆
動器160のプルダウン動作を制御するためにプルダウ
ン信号PDを発生させる。出力駆動器160は、内部電
源電圧Vccと接地電圧Vssとの間に直列に接続され
たPMOSトランジスタP19及びNMOSトランジス
タN21を備えている。ここでPMOSトランジスタP
19は、ゲートにプルアップPUが印加され、ソースが
内部電源電圧Vccに接続され、ドレインが出力ノード
SN17に接続されている。NMOSトランジスタN2
1は、ゲートにプルダウン信号PDが印加され、ドレイ
ンが出力ノードSN17に接続され、ソースが接地電圧
Vssに接続されている。前記出力駆動器160は、P
MOSトランジスタP19及びNMOSトランジスタN
21のゲートに、それぞれプルアップ信号PU及びプル
ダウン信号PDが印加されて安定したセルプレート電圧
Vcpを発生させる。
【0027】以下、本発明の好ましい第1の実施の形態
に係るセルプレート電圧発生装置の動作をより詳しく説
明する。
【0028】まず、セルプレート電圧Vcpがセルプレ
ート基準電圧Vcp_refよりも高い場合には、ノー
ドSN14の電圧はノードSN13の電圧よりも高く
(NMOSトランジスタN17を介して多くの電流が流
れ込む)、セルプレート電圧Vcpがセルプレート基準
電圧Vcp_refよりも低い場合には、ノードSN1
4の電圧はノードSN13の電圧よりも低い(NMOS
トランジスタN17を介して少ない電流が流れ込む)。
【0029】かかるNMOSトランジスタN15、N1
7を介して流れる電流は、これらのゲート電圧とノード
SN13及びノードSN14の電圧との間で近似的にI
ds=gm・(Vgs−Vt)の関係を有する。ここで
Idsはトランジスタに流れる電流、gmは比例定数、
Vgsはゲートとソース間の電位差(即ち、NMOSト
ランジスタN15の場合にはセルプレート基準電圧Vc
p_refラインとノードSN13との間の電位差、又
はNMOSトランジスタN17の場合にはセルプレート
電圧VcpラインとノードSN14との間の電位差)、
Vtはトランジスタのしきい値電圧を意味する。
【0030】上記したIds=gm・(Vgs−Vt)
によって、セルプレート電圧Vcpがセルプレート基準
電圧Vcp_refよりも高い場合には、ノードSN1
4の電圧がノードSN13の電圧よりも高くなり、NM
OSトランジスタN15がターンオフして、プルアップ
信号PUが内部電源電圧Vccになり、PMOSトラン
ジスタP19はターンオフする。セルプレート電圧Vc
pがセルプレート基準電圧Vcp_refよりも低い場
合には、ノードSN14の電圧がノードSN13の電圧
よりも低くなる。従って、NMOSトランジスタN15
には、セルプレート電圧Vcpがセルプレート基準電圧
Vcp_refと同じ場合に比べて更に多くの電流が流
れることになる。ここで、セルプレート基準電圧Vcp
_refは近似的にセルプレート電圧Vcpよりも低い
電圧を保持する。この場合、プルアップ信号PUはセル
プレート電圧Vcp以下の電圧(接地電圧Vssに近い
電圧)を保持するのでPMOSトランジスタN19はタ
ーンオンする。
【0031】従って、本発明の第1の実施の形態によれ
ば、プルアップ信号PUがセルプレート電圧Vcpによ
ってPMOSトランジスタP19をターンオンさせる従
来のものに比べて、セルプレート電圧Vcp以下の電圧
(殆どVssで電圧に近い電圧)によってPMOSトラ
ンジスタP19を十分にターンオンさせることができ、
従来のものに比べて更に高い駆動能力が得られる。図5
は図4に示した各電圧に関する計算結果のグラフを示し
た図であり、図6は図4に示したセルプレート電圧Vc
pの出力ノードSN17における電流波形のグラフを示
した図である。図5、6において横軸は、セルプレート
電圧Vcpである。図6を見れば、セルプレート電圧V
cpが消費する電流が4mA程度に大きくなった場合に
もセルプレート電圧Vcpが0.7V以下に減少してい
ないことが分かる。
【0032】図7は本発明の好ましい第2の実施の形態
に係るセルプレート電圧発生装置を示す回路図であり、
本実施の形態に係るセルプレート電圧発生装置は電圧分
圧器210、バイアス電圧発生器220、ゲート電圧発
生器230、第1出力電圧制御器240、第2出力電圧
制御器250及び出力駆動器260を備えている。ここ
で、電圧分圧器210、バイアス電圧発生器220及び
ゲート電圧発生器230の構成及び動作は、図4に基づ
いて説明した第1の実施の形態に係るセルプレート電圧
発生装置の電圧分圧器110、バイアス電圧発生器12
0及びゲート電圧発生器130と同様であるのでここで
の詳細な説明は省略する。
【0033】第1出力電圧制御器240は、内部電源電
圧Vcc、p−バイアス電圧Pbias及びn−ゲート電圧
Ngateが入力されてプルアップ制御信号AA1を発生さ
せる制御器241と、接地電圧Vss、n−バイアス電圧
Nbias及びp−ゲート電圧Pgateが入力されてプルダウ
ン制御信号BB1を発生させる制御器242とを備えて
いる。制御器241において、PMOSトランジスタP
25はPMOSトランジスタP22、P23とカレント
ミラー構成で接続されて、ゲートにp−バイアス電圧P
biasが印加されて、ソースが内部電源電圧Vccに接続
され、ドレインが出力ノードSN23に接続されてい
る。
【0034】かかる制御器241は、セルプレート電圧
Vcpがセルプレート基準電圧Vcp_refよりも高
い場合には内部電源電圧Vccの値を有するプルアップ
制御信号AA1を出力し、セルプレート電圧Vcpがセ
ルプレート基準電圧Vcp_refよりも低い場合には
セルプレート電圧Vcp以下の値を有するプルアップ制
御信号AA1を出力する。制御器242は、セルプレー
ト電圧Vcpがセルプレート基準電圧Vcp_refよ
りも高い場合にはセルプレート電圧Vcp以上(即ち、
内部電源電圧Vcc)の値を有するプルダウン制御信号
BB1を出力し、セルプレート電圧Vcpがセルプレー
ト基準電圧Vcp_refよりも低い場合にはセルプレ
ート電圧Vcp以下の電圧(即ち、接地電圧Vss)の
プルダウン制御信号BB1を出力する。
【0035】出力電圧制御器250は、内部電源電圧V
cc、接地電圧Vss、プルアップ制御信号AA1及び
n−バイアス電圧Nbiasが入力されてプルアップ信号P
Uを発生する制御器251と、内部電源電圧Vcc、接
地電圧Vss、プルダウン制御信号BB1及びp−バイ
アス電圧Pbiasが入力されてプルダウン信号PDを発生
する制御器252とを備えている。
【0036】制御器251において、PMOSトランジ
スタP27はゲートにプルアップ制御信号AA1が印加
され、ソースが内部電源電圧Vccに接続され、ドレイ
ンが出力ノードSN24に接続されている。NMOSト
ランジスタN28は、NMOSトランジスタN22、N
23、N25、N27とカレントミラー構成で接続され
て、ゲートにn−バイアス電圧Nbiasが印加され、ソー
スが接地電圧Vssに接続され、ドレインが出力ノーS
N24に接続されている。インバータIV1は、制御器
251の出力信号AAを反転させてプルアップ信号PU
を出力する。制御器252において、PMOSトランジ
スタP28は、PMOSトランジスタP22、P23と
カレントミラー構成で接続されて、ゲートにp−バイア
ス電圧Pbiasが印加され、ソースが内部電源電圧Vcc
に接続され、ドレインが出力ノードSN25に接続され
ている。NMOSトランジスタN29は、ゲートに出力
ノードSN23のプルダウン制御信号BB1が印加さ
れ、ソースが接地電圧Vssに接続され、ドレインが出
力ノードSN25に接続されている。インバータIV2
は、制御器252の出力信号BBを反転させてプルダウ
ン信号PDを出力する。
【0037】かかる制御器251において、制御器24
1から出力されたプルアップ制御信号AA1がp−バイ
アス電圧Pbiasと同じ電圧の場合にはPMOSトランジ
スタP27、P28に同じ大きさの電流が流れ、制御器
241から出力されたプルアップ制御信号AA1がp−
バイアス電圧Pbiasよりも高い場合にはPMOSトラン
ジスタP27の電流駆動能力が低下して、出力信号AA
は接地電圧Vssに近い電圧になる。制御器241から
出力されたプルアップ制御信号AA1がp−バイアス電
圧Pbiasよりも低い場合にはPMOSトランジスタP2
7の電流駆動能力が向上して、出力信号AAは内部電源
電圧Vccに近い電圧になる。
【0038】要約すると、制御器251から出力された
出力信号AAは、セルプレート電圧Vcpがセルプレー
ト基準電圧Vcp_refよりも低い場合には内部電源
電圧Vccのレベルになり、インバータIV1を経た後
に接地電圧Vssのレベルになる。これによって出力駆
動器260のプルアップ装置であるPMOSトランジス
タP29は十分にターンオンする。
【0039】以下、本発明の好ましい第2の実施の形態
に係るセルプレート電圧発生装置の動作を説明する。ま
ず、PMOSトランジスタP23、P25は、同じp−
バイアス電圧Pbiasがゲートに印加されるカレントミラ
ー構成で接続されていることによって近似的に同じ大き
さの電流が流れる。NMOSトランジスタN24、N2
6も同じn−ゲート電圧Ngateがゲートに印加されるカ
レントミラー構成で接続されていることによって近似的
に同じ大きさの電流が流れる。即ち、Ids=gm・
(Vgs−Vt)の関係が成立する。ここで、Idsは
トランジスタに流れる電流、gmは比例定数、Vgsは
ゲートとソースとの間の電位差、Vtはトランジスタの
しきい値電圧である。
【0040】上記した式Ids=gm・(Vgs−V
t)によって、NMOSトランジスタN24に流れる電
流は、n−ゲート電圧Ngateとセルプレート基準電圧V
cp_refとの差(Ngate−Vcp_ref)に比例
し、NMOSトランジスタN26に流れる電流は、n−
ゲート電圧Ngateとセルプレート電圧Vcpとの差(N
gate−Vcp)に比例する。このとき、プルアップ制御
信号AA1の電圧は、n−ゲート電圧Ngateがほぼしき
い値電圧Vtを保持するために、セルプレート電圧Vc
pの電圧変化に対して敏感に動作する。
【0041】例えば、セルプレート電圧Vcpがセルプ
レート基準電圧Vcp_refよりも高い場合にはNM
OSトランジスタN26はターンオフし、プルアップ制
御信号AA1の電圧は内部電源電圧Vccと等しくな
る。反対にセルプレート電圧Vcpがセルプレート基準
電圧Vcp_refよりも低い場合にはNMOSトラン
ジスタN26が十分にターンオンし、プルアップ制御信
号AA1の電圧はセルプレート電圧Vcpと等しくな
る。
【0042】次に、制御器251の出力信号AAの電圧
はPMOSトランジスタP27及びNMOSトランジス
タN28の駆動能力によって決まり、PMOSトランジ
スタP27の駆動能力はプルアップ制御信号AA1の電
圧によって決まる。即ち、セルプレート電圧Vcpがセ
ルプレート基準電圧Vcp_refよりも高い場合、N
MOSトランジスタN26がターンオフし、プルアップ
制御信号AA1の電圧は内部電源電圧Vccと等しくな
る。又、PMOSトランジスタP27がターンオフし、
NMOSトランジスタN28がターンオンして、制御器
251の出力AAの電圧は低電圧となる。プルアップ信
号PUの電圧は内部電源電圧Vccと等しくなり、PM
OSトランジスタP29はターンオフする。
【0043】反対にセルプレート電圧Vcpがセルプレ
ート基準電圧Vcp_refよりも低い場合には、NM
OSトランジスタN26が十分にターンオンし、プルア
ップ制御信号AA1の電圧はセルプレート電圧Vcpと
等しくなる。また、PMOSトランジスタP27がター
ンオンし、NMOSトランジスタN28のゲート電圧で
あるn−バイアス電圧Nbiasは一定に保持される。従っ
て、NMOSトランジスタN28がターンオンして、一
定の少量の電流が流れ、制御器251の出力信号AAの
電圧は高電圧となる。よって、プルアップ信号PUは接
地電圧Vssとなり、PMOSトランジスタP29は十
分にターンオンする。
【0044】次に、NMOSトランジスタN25、N2
7は、同じn−バイアス電圧Nbiasがゲートに印加され
るカレントミラー構成で接続されていることによって、
近似的に同じ大きさの電流が流れる。PMOSトランジ
スタP24、P26は同じp−バイアス電圧Pbiasがゲ
ートに印加されるカレントミラー構成で接続されている
ことによって、近似的に同じ大きさの電流が流れる。即
ち、Ids=gm・(Vgs−Vt)の関係が成立す
る。ここで、Idsはトランジスタに流れる電流、gm
は比例定数、Vgsはゲートとソースとの間の電位差、
Vtはトランジスタのしきい値電圧である。
【0045】更に詳細に説明すると、PMOSトランジ
スタP24に流れる電流はセルプレート基準電圧Vcp
_refとp−ゲート電圧との差(Vcp_ref−P
gate)に比例し、PMOSトランジスタP26に流れる
電流はセルプレート電圧VcppとP−ゲート電圧との
差(Vcp−Pgate)に比例する。このときプルダウン
制御信号BB1は、p−ゲート電圧Pgateが殆どしきい
値電圧Vtの値を保持することからセルプレート電圧V
cpの電圧変化に対して敏感に動作する。
【0046】例えば、セルプレート電圧Vcpがセルプ
レート基準電圧Vcp_refよりも高い場合には、P
MOSトランジスタP26は十分にターンオンして、プ
ルダウン制御信号BB1の電圧はセルプレート電圧Vc
pの値と等しくなる。セルプレート電圧Vcpがセルプ
レート基準電圧Vcp_refよりも低い場合には、P
MOSトランジスタP26はターンオフして、プルダウ
ン制御信号BB1の電圧は接地電圧Vssの値と等しく
なる。
【0047】次に制御器252の出力信号BBの電圧は
PMOSトランジスタP28及びNMOSトランジスタ
N29の駆動能力によって決められる。PMOSトラン
ジスタP28のゲート電圧であるp−バイアス電圧Pbi
asは一定に保持され、NMOSトランジスタN29では
一定の少量の電流が流れる。NMOSトランジスタN2
9の駆動能力はプルダウン制御信号BB1の電圧によっ
て決められる。
【0048】即ち、セルプレート電圧Vcpがセルプレ
ート基準電圧Vcp_refよりも高い場合には、PM
OSトランジスタP26が十分にターンオンして、プル
ダウン制御信号BB1の電圧はセルプレート電圧Vcp
の値と等しくなる。これによってPMOSトランジスタ
P28はターンオンして微少電流が流れ、NMOSトラ
ンジスタN29は十分にターンオンして、制御器252
の出力信号BBの電圧は低電圧となる。その結果、プル
ダウンPDの電圧は内部電源電圧Vccと等しくなり、
NMOSトランジスタN30は十分にターンオンする。
【0049】反対にセルプレート電圧Vcpがセルプレ
ート基準電圧Vcp_refよりも低い場合には、PM
OSトランジスタP26は十分にターンオフして、プル
ダウン制御信号BB1の電圧は接地電圧Vssの値と等
しくなる。これによってPMOSトランジスタP28は
ターンオンして微少電流が流れ、NMOSトランジスタ
N29は十分にターンオフして、制御器252の出力信
号BBの電圧は高電圧となる。プルダウンPDの電圧は
接地電圧Vccと等しくなり、NMOSトランジスタN
30はターンオフする。
【0050】図8は図7に示した各電圧に関する計算結
果を示すグラフであり、図9は図7に示したセルプレー
ト電圧Vcpの出力ノードSN26における電流波形を
示すグラフである。図8、9において、横軸はセルプレ
ート電圧Vcpである。図9を見れば、プルアップ及び
プルダウン装置が十分にターンオンして0.05Vの電
圧差においても±12mA以上の電圧駆動能力が確保で
き、即ち、セルプレート電圧Vcpが殆ど低下せずに+
12mA以上の電流を流すことができ、出力ノードSN
26から安定的なセルプレート電圧Vcpを出力可能で
あることが分かる。
【0051】図10は本発明の第3の実施の形態に係る
セルプレート電圧発生装置を示す回路図であって、本実
施の形態に係るセルプレート電圧発生装置は、電圧分圧
器310、バイアス電圧発生器320、ゲート電圧発生
器330、第1出力電圧制御器340、第2出力電圧制
御器350及び出力駆動器360を備えている。ここ
で、第1出力電圧制御器340、第2出力電圧制御器3
50及び出力駆動器360の構成及びその機能は、上記
の第2の実施の形態に係るセルプレート電圧発生装置に
おける第1出力電圧制御器240、第2出力電圧制御器
250及び出力駆動器260と同様であるのでここでの
詳細な説明は省略する。
【0052】前記電圧分圧器310は内部電源電圧Vc
cと接地電圧Vssとの間に直列に接続された抵抗R
7、R8、R9を備えており、第1及び第2セルプレー
ト基準電圧Vcp_ref1、Vcp_ref2を発生
させる。ここで、第1セルプレート基準電圧Vcp_r
ef1はプルダウン装置であるNMOSトランジスタN
39を駆動するのに用いられ、第2セルプレート基準電
圧Vcp_ref2はプルアップ装置であるPMOSト
ランジスタP39の駆動に用いられる。
【0053】バイアス電圧発生器320は、内部電源電
圧Vccと接地電圧Vssとの間に直列に接続されたP
MOSトランジスタP31及びNMOSトランジスタN
31と、内部電源電圧Vccと接地電圧Vssとの間に
直列に接続されたPMOSトランジスタP32及びNM
OSトランジスタN32とを備えている。ここで、PM
OSトランジスタP31は、ゲートにセルプレート基準
電圧Vcp_ref1が印加され、ソースが内部電源電
圧Vccに接続されている。NMOSトランジスタN3
1は、ゲートが自身のドレインに接続され、ソースが接
地電圧Vssに接続され、ドレインがPMOSトランジ
スタP31のドレインに接続されている。PMOSトラ
ンジスタP32は、ソースが内部電源電圧Vccに接続
され、ゲートが自身のドレインに接続されている。NM
OSトランジスタN32は、NMOSトランジスタN3
1とカレントミラー構成で接続されて、ゲートにn−バ
イアス電圧Nbiasが印加され、ドレインがPMOSトラ
ンジスタP32のドレインに接続され、ソースが接地電
圧Vssに接続されている。
【0054】かかるバイアス電圧発生器320は、接地
電圧Vssに一定の電流が流れるように、n−バイアス
電圧Nbiasと内部電源電圧Vccとから一定の電流を流
すためのp−バイアスPbiasを発生させる。
【0055】次に、ゲート電圧発生器330は、内部電
源電圧Vccとノード32との間に直列に接続されたP
MOSトランジスタP33及びNMOSトランジスタN
33と、ノードSN31と接地電圧Vssとの間に直列
に接続されたPMOSトランジスタP34及びNMOS
トランジスタN34とを備えている。
【0056】ここで、PMOSトランジスタP33は、
PMOSトランジスタP32とカレントミラー構成で接
続されて、ゲートにp−バイアス電圧Pbiasが印加さ
れ、ソースが内部電源電圧Vccに接続されている。N
MOSトランジスタN33は、ゲートが自身のドレイン
に接続され、ドレインがPMOSトランジスタP33の
ドレインに接続され、ソースがノードSN31に接続さ
れている。PMOSトランジスタP34は、ゲートが自
身のドレインに接続され、ソースがノードSN32に接
続されている。NMOSトランジスタN34は、NMO
SトランジスタN31及びN32とカレントミラー構成
で接続されて、ゲートにn−バイアス電圧Nbiasが印加
されて、ソースが接地電圧Vssに接続され、ドレイン
がPMOSトランジスタP14のドレインに接続されて
いる。
【0057】以下、本発明の好ましい第3の実施の形態
に係るセルプレート電圧発生装置の動作をより詳細に説
明する。図10に示すようにセルプレート電圧発生装置
は、電流が過剰に消費されることを防止するために、セ
ルプレート電圧発生装置が動作しない領域ではプルダウ
ン装置であるNMOSトランジスタN39とプルアップ
装置であるPMOSトランジスタP39とが動作しない
ようにする。
【0058】従って、セルプレート電圧Vcpの電圧領
域は、内部電源電圧Vccから第1セルプレート基準電
圧Vcp_ref1までの第1領域(即ち、セルプレー
ト電圧Vcpがセルプレート基準電圧Vcp_ref1
以上の領域)、第1セルプレート基準電圧Vcp_re
f1からそれよりも低い第2セルプレート基準電圧Vc
p_ref2までの第2領域(即ち、セルプレート電圧
Vcpが第2セルプレート基準電圧Vcp_ref2以
上第1セルプレート基準電圧Vcp_ref1未満の領
域)及びセルプレート電圧Vcpがセルプレート基準電
圧Vcp_ref2未満の第3領域に分けられる。
【0059】第1領域ではプルアップ装置のPMOSト
ランジスタP39がターンオフし、プルダウン装置のN
MOSトランジスタN39がターンオンする。第2領域
ではプルアップ装置のPMOSトランジスタN39がタ
ーンオフし、プルダウン装置のNMOSトランジスタN
39がターンオフする。第3領域ではプルアップ装置の
PMOSトランジスタP39がターンオンし、プルダウ
ン装置のNMOSトランジスタN39がターンオフす
る。
【0060】即ち、セルプレート電圧Vcpが第2セル
プレート基準電圧Vcp_ref2よりも高い場合には
プルアップ装置のPMOSトランジスタP39がターン
オフし、セルプレート電圧Vcpが第2セルプレート基
準電圧Vcp_ref2よりも低い場合にはプルアップ
装置のPMOSトランジスタP39がターンオンする。
【0061】なお、セルプレート電圧Vcpが第1セル
プレート基準電圧Vcp_ref1よりも高い場合には
プルダウン装置のNMOSトランジスタN39がターン
オンし、セルプレート電圧Vcpが第1セルプレート基
準電圧Vcp_ref1よりも低い場合にはプルダウン
装置のNMOSトランジスタN39がターンオフする。
【0062】従って、セルプレート電圧発生装置が動作
しない領域ではプルダウン装置のNMOSトランジスタ
N39とプルアップ装置のPMOSトランジスタP39
とが動作しないため、電流の過剰消費を防止できる。
【0063】図11は図10に示した各電圧に関する計
算結果を示すグラフであり、図12は図10に示したセ
ルプレート電圧Vcp(又はビットラインプリチャージ
電圧Vblp)の出力ノードSN40における電流波形
を示すグラフである。図11、12において、横軸はセ
ルプレート電圧Vcpである。図12を見れば、プルア
ップ及びプルダウン装置が十分にターンオンして0.0
5Vの電圧差においても±12mA以上の電流駆動能力
を確保でき、即ち、セルプレート電圧Vcpが殆ど低下
せずに+12mA以上の電流を流すことができると同時
に、動作しない領域における電流消費を減らすことがで
きることが分かる。
【0064】以上、本発明の好ましい各実施の形態につ
いて説明したが、本発明は上記した実施の形態に限定さ
れるものではなく、本発明の技術思想の範囲内において
種々の変形又は変更が可能である。
【0065】
【発明の効果】以上において説明したように、本発明に
よれば、出力駆動器のゲート信号を内部電源電圧と接地
電圧との間で変動するように調整できることから、電流
駆動能力を向上させることができる。これによって安定
したセルプレート電圧又はビットラインプリチャージ電
圧を提供できる。
【0066】また、従来と同じ回路面積で電流駆動能力
を向上させることができる利点をも有する。また、内部
電源電圧が低い場合にも安定的な動作確保が可能であ
り、セルプレート電圧Vcp、ビットラインプリチャー
ジ電圧VblpなどのVcc/2の電圧を生成する装置
において電圧変化を最小化することが可能であり、ノイ
ズが少ない回路を製作する場合にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来のセルプレート電圧Vcp発生装置の回
路図である。
【図2】 図1に示した各電圧に関する計算結果を示す
グラフである。
【図3】 図1に示したセルプレート電圧Vcpの出力
ノードにおける電流波形を示すグラフである。
【図4】 本発明の好ましい第1の実施の形態に係るセ
ルプレート電圧Vcp発生装置の回路図である。
【図5】 図4に示した各電圧に関する計算結果を示す
グラフである。
【図6】 図4に示したセルプレート電圧Vcpの出力
ノードにおける電流波形を示すグラフである。
【図7】 本発明の好ましい第2の実施の形態に係るセ
ルプレート電圧Vcp発生装置の回路図である。
【図8】 図7に示した各電圧に関する計算結果を示す
グラフである。
【図9】 図7に示したセルプレート電圧Vcpの出力
ノードにおける電流波形を示すグラフである。
【図10】 本発明の好ましい第3の実施の形態に係る
セルプレート電圧Vcp発生装置の回路図である。
【図11】 図10に示した各電圧に関する計算結果を
示すグラフである。
【図12】 図10に示したセルプレート電圧Vcpの
出力ノードにおける電流波形を示すグラフである。
【符号の説明】
10、110、210、310 電圧分圧器 20、120、220、320 バイアス電圧発生器 30、130、230、330 ゲート電圧発生器 140 プルアップ制御器 150 プルダウン制御器 40、240、250、340、350 出力電圧制御
器 50、160、260、360 出力駆動器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5H420 NA12 NB02 NB13 NB25 NC02 NC23 5M024 AA91 BB29 BB40 CC12 FF04 FF05 FF07 FF30 HH09 PP03 PP09

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セルプレート電圧がセルプレート基準電
    圧よりも高い場合に内部電源電圧の値を有し、前記セル
    プレート電圧が前記セルプレート基準電圧よりも低い場
    合に前記セルプレート電圧以下の値を有するプルアップ
    信号、及びプルダウン動作を制御するためのプルダウン
    信号を発生させる出力電圧制御手段と、 前記プルアップ信号及び前記プルダウン信号に応じて安
    定した前記セルプレート電圧を発生させる出力駆動手段
    とを備えていることを特徴とする半導体メモリ素子の電
    圧発生装置。
  2. 【請求項2】 前記出力電圧制御手段は、 前記内部電源電圧を分圧して前記セルプレート基準電圧
    を発生させる電圧分圧手段と、 前記セルプレート基準電圧が印加されてp−バイアス電
    圧及びn−バイアス電圧を発生させるバイアス電圧発生
    手段と、 前記セルプレート基準電圧、前記p−バイアス電圧及び
    前記n−バイアス電圧が与えられてp−ゲート電圧及び
    n−ゲート電圧を発生させるゲート電圧発生手段と、 前記セルプレート基準電圧、前記p−バイアス電圧、前
    記n−バイアス電圧及び前記セルプレート電圧が印加さ
    れて前記プルアップ信号を発生させるプルアップ制御手
    段と、 前記p−バイアス電圧、前記n−バイアス電圧、前記p
    −ゲート電圧、前記n−ゲート電圧及び前記セルプレー
    ト電圧が印加されて、前記プルダウン信号を発生させる
    プルダウン制御手段とを備えていることを特徴とする請
    求項1に記載の導体メモリ素子の電圧発生装置。
  3. 【請求項3】 前記バイアス電圧発生手段は、 前記内部電源電圧から一定の電流を流すための前記p−
    バイアス電圧、及び接地電圧に一定の電流を流すための
    前記n−バイアス電圧を発生させることを特徴とする請
    求項2に記載の半導体メモリ素子の電圧発生装置。
  4. 【請求項4】 前記ゲート電圧発生装置は、 前記セルプレート基準電圧よりもNMOSトランジスタ
    のしきい値電圧だけ高い前記n−ゲート電圧と、前記セ
    ルプレート基準電圧よりもPMOSトランジスタのしき
    い値電圧だけ低い前記p−ゲート電圧とを発生させるこ
    とを特徴とする請求項2に記載の半導体メモリ素子の電
    圧発生装置。
  5. 【請求項5】 前記プルアップ制御手段は、 ソース及びドレインが各々前記内部電源電圧及び出力ノ
    ードに接続され、ゲートに前記p−バイアス電圧が印加
    される第1トランジスタと、 前記出力ノードと接地電圧との間に直列に接続され各々
    のゲートに前記セルプレート基準電圧及び前記n−バイ
    アス電圧が印加される第2及び第3トランジスタと、 前記内部電源電圧と前記接地電圧との間に直列に接続さ
    れ各々のゲートに前記p−バイアス電圧、前記セルプレ
    ート電圧及び前記n−バイアス電圧が印加される第4、
    第5及び第6トランジスタとを備え、 前記第2及び第5トランジスタのソースが共に接続され
    ていることを特徴とする請求項2に記載の半導体メモリ
    素子の電圧発生装置。
  6. 【請求項6】 前記出力駆動手段は、 前記セルプレート電圧が前記セルプレート基準電圧より
    も高い場合には前記内部電源電圧の値を有する前記プル
    アップ信号が印加され、前記セルプレート電圧が前記セ
    ルプレート基準電圧よりも低い場合には前記セルプレー
    ト電圧以下の値を有する前記プルアップ信号が印加され
    ることを特徴とする請求項1に記載の半導体メモリ素子
    の電圧発生装置。
  7. 【請求項7】 前記出力駆動手段は、 前記内部電源電圧と出力端との間に接続され、ゲートに
    前記プルアップ信号が印加されるプルアップ装置と、前
    記出力端と接値電圧との間に接続され、ゲートに前記プ
    ルダウン信号が印加されるプルダウン装置とを備えてい
    ることを特徴とする請求項1に記載の半導体メモリ素子
    の電圧発生装置。
  8. 【請求項8】 セルプレート電圧がセルプレート基準電
    圧よりも高い場合に内部電源電圧の値を有し、前記セル
    プレート電圧が前記セルプレート基準電圧よりも低い場
    合に前記セルプレート電圧以下の値を有するプルアップ
    制御信号、及び前記セルプレート電圧が前記セルプレー
    ト基準電圧よりも高い場合に前記セルプレート電圧以上
    の値を有し、前記セルプレート電圧が前記セルプレート
    基準電圧よりも低い場合に接地電圧の値を有するプルダ
    ウン制御信号を発生させる出力電圧制御手段と、 前記プルアップ制御信号及び前記プルダウン制御信号に
    応じて安定した前記セルプレート電圧を発生させる出力
    駆動手段とを備えていることを特徴とする半導体メモリ
    素子の電圧発生装置。
  9. 【請求項9】 前記出力電圧制御手段は、 前記内部電源電圧を分圧して前記セルプレート基準電圧
    を発生させる電圧分圧手段と、 前記セルプレート基準電圧が印加されてp−バイアス電
    圧及びn−バイアス電圧を発生させるバイアス電圧発生
    手段と、 前記セルプレート基準電圧、前記p−バイアス電圧及び
    前記n−バイアス電圧が印加されてp−ゲート電圧及び
    n−ゲート電圧を発生させるゲート電圧発生手段と、 前記p−バイアス電圧、前記n−バイアス電圧、前記p
    −ゲート電圧、前記n−ゲート電圧及び前記セルプレー
    ト電圧が印加されて前記プルアップ制御信号及び前記プ
    ルダウン制御信号を発生させる第1出力電圧制御手段
    と、 前記p−バイアス電圧、前記n−バイアス電圧、前記プ
    ルアップ制御信号及び前記プルダウン制御信号が印加さ
    れてプルアップ信号とプルダウン信号を発生させる第2
    出力電圧制御手段とを備えていることを特徴とする請求
    項8に記載の半導体メモリ素子の電圧発生装置。
  10. 【請求項10】 前記電圧分圧手段は、 内部電源電圧を分圧して前記出力駆動手段のプルアップ
    動作のために用いられる第1セルプレート基準電圧及び
    前記出力駆動手段のプルダウン動作のために用いられる
    第2セルプレート基準電圧を発生させることを特徴とす
    る請求項9に記載の半導体メモリ素子の電圧発生装置。
  11. 【請求項11】 前記バイアス電圧発生手段は、 前記第1セルプレート基準電圧をゲートに印加されソー
    スが前記内部電源電圧に接続された第1トランジスタ
    と、 ソース及びドレインが前記第1トランジスタのドレイン
    及び前記接地電圧に各々接続されカレントミラー構造を
    有する第2トランジスタと、 前記内部電源電圧と前記接地電圧との間に直列に接続さ
    れカレントミラー構造を有する第3及び第4トランジス
    タとを備えていることを特徴とする請求項10に記載の
    半導体メモリ素子の電圧発生装置。
  12. 【請求項12】 前記ゲート電圧発生手段は、 前記内部電源電圧、前記第1セルプレート基準電圧及び
    前記p−バイアス電圧を用いて前記n−ゲート電圧を発
    生させるカレントミラー構造の第1及び第2トランジス
    タと、 前記第2セルプレート基準電圧、前記接地電圧及び前記
    n−バイアス電圧を用いて前記p−ゲート電圧を発生さ
    せるカレントミラー構造の第2及び第4トランジスタと
    を備えていることを特徴とする請求項10に記載の半導
    体メモリ素子の電圧発生装置。
  13. 【請求項13】 前記出力駆動手段は、 前記セルプレート電圧が前記第2セルプレート基準電圧
    よりも高い場合にはターンオフし、前記セルプレート電
    圧が前記第2セルプレート基準電圧よりも低い場合には
    ターンオンするプルアップ装置と、 前記セルプレート電圧が第1セルプレート基準電圧より
    も高い場合にはターンオンし、前記セルプレート電圧が
    第1セルプレート基準電圧よりも低い場合にはターンオ
    フするプルダウン装置とを備えていることを特徴とする
    請求項10に記載の半導体メモリ素子の電圧発生装置。
  14. 【請求項14】 前記バイアス電圧発生手段は、 前記内部電源電圧から一定の電流を流すための前記p−
    バイアス電圧と、前記接地電圧に一定の電流を流すため
    の前記n−バイアス電圧とを発生させることを特徴とす
    る請求項9に記載の半導体メモリ素子の電圧発生装置。
  15. 【請求項15】 前記ゲート電圧発生装置は、 前記セルプレート基準電圧よりもNMOSトランジスタ
    のしきい値電圧だけ高い前記n−ゲート電圧と、前記セ
    ルプレート基準電圧よりもPMOSトランジスタのしき
    い値電圧だけ低い前記p−ゲート電圧とを発生させるこ
    とを特徴とする請求項9に記載の半導体メモリ素子の電
    圧発生装置。
  16. 【請求項16】 前記第1出力電圧制御手段は、 前記セルプレート電圧が前記セルプレート基準電圧より
    も高い場合には前記内部電源電圧の値を有する前記プル
    アップ制御信号を出力し、前記セルプレート電圧が前記
    セルプレート基準電圧よりも低い場合には前記セルプレ
    ート電圧以下の値を有する前記プルアップ制御信号を出
    力する第1制御器と、 前記セルプレート電圧が前記セルプレート基準電圧より
    も高い場合には前記セルプレート電圧以上の値を有する
    前記プルダウン制御信号を出力し、前記セルプレート電
    圧が前記セルプレート基準電圧よりも低い場合には前記
    接地電圧の値を有する前記プルダウン制御信号を出力す
    る第2制御器とを備えていることを特徴とする請求項9
    に記載の半導体メモリ素子の電圧発生装置。
  17. 【請求項17】 前記第1制御器は、前記内部電源電
    圧、前記p−バイアス電圧、前記n−ゲート電圧及び前
    記セルプレート電圧を用いて前記プルアップ制御信号を
    発生させるPMOS及びNMOSトランジスタを備え、 前記第2制御器は、前記p−ゲート電圧、前記n−バイ
    アス電圧、前記セルプレート電圧及び前記接地電圧を用
    いて前記プルダウン制御信号を発生させるPMOS及び
    NMOSトランジスタを備えていることを特徴とする請
    求項16に記載の半導体メモリ素子の電圧発生装置。
  18. 【請求項18】 第2出力電圧制御手段は、 前記セルプレート電圧が前記セルプレート基準電圧より
    も高い場合には前記内部電源電圧の値を有する前記プル
    アップ信号を出力し、前記セルプレート電圧が前記セル
    プレート基準電圧よりも低い場合には前記接地電圧の値
    を有する前記プルアップ信号を出力する第1制御器と、 前記セルプレート電圧が前記セルプレート基準電圧より
    も高い場合には前記内部電源電圧の値を有する前記プル
    ダウン信号を出力し、前記セルプレート電圧が前記セル
    プレート基準電圧よりも低い場合には前記接地電圧の値
    を有する前記プルダウン信号を出力する第2制御器とを
    備えていることを特徴とする請求項9に記載の半導体メ
    モリ素子の電圧発生装置。
  19. 【請求項19】 前記第1制御器は、前記プルアップ制
    御信号、前記n−バイアス電圧、前記内部電源電圧及び
    前記接地電圧が印加されて第2プルアップ制御信号を発
    生させるPMOS及びNMOSトランジスタを備え、 前記第2制御器は前記p−バイアス電圧、前記プルダウ
    ン制御信号、前記内部電源電圧及び前記接地電圧が印加
    されて第2プルダウン制御信号を発生させるPMOS及
    びNMOSトランジスタを備えていることを特徴とする
    請求項18に記載の半導体メモリ素子の電圧発生装置。
  20. 【請求項20】 前記出力駆動手段は、 前記セルプレート電圧が前記セルプレート基準電圧より
    も低い場合には前記接地電圧の値を有する前記プルアッ
    プ信号によってターンオンするプルアップ装置と、 前記セルプレート電圧が前記セルプレート基準電圧より
    も高い場合には前記内部電源電圧を有する前記プルダウ
    ン信号によってターンオンするプルダウン装置とを備え
    ていることを特徴とする請求項8に記載の半導体メモリ
    素子の電圧発生装置。
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