KR920010749B1 - 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로 - Google Patents

반도체 집적소자의 내부전압 변환회로 Download PDF

Info

Publication number
KR920010749B1
KR920010749B1 KR1019890008067A KR890008067A KR920010749B1 KR 920010749 B1 KR920010749 B1 KR 920010749B1 KR 1019890008067 A KR1019890008067 A KR 1019890008067A KR 890008067 A KR890008067 A KR 890008067A KR 920010749 B1 KR920010749 B1 KR 920010749B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
output
circuit
power
buffer
charge pump
Prior art date
Application number
KR1019890008067A
Other languages
English (en)
Other versions
KR910001774A (ko
Inventor
민동선
Original Assignee
삼성전자 주식회사
김광호
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자 주식회사, 김광호 filed Critical 삼성전자 주식회사
Priority to KR1019890008067A priority Critical patent/KR920010749B1/ko
Priority to US07/484,107 priority patent/US5072134A/en
Priority to DE4006306A priority patent/DE4006306C2/de
Priority to JP2046021A priority patent/JP2902434B2/ja
Priority to NL9000482A priority patent/NL194900C/nl
Priority to GB9004426A priority patent/GB2232829B/en
Priority to FR9002539A priority patent/FR2648291B1/fr
Priority to IT02056590A priority patent/IT1248749B/it
Priority to CN90104365A priority patent/CN1030020C/zh
Publication of KR910001774A publication Critical patent/KR910001774A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR920010749B1 publication Critical patent/KR920010749B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/06Modifications for ensuring a fully conducting state
    • H03K17/063Modifications for ensuring a fully conducting state in field-effect transistor switches
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F1/00Automatic systems in which deviations of an electric quantity from one or more predetermined values are detected at the output of the system and fed back to a device within the system to restore the detected quantity to its predetermined value or values, i.e. retroactive systems
    • G05F1/10Regulating voltage or current
    • G05F1/46Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc
    • G05F1/462Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc as a function of the requirements of the load, e.g. delay, temperature, specific voltage/current characteristic
    • G05F1/465Internal voltage generators for integrated circuits, e.g. step down generators
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F1/00Automatic systems in which deviations of an electric quantity from one or more predetermined values are detected at the output of the system and fed back to a device within the system to restore the detected quantity to its predetermined value or values, i.e. retroactive systems
    • G05F1/10Regulating voltage or current
    • G05F1/46Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc
    • G05F1/56Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc using semiconductor devices in series with the load as final control devices
    • G05F1/59Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc using semiconductor devices in series with the load as final control devices including plural semiconductor devices as final control devices for a single load
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/145Applications of charge pumps; Boosted voltage circuits; Clamp circuits therefor
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/147Voltage reference generators, voltage or current regulators; Internally lowered supply levels; Compensation for voltage drops
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M3/00Conversion of dc power input into dc power output
    • H02M3/02Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac
    • H02M3/04Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters
    • H02M3/06Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using resistors or capacitors, e.g. potential divider
    • H02M3/07Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using resistors or capacitors, e.g. potential divider using capacitors charged and discharged alternately by semiconductor devices with control electrode, e.g. charge pumps
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M3/00Conversion of dc power input into dc power output
    • H02M3/02Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac
    • H02M3/04Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters
    • H02M3/06Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using resistors or capacitors, e.g. potential divider
    • H02M3/07Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using resistors or capacitors, e.g. potential divider using capacitors charged and discharged alternately by semiconductor devices with control electrode, e.g. charge pumps
    • H02M3/073Charge pumps of the Schenkel-type
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/30Modifications for providing a predetermined threshold before switching
    • H03K17/302Modifications for providing a predetermined threshold before switching in field-effect transistor switches
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • H03K17/6871Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K2217/00Indexing scheme related to electronic switching or gating, i.e. not by contact-making or -breaking covered by H03K17/00
    • H03K2217/0036Means reducing energy consumption

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Dc-Dc Converters (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Manipulation Of Pulses (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)
  • Emergency Protection Circuit Devices (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

반도체 집적소자의 내부전압 변환회로
제1도는 종래의 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로를 나타낸 블럭 다이어그램,
제2도는 이 발명에 따른 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로를 나타낸 블럭 다이어그램,
제3도는 이 발명에 따른 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로를 나타낸 실시회로도,
제4도는 이 발명에 따른 바이어스회로의 구체적인 실시회로도,
제5도는 이 발명에 따른 동작상태를 나타낸 타임챠트,
제6a, b도는 이 발명에 따른 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로를 나타낸 직류전압의 특성도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 발진기 2,2′ : 챠아지 펌프부
4,4′ : 파워부 5 : 검출부
7,7′ : 바이어스 회로 10 : 서브회로
20 : 메인회로 M1,M2,M3… : MOS 트랜지스터
A,B…F,G : 노우드 R1,R2,R3 : 저항
이 발명은 반도체 메모리 소자내에 내장되는 회로에 관한 것으로, 특히, 내부전압 변환회로를 다수개 내장시켜 초기 전원공급시와 같이 큰 전원전압을 공급하는 경우와, 대기전원만을 공급하는 경우에 따라 내부전압 변환회로를 나누어 동작시켜 대기전류의 증가 및 내부전원 전압의 불안정을 제거할 수 있게한 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로에 관한 것이다.
반도체 소자가 점차 고집적화 되어가면서 회로를 구성하기 위하여 내부에 내장되는 여러 종류의 트랜지스터의 사이즈는 미세화되고 있다.
트랜지스터가 이와 같이 미세화 됨에 따라 종래의 전원전압에 대한 트랜지스터의 신뢰성이 크게 저하되고, 집적회로자체의 전력소모도 증가하게 되는 단점이 생기는 것이었다.
따라서 이와 같은 점을 개선하기 위하여, 반도체 소자내에 제1도와 같은 내부전압 변환회로가 내장되도록 하였으나, 내부전압 변환회로 자체의 대기(Stand by)전력 소모가 상당히 크고 내부전압의 안정성이 크게 저하되는 원인이 되는 것이었다.
이 발명은 이와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 이 발명의 목적은 내부전압 변환회로를 병렬로 단 구성시킨 후, 내부전압 변환회로를 다수개 나누어 동작시킬 수 있도록 하여 대기전류 공급시에 불필요한 전력을 감소화시키는 동시에 내부전원 전압의 불안정을 개선시킬 수 있는 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로를 제공하고자 하는 것이다.
이 발명의 특징은 오실레이터에서 발생된 구형파를 공통입력으로 하며 상기 오실레이터의 구형파를 인가받아서 파형정형하여 출력하기 위한 버퍼, 이 버퍼의 출력을 인가받아서 독립파라메타 출력으로 발생하기 위한 챠아지 펌프부 및 이 챠아지 펌프부의 출력을 인가받아서 공급전압을 전압다운하여 출력하기 위한 파워부를 포함하는 서브회로와, 그리고 상기 오실레이터의 구형파를 낸드 게이트를 통하여 인가받아서 파형정형하여 출력하기 위한 버퍼, 이 버퍼의 출력을 인가받아서 독립파라메타 출력으로 발생하기 위한 챠아지 펌프부 및 이 챠아지 펌프부의 출력을 인가받아서 검출부의 검출된 전압레벨에 따라 공급전압을 전압다운하여 출력하기 위한 파워부를 포함하는 메인회로와로 구성되는 내부전압 변환기에 있어서; 상기 서브회로의 파워부와 상기 메인회로의 파워부는 정전원이 출력되도록 클램핑하는 바이어스회로들과 상기 바이어스회로들의 정전원을 인가받아서 공급전압(VOUT)이 출력되도록 하는 파워 트랜지스터들을 포함하여 구성되며 상기 검출기의 궤환루프를 통하여 검출된 전압레벨에 따라 교호로 동작되어 스탠바이 전원과 내부전원 공급전압을 각각 출력하는 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로에 있다.
이하, 첨부된 도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
제1도는 종래의 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로를 나타낸 블럭다이어그램도이다.
이와 같은 내부전압 변환회로는 하나의 반도체 칩상에 내장된다.
이 전압 변환회로는 인버터 또는 쉬미트 트리거로 구성되는 발진기(1)와, 상기 발진기(1)에서 발생된 신호를 전달시키는 버퍼(2)와, 버퍼(2)의 출력을 받아 파라미터 여진된 출력을 발생시키는 챠아지 펌프부(3)와, 상기 챠아지 펌프부(3)의 출력을 받아 전원전압(VOUT)을 출력시키는 파워부(4)로 구성된다.
이 전압 변환회로는 발진기(1)의 발진된 출력을 버퍼(2)를 통하여 챠아지 펌프부(3)에 인가시키고 챠아지 펌프부(3)에서 파라미터 여진된 출력을 파워부(4)의 파워 트랜지스터를 통하여 전원전압(VOUT)으로 공급하게 된다.
이와 같은 전압 변환회로(Internal Voltage Converter; 이하 IVC라 칭함)는 내부전압 및 반도체 칩 동작상태에 무관하게 항상 동작되기 때문에 대기전압만 필요로 하는 상태에서는 불필요한 전력 소모가 생기는 것이었다. 또한, 내부전압의 상태를 입력측으로 궤환(feed back)시키지 아니하기 때문에 반도체 칩의 액티브(active)동작시 내부전압의 안정성이 크게 저하되는 것이었다.
제2도는 이 발명에 따른 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로를 나타낸 블럭 다이어그램도로서 제1도의 단점을 개선시킨 히로를 나타내고 있다. 이 내부전압 변환회로는 2개의 서브회로(10)와 메인회로(20)로 나누어진다. 각각 서브회로(10)와 메인회로(20)는 발진기(1)에서 발생된 신호를 전달시키는 버퍼(2),(2′)와, 버퍼(2),(2′)의 출력을 받아 파라미터 여진된 출력을 발생시키는 챠아지 펌프부(3),(3′)와, 상기 챠아지 펌프부(3),(3′)의 출력을 받아 전원전압(VOUT)을 출력시키는 파워부(4),(4′)로 구성된다. 그리고 각각의 서브회로(10)와 메인회로(20)의 버퍼(2),(2′)에는 다수개의 인버터 또는 쉬미트 트리거로 구성된 발진기(1)가 연결되고, 상기 파워부(4),(4′)는 출력측 노우드(G)를 공통으로 연결하여 검출부(5)와 접속되게 한다. 상기 검출부(5)는 출력측의 전압에 따른 제어신호를 메인회로(10)의 버퍼(2′)에 입력되게 구성되어 있다. 상기 검출부(5)의 출력에 의하여 제어받은 메인회로(20)와 제어받지 아니하는 서브회로(10)의 버퍼(2),(2′)의 출력은 서로 180°의 위상차를 갖게 구성시켜 서브회로(10)와 메인회로(20)의 동작시 파워부(4),(4′)가 교호로 전원전압(VOUT)을 출력하도록 하고 있다. 여기서, 각각의 서브회로(10)와 메인회로(20)에는 발진기(1)가 공통적으로 사용되게 상기 버퍼(2),(2′)에 연결되어 있으나, 서브회로(10)와 메인회로(20)에 각각의 발진기를 독립적으로 사용하게 구성시킬 수도 있다. 또한, 상기 내부전압 변환회로는 2개의 서브회로(10)와 메인회로(20)로 구성되어 있으나, 여러개의 내부전압 변환회로를 병렬로 구성시킬 수도 있으며 이때에도 발진기(1)는 공통적으로 하나만을 사용할 수도 있고 내부전압 변환회로를 구성하는 수만큼 발진기(1)를 사용할 수도 있다. 여기서, 검출부(5)의 수도 병렬로 구성되는 수만큼 증가된다.
이와 같이 구성된 내부전압 변환회로는 발진기(1)에서 발진된 출력을 버퍼(2)를 챠아지 펌프부(3)에 인가시키고 챠아지 펌프부(3)에서 파라미터 여진된 출력을 파워부(4)를 통하여 전원전압(VOUT)으로 출력시킨다.
이와 같이 서브회로(10)에서 출력되는 전원은 대기전원으로서 공급된다. 이때에 검출부(5)에서는 출력측(A)의 전압을 감지하여 초기 전원공급시 및 후단에 연결된 부하에 구동전원이 필요한 경우 출력측의 전원전압이 급격히 강하되면 검출부(5)에서 이 상태를 감지하여 메인회로(10)를 동작시켜 구동에 필요한 전원을 공급하게 된다. 따라서, 이 발명에서는 대기상태에서 항상 전원전압을 공급하는 서브회로(10)에서 회로를 구성하는 소자들의 사이즈는 작게 구성시킬 필요가 있으며, 내부전압의 상태 및 칩의 동작상태에 따라 동작제어되는 메인회로(10)에서는 회로를 구성하는 각 소자들의 사이즈는 크게 구성시킬 필요가 있다.
제3도는 이 발명에 따른 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로를 나타낸 실시회로도이다. 여기서, 발진기(1)는 인버터(I1),(I2),(I3)소자로 구성된 것을 나타내고 있는 것으로, 이는 2개의 쉬미트 트리거로도 구성시킬 수 있다. 이 발진기(1)는 구형파의 펄스를 발생시키며 인버터(I1-I3)를 다단 연결시켜 파형을 정형시킨다.
버퍼(2)회로 역시 다단의 인버터(I6-I8)로 구성되며, 챠아지 펌프부(3),(3′)는 캐패시터를 구성한 MOS 트랜지스터(M4),(M1)와, MOS 트랜지스터(M5),(M6),(M2),(M3)와로 구성된다. 또한 파워부(4),(4′)는 정전원이 출력되게 전원제한하는 바이어스회로(7),(7′)와, 파워트랜지스터(M8),(M9)로 구성되며, 출력측의 전원전압(VOUT)을 버퍼(2′)에 궤환시키는 검출부(5)는 전압 분배용 저항(R1),(R2)과, 입력반전용 인버터(I9),(I10)와, 출력제한용 MOS 트랜지스터(M7)로 구성된다. 또한, 낸드게이트(ND4) 및 인버터(I5)로 구성되는 버퍼(3)의 낸드게이트(ND4)의 일측은 상기 검출부(5)의 인버터(I9),(I10)측 사이의 노우드(E)와 접속된다.
이와 같이 구성된 이 발명을 제5도 도면과 같이 상세히 설명하면 다음과 같다.
발진기(1)는 다단의 인버터 또는 쉬미트 트리거로 구성되어 노우드(A)측으로 소정의 주파수를 갖은 구형파를 출력시킨다. 상기 노우드(A)측의 출력은 다수개로 병렬연결된 버퍼(2),(2′)에 입력되어 챠아지 펌프(3),(3′)회로를 동작시킨다. 버퍼(2)를 통한 출력은 챠아지 펌프부(3)의 캐패시터용 MOS 트랜지스터(M4)에 인가되어 캐패시터에 인가되는 구형파에 의하여 여진되고, MOS 캐패시터(M5),(M6)는 상기 여진출력에 따라 출력되는 전원(VCC)을 파워부(4)에 입력시킨다.
상기 챠아지 펌프부(3′)의 동작은 챠아지 펌프부(3)와 동일하다. 따라서, 파워부(4),(4′)는 각기 바이어스회로(7),(7′)의 제어를 받으면서 파워공급용 MOS 트랜지스터(M8),(M9)를 구동시키며 각각의 파워용 MOS 트랜지스터(M8),(M9)의 소오스측이 연결되어 출력되는 내부전압용 전원전압(VOUT)을 반도체 칩에 공급하게 된다. 그리고 출력측 노우드(G)에는 검출부(5)가 연결되어 전원전압(VOUT)을 감지하는 것으로 이 전원전압을 저항(R1),(R2)으로 분배시켜 인버터(I9)에 공급된다. 따라서, 인버터(I9),(I10)는 반도체소자의 내부전압을 감지하여 노우드(E)쪽으로 버퍼(2′)의 게이트 통로를 제한한다. 즉, 반도체소자의 내부전압이 강하된 경우에는 인버터(I9)에서 H레벨의 신호가 출력되어 낸드게이트(ND4)의 일측에 인가되므로 낸드게이트(ND4)의 출력은 2개의 입력이 논리적으로 낸드되어 L레벨의 상태신호를 출력하고 인버터(I5)에 의하여 반전된 H레벨의 상태신호를 챠아지 펌프(3′)에 인가시켜 출력측 전원전압(VOUT)을 상승시킨다.
이와 반대로 반도체 내부의 전원전압이 상승된 경우에는 저항(R1),(R2)으로 분배된 상태신호가 H레벨 상태신호로서, 인버터(I9)에 의하여 L레벨 상태신호로 반전되어 노우드(E)측으로 인가되므로 버퍼(2′)의 낸드게이트 출력은 H레벨 상태가 되고, 인버터(I5)에 의하여 L레벨의 상태신호가 챠아지 펌프(3′)에 인가되므로 챠아지 펌프(3′)의 동작은 차단된다. 또한, 노우드(E)측 L레벨의 상태신호는 인버터(I10)에 의하여 H레벨이 되어 MOS 트랜지스터(M9)를 확실하게 차단할 수가 있다.
이와 같이 검출부(5)의 제어신호에 의하여 버퍼(2′)회로의 게이트를 제어하여 메인회로(20)의 동작을 온-오프 제어하게 된다. 따라서, 반도체 집적소자에서 대기전원만 필요로 하는 경우에는 보조회로(10)만을 동작시켜 집적소자 내부에 전원전압(VOUT)을 공급하고, 초기 전원공급시와 같이 큰 전원전압이 필요한 칩동작 상태에서는 메인회로(20)를 서브회로(10)와 구동시켜 전원전압(VOUT)을 공급하게 된다.
제4도는 이 발명에 따른 바이어스회로의 구체적인 실시회로도를 나타내고 있는 것을 챠아지 펌프부(3) 후단에 연결되는 파워부(4)를 나타내고 있다. 여기서 바이어스회로(7)는 다이오드용 MOS 트랜지스터(M14-M17)를 다단연결시키고 저항(R3)과 연결되게 한 후, 이 회로에 MOS 트랜지스터(M18)가 결선되게 한 것이다. 이 바이어스회로(7)는 다이오드용 MOS 트랜지스터(M14-M17)와 저항(R3)으로 분배된 전원이 MOS 트랜지스터(M18)을 턴온시키는 구조를 갖고 있어 파워용 MOS 트랜지스터(M8)의 게이트측에 설정된 일정전원 이상이 공급되는 것을 제한하는 역할을 한다. 따라서, 파워용 MOS 트랜지스터(M8)는 약 4VT(VT는 드레쉬홀드 전압)의 전압이 출력되도록 클램핑시키므로써 출력측에서는 항상 안정된 전원전압(VOUT)을 얻을 수가 있는 것으로, 이와 같은 바이어스회로(7),(7′)를 사용하여 내부전원 전압은 외부전원 전압에 무관하게 일정한 전압수준을 유지할 수가 있으며 이 특성도를 제6도에 나타내고 있다.
상기 동작관계를 제5도에서 살펴보면 (a)도와 같이 반도체 내부전압이 설정된 기판전압보다 낮아 내부전압 변환회로에서 큰 구동전원이 필요한 경우 검출부(5)의 H레벨의 출력이(노오드 E) 버퍼(2′)의 낸드게이트를 인에이블시켜 챠아지 펌프(3),(3′)를 동시에 구동시키고 MOS 트랜지스터(M7)는 차단상태가 된다. 이 경우 버퍼(2),(2′)의 출력은 노우드(B),(C)와 같이 위상이 180°차가 발생하게 되어, 파워부(4),(4′)의 파워 트랜지스터(M8),M9)들을 교호로 동작시키게 되므로 전원전압인 출력전압은 변동없이(floating) 더욱 빠른 시간내에 필요한 내부전압을 공급하게 된다. 그러나, (b)도와 같이 내부전압이 대기전원으로 공급되는 경우에는 검출부(5)의 노우드(E)의 출력이 L레벨 상태가 되어 버퍼(2′)의 낸드게이트(ND4)를 디스에이블시키고, MOS 트랜지스터를 동작시켜 파워부(4′)가 차단되게 함으로써 서브회로(10)만 구동되어 전력소모를 감소시키게 된다.
이상에서와 같이 이 발명은 내부전압 변환회로를 내장하는 반도체 소자에서 내부전압 변환회로를 병렬로 다수개 구성시켜, 대기전원만 필요로 하는 경우에는 하나의 서브회로에서 전원을 공급하게 하고, 병렬로 구성된 다수의 메인회로는 내부전압의 상태에 따라 구동되게 하여 반도체소자에 필요한 구동전원을 공급할 수가 있는 것으로, 대기전원 공급상태에서 불필요한 전력손실을 방지하고 내부전압의 안정성을 향상시킬 수가 있는 것이다. 특히, 초기 파워전원 공급시와 같이 큰 구동전원이 필요로 한 경우에도 내부에 모든 내부전원 변환회로가 동작하여 빠른 시간내에 일정한 내부전압 레벨을 유지시킬 수가 있는 것으로, 상기 검출부(5)의 출력노우드(E)와 반도체소자의 내부동작 클럭을 논리적으로 조합시켜 내부전압 변환회로의 콘트롤 클럭으로 사용하는 경우 더욱 향상된 효과를 기대할 수가 있는 것이다.

Claims (1)

  1. 오실레이터(1)에서 발생된 구형파를 공통입력으로 하며 상기 오실레이터(1)의 구형파를 인가받아서 파형정형하여 출력하기 위한 버퍼(2), 상기 버퍼(2)의 출력을 인가받아서 독립파라메타 출력으로 발생하기 위한 챠아지 펌프부(3) 및 상기 챠아지 펌프부(3)의 출력을 인가받아서 공급전압을 전압다운하여 출력하기 위한 파워부(4)를 포함하는 서브회로(10)와, 그리고 상기 오실레이터(1)의 구형파를 낸드게이트(ND4)를 통하여 인가 받아서 파형정형하여 출력하기 위한 버퍼(2′), 상기 버퍼(2′)의 출력을 인가받아서 독립파라메타 출력으로 발생하기 위한 챠아지 펌프부(3′) 및 상기 챠아지 펌프부(3′)의 출력을 인가받아서 검출부(5)의 검출된 전압레벨에 따라 공급전압을 전압다운하여 출력하기 위한 파워부(4′)를 포함하는 메인회로(20)와로 구성되는 내부전압 변환기에 있어서; 상기 서브회로(10)의 파워부(4)와 상기 메인회로(20)의 파워브(4′)는 정전원이 출력되도록 클램핑하는 바이어스회로들(7,7′)과 상기 바이어스회로들(7,7′)의 정전원을 인가받아서 공급전압(VOUT)이 출력되도록 하는 파워 트랜지스터들(M8,M9)을 포함하여 구성되며 상기 검출기(5)의 궤환루프를 통하여 검출된 전압레벨에 따라 교호로 동작되어 스탠바이 전원과 내부전원 공급전압을 각각 출력함을 특징으로 하는 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로.
KR1019890008067A 1989-06-10 1989-06-10 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로 KR920010749B1 (ko)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019890008067A KR920010749B1 (ko) 1989-06-10 1989-06-10 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로
US07/484,107 US5072134A (en) 1989-06-10 1990-02-22 Internal voltage converter in semiconductor integrated circuit
JP2046021A JP2902434B2 (ja) 1989-06-10 1990-02-28 半導体集積回路内の電圧変換回路
NL9000482A NL194900C (nl) 1989-06-10 1990-02-28 Interne spanningsconvertor van een geïntergreerde halfgeleiderschakeling.
DE4006306A DE4006306C2 (de) 1989-06-10 1990-02-28 Spannungswandler mit geringem Leistungsverbrauch
GB9004426A GB2232829B (en) 1989-06-10 1990-02-28 Semiconductor integrated circuit
FR9002539A FR2648291B1 (fr) 1989-06-10 1990-02-28 Convertisseur de tension interne dans un circuit integre a semi conducteur
IT02056590A IT1248749B (it) 1989-06-10 1990-06-07 Convertitore di tensione interna in un circuito integrato a semiconduttori
CN90104365A CN1030020C (zh) 1989-06-10 1990-06-09 半导体集成电路中的内电压变换器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019890008067A KR920010749B1 (ko) 1989-06-10 1989-06-10 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR910001774A KR910001774A (ko) 1991-01-31
KR920010749B1 true KR920010749B1 (ko) 1992-12-14

Family

ID=19287014

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019890008067A KR920010749B1 (ko) 1989-06-10 1989-06-10 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로

Country Status (9)

Country Link
US (1) US5072134A (ko)
JP (1) JP2902434B2 (ko)
KR (1) KR920010749B1 (ko)
CN (1) CN1030020C (ko)
DE (1) DE4006306C2 (ko)
FR (1) FR2648291B1 (ko)
GB (1) GB2232829B (ko)
IT (1) IT1248749B (ko)
NL (1) NL194900C (ko)

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2724919B2 (ja) * 1991-02-05 1998-03-09 三菱電機株式会社 基板バイアス発生装置
JPH04255989A (ja) * 1991-02-07 1992-09-10 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置および内部電圧発生方法
JP2945508B2 (ja) * 1991-06-20 1999-09-06 三菱電機株式会社 半導体装置
DE4130191C2 (de) * 1991-09-30 1993-10-21 Samsung Electronics Co Ltd Konstantspannungsgenerator für eine Halbleitereinrichtung mit kaskadierter Auflade- bzw. Entladeschaltung
IT1258242B (it) * 1991-11-07 1996-02-22 Samsung Electronics Co Ltd Dispositivo di memoria a semiconduttore includente circuiteria di pompaggio della tensione di alimentazione
KR940003301B1 (ko) * 1991-12-20 1994-04-20 주식회사 금성사 Ce버스 심볼 엔코딩 처리회로
KR950002015B1 (ko) * 1991-12-23 1995-03-08 삼성전자주식회사 하나의 오실레이터에 의해 동작되는 정전원 발생회로
US5490107A (en) * 1991-12-27 1996-02-06 Fujitsu Limited Nonvolatile semiconductor memory
US5313111A (en) * 1992-02-28 1994-05-17 Texas Instruments Incorporated Substrate slew circuit providing reduced electron injection
US5359244A (en) * 1992-07-31 1994-10-25 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Gate drive circuit for a MOS power transistor
JP2831914B2 (ja) * 1992-09-30 1998-12-02 株式会社東芝 半導体集積回路装置
FR2696598B1 (fr) * 1992-10-01 1994-11-04 Sgs Thomson Microelectronics Circuit élévateur de tension de type pompe de charge avec oscillateur bootstrapé.
US5337284A (en) * 1993-01-11 1994-08-09 United Memories, Inc. High voltage generator having a self-timed clock circuit and charge pump, and a method therefor
JP3162564B2 (ja) * 1993-08-17 2001-05-08 株式会社東芝 昇圧回路及び昇圧回路を備えた不揮発性半導体記憶装置
DE69327164T2 (de) * 1993-09-30 2000-05-31 St Microelectronics Srl Spannungserhöhungsschaltung zur Erzeugung von positiven und negativen erhöhten Spannungen
KR0124046B1 (ko) * 1993-11-18 1997-11-25 김광호 반도체메모리장치의 승압레벨 감지회로
US5461591A (en) * 1993-12-02 1995-10-24 Goldstar Electron Co., Ltd. Voltage generator for semiconductor memory device
JP3090833B2 (ja) * 1993-12-28 2000-09-25 株式会社東芝 半導体記憶装置
US5502671A (en) * 1994-08-31 1996-03-26 Texas Instruments Incorporated Apparatus and method for a semiconductor memory configuration-dependent output buffer supply circuit
US5491439A (en) * 1994-08-31 1996-02-13 International Business Machines Corporation Method and apparatus for reducing jitter in a phase locked loop circuit
US5525932A (en) * 1994-08-31 1996-06-11 International Business Machines Corporation Lock indicator for phase locked loop circuit
US5619161A (en) * 1994-08-31 1997-04-08 International Business Machines Corporation Diffrential charge pump with integrated common mode control
US5495207A (en) * 1994-08-31 1996-02-27 International Business Machines Corporation Differential current controlled oscillator with variable load
US5513225A (en) * 1994-08-31 1996-04-30 International Business Machines Corporation Resistorless phase locked loop circuit employing direct current injection
KR0137317B1 (ko) * 1994-12-29 1998-04-29 김광호 반도체 메모리소자의 활성싸이클에서 사용되는 승압회로
JP2738335B2 (ja) * 1995-04-20 1998-04-08 日本電気株式会社 昇圧回路
US5612644A (en) * 1995-08-31 1997-03-18 Cirrus Logic Inc. Circuits, systems and methods for controlling substrate bias in integrated circuits
JP2917914B2 (ja) * 1996-05-17 1999-07-12 日本電気株式会社 昇圧回路
GB2324423B (en) * 1997-04-16 1999-07-21 Lsi Logic Corp Charge pump
KR100319164B1 (ko) * 1997-12-31 2002-04-22 박종섭 다중레벨검출에의한다중구동장치및그방법
JP3566060B2 (ja) * 1998-01-29 2004-09-15 富士通株式会社 半導体装置
US6456152B1 (en) * 1999-05-17 2002-09-24 Hitachi, Ltd. Charge pump with improved reliability
US6278317B1 (en) 1999-10-29 2001-08-21 International Business Machines Corporation Charge pump system having multiple charging rates and corresponding method
US6275096B1 (en) * 1999-12-14 2001-08-14 International Business Machines Corporation Charge pump system having multiple independently activated charge pumps and corresponding method
DE10056293A1 (de) * 2000-11-14 2002-06-06 Infineon Technologies Ag Schaltungsanordnung zur Erzeugung einer steuerbaren Ausgangsspannung
US6388506B1 (en) * 2000-12-15 2002-05-14 Marvell International, Ltd. Regulator with leakage compensation
DE10101558C1 (de) * 2001-01-15 2002-08-08 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Steuern einer Versorgungsschaltung und integrierte Schaltung (z.B. DRAM-Speicherbaustein)
KR100406558B1 (ko) * 2001-12-21 2003-11-20 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 소자의 전압 발생장치
DE50305682D1 (de) * 2002-04-03 2006-12-28 Infineon Technologies Ag Spannungsregleranordnung
JP3539947B2 (ja) * 2002-06-20 2004-07-07 沖電気工業株式会社 パワー検出回路付リミティングアンプ
TWI293464B (en) * 2003-07-08 2008-02-11 Winbond Electronics Corp Two phase internal voltage generator
DE102004011458B4 (de) * 2004-03-09 2007-01-04 Infineon Technologies Ag Schaltungsanordnung zur Bereitstellung einer geregelten Betriebsspannung für einen Datenträger und Verfahren zur Ansteuerung eines NMOS-Längsregeltransistors
KR100605575B1 (ko) * 2004-06-30 2006-07-31 주식회사 하이닉스반도체 테스트 모드시 전하 펌프에서의 토글링 주기를 변경할 수있는 내부 전압 발생 회로 및 방법
KR100806127B1 (ko) * 2006-09-06 2008-02-22 삼성전자주식회사 피크 커런트를 감소시키는 파워 게이팅 회로 및 파워게이팅 방법
JP6090214B2 (ja) * 2014-03-19 2017-03-08 株式会社デンソー 電源回路

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54153565A (en) * 1978-05-24 1979-12-03 Nec Corp Semiconductor circuit using insulation gate type field effect transistor
US4460835A (en) * 1980-05-13 1984-07-17 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit device with low power consumption in a standby mode using an on-chip substrate bias generator
JPS57199335A (en) * 1981-06-02 1982-12-07 Toshiba Corp Generating circuit for substrate bias
US4439692A (en) * 1981-12-07 1984-03-27 Signetics Corporation Feedback-controlled substrate bias generator
JPS58105563A (ja) * 1981-12-17 1983-06-23 Mitsubishi Electric Corp 基板バイアス発生回路
US4733108A (en) * 1982-06-28 1988-03-22 Xerox Corporation On-chip bias generator
US4585954A (en) * 1983-07-08 1986-04-29 Texas Instruments Incorporated Substrate bias generator for dynamic RAM having variable pump current level
JPS60176121A (ja) * 1984-02-22 1985-09-10 Toshiba Corp 電圧降下回路
JPS6159688A (ja) * 1984-08-31 1986-03-27 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
JPS6199363A (ja) * 1984-10-19 1986-05-17 Mitsubishi Electric Corp 基板電位発生回路
JPS61163655A (ja) * 1985-01-14 1986-07-24 Toshiba Corp 相補型半導体集積回路
JPH0750552B2 (ja) * 1985-12-20 1995-05-31 三菱電機株式会社 内部電位発生回路
KR890005159B1 (ko) * 1987-04-30 1989-12-14 삼성전자 주식회사 백 바이어스 전압 발생기
US4794278A (en) * 1987-12-30 1988-12-27 Intel Corporation Stable substrate bias generator for MOS circuits
JPH0817033B2 (ja) * 1988-12-08 1996-02-21 三菱電機株式会社 基板バイアス電位発生回路

Also Published As

Publication number Publication date
DE4006306C2 (de) 1996-02-22
FR2648291A1 (fr) 1990-12-14
IT1248749B (it) 1995-01-27
GB2232829B (en) 1994-03-23
GB2232829A (en) 1990-12-19
US5072134B1 (ko) 1993-08-10
NL194900C (nl) 2003-06-04
IT9020565A0 (ko) 1990-06-07
NL9000482A (nl) 1991-01-02
CN1048122A (zh) 1990-12-26
GB9004426D0 (en) 1990-04-25
CN1030020C (zh) 1995-10-11
JP2902434B2 (ja) 1999-06-07
NL194900B (nl) 2003-02-03
FR2648291B1 (fr) 1993-03-26
KR910001774A (ko) 1991-01-31
US5072134A (en) 1991-12-10
JPH0329510A (ja) 1991-02-07
IT9020565A1 (it) 1991-12-07
DE4006306A1 (de) 1990-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR920010749B1 (ko) 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로
US5113088A (en) Substrate bias generating circuitry stable against source voltage changes
US5561385A (en) Internal voltage generator for semiconductor device
US6188590B1 (en) Regulator system for charge pump circuits
US7439798B2 (en) Regulator circuit
KR950002015B1 (ko) 하나의 오실레이터에 의해 동작되는 정전원 발생회로
TW486852B (en) Charge pump system having multiple charging rates and corresponding method
US5519360A (en) Ring oscillator enable circuit with immediate shutdown
US6836176B2 (en) Charge pump ripple reduction
US20050168263A1 (en) Semiconductor device and driving method of semiconductor device
US7492232B2 (en) Oscillator circuit, semiconductor device and semiconductor memory device provided with the oscillator circuit, and control method of the oscillator circuit
US6239650B1 (en) Low power substrate bias circuit
US20010038543A1 (en) Method and apparatus for a regulated power supply incluing a charge pump with sampled feedback
JPH0533480B2 (ko)
US6300839B1 (en) Frequency controlled system for positive voltage regulation
US5461591A (en) Voltage generator for semiconductor memory device
JP2002344242A (ja) 電圧制御発振器
US7030684B2 (en) High voltage switch circuit of semiconductor device
US6194954B1 (en) Voltage controlled generator for semiconductor devices
US6831500B2 (en) Noise-reduced voltage boosting circuit
EP0721250B1 (en) Low power oscillator
US7053689B2 (en) High voltage switch circuit
US6271718B1 (en) Internal voltage converter for low operating voltage semiconductor memory
KR100379555B1 (ko) 반도체 소자의 내부 전원 발생기
US4536720A (en) Programmable oscillator with power down feature and frequency adjustment

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20081201

Year of fee payment: 17

EXPY Expiration of term