JP2003186208A - 平版印刷版の再生方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 印刷後の平版印刷版から感光性平版印刷版を
再生すべく、画像を除去するにあたり、容易に且つ確実
に画像部分を除去でき、再生した際の印刷インキによる
汚れを一層低減できる平版印刷版の再生方法を提供す
る。 【解決手段】 平版印刷版の再生方法は、アルミニウム
支持体の表面に感光性層を形成して成り且つ印刷機の版
胴上に固定された感光性平版印刷版を使用し、レーザー
光源によって感光性層を走査露光し、現像処理して画像
を現出させて平版印刷版とした後、印刷インキを供給し
て被印刷物への印刷を行い、次いで、剥離剤により画像
を除去してアルニミウム支持体を再生した後、再度、ア
ルニミウム支持体表面に感光性層を形成して感光性平版
印刷版を再生する方法であり、剥離剤として、ｐＨ１０
以上のアルカリ性水溶液を使用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版の再生
方法に関するものであり、詳しくは、アルミニウム支持
体の表面に感光性層が形成された感光性平版印刷版を使
用し、印刷機の版胴に固定した状態で画像形成して印刷
を行った後、画像を除去してアルミニウム支持体を再生
し、当該アルニミウム支持体表面に感光性層を再度形成
して感光性平版印刷版を再生する平版印刷版の再生方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】平版印刷版は、支持体としてのアルミニ
ウム板の表面に感光性層を形成して感光性平版印刷板を
作製した後、感光性層を露光して現像処理することによ
り画像を現出させた印刷版である。従来より、平版印刷
版に関しては、アルミニウム支持体の表面の画像を除去
して再利用する技術が知られており、古くは、画像の除
去に特定組成の酸を用いる方法が知られている（例え
ば、特開昭５０−１２４７０６号、特開昭５２−４１０
０２号などの公報参照）。一方、最近では、印刷機の版
胴に平版印刷版を固定した状態での再生方法が提案され
るに到っている（例えば、特開平８−５２９４９号、特
開平９−９９５３５号などの公報参照）。

【０００３】しかしながら、感光性平版印刷版の感光性
層を形成する画像形成材料としての感光性組成物は、白
色光に感光する物質を含有させているため、印刷機上で
平版印刷版を再生する後者の方法においては、露光工程
以外の工程での意図せぬ感光によって感光性組成物の変
性が生じたり、支持体表面からの画像の除去が十分には
行い難い等の問題から、結果として、再度の画像形成が
必ずしも安定して行えるものではなかった。

【０００４】ところで、近年、コンピュータ画像処理技
術の進歩に伴い、デジタル画像情報から、銀塩マスクフ
ィルムへの出力を行うことなく、レーザー光により直接
画像を形成するＣＴＰ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ ｔｏ Ｐｌ
ａｔｅ）システムが注目されている。特に、高出力の半
導体レーザーやＹＡＧレーザー、或いは低出力の青紫外
半導体レーザー等を用いるＣＴＰシステムは、製版工程
の短縮化、作業時の環境光による影響の少なさ、製版コ
スト等の面から、その実用化が急速に進みつつある。

【０００５】これに伴い、ＣＴＰシステム用のネガ型平
版印刷版においては、近時、４００〜４２０ｎｍの青紫
外レーザー光あるいは６００ｎｍを越える長波長領域の
レーザー光に対する感光性組成物の研究も活発化し、ネ
ガ型感光性組成物として各種の光重合性組成物が提案さ
れている。これらの組成物は、白色光または黄色灯に感
光する物質を含有させる必要がないことから、白色灯下
または黄色灯下で取り扱えるという利点を有する。

【０００６】また、ＣＴＰシステム用の平版印刷版の分
野においては、赤外レーザー光を用い、主として化学変
化以外の変化によって露光部の現像液に対する溶解性を
増大させることによりポジ画像を形成する感光性組成物
の層を支持体表面に有する感光性平版印刷版も提案され
ている（例えば、特開平９−４３８４７号、特開平１０
−２６８５１２号、特開平１１−８４６５７号、特開平
１１−１７４６８１号、特開平１１−１９４５０４号、
特開平１１−２２３９３６号等の公報参照）。

【０００７】ポジ型平版印刷版は、従来のポジ型平版印
刷版が典型的にはｏ−キノンジアジド化合物の光分解と
いう化学的変化により露光部の現像液に対する溶解性を
増大させることによってポジ画像を形成していたのに対
し、赤外吸収色素等の赤外光を吸収して熱に変換する物
質とフェノール樹脂等のアルカリ可溶性樹脂とを主な感
光性成分とし、赤外レーザー光の露光で発生する熱によ
る樹脂の構造転移等の物理的変化により露光部の現像液
に対する溶解性を増大させるものであり、ｏ−キノンジ
アジド化合物の様な白色光に感光する物質を含有させる
必要がないことから、白色灯下でも取り扱えるという利
点を有する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＣＴＰ
システムに使用される平版印刷版においては、これを再
生せんとした場合、レーザー光に感応する感光性層とし
ての上記の感光性組成物は、それにより形成された画像
の支持体に対する接着性が強く、支持体表面からの除去
が難しいと言う問題がある。そして、平版印刷版の再生
においては、印刷終了後も印刷インキが残留するため、
画像部分を剥離除去する場合、画像上の印刷インキが印
刷版の非画像部に再付着し、それが再生後も残留して再
度の印刷の際に印刷物の非画像部分の汚れとなるために
問題となっている。

【０００９】本発明は、上記の実情に鑑みなされたもの
であり、その目的は、アルミニウム支持体の表面に感光
性層が形成された感光性平版印刷版を使用し、印刷機の
版胴に固定した状態で画像形成して印刷を行った後、画
像を除去してアルミニウム支持体を再生し、当該アルニ
ミウム支持体表面に感光性層を再度形成して感光性平版
印刷版を再生する平版印刷版の再生方法であって、アル
ミニウム支持体上の画像を除去するにあたり、容易に且
つ確実に除去でき、感光性平版印刷版の再生の際に印刷
インキによる汚れを一層低減できる平版印刷版の再生方
法を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明に係る平版印刷版の再生方法は、アルミニウ
ム支持体の表面に感光性層を形成して成り且つ印刷機の
版胴上に固定された感光性平版印刷版を使用し、レーザ
ー光源によって感光性層を走査露光し、現像処理して画
像を現出させて平版印刷版とした後、印刷インキを供給
して被印刷物への印刷を行い、次いで、剥離剤により画
像を除去してアルニミウム支持体を再生した後、再度、
アルニミウム支持体表面に感光性層を形成して感光性平
版印刷版を再生する平版印刷版の再生方法において、上
記の剥離剤として、ｐＨ１０以上のアルカリ性水溶液を
使用することを特徴とする。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の再生方法は、概略、レー
ザー光源によって感光性平版印刷版の感光性層を走査露
光し、現像処理して画像を現出させて平版印刷版とした
後、被印刷物への印刷を行い、次いで、画像を除去した
後、再度、感光性層を形成して感光性平版印刷版を再生
する方法であり、感光性平版印刷版としては、アルミニ
ウム支持体の表面に感光性層を形成して成り且つ種々の
公知の印刷機における回転可能な版胴上に固定された状
態の感光性平版印刷版が使用される。

【００１２】平版印刷版のアルミニウム支持体を構成す
るアルミニウム板としては、アルミニウム、または、珪
素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、
ビスマス、ニッケル等を含むアルミニウム合金が使用さ
れ、その厚さは、通常０．０１〜１０ｍｍ程度、好まし
くは０．０５〜１ｍｍ程度である。アルミニウム支持体
には、通常、脱脂処理、粗面化処理（砂目立て処理）、
デスマット処理、陽極酸化処理、封孔処理、下引き処理
などが施される。

【００１３】上記の脱脂処理は、溶剤を使用した拭き取
り、浸漬または蒸気洗浄による方法、アルカリ水溶液を
使用した浸漬または噴霧処理の後に酸水溶液で中和する
方法、界面活性剤を使用した浸漬または噴霧による方法
等の常法に従ってなされる。また、粗面化処理は、ボー
ル研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、ホーニング
研磨法、バフ研磨法などの機械的処理方法、あるいは、
電解エッチング法、化学エッチング法などの常法によ
り、ＪＩＳ Ｂ０６０１に規定される平均粗さＲａが、
通常は０．１〜１．５μｍ程度、好ましくは０．２〜
１．０μｍ程度となる様になされる。デスマット処理
は、必要に応じて、硫酸、硝酸、塩酸、燐酸、クロム酸
等の酸、または、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
メタ珪酸ナトリウム、燐酸ナトリウム、ピロ燐酸ナトリ
ウム、燐酸カリウム、アルミン酸ナトリウム等のアルカ
リの水溶液を使用した浸漬、噴霧などによる常法に従っ
てなされる。

【００１４】また、陽極酸化処理は、通常、硫酸単独、
または、硫酸を主体とする水溶液であって、修酸、燐
酸、クロム酸、マロン酸などを含む水溶液を電解液と
し、アルミニウム板を陽極として電解処理を行うことに
よりなされる。これにより形成される酸化皮膜量は、通
常は１〜１００ｍｇ／ｄｍ²、好ましくは１０〜５０ｍ
ｇ／ｄｍ²である。封孔処理は、必要に応じて、沸騰
水、水蒸気、珪酸ナトリウム水溶液、重クロム酸塩水溶
液等を使用した浸漬または噴霧などによる常法に従って
なされる。また、下引き処理は、必要に応じて、カチオ
ン性４級アンモニウム塩基を有する樹脂、ポリビニルホ
スホン酸、澱粉、セルロース等の水溶性高分子、フッ化
ジルコン酸などの金属塩の水溶液などを使用した浸漬ま
たは噴霧などによる常法に従ってなされる。

【００１５】本発明において、アルミニウム支持体とし
ては、特に、下引き処理により、表面に水溶性高分子の
薄膜層が形成されたものが好ましい。水溶性高分子とし
ては、例えば、（メタ）アクリル酸（ここで、「（メ
タ）アクリル」とは、アクリル又は／及びメタクリルを
意味するものとし、以降も同様とする。）又はそのアル
カリ塩、アミン塩等の誘導体、イタコン酸またはそのア
ルカリ塩、アミン塩等の誘導体、３−ビニルプロピオン
酸またはそのアルカリ塩、アミン塩等の誘導体、ビニル
スルホン酸若しくはそのアルカリ塩、アミン塩等の誘導
体、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−
スルホエチル（メタ）アクリレート、ポリオキシエチレ
ングリコールモノ（メタ）アクリレート、アシッドホス
ホオキシポリオキシエチレングリコールモノ（メタ）ア
クリレート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロール（メ
タ）アクリルアミド、２−アクリルアミド−２−メチル
プロパンスルホン酸、アリルアミン若しくはそのハロゲ
ン化水酸塩、ビニルアルコール、等の水酸基、カルボキ
シル基またはその塩、スルホン酸基またはその塩、燐酸
基またはその塩、アミド基、アミノ基、エーテル基等の
親水性基を有する親水性モノマーの単独重合体或いは共
重合体、および、セルロース又はその誘導体等の多糖類
等が挙げられる。

【００１６】上記の水溶性高分子の薄膜層は、表面処理
後のアルミニウム支持体の表面に水溶性高分子の水溶液
として塗布または噴霧するか、または、アルミニウム支
持体を水溶性高分子の水溶液中に浸漬する等した後に乾
燥させることにより形成することが出来、通常、その膜
厚は１０μｍ以下とされる。

【００１７】上記アルミニウム支持体は、その表面に圧
着したガムテープの剥離強度が５００ｇ／ｃｍ以下のも
のであるのが好ましい。なお、ガムテープの剥離強度と
は、支持体の表面にガムテープ（ＳＬＩＯＮＴＥＣ社製
「ＳＬＩＯＮ ＴＡＰＥ３」）を２５℃、５ｋｇ／ｃｍ
²、５０ｃｍ／分で圧着した後、支持体を固定台上に固
定し、支持体表面よりガムテープを１８０度方向に３０
ｃｍ／分の速度で引っ張って剥離する１８０度剥離試験
における最大応力をガムテープの幅で除して得られる線
張力（ｇ／ｃｍ）を言い、本発明においては、その剥離
強度が５００ｇ／ｃｍ以下であるものが好ましく、ま
た、１ｇ／ｃｍ以上であるのが好ましく、１０ｇ／ｃｍ
以上であるのが特に好ましい。アルミニウム支持体表面
のガムテープの剥離強度が上記の範囲を越える場合は、
アルミニウム支持体の再生において、画像の除去が困難
な傾向となり、一方、上記の範囲よりも小さい場合は、
平版印刷版としての耐刷性が劣る。

【００１８】アルミニウム支持体の表面に形成される感
光性層は、ネガ型、ポジ型の何れであってもよい。ネガ
型の場合、感光性層は、以下の（Ａ）成分、（Ｂ）成
分、（Ｃ）成分および（Ｄ）成分を含有する光重合性組
成物によって構成される。

【００１９】

【表１】 （Ａ）エチレン性不飽和化合物 （Ｂ）４００〜１３００ｎｍの波長域の光を吸収する増
感剤 （Ｃ）光重合開始剤 （Ｄ）高分子結合材

【００２０】光重合性組成物を構成する（Ａ）成分のエ
チレン性不飽和化合物は、光重合性組成物が活性光線の
照射を受けたときに、後述する（Ｃ）成分の光重合開始
剤を含む光重合開始系の作用により付加重合し、場合に
より架橋、硬化する様なラジカル重合性のエチレン性不
飽和結合を分子内に少なくとも１個有する化合物であ
る。

【００２１】上記のエチレン性不飽和化合物としては、
エチレン性不飽和結合を分子内に１個有する化合物、具
体的には、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、
イソクロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン
酸等の不飽和カルボン酸、及びそのアルキルエステル、
（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、
スチレン等であってもよいが、重合性、架橋性、及びそ
れに伴う露光部と非露光部の現像液溶解性の差異を拡大
できる等の点から、エチレン性不飽和結合を分子内に２
個以上有する化合物であるのが好ましく、また、その不
飽和結合が（メタ）アクリロイルオキシ基に由来するア
クリレート化合物であるのが特に好ましい。

【００２２】エチレン性不飽和結合を分子内に２個以上
有する化合物としては、代表的には、不飽和カルボン酸
とポリヒドロキシ化合物とのエステル類、（メタ）アク
リロイルオキシ基含有ホスフェート類、ヒドロキシ（メ
タ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物と
のウレタン（メタ）アクリレート類、および、（メタ）
アクリル酸またはヒドロキシ（メタ）アクリレート化合
物とポリエポキシ化合物とのエポキシ（メタ）アクリレ
ート類等が挙げられる。

【００２３】上記エステル類としては、具体的には、例
えば、上記の如き不飽和カルボン酸と、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリプロピレングリコール、トリメチレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、ヘキサメチレングリコール、ノナメチレングリコー
ル、トリメチロールエタン、テトラメチロールエタン、
トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリス
リトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、及
びそれらのエチレンオキサイド付加物、プロピレンオキ
サイド付加物、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体
的には、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プ
ロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサメチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、ノナメチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタント
リ（メタ）アクリレート、テトラメチロールエタントリ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオ
キサイド付加トリ（メタ）アクリレート、グリセロール
ジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）ア
クリレート、グリセロールプロピレンオキサイド付加ト
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）ア
クリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリ
レート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレ
ート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ソルビ
トールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールペン
タ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）
アクリレート等、及び同様のクロトネート、イソクロト
ネート、マレエート、イタコネート、シトラコネート等
が挙げられる。

【００２４】更に、そのエステル類として、上記の如き
不飽和カルボン酸と、ヒドロキノン、レゾルシン、ピロ
ガロール、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡ等の芳
香族ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例
えば、ヒドロキノンジ（メタ）アクリレート、レゾルシ
ンジ（メタ）アクリレート、ピロガロールトリ（メタ）
アクリレート等、また、上記の如き不飽和カルボン酸
と、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート
等の複素環式ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的
には、例えば、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシ
アヌレートのジ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）ア
クリレート等、また、不飽和カルボン酸と多価カルボン
酸とポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例
えば、（メタ）アクリル酸とフタル酸とエチレングリコ
ールとの縮合物、（メタ）アクリル酸とマレイン酸とジ
エチレングリコールとの縮合物、（メタ）アクリル酸と
テレフタル酸とペンタエリスリトールとの縮合物、（メ
タ）アクリル酸とアジピン酸とブタンジオールとグリセ
リンとの縮合物等が挙げられる。

【００２５】また、上記（メタ）アクリロイルオキシ基
含有ホスフェート類としては、（メタ）アクリロイルオ
キシ基を含有するホスフェート化合物であれば特に限定
されないが、中でも、以下の一般式（Ｉａ）又は（Ｉ
ｂ）で表されるものが好ましい。

【００２６】

【化１】

【００２７】上記の式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）中、Ｒ⁴²は
水素原子またはメチル基を示し、ｎは１〜２５の整数、
ｍは１、２又は３である。

【００２８】なお、ｎは１〜１０、特に１〜４であるの
が好ましく、これらの具体例としては、例えば、（メ
タ）アクリロイルオキシエチルホスフェート、ビス
〔（メタ）アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、
（メタ）アクリロイルオキシエチレングリコールホスフ
ェート等が挙げられ、これらはそれぞれ単独で用いられ
ても混合物として用いられてもよい。

【００２９】また、上記ウレタン（メタ）アクリレート
類としては、具体的には、例えば、ヒドロキシメチル
（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、テトラメ
チロールエタントリ（メタ）アクリレート等のヒドロキ
シ（メタ）アクリレート化合物と、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレン
ジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネ
ート、リジンメチルエステルトリイソシアネート、ダイ
マー酸ジイソシアネート、１，６，１１−ウンデカトリ
イソシアネート、１，３，６−ヘキサメチレントリイソ
シアネート、１，８−ジイソシアネート−４−イソシア
ネートメチルオクタン等の脂肪族ポリイソシアネート、
シクロヘキサンジイソシアネート、ジメチルシクロヘキ
サンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シク
ロヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネ
ート、ビシクロヘプタントリイソシアネート等の脂環式
ポリイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネー
ト、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリ
レンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
テトラメチルキシリレンジイソシアネート、４，４’−
ジフェニルメタンジイソシアネート、トリジンジイソシ
アネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、トリ
ス（イソシアネートフェニルメタン）、トリス（イソシ
アネートフェニル）チオホスフェート等の芳香族ポリイ
ソシアネート、イソシアヌレート等の複素環式ポリイソ
シアネート等のポリイソシアネート化合物との反応物な
どが挙げられる。

【００３０】中でも、ウレタン（メタ）アクリレート類
としては、１分子中に４個以上のウレタン結合〔−ＮＨ
−ＣＯ−Ｏ−〕及び４個以上の（メタ）アクリロイルオ
キシ基を有する化合物が好ましく、当該化合物は、例え
ば、ペンタエリスリトール、ポリグリセリン等の１分子
中に４個以上の水酸基を有する化合物に、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソ
シアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジ
イソシアネート等のジイソシアネート化合物を反応させ
て得られた化合物（ｉ−１）、或いは、エチレングリコ
ール等の１分子中に２個以上の水酸基を有する化合物
に、旭化成工業社製「デュラネート２４Ａ−１００」、
同「デュラネート２２Ａ−７５ＰＸ」、同「デュラネー
ト２１Ｓ−７５Ｅ」、同「デュラネート１８Ｈ−７０
Ｂ」等ビウレットタイプ、同「デュラネートＰ−３０１
−７５Ｅ」、同「デュラネートＥ−４０２−９０Ｔ」、
同「デュラネートＥ−４０５−８０Ｔ」等のアダクトタ
イプ等の１分子中に３個以上のイソシアネート基を有す
る化合物を反応させて得られた化合物（ｉ−２）、或い
は、イソシアネートエチル（メタ）アクリレート等を重
合若しくは共重合させて得られた化合物（ｉ−３）等
の、１分子中に４個以上、好ましくは６個以上のイソシ
アネート基を有する化合物等、具体的には、例えば、旭
化成工業社製「デュラネートＭＥ２０−１００」（ｉ）
と、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペン
タエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート等の、１分子中
に１個以上の水酸基および２個以上、好ましくは３個以
上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物（ｉ
ｉ）とを、反応させることにより得ることが出来る。

【００３１】ここで、上記の化合物（ｉ）の分子量は、
５００〜２００，０００であるのが好ましく、１，００
０〜１５０，０００であるのが特に好ましい。また、上
記の様なウレタン（メタ）アクリレート類の分子量は、
６００〜１５０，０００であるのが好ましい。また、ウ
レタン結合を６個以上有するのが好ましく、８個以上有
するのが特に好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基
を６個以上有するのが好ましく、８個以上有するのが特
に好ましい。

【００３２】なお、この様なウレタン（メタ）アクリレ
ート類は、例えば、上記の化合物（ｉ）と上記の化合物
（ｉｉ）とを、トルエンや酢酸エチル等の有機溶媒中
で、前者のイソシアネート基と後者の水酸基とのモル比
を１／１０〜１０／１の割合として、必要に応じてジラ
ウリン酸ｎ−ブチル錫等の触媒を用い、１０〜１５０℃
で５分〜３時間程度反応させる方法により製造すること
が出来る。

【００３３】また、上記ウレタン（メタ）アクリレート
類の中でも、以下の一般式（ＩＩ）で表されるものが特
に好ましい。

【００３４】

【化２】

【００３５】上記の式（ＩＩ）中、Ｒａはアルキレンオ
キシ基またはアリーレンオキシ基の繰り返し構造を有
し、且つＲｂと結合し得るオキシ基を４〜２０個有する
基を示し、Ｒｂ及びＲｃは各々独立して炭素数が１〜１
０のアルキレン基を示し、Ｒｄは（メタ）アクリロイル
オキシ基を１〜１０個有する有機残基を示し、Ｒａ、Ｒ
ｂ、Ｒｃ、及びＲｄは置換基を有していてもよく、ｘは
４〜２０の整数、ｙは０〜１５の整数、ｚは１〜１５の
整数である。

【００３６】ここで、式（ＩＩ）中のＲａのアルキレン
オキシ基の繰り返し構造としては、例えば、プロピレン
トリオール、グリセリン、ペンタエリスリトール等に由
来するものが挙げられ、アリーレンオキシ基の繰り返し
構造としては、例えば、ピロガロール、１，３，５−ベ
ンゼントリオール等に由来するものが挙げられる。ま
た、Ｒｂ及びＲｃのアルキレン基の炭素数は、各々独立
して１〜５であるのが好ましく、Ｒｄにおける（メタ）
アクリロイルオキシ基は１〜７個であるのが好ましい。
また、ｘは４〜１５、ｙは１〜１０、ｚは１〜１０であ
るのがそれぞれ好ましい。

【００３７】更に、Ｒａとしては、以下の式（式中、ｋ
は２〜１０の整数である。）であるのが特に好ましく、
Ｒｂ及びＲｃとしては、各々独立して、ジメチレン基、
モノメチルジメチレン基、または、トリメチレン基であ
るのが特に好ましい。また、Ｒｄとしては以下の式であ
るのが特に好ましい。

【００３８】

【化３】

【００３９】また、上記エポキシ（メタ）アクリレート
類としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリル
酸、または上記の如きヒドロキシ（メタ）アクリレート
化合物と、（ポリ）エチレングリコールポリグリシジル
エーテル、（ポリ）プロピレングリコールポリグリシジ
ルエーテル、（ポリ）テトラメチレングリコールポリグ
リシジルエーテル、（ポリ）ペンタメチレングリコール
ポリグリシジルエーテル、（ポリ）ネオペンチルグリコ
ールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ヘキサメチレン
グリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）トリメチ
ロールプロパンポリグリシジルエーテル、（ポリ）グリ
セロールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ソルビトー
ルポリグリシジルエーテル等の脂肪族ポリエポキシ化合
物、フェノールノボラックポリエポキシ化合物、ブロム
化フェノールノボラックポリエポキシ化合物、（ｏ−，
ｍ−，ｐ−）クレゾールノボラックポリエポキシ化合
物、ビスフェノールＡポリエポキシ化合物、ビスフェノ
ールＦポリエポキシ化合物等の芳香族ポリエポキシ化合
物、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリグリシジ
ルイソシアヌレート、トリグリシジルトリス（２−ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート等の複素環式ポリエポ
キシ化合物、等のポリエポキシ化合物との反応物などが
挙げられる。

【００４０】また、その他のエチレン性不飽和化合物と
しては、上記のもの以外に、例えば、エチレンビス（メ
タ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類、フ
タル酸ジアリル等のアリルエステル類、ジビニルフタレ
ート等のビニル基含有化合物類などが挙げられる。以上
のエチレン性不飽和化合物は、それぞれ単独で用いられ
ても２種以上が併用されてもよい。

【００４１】以上の様な（Ａ）成分のエチレン性不飽和
化合物としては、エステル（メタ）アクリレート類、
（メタ）アクリロイルオキシ基含有ホスフェート類、ま
たは、ウレタン（メタ）アクリレート類が好ましく、
（メタ）アクリロイルオキシ基含有ホスフェート類、ま
たは、ウレタン（メタ）アクリレート類が特に好まし
い。（Ａ）成分のエチレン性不飽和化合物全体に対し
て、（メタ）アクリロイルオキシ基含有ホスフェート類
としては、その占める割合が１〜６０重量％であるのが
好ましく、２〜４０重量％であるのが特に好ましく、ま
た、ウレタン（メタ）アクリレート類としては、その占
める割合が０．５〜５０重量％であるのが好ましく、２
〜４０重量％であるのが特に好ましい。

【００４２】光重合性組成物を構成する（Ｂ）成分の増
感剤は、特に４００〜１３００ｎｍの波長域の光を効率
よく吸収すると共に、その光励起エネルギーを後述する
（Ｃ）成分の光重合開始剤に伝え、当該光重合開始剤を
分解し、（Ａ）成分の上記エチレン性不飽和化合物の重
合を誘起する活性ラジカルを発生させる増感機能を有す
る光吸収色素が好ましい。

【００４３】これらの光吸収色素としては、窒素原子、
酸素原子または硫黄原子などの複素原子がポリメチン
（−ＣＨ＝）_n鎖で結合された構造を基本構造とするも
のであり、代表的には、その複素原子が複素環を形成
し、ポリメチン鎖を介して複素環が結合された構造のい
わゆる広義のシアニン系色素、具体的には、例えば、キ
ノリン系（いわゆる狭義のシアニン系）、インドール系
（いわゆるインドシアニン系）、ベンゾチアゾール系
（いわゆるチオシアニン系）、ピリリウム系、チオピリ
リウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、アズレ
ニウム系等、および、ポリメチン鎖を介して非環式複素
原子が結合された構造のいわゆるポリメチン系色素など
が挙げられ、中でも、キノリン系、インドール系、ベン
ゾチアゾール系、ピリリウム系、チオピリリウム系等の
シアニン系色素、及びポリメチン系色素が好ましい。

【００４４】また、上記シアニン系色素の中、キノリン
系色素としては、特に、以下の一般式（ＩＩＩａ）、
（ＩＩＩｂ）、または（ＩＩＩｃ）で表されるものが好
ましい。

【００４５】

【化４】

【００４６】上記の式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）及び
（ＩＩＩｃ）中、Ｒ¹及びＲ²は、各々独立して、置換基
を有していてもよいアルキル基、置換基を有していても
よいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニ
ル基、または、置換基を有していてもよいフェニル基を
示し、Ｌ¹は、置換基を有していてもよいトリ、ペン
タ、ヘプタ、ノナ又はウンデカメチン基を示し、ペン
タ、ヘプタ、ノナ又はウンデカメチン基上の２つの置換
基は、互いに連結して炭素数５〜７のシクロアルケン環
を形成していてもよく、キノリン環は、置換基を有して
いてもよく、その場合、隣接する２つの置換基が互いに
連結して縮合ベンゼン環を形成していてもよい。Ｘａ^-
は対アニオンを示す。

【００４７】ここで、式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）及
び（ＩＩＩｃ）中のＲ¹及びＲ²がアルキル基であるとき
の炭素数は通常１〜１５、好ましくは１〜１０、アルケ
ニル基、アルキニル基であるときの炭素数は通常２〜１
５、好ましくは２〜１０であり、フェニル基も含めたそ
れらの置換基としては、炭素数が通常１〜１５、好まし
くは１〜１０のアルコキシ基、フェノキシ基、ヒドロキ
シ基、またはフェニル基などが挙げられ、Ｌ¹における
置換基としては、同上炭素数のアルキル基、アミノ基、
またはハロゲン原子などが挙げられ、キノリン環におけ
る置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素
数のアルコキシ基、ニトロ基、またはハロゲン原子など
が挙げられる。

【００４８】また、インドール系およびベンゾチアゾー
ル系色素としては、特に、以下の一般式（ＩＶ）で表さ
れるものが好ましい。

【００４９】

【化５】

【００５０】上記の式（ＩＶ）中、Ｙ¹及びＹ²は、各々
独立して、ジアルキルメチレン基または硫黄原子を示
し、Ｒ³及びＲ⁴は、各々独立して、置換基を有していて
もよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニ
ル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、または
置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｌ²は、
置換基を有していてもよいトリ、ペンタ、ヘプタ、ノナ
又はウンデカメチン基を示し、ペンタ、ヘプタ、ノナ又
はウンデカメチン基上の２つの置換基は、互いに連結し
て炭素数５〜７のシクロアルケン環を形成していてもよ
く、縮合ベンゼン環は、置換基を有していてもよく、そ
の場合、隣接する２つの置換基が互いに連結して縮合ベ
ンゼン環を形成していてもよい。Ｘａ^-は対アニオンを
示す。

【００５１】ここで、式（ＩＶ）中のＲ³及びＲ⁴がアル
キル基であるときの炭素数は通常１〜１５、好ましくは
１〜１０、アルケニル基、アルキニル基であるときの炭
素数は通常２〜１５、好ましくは２〜１０であり、フェ
ニル基も含めたそれらの置換基としては、炭素数が通常
１〜１５、好ましくは１〜１０のアルコキシ基、フェノ
キシ基、ヒドロキシ基、またはフェニル基などが挙げら
れ、Ｌ²における置換基としては、同上炭素数のアルキ
ル基、アミノ基、またはハロゲン原子などが挙げられ、
縮合ベンゼン環における置換基としては、同上炭素数の
アルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ基、ま
たはハロゲン原子などが挙げられる。

【００５２】また、ピリリウム系およびチオピリリウム
系色素としては、特に、以下の一般式（Ｖａ）、（Ｖ
ｂ）又は（Ｖｃ）で表されるものが好ましい。

【００５３】

【化６】

【００５４】上記の式（Ｖａ）、（Ｖｂ）及び（Ｖｃ）
中、Ｚ¹及びＺ²は、各々独立して、酸素原子または硫黄
原子を示し、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸は、各々独立して、
水素原子またはアルキル基、あるいは、Ｒ⁵とＲ⁷及びＲ
⁶とＲ⁸が互いに連結して炭素数５又は６のシクロアルケ
ン環を形成していてもよく、Ｌ³は、置換基を有してい
てもよいモノ、トリ、ペンタ又はヘプタメチン基を示
し、トリ、ペンタ又はヘプタメチン基上の２つの置換基
は、互いに連結して炭素数５〜７のシクロアルケン環を
形成していてもよく、ピリリウム環およびチオピリリウ
ム環は置換基を有していてもよく、その場合、隣接する
２つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形成し
ていてもよい。Ｘａ^-は対アニオンを示す。

【００５５】ここで、式（Ｖａ）、（Ｖｂ）及び（Ｖ
ｃ）中のＲ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸がアルキル基であるとき
の炭素数は通常１〜１５、好ましくは１〜１０であり、
Ｌ³における置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、アミノ基またはハロゲン原子などが挙げられ、ピリ
リウム環およびチオピリリウム環における置換基として
は、フェニル基、ナフチル基等のアリール基などが挙げ
られる。

【００５６】また、ポリメチン系色素としては、特に、
以下の一般式（ＶＩ）で表されるものが好ましい。

【００５７】

【化７】

【００５８】上記の式（ＶＩ）中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹及
びＲ¹²は、各々独立してアルキル基を示し、Ｒ¹³及びＲ
¹⁴は、各々独立して、置換基を有していてもよいアリー
ル基、フリル基、またはチエニル基を示し、Ｌ⁴は、置
換基を有していてもよいモノ、トリ、ペンタ又はヘプタ
メチン基を示し、トリ、ペンタ又はヘプタメチン基上の
２つの置換基は、互いに連結して炭素数５〜７のシクロ
アルケン環を形成していてもよく、キノン環およびベン
ゼン環は置換基を有していてもよい。Ｘａ^-は対アニオ
ンを示す。

【００５９】ここで、式（ＶＩ）中のＲ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹
及びＲ¹²のアルキル基の炭素数は通常１〜１５、好まし
くは１〜１０、Ｒ¹³及びＲ¹⁴がアリール基であるときの
炭素数は通常６〜２０、好ましくは６〜１５であり、Ｒ
¹³及びＲ¹⁴として、具体的には、フェニル基、１−ナフ
チル基、２−ナフチル基、２−フリル基、３−フリル
基、２−チエニル基、３−チエニル基などが挙げられ、
それらの置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同
上炭素数のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロ
キシ基、又はハロゲン原子などが挙げられ、Ｌ⁴におけ
る置換基としては、同上炭素数のアルキル基、アミノ
基、又はハロゲン原子などが挙げられ、キノン環および
ベンゼン環における置換基としては、同上炭素数のアル
キル基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ基またはハ
ロゲン原子などが挙げられる。

【００６０】なお、上記の一般式（ＩＩＩａ〜ｃ）、
（ＩＶ）、（Ｖａ〜ｃ）及び（ＶＩ）における対アニオ
ンＸａ^-としては、例えば、Ｃｌ^-、Ｂｒ^-、Ｉ^-、ＣｌＯ
₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、及び、ＢＦ₄ ^-、ＢＣ
ｌ₄ ^-等の無機硼酸等の無機酸アニオン、並びに、ベンゼ
ンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホ
ン酸、酢酸、および、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、フェニル、メトキシフェニル、ナフチル、フルオロ
フェニル、ジフルオロフェニル、ペンタフルオロフェニ
ル、チエニル、ピロリル等の有機基を有する有機硼酸等
の有機酸アニオンを挙げることが出来る。

【００６１】また、上記の一般式（ＩＩＩａ〜ｃ）、
（ＩＶ）、（Ｖａ〜ｃ）及び（ＶＩ）においては、
Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴のポリメチン鎖上に、以下の一般
式（ＶＩＩａ）で表されるバルビツル酸アニオン基また
はチオバルビツル酸アニオン基を置換基として有するこ
とにより、または、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴のポリメチン
鎖中に、以下の一般式（ＶＩＩｂ）で表されるスクエア
酸アニオン基またはチオスクエア酸アニオン基、或い
は、以下の一般式（ＶＩＩｃ）で表されるクロコン酸ア
ニオン基またはチオクロコン酸アニオン基を形成するこ
とにより、分子内塩を形成していてもよい。

【００６２】

【化８】

【００６３】上記の式（ＶＩＩａ）、（ＶＩＩｂ）及び
（ＶＩＩｃ）中、Ｚ³、Ｚ⁴、Ｚ⁵、Ｚ⁶、Ｚ⁷及びＺ⁸は、
各々独立して酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ¹⁵及び
Ｒ^{1 6}は、各々独立して、水素原子、置換基を有していて
もよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニ
ル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、または
置換基を有していてもよいフェニル基を示す。

【００６４】ここで、式（ＶＩＩａ）中のＲ¹⁵及びＲ¹⁶
がアルキル基、アルコキシ基であるときの炭素数は通常
１〜１５、好ましくは１〜５、アルケニル基であるとき
の炭素数は通常２〜１５、好ましくは２〜５であるが、
アルキル基であるのが好ましく、そのアルキル基として
は、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ま
たはブチル基などが挙げられる。

【００６５】上記の一般式（ＩＩＩａ〜ｃ）で表される
キノリン系、上記の一般式（ＩＶ）で表されるインドー
ル系またはベンゾチアゾール系、上記の一般式（Ｖａ〜
ｃ）で表されるピリリウム系またはチオピリリウム系な
どのシアニン系色素、および、上記の一般式（ＶＩ）で
表されるポリメチン系色素の中で、本発明においては、
上記の一般式（ＩＶ）で表されるインドール系またはベ
ンゾチアゾール系のシアニン色素が特に好ましい。

【００６６】なお、上記の一般式（ＩＩＩａ〜ｃ）で表
されるキノリン系、上記の一般式（ＩＶ）で表されるイ
ンドール系またはベンゾチアゾール系、上記の一般式
（Ｖａ〜ｃ）で表されるピリリウム系またはチオピリリ
ウム系等のシアニン系色素、および、上記の一般式（Ｖ
Ｉ）で表されるポリメチン系色素の各具体例を以下に示
す。

【００６７】

【化９】

【００６８】

【化１０】

【００６９】

【化１１】

【００７０】

【化１２】

【００７１】

【化１３】

【００７２】

【化１４】

【００７３】

【化１５】

【００７４】

【化１６】

【００７５】

【化１７】

【００７６】

【化１８】

【００７７】

【化１９】

【００７８】また、増感剤としては、アザポリメチン鎖
を介して複素環が結合された構造を基本構造とする、い
わゆるフタロシアニン系色素も挙げられ、そのフタロシ
アニン系色素としては、以下の一般式（ＶＩＩＩ）で表
されるものが好ましい。

【００７９】

【化２０】

【００８０】上記の式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ²¹及びＲ
²²は、各々独立して、アルコキシ基、チオアルコキシ
基、アリールオキシ基、チオアリールオキシ基、アルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、ハロゲン原子、または
水素原子を示し、Ｍは、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、ＳｎＣ
ｌ₂、ＡｌＣｌ、または水素原子を示し、また、ベンゼ
ン環における隣接する２つの置換基が互いに連結して縮
合環を形成していてもよい。

【００８１】ここで、式（ＶＩＩＩ）中のＲ²¹及びＲ²²
がアルコキシ基、チオアルコキシ基またはアルキルアミ
ノ基であるときの炭素数は通常１〜１０、好ましくは１
〜４であり、アリールオキシ基、チオアリールオキシ
基、またはアリールアミノ基としては、フェノキシ基、
チオフェノキシ基、またはフェニルアミノ基などが挙げ
られ、また、Ｍとしては、Ｚｎ、又はＳｎＣｌ₂である
のが好ましい。

【００８２】また、増感剤としては、ジアルキルアミノ
ベンゼン系化合物も挙げられ、その中でも、ジアルキル
アミノベンゾフェノン系化合物、ベンゼン環上のアミノ
基に対してｐ−位の炭素原子に複素環基を置換基として
有するジアルキルアミノベンゼン系化合物が好ましい。

【００８３】そのジアルキルアミノベンゾフェノン系化
合物としては、以下の一般式（ＩＸａ）で表されるもの
が好ましい。

【００８４】

【化２１】

【００８５】上記の式（ＩＸａ）中、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵
及びＲ²⁶は、各々独立してアルキル基を示し、Ｒ²⁷、Ｒ
²⁸、Ｒ²⁹、及びＲ³⁰は、各々独立して、アルキル基、ま
たは水素原子を示し、Ｒ²³とＲ²⁴、Ｒ²⁵とＲ²⁶、Ｒ²³と
Ｒ²⁷、Ｒ²⁴とＲ²⁸、Ｒ²⁵とＲ ²⁹、および、Ｒ²⁶とＲ
³⁰は、各々独立して含窒素複素環を形成していてもよ
い。

【００８６】ここで、式（ＩＸａ）中のＲ²³、Ｒ²⁴、Ｒ
²⁵及びＲ²⁶のアルキル基の炭素数、並びに、Ｒ²⁷、
Ｒ²⁸、Ｒ²⁹及びＲ³⁰がアルキル基であるときの炭素数は
１〜６であるのが好ましく、また、含窒素複素環を形成
する場合は、５又は６員環であるのが好ましく、６員環
であるのが特に好ましい。

【００８７】上記の一般式（ＩＸａ）で表される化合物
の具体例としては、例えば、４，４’−ビス（ジメチル
アミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルア
ミノ）ベンゾフェノン、および、以下の構造の化合物が
挙げられる。

【００８８】

【化２２】

【００８９】また、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ
−位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアル
キルアミノベンゼン系化合物における複素環基として
は、窒素原子、酸素原子、または硫黄原子を含む５又は
６員環のものが好ましく、縮合ベンゼン環を有する５員
環が特に好ましく、そのジアルキルアミノベンゼン系化
合物としては以下の一般式（ＩＸｂ）で表されるものが
特に好ましい。

【００９０】

【化２３】

【００９１】上記の式（ＩＸｂ）中、Ｒ³¹及びＲ³²は、
各々独立してアルキル基を示し、Ｒ ³³及びＲ³⁴は、各々
独立してアルキル基または水素原子を示し、Ｒ³¹と
Ｒ³²、Ｒ ³¹とＲ³³、および、Ｒ³²とＲ³⁴は、各々独立し
て、含窒素複素環を形成していてもよい。Ｙ³は、酸素
原子、硫黄原子、ジアルキルメチレン基、イミノ基、ま
たはアルキルイミノ基を示し、該Ｙ³を含む複素環に縮
合するベンゼン環は置換基を有していてもよい。

【００９２】ここで、式（ＩＸｂ）中のＲ³¹及びＲ³²の
アルキル基の炭素数、並びに、Ｒ³³及びＲ³⁴がアルキル
基であるときの炭素数は１〜６であるのが好ましく、ま
た、含窒素複素環を形成する場合は、５又は６員環であ
るのが好ましく、６員環であるのが特に好ましい。ま
た、Ｙがジアルキルメチレン基であるときのアルキル基
の炭素数は１〜６であるのが好ましく、アルキルイミノ
基であるときのアルキル基の炭素数は１〜６であるのが
好ましい。

【００９３】上記の一般式（ＩＸｂ）で表される化合物
の具体例としては、例えば、２−（ｐ−ジメチルアミノ
フェニル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジエチルア
ミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチ
ルアミノフェニル）ベンゾ〔４，５〕ベンゾオキサゾー
ル、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾ〔６，
７〕ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフ
ェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノ
フェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジメチルアミ
ノフェニル）ベンゾイミダゾール、２−（ｐ−ジエチル
アミノフェニル）ベンゾイミダゾール、２−（ｐ−ジメ
チルアミノフェニル）−３，３−ジメチル−３Ｈ−イン
ドール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−３，３
−ジメチル−３Ｈ−インドール、および、以下の構造の
化合物が挙げられる。

【００９４】

【化２４】

【００９５】また、上記の一般式（ＩＸｂ）で表される
化合物以外の、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位
の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキル
アミノベンゼン系化合物としては、例えば、２−（ｐ−
ジメチルアミノフェニル）ピリジン、２−（ｐ−ジエチ
ルアミノフェニル）ピリジン、２−（ｐ−ジメチルアミ
ノフェニル）キノリン、２−（ｐ−ジエチルアミノフェ
ニル）キノリン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）
ピリミジン、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピリ
ミジン、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）
−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（ｐ−
ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−チアジアゾー
ル等が挙げられる。

【００９６】更に、増感剤としては、例えば、米国特許
第３４７９１８５号に開示されるロイコクリスタルバイ
オレットやロイコマラカイトグリーン等のトリフェニル
メタン系ロイコ色素類、エリスロシンやエオシンＹ等の
光還元性染料類、米国特許第３５４９３６７号、同第３
６５２２７５号にそれぞれ開示されるミヒラーズケトン
やアミノスチリルケトン等のアミノフェニルケトン類、
米国特許第３８４４７９０号に開示されるβ−ジケトン
類、米国特許第４１６２１６２号に開示されるインダノ
ン類、特開平６−３０１２０８号、特開平８−１２９２
５８号、特開平８−１２９２５９号、特開平８−１４６
６０５号、特開平８−２１１６０５号の各公報に開示さ
れるクマリン系色素類、特開昭５２−１１２６８１号公
報に開示されるケトクマリン系色素類、特開昭５９−５
６４０３号公報に開示されるアミノスチレン誘導体類や
アミノフェニルブタジエン誘導体類、米国特許第４５９
４３１０号に開示されるアミノフェニル複素環類、米国
特許第４９６６８３０号に開示されるジュロリジン複素
環類、特開平５−２４１３３８号、特開平７−５６８５
号、特開平１０−１４４２４２号各の公報に開示される
ピロメテン系色素類などの化合物が挙げられる。

【００９７】光重合性組成物を構成する（Ｃ）成分の光
重合開始剤は、（Ｂ）成分の上記の増感剤などとの共存
下で光照射されたときに、活性ラジカルを発生するラジ
カル発生剤であって、代表的には、ハロメチル化ｓ−ト
リアジン誘導体類、ハロメチル化１，３，４−オキサジ
アゾール誘導体類、ヘキサアリールビイミダゾール誘導
体類、チタノセン誘導体類、有機硼素酸塩類、ジアリー
ルヨードニウム塩類、カルボニル化合物類、及び有機過
酸化物類などが挙げられ、本発明においては、ハロメチ
ル化ｓ−トリアジン誘導体類、ヘキサアリールビイミダ
ゾール誘導体類、及び有機硼素酸塩類が好ましい。

【００９８】また、上記ハロメチル化ｓ−トリアジン誘
導体類としては、少なくとも１つのモノ、ジ又はトリハ
ロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合した誘導
体が好ましく、以下の一般式（Ｘ）で表されるものが特
に好ましい。

【００９９】

【化２５】

【０１００】上記の式（Ｘ）中、Ｒ³⁵は、水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基またはアリール基を示し、Ｗ
は、置換基を有していてもよいアリール基または複素環
基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。ｒは０〜２の整数
である。

【０１０１】上記ハロメチル化ｓ−トリアジン誘導体類
としては、具体的には、例えば、２−メチル−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｎ−
プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（３，４−エポキシフェニル）−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェ
ニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４
−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシ
スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシナフチ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（ｐ−エトキシナフチル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−エ
トキシカルボニルナフチル）−４，６−ビス（トリクロ
ロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニルチオ−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
ベンジルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビ
ス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げら
れ、中で、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メ
トキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブ
タジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等が好ましい。

【０１０２】また、上記ハロメチル化１，３，４−オキ
サジアゾール誘導体類としては、具体的には、例えば、
２−（ｐ−メトキシフェニル）−５−トリクロロメチル
−１，３，４−オキサジアゾール、２−（ｐ−メトキシ
スチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキ
サジアゾール、２−（ｏ−ベンゾフリル）−５−トリク
ロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、２−〔β
−（ｏ−ベンゾフリル）ビニル〕−５−トリクロロメチ
ル−１，３，４−オキサジアゾール等が挙げられる。

【０１０３】また、上記ヘキサアリールビイミダゾール
誘導体類としては、具体的には、例えば、２，２’−ビ
ス（ｏ−メトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｐ−メ
トキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニ
ルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（ｏ−フルオロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラ（ｐ−メチルフェニル）ビイミダゾール、
２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラ（ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラ（ｍ，ｍ−ジメトキシフェニ
ル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−エトキシカ
ルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス
（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
（ｐ−クロロ−ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロフェニル）ビイミ
ダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニ
ル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−フルオロフ
ェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロ
フェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジ
ブロモフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス
（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、
２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミ
ダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−ヨードフェニル）ビ
イミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）
−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ−クロロ−ｐ−メト
キシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−
クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−
クロロナフチル）ビイミダゾール等が挙げられ、中で
も、ヘキサフェニルビイミダゾール誘導体が好ましく、
そのイミダゾール環上の２，２’−位に結合したベンゼ
ン環のｏ−位がハロゲン原子で置換されたものが好まし
く、そのイミダゾール環上の４，４’，５，５’−位の
ベンゼン環が無置換またはハロゲン原子もしくはアルコ
キシカルボニル基で置換されたものが特に好ましい。

【０１０４】また、上記チタノセン誘導体類としては、
具体的には、例えば、ジシクロペンタジエニルチタニウ
ムジクロライド、ジシクロペンタジエニルチタニウムビ
スフェニル、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス
（２，４−ジフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエ
ニルチタニウムビス（２，６−ジフルオロフェニル）、
ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，４，６−
トリフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタ
ニウムビス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニ
ル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，
３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）、ジ（メチ
ルシクロペンタジエニル）チタニウムビス（２，４−ジ
フルオロフェニル）、ジ（メチルシクロペンタジエニ
ル）チタニウムビス（２，６−ジフルオロフェニル）、
ジ（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムビス
（２，４，６−トリフルオロフェニル）、ジ（メチルシ
クロペンタジエニル）チタニウムビス（２，３，５，６
−テトラフルオロフェニル）、ジ（メチルシクロペンタ
ジエニル）チタニウムビス（２，３，４，５，６−ペン
タフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニ
ウムビス〔２，６−ジフルオロ−３−（１−ピロリル）
フェニル〕等が挙げられ、中でも、ジシクロペンタジエ
ニル構造とビフェニル構造を有する誘導体類が好まし
く、ビフェニル環のｏ−位がハロゲン原子で置換された
ものが特に好ましい。

【０１０５】また、上記の有機硼素酸塩類としては、特
に、以下の一般式（ＸＩ）で表されるものが好ましい。

【０１０６】

【化２６】

【０１０７】上記の式（ＸＩ）中、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹及
びＲ²⁰は、各々独立して、置換基を有していてもよいア
ルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置
換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有して
いてもよいアリール基、または複素環基を示し、これら
は互いに連結して環状構造を形成していてもよく、これ
らのうち少なくとも一つは置換基を有していてもよいア
ルキル基である。Ｘｂ ⁺は対カチオンである。

【０１０８】ここで、式（ＸＩ）中のＲ¹⁷、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹
及びＲ²⁰がアルキル基であるときの炭素数は通常１〜１
５、好ましくは１〜５、アルケニル基、アルキニル基で
あるときの炭素数は通常２〜１５、好ましくは２〜５、
アリール基であるときの炭素数は通常６〜２０、好まし
くは６〜１５、複素環基であるときの炭素数は通常４〜
２０、好ましくは４〜１５であり、それらにおける置換
基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基、トリフルオロメチル基、トリメチルシリル基などが
挙げられる。

【０１０９】これらの式（ＸＩ）で表される有機硼素酸
塩の有機硼素アニオンとしては、具体的には、例えば、
ｎ−ブチル−メチル−ジフェニル硼素アニオン、ｎ−ブ
チル−トリフェニル硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス
（２，４，６−トリメチルフェニル）硼素アニオン、ｎ
−ブチル−トリス（ｐ−メトキシフェニル）硼素アニオ
ン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−フルオロフェニル）硼素
アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｍ−フルオロフェニ
ル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（３−フルオロ
−４−メチルフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−ト
リス（２，６−ジフルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ
−ブチル−トリス（２，４，６−トリフルオロフェニ
ル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，３，４，
５，６−ペンタフルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−
ブチル−トリス（ｐ−クロロフェニル）硼素アニオン、
ｎ−ブチル−トリス（トリフルオロメチル）硼素アニオ
ン、ｎ−ブチル−トリス（２，６−ジフルオロ−３−ピ
ロリルフェニル）−硼素アニオン等が挙げられる。

【０１１０】また、対カチオンＸｂ⁺としては、例え
ば、アルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオン、ホ
スホニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ヨードニ
ウムカチオン等のオニウム化合物、および、ピリリウム
カチオン、チアピリリウムカチオン、インドリウムカチ
オン等を挙げることが出来るが、テトラアルキルアンモ
ニウム等の有機アンモニウムカチオンが好ましい。ま
た、（Ｃ）成分の光重合開始剤としての有機硼素酸塩類
を光重合性組成物中に存在させる方法として、上記の有
機硼素酸塩類の有機硼素アニオンと適宜選択した対カチ
オンとの塩を配合する通常の方法の他、上記の有機硼素
酸塩類の有機硼素アニオンと（Ｂ）成分の上記の増感剤
の色素カチオンとで形成された塩を配合する方法も採用
できる。

【０１１１】光重合性組成物を構成する（Ｄ）成分の高
分子結合材は、上記（Ａ）成分のエチレン性不飽和化合
物、上記（Ｂ）成分の増感剤および上記（Ｃ）成分の光
重合開始剤等のバインダーとしての機能を有するもので
あり、その高分子結合材としては、例えば、（メタ）ア
クリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アク
リロニトリル、（メタ）アクリルアミド、マレイン酸、
スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、マレイミド等
の単独または共重合体、並びに、ポリアミド、ポリエス
テル、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキサイ
ド、アセチルセルロース等が挙げられるが、中でも、ア
ルカリ現像性の面から、カルボキシル基含有重合体が好
適であり、具体的には、（メタ）アクリル酸と（メタ）
アクリル酸アルキル（炭素数１〜１０）エステル、また
は、更にスチレンを共重合成分として含有する共重合体
が好ましく、このカルボキシル基含有重合体の酸価は１
０〜２５０、重量平均分子量は０．５〜１００万である
のが好ましい。

【０１１２】更に、高分子結合材として、側鎖にエチレ
ン性不飽和結合を有するものが好適であり、そのエチレ
ン性不飽和結合として、特に、以下の一般式（ＸＩＩ
ａ）、（ＸＩＩｂ）又は（ＸＩＩｃ）で表されるものが
好ましい。

【０１１３】

【化２７】

【０１１４】上記の式（ＸＩＩａ）、（ＸＩＩｂ）及び
（ＸＩＩｃ）中、Ｒ³⁶は、水素原子またはメチル基を示
し、Ｒ³⁷、Ｒ³⁸、Ｒ³⁹、Ｒ⁴⁰及びＲ⁴¹は、各々独立し
て、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルア
ミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ス
ルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよ
いアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ
基、置換基を有していてもよいアルキルアミノ基、置換
基を有していてもよいアルキルスルホニル基、置換基を
有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよ
いアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアリー
ルアミノ基、または、置換基を有していてもよいアリー
ルスルホニル基を示し、Ｚ⁹は、酸素原子、硫黄原子、
イミノ基またはアルキルイミノ基を示す。

【０１１５】ここで、Ｒ³⁷〜Ｒ⁴¹におけるアルキル基、
アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルスルホニル
基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアミノ
基、アリールスルホニル基の置換基としては、例えば、
アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ
基、ジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、フェニ
ル義、および、ハロゲン原子などが挙げられる。

【０１１６】上記の式（ＸＩＩａ）で表されるエチレン
性不飽和結合を側鎖に有する高分子結合材は、カルボキ
シル基含有重合体に、アリルグリシジルエーテル、グリ
シジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル
（メタ）アクリレート、グリシジルクロトネート、グリ
シジルイソクロトネート、クロトニルグリシジルエーテ
ル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、
フマル酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイ
ン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等の脂肪族エ
ポキシ基含有不飽和化合物、または、３，４−エポキシ
シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２，３−
エポキシシクロペンチルメチル（メタ）アクリレート、
７，８−エポキシ〔トリシクロ［５．２．１．０］デシ
−２−イル〕（メタ）アクリレート、７，８−エポキシ
〔トリシクロ［５．２．１．０］デシ−２−イル〕オキ
シメチル（メタ）アクリレート等の脂環式エポキシ基含
有不飽和化合物等を、８０〜１２０℃程度の温度、１〜
５０時間程度の時間で、カルボキシル基含有重合体の有
するカルボキシル基の５〜９０モル％、好ましくは３０
〜７０モル％程度を反応させることにより得られる。

【０１１７】また、上記の式（ＸＩＩｂ）で表されるエ
チレン性不飽和結合を側鎖に有する高分子結合材は、ア
リル（メタ）アクリレート、３−アリルオキシ−２−ヒ
ドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シンナミル
（メタ）アクリレート、クロトニル（メタ）アクリレー
ト、メタリル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジアリル
（メタ）アクリルアミド等の２種以上の不飽和基を有す
る化合物と、また、上記の式（ＸＩＩｃ）で表されるエ
チレン性不飽和結合を側鎖に有する高分子結合材は、ビ
ニル（メタ）アクリレート、１−クロロビニル（メタ）
アクリレート、２−フェニルビニル（メタ）アクリレー
ト、１−プロペニル（メタ）アクリレート、ビニルクロ
トネート、ビニル（メタ）アクリルアミド等の２種以上
の不飽和基を有する化合物と、それぞれ、（メタ）アク
リル酸などの不飽和カルボン酸、または、更に不飽和カ
ルボン酸エステルとを、前者の不飽和基を有する化合物
の全体に占める割合を１０〜９０モル％、好ましくは３
０〜８０モル％程度となる様に共重合させることにより
得られる。

【０１１８】光重合性組成物としての（Ａ）成分の上記
エチレン性不飽和化合物、（Ｂ）成分の上記の増感剤、
（Ｃ）成分の上記の光重合開始剤および（Ｄ）成分の上
記の高分子結合材の各含有割合は、（Ａ）成分のエチレ
ン性不飽和化合物１００重量部に対して、（Ｂ）成分の
増感剤が、好ましくは０．０１〜２０重量部、更に好ま
しくは０．０５〜１０重量部、（Ｃ）成分の光重合開始
剤が、好ましくは０．１〜８０重量部、更に好ましくは
０．５〜６０重量部、（Ｄ）成分の高分子結合材が、好
ましくは１０〜４００重量部、更に好ましくは２０〜２
００重量部の範囲である。

【０１１９】また、光重合性組成物は、上記の成分以外
に、光重合開始能力の向上を目的として、更に、水素供
与性化合物（Ｅ）成分を含有していてもよく、その水素
供与性化合物としては、例えば、２−メルカプトベンゾ
チアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−
メルカプトベンゾオキサゾール、３−メルカプト−１，
２，４−トリアゾール、２−メルカプト−４（３Ｈ）−
キナゾリン、β−メルカプトナフタレン、エチレングリ
コールジチオプロピオネート、トリメチロールプロパン
トリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテト
ラキスチオプロピオネート等のメルカプト基含有化合物
類、ヘキサンジチオール、トリメチロールプロパントリ
スチオグリコネート、ペンタエリスリトールテトラキス
チオプロピオネート等の多官能チオール化合物類、Ｎ，
Ｎ−ジアルキルアミノ安息香酸エステル、Ｎ−フェニル
グリシン、又はそのアンモニウムやナトリウム塩などの
塩、同上のエステル等の誘導体、フェニルアラニン、又
はそのアンモニウムやナトリウム塩等の塩、同上のエス
テル等の誘導体などの芳香族環を有するアミノ酸または
その誘導体類などが挙げられる。中でも、メルカプト基
含有化合物類、および、Ｎ−フェニルグリシン、又はそ
のアンモニウムやナトリウム塩等の塩、同上のエステル
等の誘導体が好ましい。

【０１２０】光重合性組成物としての上記（Ｅ）成分の
水素供与性化合物の含有割合は、上記（Ａ）成分のエチ
レン性不飽和化合物１００重量部に対して、０．１〜５
０重量部であるのが好ましく、０．５〜３０重量部であ
るのが更に好ましい。

【０１２１】また、光重合性組成物は、上記の成分以外
に、光重合性組成物に保存安定性を付与することを目的
として、更に、アミン化合物（Ｆ）成分を含有していて
もよく、そのアミン化合物としては、脂肪族、脂環式、
または芳香族アミンの何れでもよく、また、モノアミン
に限定されず、ジアミン、トリアミン等のポリアミンで
あってもよく、また、第１アミン、第２アミン、第３ア
ミンの何れであってもよいが、ｐＫｂ（解離定数）が７
以下であるものが好ましい。

【０１２２】そのアミン化合物としては、具体的には、
例えば、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルア
ミン、アミルアミン、ジアミルアミン、トリアミルアミ
ン、ヘキシルアミン、ジヘキシルアミン、トリヘキシル
アミン、アリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルア
ミン、トリエタノールアミン、ベンジルアミン、ジベン
ジルアミン、トリベンジルアミン等、水酸基またはフェ
ニル基で置換されていてもよい脂肪族アミンが挙げられ
る。中でも、トリベンジルアミンが好ましい。

【０１２３】光重合性組成物としての上記（Ｆ）成分の
アミン化合物の含有割合は、上記（Ａ）成分のエチレン
性不飽和化合物１００重量部に対して、０．１〜２０重
量部であるのが好ましく、０．５〜１０重量部であるの
が更に好ましい。

【０１２４】更に、上記の光重合性組成物としては、各
種添加剤、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェ
ノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等の
熱重合防止剤を、（Ａ）成分のエチレン性不飽和化合物
１００重量部に対して２重量部以下、有機または無機の
染顔料からなる着色剤を同じく２０重量部以下、ジオク
チルフタレート、ジドデシルフタレート、トリクレジル
ホスフェート等の可塑剤を同じく４０重量部以下、三級
アミンやチオール等の感度特性改善剤、フッ素系の界面
活性剤などの塗布性改良剤や現像促進剤を同じく１０重
量部以下、色素前駆体を同じく３０重量部以下、の割合
で含有していてもよい。

【０１２５】上記の光重合性組成物は、通常、上記の各
成分を適当な溶剤に溶解或いは分散させた塗布液とし
て、上記アルミニウム支持体表面に塗布した後、加熱、
乾燥させることにより、アルミニウム支持体表面に上記
の光重合性組成物からなる感光性層が形成されたネガ型
感光性平版印刷版とされる。

【０１２６】ここで、その溶剤としては、使用成分に対
して十分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるもので
あれば特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチ
ルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶剤、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテ
ル等のプロピレングリコール系溶剤、酢酸ブチル、酢酸
アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレー
ト、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレ
ート、エチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、３−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶
剤、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコー
ル、フルフリルアルコール等のアルコール系溶剤、シク
ロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶剤、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ
チルピロリドン等の高極性溶剤、或いはこれらの混合溶
剤、更にはこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が
挙げられる。溶剤の使用割合は、光重合性組成物の総量
に対して、通常、重量比で１〜２０倍程度の範囲であ
る。

【０１２７】また、その塗布方法としては、従来公知の
方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ
塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、
及びカーテン塗布などを採用することが出来る。塗布量
は用途により異なるが、乾燥膜厚は、通常は０．３〜７
μｍ、好ましくは０．５〜５μｍ、特に好ましくは１〜
３μｍの範囲とされる。なお、その際の乾燥温度は、例
えば、６０〜１７０℃程度、好ましくは７０〜１５０℃
程度とされ、乾燥時間は、例えば、５秒〜１０分間程
度、好ましくは１０秒〜５分間程度とされる。

【０１２８】ネガ型感光性平版印刷版は、上記の様にア
ルミニウム支持体表面に形成された光重合性組成物の感
光性層上に、光重合性組成物の酸素による重合禁止作用
を防止するための酸素遮断層が形成されていてもよい。

【０１２９】その酸素遮断層を構成するものとしては、
水、または、水と、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、イソノニルアルコール等のアルコールやテトラヒ
ドロフラン等の水混和性有機溶剤との混合溶剤に可溶の
水溶性高分子であって、具体的には、例えば、ポリビニ
ルアルコール、及びその部分アセタール化物、４級アン
モニウム塩などによるそのカチオン変性物、スルホン酸
ナトリウム等によるそのアニオン変性物などの誘導体、
ポリピニルピロリドン、ポリエチレンオキサイド、メチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等
が挙げられる。

【０１３０】それらの中で、酸素遮断性などの面からポ
リビニルアルコール及びその誘導体が好ましく、また、
その鹸化度が７０モル％以上、更には８０モル％以上で
あって、その重量平均分子量が０．２〜５０万、更には
０．４〜１０万であるものが好ましい。

【０１３１】また、上記の酸素遮断層としては、ポリビ
ニルアルコール及びその誘導体の含有割合が３０重量％
以上であるのが好ましく、４０〜１００重量％であるの
が更に好ましい。また、感光性層との密着性などの面か
ら、ポリビニルピロリドンやビニルピロリドン−酢酸ビ
ニル共重合体などのビニルピロリドン系重合体、アクリ
ル系重合体エマルジョン、ジイソシアネート化合物、ｐ
−トルエンスルホン酸、ヒドロキシ酢酸などを含有する
のが好ましく、それらの中でビニルピロリドン系重合体
が好ましく、更には、ビニルピロリドン系重合体の含有
割合が０．１〜７０重量％であるのが好ましく、５〜６
０重量％であるのがより好ましい。

【０１３２】更にまた、酸素遮断層としては、保存性付
与等の面から、琥珀酸等の有機酸やエチレンジアミンテ
トラ酢酸等の有機酸塩などを含有するのが好ましく、ま
た、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の
ノニオン性、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等
のアニオン性、アルキルトリメチルアンモニウムクロラ
イド等のカチオン性等の界面活性剤、消泡剤、色素、可
塑剤、ｐＨ調整剤などを含有していてもよく、それらの
合計含有割合は、１０重量％以下であるのが好ましく、
５重量％以下であるのが更に好ましい。

【０１３３】上記の酸素遮断層は、水または水と水混和
性有機溶剤との混合溶剤の溶液として、前述の感光性層
と同様の塗布法によって形成され、その塗布量は、乾燥
膜厚として１〜１０ｇ／ｍ²の範囲とするのが好まし
く、１．５〜７ｇ／ｍ²の範囲とするのが更に好まし
い。

【０１３４】また、本発明において、アルミニウム支持
体の表面に形成される感光性層がネガ型の場合、感光性
層は、以下の（Ａ）成分および（Ｂ）成分を含有するポ
ジ型感光性組成物によって構成される。

【０１３５】

【表２】 （Ａ）画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光熱変
換物質 （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂

【０１３６】上記の（Ａ）成分の光熱変換物質として
は、画像露光光源の光を吸収して熱に変換し得る化合物
であれば特に限定されないが、波長域６００〜１３００
ｎｍの範囲の一部または全部に吸収帯を有する有機また
は無機の染顔料、有機色素、金属、金属酸化物、金属炭
化物、金属硼化物などが挙げられる。中でも、光吸収色
素が特に有効である。これらの光吸収色素は、上記の波
長域の光を効率よく吸収する一方、紫外線領域の光は殆
ど吸収しないか、または、吸収しても実質的に感応せ
ず、白色灯に含まれる様な弱い紫外線によっては感光性
組成物を変性させる作用のない化合物である。

【０１３７】上記の光吸収色素としては、前述の光吸収
色素と同様に、窒素原子、酸素原子または硫黄原子など
の複素原子がポリメチン（−ＣＨ＝）_n鎖で結合された
構造を基本構造とするものであり、代表的には、その複
素原子が複素環を形成し、ポリメチン鎖を介して複素環
が結合された構造のいわゆる広義のシアニン系色素、具
体的には、例えば、キノリン系（いわゆる狭義のシアニ
ン系）、インドール系（いわゆるインドシアニン系）、
ベンゾチアゾール系（いわゆるチオシアニン系）、ピリ
リウム系、チオピリリウム系、スクアリリウム系、クロ
コニウム系、アズレニウム系等、および、ポリメチン鎖
を介して非環式複素原子が結合された構造のいわゆるポ
リメチン系色素などが挙げられ、中でも、キノリン系、
インドール系、ベンゾチアゾール系、ピリリウム系、チ
オピリリウム系等のシアニン系色素、及びポリメチン系
色素が好ましい。

【０１３８】また、その他に、ジイミニウム系色素、フ
タロシアニン系色素等も代表的なものとして挙げられ、
中で、ジイミニウム系色素が好ましい。

【０１３９】上記シアニン系色素の中、キノリン系色素
としては、前述の色素と同様に、特に、以下の一般式
（Ｉａ）、（Ｉｂ）又は（Ｉｃ）で表されるものが好ま
しい。

【０１４０】

【化２８】

【０１４１】上記の式（Ｉａ）、（Ｉｂ）及び（Ｉｃ）
中、Ｒ¹及びＲ²は、各々独立して、置換基を有していて
もよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニ
ル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、また
は、置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｌ¹
は、置換基を有していてもよいトリ、ペンタ、ヘプタ、
ノナ又はウンデカメチン基を示し、ペンタ、ヘプタ、ノ
ナ又はウンデカメチン基上の２つの置換基は、互いに連
結して炭素数５〜７のシクロアルケン環を形成していて
もよく、キノリン環は、置換基を有していてもよく、そ
の場合、隣接する２つの置換基が互いに連結して縮合ベ
ンゼン環を形成していてもよい。Ｘ^-は対アニオンを示
す。〕

【０１４２】ここで、式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、及び（Ｉ
ｃ）中のＲ¹及びＲ²がアルキル基であるときの炭素数は
通常１〜１５、好ましくは１〜１０、アルケニル基、ア
ルキニル基であるときの炭素数は通常２〜１５、好まし
くは２〜１０であり、フェニル基も含めたそれらの置換
基としては、炭素数が通常１〜１５、好ましくは１〜１
０のアルコキシ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基、また
はフェニル基などが挙げられ、Ｌ¹における置換基とし
ては、同上炭素数のアルキル基、アミノ基、またはハロ
ゲン原子などが挙げられ、キノリン環における置換基と
しては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素数のアルコ
キシ基、ニトロ基、またはハロゲン原子などが挙げられ
る。

【０１４３】また、インドール系およびベンゾチアゾー
ル系色素としては、前述の色素と同様に、特に、以下の
一般式（ＩＩ）で表されるものが好ましい。

【０１４４】

【化２９】

【０１４５】上記の式（ＩＩ）中、Ｙ¹及びＹ²は、各々
独立して、ジアルキルメチレン基または硫黄原子を示
し、Ｒ³及びＲ⁴は、各々独立して、置換基を有していて
もよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニ
ル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、または
置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｌ²は、
置換基を有していてもよいトリ、ペンタ、ヘプタ、ノナ
又はウンデカメチン基を示し、ペンタ、ヘプタ、ノナ又
はウンデカメチン基上の２つの置換基は、互いに連結し
て炭素数５〜７のシクロアルケン環を形成していてもよ
く、縮合ベンゼン環は、置換基を有していてもよく、そ
の場合、隣接する２つの置換基が互いに連結して縮合ベ
ンゼン環を形成していてもよい。Ｘ^-は対アニオンを示
す。

【０１４６】ここで、式（ＩＩ）中のＲ³及びＲ⁴がアル
キル基であるときの炭素数は通常１〜１５、好ましくは
１〜１０、アルケニル基、アルキニル基であるときの炭
素数は通常２〜１５、好ましくは２〜１０であり、フェ
ニル基も含めたそれらの置換基としては、炭素数が通常
１〜１５、好ましくは１〜１０のアルコキシ基、フェノ
キシ基、ヒドロキシ基、またはフェニル基などが挙げら
れ、Ｌ²における置換基としては、同上炭素数のアルキ
ル基、アミノ基、またはハロゲン原子などが挙げられ、
縮合ベンゼン環における置換基としては、同上炭素数の
アルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ基、ま
たはハロゲン原子などが挙げられる。

【０１４７】また、ピリリウム系およびチオピリリウム
系色素としては、前述の色素と同様に、特に、以下の一
般式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）、又は（ＩＩＩｃ）で
表されるものが好ましい。

【０１４８】

【化３０】

【０１４９】上記の式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）、及
び（ＩＩＩｃ）中、Ｚ¹及びＺ²は、各々独立して、酸素
原子または硫黄原子を示し、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸は、
各々独立して、水素原子またはアルキル基、あるいは、
Ｒ⁵とＲ⁷及びＲ⁶とＲ⁸が互いに連結して炭素数５又は６
のシクロアルケン環を形成していてもよく、Ｌ³は、置
換基を有していてもよいモノ、トリ、ペンタ又はヘプタ
メチン基を示し、トリ、ペンタ又はヘプタメチン基上の
２つの置換基は、互いに連結して炭素数５〜７のシクロ
アルケン環を形成していてもよく、ピリリウム環および
チオピリリウム環は置換基を有していてもよく、その場
合、隣接する２つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼ
ン環を形成していてもよい。Ｘ^-は対アニオンを示す。

【０１５０】ここで、式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）、
及び（ＩＩＩｃ）中のＲ⁵、Ｒ⁶、Ｒ ⁷及びＲ⁸がアルキル
基であるときの炭素数は通常１〜１５、好ましくは１〜
１０であり、Ｌ³における置換基としては、同上炭素数
のアルキル基、アミノ基またはハロゲン原子などが挙げ
られ、ピリリウム環およびチオピリリウム環における置
換基としては、フェニル基、ナフチル基等のアリール基
などが挙げられる。

【０１５１】また、ポリメチン系色素としては、前述の
色素と同様に、特に、以下の一般式（ＩＶ）で表される
ものが好ましい。

【０１５２】

【化３１】

【０１５３】上記の式（ＩＶ）中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹及
びＲ¹²は、各々独立してアルキル基を示し、Ｒ¹³及びＲ
¹⁴は、各々独立して、置換基を有していてもよいアリー
ル基、フリル基、またはチエニル基を示し、Ｌ⁴は、置
換基を有していてもよいモノ、トリ、ペンタ又はヘプタ
メチン基を示し、トリ、ペンタ又はヘプタメチン基上の
２つの置換基は、互いに連結して炭素数５〜７のシクロ
アルケン環を形成していてもよく、キノン環およびベン
ゼン環は置換基を有していてもよい。Ｘ^-は対アニオン
を示す。

【０１５４】ここで、式（ＩＶ）中のＲ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹
及びＲ¹²のアルキル基の炭素数は通常１〜１５、好まし
くは１〜１０、Ｒ¹³及びＲ¹⁴がアリール基であるときの
炭素数は通常６〜２０、好ましくは６〜１５であり、Ｒ
¹³及びＲ¹⁴として、具体的には、フェニル基、１−ナフ
チル基、２−ナフチル基、２−フリル基、３−フリル
基、２−チエニル基、３−チエニル基などが挙げられ、
それらの置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同
上炭素数のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロ
キシ基、又はハロゲン原子などが挙げられ、Ｌ⁴におけ
る置換基としては、同上炭素数のアルキル基、アミノ
基、又はハロゲン原子などが挙げられ、キノン環および
ベンゼン環における置換基としては、同上炭素数のアル
キル基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ基またはハ
ロゲン原子などが挙げられる。

【０１５５】更に、ジイミニウム系色素としては、特
に、Ｎ，Ｎ−ジアリールイミニウム塩骨格を少なくとも
１個有する以下の一般式（Ｖａ）又は（Ｖｂ）で表され
るものが好ましい。

【０１５６】

【化３２】

【０１５７】上記の式（Ｖａ）及び（Ｖｂ）中、Ｒ¹⁵、
Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸は、各々独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換
基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有してい
てもよいアルキニル基、または、置換基を有していても
よいアルコキシ基を示し、Ｒ¹⁹及びＲ²⁰は、各々独立し
て、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよ
いアルキニル基、置換基を有していてもよいアルコキシ
基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、また
は、置換基を有していてもよいフェニル基を示し、ベン
ゼン環およびイミノキノン環は置換基を有していてもよ
い。Ｘ^-は対アニオンを示す。なお、式（Ｖｂ）中の電
子結合（点線）は他の電子結合との共鳴状態を示す。

【０１５８】ここで、式（Ｖａ）、及び（Ｖｂ）中のＲ
¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹及びＲ ²⁰がアルキル基、ア
ルコキシ基であるときの炭素数は通常１〜１５、好まし
くは１〜１０、アルケニル基、アルキニル基であるとき
の炭素数は通常２〜１５、好ましくは２〜１０であり、
それらにおける置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、同上炭素数のアルコキシ基、カルボキシ基、アシル
オキシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、ハロゲン化アルキル基、ま
たはハロゲン原子などが挙げられ、ベンゼン環およびイ
ミノキノン環における置換基としては、同上炭素数のア
ルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、アシル基、ニト
ロ基、またはハロゲン原子などが挙げられる。

【０１５９】上記ジイミニウム系色素の中では、上記の
一般式（Ｖａ）、及び（Ｖｂ）中のＲ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷及
びＲ¹⁸がアルキル基で、Ｒ¹⁹及びＲ²⁰もアルキル基であ
るか、Ｒ¹⁹及びＲ²⁰がジアルキルアミノ基を置換基とし
て有するフェニル基であるものが特に好ましい。

【０１６０】なお、上記の一般式（Ｉａ〜ｃ）、（Ｉ
Ｉ）、（ＩＩＩａ〜ｃ）、（ＩＶ）及び（Ｖａ〜ｂ）に
おける対アニオンＸ^-としては、例えば、Ｃｌ^-、Ｂ
ｒ^-、Ｉ^-、ＣｌＯ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、お
よび、ＢＦ₄ ^-、ＢＣｌ₄ ^-等の無機硼酸等の無機酸アニオ
ン、並びに、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸、酢酸、および、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、フェニル、メトキシフェニ
ル、ナフチル、フルオロフェニル、ジフルオロフェニ
ル、ペンタフルオロフェニル、チエニル、ピロリル等の
有機基を有する有機硼酸等の有機酸アニオンを挙げるこ
とが出来る。

【０１６１】また、上記の一般式（Ｉａ〜ｃ）、（Ｉ
Ｉ）、（ＩＩＩａ〜ｃ）及び（ＩＶ）においては、
Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴のポリメチン鎖上に、以下の一般
式（ＶＩ）で表されるバルビツル酸アニオン基またはチ
オバルビツル酸アニオン基を置換基として有することに
より、または、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴のポリメチン鎖中
に、以下の一般式（ＶＩＩ）で表されるスクエア酸アニ
オン基またはチオスクエア酸アニオン基、或いは、以下
の一般式（ＶＩＩＩ）で表されるクロコン酸アニオン基
またはチオクロコン酸アニオン基を形成することによ
り、分子内塩を形成していてもよい。

【０１６２】

【化３３】

【０１６３】上記の式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、及び（Ｖ
ＩＩＩ）中、Ｚ³、Ｚ⁴、Ｚ⁵、Ｚ⁶、Ｚ⁷及びＺ⁸は、各々
独立して酸素原子または硫黄原子を示し、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶
は、各々独立して、水素原子、置換基を有していてもよ
いアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル
基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、または置
換基を有していてもよいフェニル基を示す。

【０１６４】ここで、式（ＶＩ）中のＲ²¹及びＲ²²がア
ルキル基、アルコキシ基であるときの炭素数は通常１〜
１５、好ましくは１〜５、アルケニル基であるときの炭
素数は通常２〜１５、好ましくは２〜５であるが、アル
キル基であるのが好ましく、そのアルキル基としては、
具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、または
ブチル基などが挙げられる。

【０１６５】上記の一般式（Ｉａ〜ｃ）で表されるキノ
リン系、上記の一般式（ＩＶ）で表されるインドール系
またはベンゾチアゾール系、上記の一般式（ＩＩＩａ〜
ｃ）で表されるピリリウム系またはチオピリリウム系な
どのシアニン系色素、および、上記の一般式（ＩＶ）で
表されるポリメチン系色素、及び上記の一般式（Ｖａ〜
ｂ）で表されるポリメチン系色素の中で、本発明におい
ては、上記の一般式（ＩＩ）で表されるインドール系ま
たはベンゾチアゾール系のシアニン色素が特に好まし
い。

【０１６６】なお、上記の一般式（Ｉａ〜ｃ）で表され
るキノリン系、上記の一般式（ＩＩ）で表されるインド
ール系またはベンゾチアゾール系、上記の一般式（ＩＩ
Ｉａ〜ｃ）で表されるピリリウム系またはチオピリリウ
ム系等のシアニン系色素、および、上記の一般式（Ｉ
Ｖ）で表されるポリメチン系色素、ならびに、上記の一
般式（Ｖａ〜ｂ）で表されるジイミニウム系色素の各具
体例を以下に示す。

【０１６７】

【化３４】

【０１６８】

【化３５】

【０１６９】

【化３６】

【０１７０】

【化３７】

【０１７１】

【化３８】

【０１７２】

【化３９】

【０１７３】

【化４０】

【０１７４】

【化４１】

【０１７５】

【化４２】

【０１７６】

【化４３】

【０１７７】

【化４４】

【０１７８】

【化４５】

【０１７９】本発明において、ポジ型感光性組成物にお
ける上記（Ａ）成分の光熱変換物質の含有割合は、０．
５〜３０重量％であるのが好ましく、１〜２０重量％で
あるのが更に好ましく、２〜１０重量％であるのが特に
好ましい。

【０１８０】また、上記（Ｂ）成分のアルカリ可溶性樹
脂としては、フェノール性水酸基を有する樹脂、具体的
には、例えば、ノボラック樹脂、レゾール樹脂などのフ
ェノール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、フェノール
性水酸基を有するアクリル酸誘導体の共重合体などが好
ましく、中でも、ノボラック樹脂、レゾール樹脂などの
フェノール樹脂またはポリビニルフェノール樹脂が好ま
しく、フェノール樹脂が更に好ましく、ノボラック樹脂
が特に好ましい。

【０１８１】ノボラック樹脂は、例えば、フェノール、
ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、
２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、ｏ−エ
チルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフ
ェノール、プロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノー
ル、ｔ−ブチルフェノール、１−ナフトール、２−ナフ
トール、４，４’−ビフェニルジオール、ビスフェノー
ル−Ａ、ピロカテコール、レゾルシノール、ハイドロキ
ノン、ピロガロール、１，２，４−ベンゼントリオー
ル、フロログルシノール等のフェノール類の少なくとも
１種を、酸触媒下、例えば、ホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒ
ド、フルフラール等のアルデヒド類（なお、ホルムアル
デヒドに代えてパラホルムアルデヒドを、アセトアルデ
ヒドに代えてパラアルデヒドを、用いてもよい。）、ま
たは、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン等のケトン類、の少なくとも１種と重縮合させ
た樹脂であって、中でも、本発明においては、フェノー
ル類としてのフェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾ
ール、ｐ−クレゾール、２，５−キシレノール、３，５
−キシレノール、レゾルシノールと、アルデヒド類また
はケトン類としてのホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒドとの重縮合体が好ましい。

【０１８２】特に、ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾール：
２，５−キシレノール：３，５−キシレノール：レゾル
シノールの混合割合がモル比で４０〜１００：０〜５
０：０〜２０：０〜２０：０〜２０の混合フェノール
類、または、フェノール：ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾ
ールの混合割合がモル比で１〜１００：０〜７０：０〜
６０の混合フェノール類と、ホルムアルデヒドとの重縮
合体が好ましく、また、後述する如く感光性組成物は溶
解抑止剤を含有していてもよく、その場合、ｍ−クレゾ
ール：ｐ−クレゾール：２，５−キシレノール：３，５
−キシレノール：レゾルシノールの混合割合がモル比で
７０〜１００：０〜３０：０〜２０：０〜２０：０〜２
０の混合フェノール類、または、フェノール：ｍ−クレ
ゾール：ｐ−クレゾールの混合割合がモル比で１０〜１
００：０〜６０：０〜４０の混合フェノール類と、ホル
ムアルデヒドとの重縮合体が好ましい。

【０１８３】上記ノボラック樹脂は、ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィー測定によるポリスチレン換算の
重量平均分子量（ＭＷ）が１，０００〜１５，０００の
ものが好ましく、１，５００〜１０，０００のものが更
に好ましい。

【０１８４】また、レゾール樹脂は、ノボラック樹脂の
重縮合における酸触媒に代えてアルカリ触媒を用いる以
外は同様にして重縮合させた樹脂であって、上記ノボラ
ック樹脂におけると同様のフェノール類およびその混合
組成、ならびに、アルデヒド類またはケトン類が好まし
く、また、同様の重量平均分子量（ＭＷ）のものが好ま
しい。

【０１８５】また、ポリビニルフェノール樹脂は、例え
ば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレ
ン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ジヒドロキシスチレン、
トリヒドロキシスチレン、テトラヒドロキシスチレン、
ペンタヒドロキシスチレン、２−（ｏ−ヒドロキシフェ
ニル）プロピレン、２−（ｍ−ヒドロキシフェニル）プ
ロピレン、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロピレン
等のヒドロキシスチレン類（なお、これらは、ベンゼン
環に塩素、臭素、沃素、弗素等のハロゲン原子、或いは
炭素数１〜４のアルキル基を置換基として有していても
よい。）の単独または２種以上を、ラジカル重合開始剤
またはカチオン重合開始剤の存在下で重合させた樹脂で
あって、中でも、ベンゼン環に炭素数１〜４のアルキル
基を置換基として有していてもよいヒドロキシスチレン
類の重合体が好ましく、特に、無置換のベンゼン環のヒ
ドロキシスチレン類の重合体が好ましい。また、重量平
均分子量（ＭＷ）が１，０００〜１００，０００のもの
が好ましく、１，５００〜５０，０００のものが更に好
ましい。

【０１８６】ポジ型感光性組成物における上記（Ｂ）成
分のアルカリ可溶性樹脂の含有割合は、５０〜９９重量
％であるのが好ましく、６０〜９８重量％であるのが更
に好ましく、７０〜９７重量％であるのが特に好まし
い。

【０１８７】また、上記（Ａ）成分の光熱変換物質と上
記（Ｂ）成分のアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型感
光性組成物には、露光部と非露光部のアルカリ現像液に
対する溶解性の差を増大させる目的で、赤外領域の光で
分解されない溶解抑止剤が含有されていてもよい。

【０１８８】上記の溶解抑止剤としては、例えば、特開
平１０−２６８５１２号、特開平１１−２８８０８９号
の各公報に詳細に記載されているスルホン酸エステル
類、燐酸エステル類、芳香族カルボン酸エステル類、芳
香族ジスルホン類、カルボン酸無水物類、芳香族ケトン
類、芳香族アルデヒド類、芳香族アミン類、芳香族エー
テル類、トリアリールメタン骨格を有する化合物類な
ど、特開平１１−１９０９０３号公報に詳細に記載され
ている、ラクトン骨格、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミド骨
格、ジアリールメチルイミノ骨格を有する酸発色性色素
類、特開平１１−１４３０７６号公報に詳細に記載され
ている、ラクトン骨格、チオラクトン骨格、スルホラク
トン骨格を有する塩基発色性色素類などを挙げることが
出来る。

【０１８９】更に、溶解抑止剤として、例えば、ポリエ
チレングリコール類、ポリエチレングリコールポリプロ
ピレングリコールブロックコポリマー類、ポリエチレン
グリコールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコー
ルポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、ポリ
エチレングリコールアルキルフェニルエーテル類、ポリ
エチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリエチレング
リコールアルキルアミン類、ポリエチレングリコールア
ルキルアミノエーテル類、グリセリン脂肪酸エステル及
びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ソルビタン脂
肪酸エステル及びそのポリエチレンオキサイド付加物
類、ソルビット脂肪酸エステル及びそのポリエチレンオ
キサイド付加物類、ペンタエリスリット脂肪酸エステル
及びそのポリエチレンオキサイド付加物類、ポリグリセ
リン脂肪酸エステル類等のノニオン性界面活性剤が挙げ
られる。

【０１９０】ポジ型感光性組成物における上記の溶解抑
止剤の含有割合は、５０重量％以下であるのが好まし
く、０．０１〜３０重量％であるのが更に好ましく、
０．１〜２０重量％であるのが特に好ましい。

【０１９１】また、上記（Ａ）成分の光熱変換物質と上
記（Ｂ）成分のアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型感
光性組成物には、アンダー現像性の付与等の現像性の改
良を目的として、好ましくはｐＫａが２以上の有機酸お
よびその有機酸の無水物が含有されていてもよい。

【０１９２】上記の有機酸およびその無水物としては、
例えば、特開昭６０−８８９４２号、特開昭６３−２７
６０４８号、特開平２−９６７５４号の各公報等に記載
されたものが使用される。具体的には、グリセリン酸、
メチルマロン酸、ジメチルマロン酸、プロピルマロン
酸、コハク酸、リンゴ酸、メソ酒石酸、グルタル酸、β
−メチルグルタル酸、β，β−ジメチルグルタル酸、β
−エチルグルタル酸、β，β−ジエチルグルタル酸、β
−プロピルグルタル酸、β，β−メチルプロピルグルタ
ル酸、ピメリン酸、スベリン酸、セバシン酸などの脂肪
族飽和カルボン酸、マレイン酸、フマル酸、グルタコン
酸などの脂肪族不飽和カルボン酸、１，１−シクロブタ
ンジカルボン酸、１，３−シクロブタンジカルボン酸、
１，１−シクロペンタンジカルボン酸、１，２−シクロ
ペンタンジカルボン酸、１，１−シクロヘキサンジカル
ボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３
−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサ
ンジカルボン酸などの炭素環式飽和カルボン酸、１，２
−シクロヘキセンジカルボン酸、２，３−ジヒドロキシ
安息香酸、３，４−ジメチル安息香酸、３，４−ジメト
キシ安息香酸、３，５−ジメトキシ安息香酸、ｐ−トル
イル酸、２−ヒドロキシ−ｐ−トルイル酸、２−ヒドロ
キシ−ｍ−トルイル酸、２−ヒドロキシ−ｏ−トルイル
酸、マンデル酸、没食子酸、フタル酸、イソフタル酸、
テレフタル酸などの炭素環式不飽和カルボン酸、およ
び、メルドラム酸、アスコルビン酸、無水コハク酸、無
水グルタル酸、無水マレイン酸、シクロヘキセンジカル
ボン酸無水物、シクロヘキサンジカルボン酸無水物、無
水フタル酸などの無水物が挙げられる。

【０１９３】ポジ型感光性組成物における上記の有機酸
またはその無水物の含有割合は、３０重量％以下である
のが好ましく、２０重量％以下であるのが更に好まし
く、１０重量％以下であるのが特に好ましい。

【０１９４】また、上記（Ａ）成分の光熱変換物質と上
記（Ｂ）成分のアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型感
光性組成物には、例えば、ビクトリアピュアブルー（４
２５９５）、クリスタルバイオレット（４２５５５）、
クリスタルバイオレットラクトン、オーラミンＯ（４１
０００）、カチロンブリリアントフラビン（ベーシック
１３）、ローダミン６ＧＣＰ（４５１６０）、ローダミ
ンＢ（４５１７０）、サフラニンＯＫ７０：１００（５
０２４０）、エリオグラウシンＸ（４２０８０）、ファ
ーストブラックＨＢ（２６１５０）、Ｎｏ．１２０／リ
オノールイエロー（２１０９０）、リオノールイエロー
ＧＲＯ（２１０９０）、シムラーファーストイエロー８
ＧＦ（２１１０５）、ベンジジンイエロー４Ｔ−５６４
Ｄ（２１０９５）、シムラーファーストレッド４０１５
（１２３５５）、リオノールレッドＢ４４０１（１５８
５０）、ファーストゲンブルーＴＧＲ−Ｌ（７４１６
０）、リオノールブルーＳＭ（２６１５０）等の顔料ま
たは染料等の着色剤が含有されていてもよい。なお、上
記の括弧内の数字はカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）を
意味する。

【０１９５】ポジ型感光性組成物における上記の着色剤
の含有割合は、５０重量％以下であるのが好ましく、
０．５〜３０重量％であるのが更に好ましく、２〜２０
重量％であるのが特に好ましい。

【０１９６】また、上記（Ａ）成分の光熱変換物質と上
記（Ｂ）成分のアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型感
光性組成物には、アルカリ可溶製樹脂が上記フェノール
樹脂であるとき、露光および現像後の後加熱により前記
の樹脂を架橋させてポジ画像に耐薬品性、耐刷性等を付
与することを目的として、フェノール樹脂を架橋させる
作用を有する架橋剤が含有されていてもよく、その架橋
剤としては、代表的には、官能基としてメチロール基、
それをアルコール縮合変性したアルコキシメチル基、そ
の他、アセトキシメチル基などを少なくとも２個有する
アミノ化合物が挙げられる。具体的には、メラミン誘導
体、例えば、メトキシメチル化メラミン（三井サイテッ
ク社製のサイメル３００シリーズ（１）等）、ベンゾグ
アナミン誘導体（メチル／エチル混合アルコキシ化ベン
ゾグアナミン樹脂（三井サイテック社製のサイメル１１
００シリーズ（２）等））、グリコールウリル誘導体
（テトラメチロールグリコールウリル樹脂（三井サイテ
ック社製のサイメル１１００シリーズ（３）等））、尿
素樹脂誘導体、レゾール樹脂などが挙げられる。

【０１９７】ポジ型感光性組成物における上記の架橋剤
の含有割合は、２０重量％以下であるのが好ましく、１
０重量％以下であるのが更に好ましく、５重量％以下で
あるのが特に好ましい。

【０１９８】また、上記（Ａ）成分の光熱変換物質と上
記（Ｂ）成分のアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型感
光性組成物には、感度の向上や現像性の改良等を目的と
して、陰イオン性、非イオン性、或いは両性等の界面活
性剤が含有されていてもよい。

【０１９９】例えば、陰イオン性界面活性剤としては、
ラウリル硫酸ナトリウム（エマール０）、高級アルコー
ル硫酸ナトリウム（エマール４０ペースト）、ラウリル
硫酸トリエタノールアミン（エマールＴＤ）、ラウリル
硫酸アンモニウム（エマールＡＤ・２５Ｒ）、ドデシル
ベンゼンスルフォン酸ナトリウム（ネオベレックスＮ
ｏ．２５）等の脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、ア
ルキルベンゼンスルフォン酸塩が挙げられる。

【０２００】また、陰イオン性界面活性剤としては、ア
ルキルナフタレンスルフォン酸ナトリウム（ベレックス
ＮＢ・Ｌ）、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム（ベ
レックスＯＴ・Ｐ）、アルキルジフェニルエーテルジス
ルフォン酸ナトリウム（ベレックスＳＳ・Ｌ）、アルキ
ルリン酸カリウム塩（エレクトロストリッパーＦ）、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム（エ
マール２０Ｃ）、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
硫酸トリエタノールアミン（エマール２０Ｔ）、ポリオ
キシエチレンアルキルアリルエーテル（レベノールＷ
Ｚ）等のアルキルナフタレンスルフォン酸塩、アルキル
スルホコハク酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスル
フォン酸塩が挙げられる。更に、陰イオン性界面活性剤
としては、β−ナルタレンスルフォン酸ホルマリン縮合
物のナトリウム塩（デモールＮ）、特殊芳香族スルフォ
ン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩（デモールＭ
Ｓ）、特殊ポリカルボン酸型高分子界面活性剤（デモー
ルＥＰ）等のナルタレンスルフォン酸ホルマリン縮合
物、特殊ポリカルボン酸型高分子界面活性剤が挙げられ
る。

【０２０１】非イオン性界面活性剤としては、ポリオキ
シエチレンラウリルエーテル（エマルゲン１０４Ｐ）、
ポリオキシエチレンセチルエーテル（エマルゲン２１０
Ｐ）、ポリオキシエチレンステアリルエーテル（エマル
ゲン３０６Ｐ）、ポリオキシエチレンオレイルエーテ
ル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリ
オキシエチレンノエルフェニルエーテル（エマルゲン９
０３）等のポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルアリルエーテルが挙げられる。
また、非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチ
レン誘導体（エマルゲンＡ−６０）、ソルビタンモノラ
ウレート（レオドールＳＰ・Ｌ１０）、ソルビタンモノ
ラウレート（レオドールスーパーＳＰ・Ｌ１０）、ソル
ビタンジスペアレート（エマゾールＳ・２０）等のポリ
オキシエチレン誘導体、オキシエチレン・オキシプロピ
レンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステルが
挙げられる。

【０２０２】更に、非イオン性界面活性剤としては、ポ
リオキシエチレンソルビタンモノラウレート（レオドー
ルＴＷ−Ｌ１２０）、テトラオレイン酸ポリオキシエチ
レンソルビット（レオドール４３０）、グリセロールモ
ノステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エ
ステル、グリセリン脂肪酸エステルが挙げられる。更
に、その他の非イオン性界面活性剤としては、ポリエチ
レングリコールモノラウレート（エマノーン１１１
２）、ポリオキシエチレンアルキルアミン（アミート１
０５）、アルキルアルカノールアミド（アミノーンＰＫ
・０２Ｓ）等のポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポ
リオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノー
ルアミンが挙げられる。

【０２０３】両性界面活性剤としては、ラウリルベタイ
ン（アンヒトール２４Ｂ）、ラウリルカルボキシメチル
ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン（アンヒト
ール２０Ｙ）等のアルキルベタインが挙げられる。な
お、上記の各界面活性剤の括弧内の名称は花王株式会社
製の場合の商品名を表す。

【０２０４】ポジ型感光性組成物における上記の界面活
性剤の含有割合は、０．００１〜５重量％であるのが好
ましく、０．００２〜３重量％であるのが更に好まし
く、０．００５〜１重量％であるのが特に好ましい。

【０２０５】また、ポジ型感光性組成物には、上記の成
分以外に、例えば、塗布性改良剤、密着性改良剤、感度
改良剤、感脂化剤、現像性改良剤等の感光性組成物に通
常用いられる各種の添加剤が更に２０重量％以下、好ま
しくは１０重量％以下の範囲で含有されていてもよい。

【０２０６】なお、上記ポジ型感光性組成物は、オニウ
ム塩、ジアゾニウム塩、キノンジアジド基含有化合物等
の、紫外線領域の光に感受性を有する化合物を含まず、
紫外線領域の光に対して実質的に感受性を有さないもの
である。ここで、紫外線領域の光に対して実質的に感受
性を有さないとは、３６０〜４５０ｎｍの波長の光によ
る照射の前後で、アルカリ現像液に対する溶解性に実質
的有意差を生じず、実用的な意味での画像形成能を有さ
ないことを意味する。

【０２０７】上記ポジ型感光性組成物は、アルミニウム
支持体の表面に感光性層を形成するにあたり、通常、上
記の各成分を適当な溶剤に溶解させた溶液または分散さ
せた分散液としてアルミニウム支持体表面に塗布された
後、加熱、乾燥される。

【０２０８】上記の溶剤としては、使用成分に対して十
分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるものであれば
特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、エチル
セロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロ
ソルブアセテート等のセロソルブ系溶剤、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等の
プロピレングリコール系溶剤、酢酸ブチル、酢酸アミ
ル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレート、
ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレー
ト、エチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、３−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶
剤、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコー
ル、フルフリルアルコール等のアルコール系溶剤、シク
ロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶剤、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ
チルピロリドン等の高極性溶剤、或いはこれらの混合溶
剤、更にはこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が
挙げられる。溶剤の使用割合は、感光性組成物の総量に
対して、通常、重量比で１〜２０倍程度の範囲である。

【０２０９】また、塗布方法としては、従来公知の方
法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗
布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、及
びカーテン塗布等を用いることが出来る。塗布量は用途
により異なるが、乾燥膜厚は、通常は０．３〜７μｍ、
好ましくは０．５〜５μｍ、特に好ましくは１〜３μｍ
の範囲とされる。なお、その際の乾燥温度は、例えば、
６０〜１７０℃程度、好ましくは７０〜１５０℃程度、
乾燥時間は、例えば、５秒〜１０分間程度、好ましくは
１０秒〜５分間程度とされる。

【０２１０】本発明においては、上記の様なネガ型また
はポジ型の感光性平版印刷版を印刷機の版胴上に固定し
た状態において、レーザー光源によって感光性層を走査
露光し、現像処理して画像を現出させて平版印刷版とし
た後、従来法に従って印刷インキを供給して被印刷物へ
の印刷を行う。

【０２１１】露光する際のレーザー光源としては、例え
ば、ＨｅＮｅレーザー、アルゴンイオンレーザー、ＹＡ
Ｇレーザー、ＨｅＣｄレーザー、半導体レーザー、ルビ
ーレーザー等が挙げられるが、特に、波長域４００〜４
２０ｎｍの青紫外領域のレーザー光を発生する光源、ま
たは、波長域６００〜１３００ｎｍの近赤外領域のレー
ザー光を発生する光源が好ましい。斯かる光源として
は、特に限定されるものではないが、具体的には、前者
の波長域においては４１０ｎｍを発振する窒化インジウ
ムガリウム半導体レーザー、後者の波長域においては８
３０ｎｍを発振する半導体レーザー、１０６４ｎｍを発
振するＹＡＧレーザー等が挙げられる。

【０２１２】また、走査露光方法は、特に限定されるも
のではないが、例えば、平面走査露光方式、外面ドラム
走査露光方式、内面ドラム走査露光方法等が挙げられ
る。レーザーの出力光強度は、前者の波長域においては
通常１〜１００ｍＷ、好ましくは３〜７０ｍＷ、後者の
波長域においては通常０．１〜１００Ｗ、好ましくは
０．５〜７０Ｗとされ、ビームスポット径は、前者の波
長域および後者の波長域とも、通常は２〜３０μｍ、好
ましくは４〜２０μｍとされる。また、走査速度は、前
者の波長域においては通常は５０〜５００ｍ／秒、好ま
しくは１００〜４００ｍ／秒、後者の波長域においては
通常は０．１〜５００ｍ／秒、好ましくは０．３〜４０
０ｍ／秒とされ、走査露光における感光性層上でのレー
ザー露光量は、前者の波長域においては通常は１〜１０
０μＪ／ｃｍ²以下、好ましくは５〜５０μＪ／ｃｍ²以
下となる様に、後者の波長域においては通常は１〜２０
０ｍＪ／ｃｍ²以下、好ましくは５〜１５０Ｊ／ｃｍ²以
下となる様に設定される。

【０２１３】露光後の現像処理は、通常、現像液を使用
してなされるが、斯かる現像液としては、例えば、珪酸
ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモ
ニウム、メタ珪酸ナトリウム、メタ珪酸カリウム、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸
ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、第二燐
酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第二燐酸アンモニ
ウム、第三燐酸アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カ
リウム、硼酸アンモニウム等の無機アルカリ塩、モノメ
チルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノ
エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モ
ノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、モノブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン等の有機アミン化合物の
０．１〜５重量％程度の水溶液からなるアルカリ現像液
が使用される。中でも、無機アルカリ塩である珪酸ナト
リウム、珪酸カリウム等のアルカリ金属の珪酸塩が好ま
しい。

【０２１４】なお、現像液には、現像条件の幅を安定し
て広げ得る等の点から、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテ
ル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビ
タンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエス
テル類等のノニオン性、アルキルベンゼンスルホン酸塩
類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸
塩類、アルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステ
ル塩類等のアニオン性、アルキルベタイン類、アミノ酸
類等の両性の界面活性剤、イソプロピルアルコール、ベ
ンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジア
セトンアルコール等の水溶性有機溶剤などを添加するこ
とが出来る。また、現像液のｐＨは９〜１４とするのが
好ましい。

【０２１５】上記の現像処理は、通常、感光性平版印刷
版に上記の現像液をスプレーする等の公知の現像法によ
り、好ましくは１０〜５０℃程度、更に好ましくは１５
〜４５℃程度の温度で、５秒〜１０分程度の時間でなさ
れる。その際、上記の酸素遮断層は、予め水等で除去し
ておいてもよいし、現像時に除去してもよい。

【０２１６】また、他の現像方法として、例えば、特開
平１１−１０８２７号公報などに記載される様に、前述
のアルカリ現像液またはそれに添加される前述の界面活
性剤あるいは水溶性有機溶剤など、若しくはそれらの溶
液などを浸透剤として露光後の感光性層に浸透させ、必
要に応じて物理的刺激を加えることにより、非露光部を
支持体表面から剥離させ現像するいわゆる浸透現像法、
または、特開平１０−３３３３２１号公報などに記載さ
れる様に、感光性平版印刷版を印刷機の版胴に装着し、
感光性層上に印刷インキを供給し、インキの粘着力を利
用してブランケット胴に前記のインキを非露光部と共に
転写させることにより、非露光部を支持体表面から剥離
させて現像するいわゆる印刷現像法などを採用すること
も出来る。

【０２１７】上記の現像処理によって画像形成された平
版印刷版により印刷を行った後は、画像部分を除去して
印刷版を再生する。斯かる再生においては、剥離剤によ
り画像を除去してアルミニウム支持体を再生する。本発
明においては、画像を除去するための剥離剤として、ｐ
Ｈ１０以上、好ましくはｐｈ１１〜１４のアルカリ性水
溶液を使用することが重要である。剥離剤のｐｈ値が１
０未満では、感光性層の剥離が不十分となって感光性層
の残渣が生じ易く、また、剥離後の支持体表面の非画像
部分と画像部分との間の親水性に差が生じ、印刷物上に
画像濃度むらが発生し易くなる。

【０２１８】上記の剥離剤は、少なくともアルカリ剤を
含有する水溶液であり、好ましくはアルカリ剤に加え
て、ノニオン性、アニオン性または両極性の界面活性剤
を含有する水溶液、更に好ましくは、アルカリ剤、界面
活性剤に加えて、水溶性の有機溶剤を含有する水溶液で
ある。上記アルカリ剤は、感光性画像の剥離に大きく寄
与し、界面活性剤と水溶性の有機溶剤は感光性層を膨潤
させ、アルカリ剤を感光性層中に浸透させる機能を有し
ている。

【０２１９】剥離剤中に使用されるアルカリ剤として
は、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチ
ウム、珪酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、メタ珪
酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、第二燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、
第二燐酸アンモニウム、第三燐酸アンモニウム、硼酸ナ
トリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム等の無機ア
ルカリ塩、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリ
エチルアモン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピ
ルアミン、モノブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン等の有
機アミン化合物の通常０．０１〜２０重量％好ましくは
０．１〜１０重量％、更に好ましくは０．１〜５重量％
の水溶液からなるアルカリ現像液が用いられる。この中
でトリエタノールアミン、ジエタノールアミン等の有機
アミン化合物が好ましい。

【０２２０】剥離液中の界面活性剤としては、各種の陰
イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、陽イオン
性界面活性剤および両性界面活性剤が挙げられる。例え
ば、陰イオン性界面活性剤としては、ラウリル硫酸ナト
リウム（エマール０）、高級アルコール硫酸ナトリウム
（エマール４０ペースト）、ラウリル硫酸トリエタノー
ルアミン（エマールＴＤ）、ラウリル硫酸アンモニウム
（エマールＡＤ・２５Ｒ）、ドデシルベンゼンスルフォ
ン酸ナトリウム（ネオベレックスＮｏ．２５）等の脂肪
酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスル
フォン酸塩が挙げられる。

【０２２１】また、陰イオン性界面活性剤としては、ア
ルキルナフタレンスルフォン酸ナトリウム（ベレックス
ＮＢ・Ｌ）、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム（ベ
レックスＯＴ・Ｐ）、アルキルジフェニルエーテルジス
ルフォン酸ナトリウム（ベレックスＳＳ・Ｌ）、アルキ
ルリン酸カリウム塩（エレクトロストリッパーＦ）、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム（エ
マール２０Ｃ）、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
硫酸トリエタノールアミン（エマール２０Ｔ）、ポリオ
キシエチレンアルキルアリルエーテル（レベノールＷ
Ｚ）等のアルキルナフタレンスルフォン酸塩、アルキル
スルホコハク酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスル
フォン酸塩が挙げられる。更に、陰イオン性界面活性剤
としては、β−ナルタレンスルフォン酸ホルマリン縮合
物のナトリウム塩（デモールＮ）、特殊芳香族スルフォ
ン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩（デモールＭ
Ｓ）、特殊ポリカルボン酸型高分子界面活性剤（デモー
ルＥＰ）等のナルタレンスルフォン酸ホルマリン縮合
物、特殊ポリカルボン酸型高分子界面活性剤が挙げられ
る。

【０２２２】非イオン性界面活性剤としては、ポリオキ
シエチレンラウリルエーテル（エマルゲン１０４Ｐ）、
ポリオキシエチレンセチルエーテル（エマルゲン２１０
Ｐ）、ポリオキシエチレンステアリルエーテル（エマル
ゲン３０６Ｐ）、ポリオキシエチレンオレイルエーテ
ル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリ
オキシエチレンノエルフェニルエーテル（エマルゲン９
０３）等のポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルアリルエーテルが挙げられる。
また、非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチ
レン誘導体（エマルゲンＡ−６０）、ソルビタンモノラ
ウレート（レオドールＳＰ・Ｌ１０）、ソルビタンモノ
ラウレート（レオドールスーパーＳＰ・Ｌ１０）、ソル
ビタンジスペアレート（エマゾールＳ・２０）等のポリ
オキシエチレン誘導体、オキシエチレン・オキシプロピ
レンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステルが
挙げられる。

【０２２３】更に、非イオン性界面活性剤としては、ポ
リオキシエチレンソルビタンモノラウレート（レオドー
ルＴＷ−Ｌ１２０）、テトラオレイン酸ポリオキシエチ
レンソルビット（レオドール４３０）、グリセロールモ
ノステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エ
ステル、グリセリン脂肪酸エステルが挙げられる。更
に、その他の非イオン性界面活性剤としては、ポリエチ
レングリコールモノラウレート（エマノーン１１１
２）、ポリオキシエチレンアルキルアミン（アミート１
０５）、アルキルアルカノールアミド（アミノーンＰＫ
・０２Ｓ）等のポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポ
リオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノー
ルアミンが挙げられる。

【０２２４】陽イオン界面剤、両性界面活性剤として
は、ステアリルアミンアセテート（アセタミン８６）、
ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド（コータミ
ン２４Ｐ）、セチルトリメチルアンモニウムクロライド
（コータミン６０Ｗ）、ジステアリルジメチルアンモニ
ウムクロライド（コータミンＤ８６Ｒ）、アルキルベン
ジルジメチルアンモニウムクロライド（サミゾール
Ｃ）、ラウリルレタイン（アンヒトール２４Ｂ）、ラウ
リルジメチルアミンオキサイド（アンヒトール２０
Ｎ）、ラウリルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミ
ダゾリニウムベタイン（アンヒトール２０Ｙ）等のアル
キルアミン、第４級アンモニウム塩、アルキルベタイ
ン、アミンオキサイドが挙げられる。なお、上記の各界
面活性剤の括弧内の名称は花王株式会社製の場合の商品
名を表す。

【０２２５】また、剥離液中の水溶性の有機溶剤として
は、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソル
ブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の
水溶性有機溶剤などを添加することが出来る。上記の界
面活性と水溶性有機溶剤の配合量は、通常は０．０１〜
５０重量％、好ましくは０．１〜２０重量％、更に好ま
しくは０．１〜１０重量％である。

【０２２６】なお、剥離工程は、通常、上記の剥離液に
感光性平版印刷版を浸漬するか、感光性平版印刷版に上
記の剥離液を塗布する等の公知の方法により、通常、好
ましくは１０〜５０℃程度、更に好ましくは１５〜４５
℃程度の温度で、５秒〜１０分程度の時間でなされる。

【０２２７】また、他の剥離方法として、前述のアルカ
リ現像液、または、それに添加される前述の界面活性剤
或いは水溶性有機溶剤等、若しくはそれらの溶液等、を
浸透剤として印刷後の感光性層に浸透させ、必要に応じ
て物理的刺激を加えることにより行われる。

【０２２８】本発明においては、上記の様に剥離剤によ
り画像を除去してアルニミウム支持体を再生した後、再
度、アルニミウム支持体表面に感光性層を形成して感光
性平版印刷版を再生する。本発明においては、印刷後の
画像部分を除去する際の剥離剤として特定のｐｈ値のア
ルカリ性水溶液を使用することにより、容易に且つ確実
に画像部分を除去でき、そして、平版印刷版の画像部上
に残留した印刷インキが剥離処理の際に非画像部に再付
着するのを防ぎ、非画像部分の親水性を保持できるた
め、感光性平版印刷版の再生の際に印刷インキによる汚
れを一層低減できる。従って、本発明によれば、再生し
た平版印刷版による印刷においても、非画像部のインキ
付着による汚れがなく、高品質の印刷物を得ることが出
来る。

【０２２９】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。

【０２３０】実施例１：アルミニウム板（厚さ０．２ｍ
ｍ）を３重量％水酸化ナトリウム水溶液で脱脂した後、
１８ｇ／リットルの塩酸浴中にて２５℃、８０Ａ／ｄｍ
²の電流密度で１５秒間、電解エッチングし、次いで、
５０℃の１重量％水酸化ナトリウム水溶液で５秒間デス
マット処理した後、２５℃の１０重量％塩酸水溶液で５
秒間中和し、水洗後、３０重量％硫酸浴中にて３０℃、
１０Ａ／ｄｍ²の電流密度で１６秒間、陽極酸化処理
し、次いで、水洗、乾燥して酸化皮膜量が２１ｍｇ／ｄ
ｍ²のアルミニウム支持体を得た。

【０２３１】得られたアルミニウム支持体表面のガムテ
ープ剥離強度を以下に示す方法で測定したところ、３０
０ｇ／ｃｍであった。なお、ガムテープ剥離強度は、上
述の条件で測定した。

【０２３２】続いて、得られたアルミニウム支持体表面
にバーコーターによって光重合性組成物を塗布、乾燥し
て感光性層を形成した。塗布液としての光重合性組成物
は、以下の（Ａ）成分のエチレン性不飽和化合物、
（Ｂ）成分の増感色素、（Ｃ）成分の光重合開始剤、
（Ｄ）成分の高分子結合材およびその他成分をシクロヘ
キサノン１０９０重量部に室温で攪拌して調液した。塗
布後の乾燥膜厚は２ｇ／ｍ²であった。そして、形成し
た感光性層の上に、更に、バーコーターを使用し、ポリ
ビニルアルコールとポリビニルピロリドンの混合水溶液
（ポリビニルアルコール：ポリビニルピロリドン＝９５
重量％：５重量％）を乾燥膜厚が３ｇ／ｍ²となる様に
塗布し、乾燥して酸素遮断層を形成することにより、ネ
ガ型感光性平版印刷版を作製した。

【０２３３】

【表３】（Ａ）エチレン性不飽和化合物 以下の化合物（Ａ−１）；２５重量部 以下の化合物（Ａ−２）；５重量部 以下の化合物（Ａ−３）；２５重量部

【０２３４】

【化４６】

【０２３５】

【表４】（Ｂ）増感剤 以下の化合物（Ｂ−１）；２重量部

【０２３６】

【化４７】

【０２３７】

【表５】（Ｃ）光重合開始剤 ２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン（Ｃ−１）；５重量部 （Ｄ）高分子結合材 メチルメタクリレート（８０モル％）／メタクリル酸
（２０モル％）共重合体に、３，４−エポキシシクロヘ
キシルメチルアクリレートを反応させて得られた反応生
成物（メタクリル酸成分のカルボキシル基の６０モル％
が反応、酸価６０、重量平均分子量７．５万）（Ｄ−
１）；４５重量部 その他成分 顔料（エチルバイオレット）；５重量部

【０２３８】次いで、得られたネガ型感光性平版印刷版
に対し、波長８３０ｎｍの半導体レーザーを光源とする
露光装置（クレオ社製、「Ｔｒｅｎｄ Ｓｅｔｔｅｒ
３２４４Ｔ」）を使用し、各種の露光エネルギーで走査
露光した。そして、炭酸ナトリウム０．８重量％及びア
ニオン性界面活性剤（花王社製「ペレックスＮＢＬ」）
３重量％の水溶液から成る２５℃の現像液に３０秒間浸
漬した後、水洗することにより、走査線画像が形成され
たネガ型平版印刷版を得た。走査線画像が形成される最
小露光エネルギーから求めた感度は１００ｍＪ／ｃｍ²
であった。

【０２３９】上記の様な最小露光エネルギーで露光し現
像処理したネガ型平版印刷版を使用し、印刷処理を行っ
た。印刷処理においては、平版印刷機（三菱重工業社製
「ダイヤＦ−２」）の版胴に上記のネガ型平版印刷版を
着脱自在に固定した後、ネガ型平版印刷版の版面に対
し、湿し水供給機構より湿し水（日研化学社製「アスト
ロＮｏ．１ マークＩＩ」）を供給し、印刷インキ供給
機構より印刷インキ（東洋インキ社製「ハイエコーマゼ
ンタ」）を供給して、１０，０００枚の印刷を行った。

【０２４０】印刷終了後、平版印刷版を版胴に固定した
状態において、版面上の印刷インキを洗浄、除去した
後、印刷機に付設された画像除去機構のローラにより、
画像を除去するための剥離剤を版面上に塗布した。剥離
剤としては、１０重量％の水酸化アルミニウム粒子を添
加、分散したネガ型平版印刷版用現像液トリエタノール
アミン５重量％、ベンジルアルコール０．１重量％、フ
ェノキシエタノール５重量％、アニオン性界面活性剤ジ
ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム６重量％の水溶
液を使用した。次いで、ブラシで画像表面を擦った後、
ガーゼで拭き取って画像を除去し、水洗することによ
り、アルミニウム支持体を再生した。

【０２４１】続いて、再生したアルミニウム支持体表面
に対し、印刷機に付設された光重合性組成物の塗布液塗
布機構のローラにより、再度、上記と同様の光重合性組
成物としての塗布液を塗布した後、加熱、乾燥させて感
光性層を形成することによりネガ型感光性平版印刷版を
作製した。そして、再び、露光機構を使用し、上記の感
光性層をレーザー光により走査露光した後、印刷機に付
設された現像処理機構のローラを使用し、感光性層に対
して上記と同様にして現像処理することにより、ネガ画
像を現出させてネガ型平版印刷版を作製した。その際の
感度は、走査線画像が形成される最小露光エネルギーと
して求めたところ、再生前と同様の１００ｍＪ／ｃｍ²
であった。

【０２４２】次いで、１００ｍＪ／ｃｍ²の露光エネル
ギーで露光、現像処理した上記ネガ型平版印刷版を使用
し、上記と同様にして２回目の印刷を行ったところ、１
０，０００枚の印刷において高品質の印刷物が得られ
た。更に、同様にして、２回目の印刷後の平版印刷版を
再生、印刷することを繰り返し、１０回版の再生を行っ
たところ、その時の感度は、再生前と同様の１００ｍＪ
／ｃｍ²であり、印刷版を使用した１０００枚の印刷に
おいて、高品質の印刷物が得られた。なお、そのときの
アルミニウム支持体再生後の線画像の残留の程度を目視
観察により以下のランクに従って評価したところ、Ａラ
ンクであった。

【０２４３】

【表６】 Ａ：線画像の残留率１％未満。 Ｂ：線画像の残留率１％以上１０％未満。 Ｃ：線画像の残留率１０％以上７０％未満。 Ｄ：線画像の残留率７０％以上。

【０２４４】また、再生したアルミニウム支持体を使用
して作製した上記ネガ型感光性平版印刷版について、白
色蛍光灯（三菱電機社製３６Ｗ白色蛍光灯「ネオルミス
ーパーＦＬＲ４０Ｓ−Ｗ／Ｍ／３６」）の光を４００ル
クスの光強度で照射下に１０分間放置した後、上記と同
様の現像処理を行ったところ、感光性層は完全に溶解除
去され、白色灯下におけるセーフライト性は良好である
ことが確認できた。

【０２４５】実施例２：陽極酸化処理後に５０ｐｐｍの
カルボキシメチルセルロース水溶液に５秒間浸漬し、乾
燥させて表面に膜厚０．０１μｍの親水性高分子薄膜層
を形成させた外は実施例１と同様に処理してアルミニウ
ム支持体を作製した後、実施例１と同様の方法により、
アルミニウム支持体表面に光重合性組成物を塗布、乾燥
して感光性層を形成し、ネガ型感光性平版印刷版を作製
した。感光性層を形成する塗布液としての光重合性組成
物は、以下の（Ａ）〜（Ｄ）成分、および、その他成分
をシクロヘキサノン１０９０重量部に室温で攪拌して調
液した。なお、アルミニウム支持体を作製した際の表面
のガムテープ剥離強度は３００ｇ／ｃｍであり、また、
実施例１と異なり、感光性層の表面には酸素遮断層は形
成していない。

【０２４６】

【表７】（Ａ）エチレン性不飽和化合物 以下の化合物（Ａ−６）；１１重量部 以下の化合物（Ａ−７）；２４重量部

【０２４７】

【化４８】

【０２４８】

【表８】（Ｂ）増感剤 上記の化合物（Ｂ−１）；２重量部 （Ｃ）光重合開始剤 上記の化合物（Ｃ−１）；５重量部 （Ｄ）高分子結合材 ビニルメタクリレート（４０モル％）／メタクリル酸
（１５モル％）／アクリロニトリル（１５モル％）／
（３−アリルグリシジルオキシ−２−ヒドロキシ−プロ
ピル）−オキシメタクリレート（３０モル％）又は共重
合体（重量平均分子量２０万）（Ｄ−３）；４５重量部 （Ｆ）アミン化合物 トリベンジルアミン（Ｆ−１）；５重量部 その他成分 顔料（エチルバイオレット）；５重量部

【０２４９】次いで、実施例１と同様の処理により、上
記ネガ型感光性平版印刷版を露光してネガ型平版印刷版
を作製した後、印刷処理を行った。ネガ型感光性平版印
刷版の感度は１５０ｍＪ／ｃｍ²であった。また、印刷
後におけるアルミニウム支持体再生後の線画像の残留の
程度はＡランクであった。更に、実施例１と同様に、再
生・印刷を９回繰り返した後、１０回再生したアルミニ
ウム支持体を使用してネガ型平版印刷版を作製したとこ
ろ、感度は再生前と同じ１５０ｍＪ／ｃｍ²であり、そ
して、その１５０ｍＪ／ｃｍ²の露光エネルギーで露光
し現像処理したネガ型平版印刷版を使用して印刷を行っ
たところ、１０，０００枚の印刷において、高品質の印
刷物が得られた。なお、その際の再生アルミニウム支持
体を使用して作製したネガ型感光性平版印刷版の白色灯
下におけるセーフライト性も良好であった。

【０２５０】実施例３：実施例１と同様のアルミ板支持
体を作製した後、アルミニウム支持体表面に塗布する光
重合性組成物の高分子結合材を以下の（Ｄ）成分に変更
した以外は、実施例２と同様の処理によって感光性層を
形成し、ネガ型感光性平版印刷版を作製した。

【０２５１】

【表９】（Ｄ）高分子結合材 メチルメタクリレート（５０モル％）／イソブチルメタ
クリレート（３０モル％）／メタクリル酸（２０モル
％）共重合体に、３，４−エポキシシクロヘキシルメチ
ルアクリレートを反応させて得られた反応生成物（メタ
クリル酸成分のカルボキシル基の５０モル％が反応）
（Ｄ−４）；２５重量部 スチレン（６３モル％）／アクリル酸（３７モル％）共
重合体に、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアク
リレートを反応させて得られた反応生成物（アクリル酸
成分のカルボキシル基の５０モル％が反応）（Ｄ−
５）；２５重量部

【０２５２】次いで、実施例１と同様の処理により、上
記ネガ型感光性平版印刷版を露光してネガ型平版印刷版
を作製した後、印刷処理を行った。ネガ型感光性平版印
刷版の感度は１２０ｍＪ／ｃｍ²であり、また、印刷後
におけるアルミニウム支持体再生後の線画像の残留の程
度はＡランクであった。更に、実施例１と同様に、再生
・印刷を９回繰り返した後、１０回再生したアルミニウ
ム支持体を使用してネガ型平版印刷版を作製したとこ
ろ、感度は再生前と同じ１２０ｍＪ／ｃｍ²であり、そ
して、その１２０ｍＪ／ｃｍ²の露光エネルギーで露光
し現像処理したネガ型平版印刷版を使用して印刷を行っ
たところ、１０，０００枚の印刷において、高品質の印
刷物が得られた。なお、その際の再生アルミニウム支持
体を使用して作製したネガ型感光性平版印刷版の白色灯
下におけるセーフライト性も良好であった。

【０２５３】実施例４：感光性層を形成する際の塗布液
としての光重合性組成物を変更した以外は実施例１と同
様にしてネガ型感光性平版印刷版を作製した。塗布液
は、以下の（Ａ）〜（Ｄ）成分およびその他成分をプロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４００
重量部とシクロヘキサノン７４０重量部とに室温で攪拌
して調液したものである。

【０２５４】

【表１０】（Ａ）エチレン性不飽和化合物 上記の化合物（Ａ−１）；２２重量部 上記の化合物（Ａ−６）；１１重量部 上記の化合物（Ａ−７）；２２重量部 （Ｂ）増感剤 ４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（Ｂ
−３）；９重量部 （Ｃ）光重合開始剤 ２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（Ｃ−３）；
１５重量部 （Ｄ）高分子結合材 メチルメタクリレート（８０モル％）／メタクリル酸
（２０モル％）共重合体に、３，４−エポキシシクロヘ
キシルメチルアクリレートを反応させて得られた反応生
成物（メタクリル酸成分のカルボキシル基の５０モル％
が反応、酸価５３、重量平均分子量７万）（Ｄ−６）；
４５重量部 （Ｅ）水素供与生化合物 ２−メルカプトベンゾチアゾール（Ｅ−１）；５重量部 Ｎ−フェニルグリシンベンジルエステル（Ｅ−２）；５
重量部 （Ｆ）アミン化合物 トリベンジルアミン（Ｆ−１）；３重量部 その他成分 顔料（銅フタロシアニン）；４重量部 分散剤（ビックケミー社製「ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ １６
１」）；２重量部 界面活性剤（花王社製「エマルゲン１０４Ｐ」）；２重
量部 界面活性剤（旭硝子社製「Ｓ−３８１」）；０．３重量
部

【０２５５】得られたネガ型感光性平版印刷版に対し、
波長４１０ｎｍのバイオレットレーザー露光機（Ｅｓｃ
ｈｅｒ−Ｇｒａｄ社製「Ｃｏｂａｌｔ８」）を使用して
各種の露光エネルギーで走査露光し、次いで、炭酸ナト
リウム０．７重量％及びアニオン性界面活性剤（花王社
製「ペレックスＮＢＬ」）０．５重量％の水溶液から成
る２８℃の現像液に３０秒間浸漬した後、水洗すること
により、走査線画像が形成されたネガ型平版印刷版を作
製した。走査線画像が形成される最小露光エネルギーか
ら求めた感度は２０μＪ／ｃｍ²であった。

【０２５６】上記の様な最小露光エネルギーで露光し現
像処理したネガ型平版印刷版を使用し、以降、実施例１
と同様に印刷処理ならびに再生処理を行った。印刷後に
おけるアルミニウム支持体再生後の線画像の残留の程度
はＡランクであり、実施例１と同様に、再生・印刷を９
回繰り返した後、１０回再生したアルミニウム支持体を
使用してネガ型平版印刷版を作製したところ、感度は再
生前と同じ２０μＪ／ｃｍ²であり、また、その２０μ
Ｊ／ｃｍ²の露光エネルギーで露光し現像処理したネガ
型平版印刷版を用い印刷を行ったところ、１，０００枚
の印刷において、高品質の印刷物が得られた。

【０２５７】なお、再生アルミニウム支持体を使用して
作製した上記ネガ型感光性平版印刷版について、４０Ｗ
の黄色蛍光灯（三菱電機社製４０Ｗ黄色蛍光灯「ネオル
ミスーパーＦＬＲ４０Ｓ−Ｙ／Ｍ」）の光を４００ルク
スの光強度で照射下に３０分間放置した後、上記と同様
の現像処理を行ったところ、感光性層は完全に溶解除去
され、黄色灯下におけるセーフライト性は良好であるこ
とが確認できた。

【０２５８】実施例５：アルミニウム板（厚さ０．２４
ｍｍ）を５重量％の水酸化ナトリウム水溶液中にて６０
℃で１分間脱脂処理した後、０．５モル／リットルの濃
度の塩酸水溶液中にて温度２５℃、電流密度６０Ａ／ｄ
ｍ²、処理時間３０秒の条件で電解エッチング処理を行
った。次いで、５重量％水酸化ナトリウム水溶液中にて
６０℃で１０秒間のデスマット処理を施した後、２０重
量％硫酸溶液中にて温度２０℃、電流密度３Ａ／ｄ
ｍ²、処理時間１分の条件で陽極酸化処理を行った。そ
して、８０℃の熱水で２０秒間熱水封孔処理を行い、平
版印刷版用のアルミニウム支持体を得た。表面粗度計
（小坂研究所社製、「ＳＥ−３ＤＨ」）によって測定し
たアルミニウム支持体の平均粗さＲａの値は０．６０μ
ｍであった。

【０２５９】続いて、得られたアルミニウム支持体表面
にワイヤーバーによってポジ型感光性組成物を塗布、乾
燥して感光性層を形成し、ネガ型感光性平版印刷版を作
製した。塗布液としてのポジ型感光性組成物は、以下の
（Ａ）成分の光熱変換物質、（Ｂ）成分のアルカリ可溶
性樹脂をメチルセロソルブ１０００重量部に室温で攪拌
して調液した。また、塗布液の乾燥は１００℃で２分間
行い、塗布後の乾燥膜厚は２．４μｍであった。

【０２６０】

【表１１】（Ａ）光熱変換物質 上記の具体例（ＩＩ−９）で示したインドール系色素；
３重量部 （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂 フェノール：ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾールの混合割
合がモル比で５０：３０：２０の混合フェノール類とホ
ルムアルデヒドとの重縮合体から成るノボラック樹脂
（Ｍｗ９，４００）；１００重量部 クリスタルバイオレットラクトン；３重量部

【０２６１】次いで、得られたポジ型感光性平版印刷版
に対し、波長８３０ｎｍの半導体レーザーを光源とする
露光装置（クレオ社製、「Ｔｒｅｎｄ Ｓｅｔｔｅｒ
３２４４Ｔ」）を使用し、各種の露光エネルギーで２０
０線、１〜９９％の網点画像を走査露光した。そして、
２８℃のアルカリ現像液（富士写真フィルム社製「ＤＰ
−４」の８倍希釈液）に３０分間浸漬した後、水洗する
ことにより、１〜９９％の網点画像を再現させたポジ型
平版印刷版を得た。そのときの感度は、３％の網点画像
が再現する露光エネルギーとして１５０Ｊ／ｃｍ²であ
った。

【０２６２】上記の様な露光エネルギーで露光し現像処
理したポジ型平版印刷版を使用し、印刷処理を行った。
印刷処理においては、平版印刷機（三菱重工業社製「ダ
イヤＦ−２」）の版胴に上記のポジ型平版印刷版を着脱
自在に固定した後、ポジ型平版印刷版の版面に対し、湿
し水供給機構より湿し水（日研化学社製「アストロＮ
ｏ．１ マークＩＩ」）を供給し、印刷インキ供給機構
より印刷インキ（東洋インキ社製「ハイエコーマゼン
タ」）を供給して、１０，０００枚の印刷を行った。

【０２６３】印刷終了後、平版印刷版を版胴に固定した
ままの状態において、版面上の印刷インキを洗浄、除去
した後、版胴に固定した状態で、印刷機に付設された画
像除去機構のローラにより、画像を除去するための剥離
剤を版面上に塗布し、ポジ画像を溶解させた。剥離剤と
しては、ジメチルポリシロキサン、ジエタノールアミン
５重量％、フェノキシエタノール１６重量％、アニオン
性界面活性剤、ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウ
ム６重量％の水溶液を使用した。次いで、ガーゼで画像
を拭き取って画像を除去した後、水洗することにより、
アルミニウム支持体を再生した。

【０２６４】続いて、再生したアルミニウム支持体表面
に対し、印刷機に付設された塗布液塗布機構のローラに
より、再度、上記と同様のポジ型感光性組成物としての
塗布液を塗布した後、加熱、乾燥させて感光性層を形成
することによりポジ型感光性平版印刷版を作製した。そ
して、再び、露光機構を使用し、上記の感光性層をレー
ザー光源により走査露光した後、印刷機に付設された現
像処理機構のローラを使用し、感光性層に対して上記と
同様にして現像処理することにより、ポジ画像を現出さ
せてポジ型平版印刷版を作製した。その際の感度を、３
％の網点画像が再現する露光エネルギーとして求めたと
ころ、再生前と同様の１５０Ｊ／ｃｍ²であった。

【０２６５】次いで、１５０ｍＪ／ｃｍ²の露光エネル
ギーで露光、現像処理した上記ポジ型平版印刷版を使用
し、上記と同様にして２回目の印刷を行ったところ、
１，０００枚の印刷において高品質の印刷物が得られ
た。更に、同様にして、２回目の印刷後の平版印刷版を
再生、印刷することを繰り返し、１０回版の再生を行っ
たところ、その時の感度は、再生前と同様の１５０ｍＪ
／ｍ²であり、印刷版を使用した１，０００枚の印刷に
おいて、高品質の印刷物が得られた。

【０２６６】なお、１０回再生後のアルミニウム支持体
を使用して作製した上記ポジ型感光性平版印刷版につい
て、白色蛍光灯（三菱電機社製３６Ｗ白色蛍光灯「ネオ
ルミスーパーＦＬＲ４０Ｓ−Ｗ／Ｍ／３６」）の光を４
００ルクスの光強度で照射下に１０時間放置した後、上
記と同様の現像処理を行ったところ、実質的な膜減りは
なく、白色灯下におけるセーフライト性は良好であるこ
とが確認できた。

【０２６７】比較例１：実施例１において、剥離液とし
てメチルエチルケトンを使用した以外は、実施例１と同
様の処理により、印刷と印刷板の再生を４回繰り返した
ところ、４回目の再生で得られた印刷版の非画線部分に
印刷インキの顔料成分の残留が認められた。そして、４
回目の再生で得られた印刷版を使用して同様に印刷した
ところ、印刷物の非画像部分に印刷インキによる汚れが
見られた。

【０２６８】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明に係る平版印
刷版の再生方法によれば、印刷後の平版印刷版の画像部
分を除去して、アルミニウム支持体を再生するにあた
り、画像部分を除去する際の剥離剤として特定のｐｈ値
のアルカリ性水液を使用することにより、容易に且つ確
実に画像部分を除去でき、そして、画像部上に残留した
印刷インキが剥離処理の際に平版印刷版の非画像部に再
付着するのを防ぎ、非画像部分の親水性を保持できるた
め、感光性平版印刷版の再生の際に印刷インキによる汚
れを一層低減でき、その結果、再生した平版印刷版によ
る印刷においても、非画像部のインキ付着による汚れが
なく、高品質の印刷物を得ることが出来る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/038 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/038 ５０１ (72)発明者 植松 卓也 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社内 (72)発明者 瑞穂 右二 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AB03 AC08 AD01 AD03 BC32 BC42 CA18 CA27 CA28 CA39 CA41 CA50 CB13 CB14 CB43 DA18 FA03 FA14 FA47 2H096 AA07 BA20 CA20 EA04 GA01 JA04 LA02

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アルミニウム支持体の表面に感光性層を
   形成して成り且つ印刷機の版胴上に固定された感光性平
   版印刷版を使用し、レーザー光源によって感光性層を走
   査露光し、現像処理して画像を現出させて平版印刷版と
   した後、印刷インキを供給して被印刷物への印刷を行
   い、次いで、剥離剤により画像を除去してアルニミウム
   支持体を再生した後、再度、アルニミウム支持体表面に
   感光性層を形成して感光性平版印刷版を再生する平版印
   刷版の再生方法において、上記の剥離剤として、ｐＨ１
   ０以上のアルカリ性水溶液を使用することを特徴とする
   平版印刷版の再生方法。
2. 【請求項２】 剥離剤が水溶性の有機溶剤を含有してい
   る請求項１記載の平版印刷版の作製方法。
3. 【請求項３】 剥離剤が、中性、アニオン性或いは両性
   の界面活性剤のうちの少なくとも何れか１つを含有して
   いる請求項１〜２記載の平版印刷版の再生方法。
4. 【請求項４】 レーザー光源として、４００〜４２０ｎ
   ｍの波長域のレーザー光を発生するレーザー光源、また
   は、６００〜１３００ｎｍの波長域のレーザー光を発生
   するレーザー光源を使用する請求項１〜３の何れかに記
   載の平版印刷版の再生方法。
5. 【請求項５】 感光性組成物が、エチレン性不飽和化合
   物と、３５０〜４２０ｎｍの青紫外領域または６００〜
   １３００ｎｍの近赤外領域に吸収極大を有する増成剤と
   しての光吸収色素と、光重合開始剤と、高分子結合材と
   を含有する光重合性組成物である請求項１〜４の何れか
   に記載の平版印刷版の再生方法。
6. 【請求項６】 光吸収色素が、ポリメチン鎖を介して複
   素原子が結合された構造の色素である請求項５記載の平
   版印刷版の再生方法。
7. 【請求項７】 感光性組成物が、６００〜１３００ｎｍ
   に吸収極大を有し且つ画像露光光源の光を吸収して熱に
   変換する光熱変換物質と、アルカリ可溶性樹脂とを含有
   するポジ型感光性組成物である請求項１〜４の何れかに
   記載の平版印刷版の再生方法。
8. 【請求項８】 光熱変換物質が、ポリメチン鎖を介して
   複素原子が結合された構造の色素である請求項７に記載
   の平版印刷版の再生方法。
9. 【請求項９】 アルカリ可溶性樹脂がノボラック樹脂で
   ある請求項７又は８に記載の平版印刷版の再生方法。