JP2003078097A - リードフレーム及びその製造方法 - Google Patents
リードフレーム及びその製造方法Info
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Abstract
ドフレームを提供すると共に、不具合をなくしたリード
フレームの製造方法を提供すること。 【解決手段】金属板1の半導体素子搭載側表面と基板実
装側表面のみにパラジウム鍍金1aが施されていて、成
形されたリード部,パッド部その他の実装不要部分及び
側面には鍍金が施されていない。
Description
られるリードフレームとその製造方法に関する。
ッチング加工やプレス加工によってリードフレーム形状
に成形され、全面にパラジウム鍍金を施した後所定位置
に半導体素子を搭載し、これを樹脂封止した後金型等を
用いて個片にカットされ、ICチップ等の電子部品とし
て実用に供されていた。
の仕様は、環境への影響を考慮して、鉛が含まれる外装
半田鍍金を止めてリードフレーム全面にパラジウム鍍金
を施したものとなっている。しかし、パラジウムは高価
な金属材料であるため、全面にパラジウム鍍金を施すこ
とにより、製品コストを上昇させてしまうという問題点
があった。
題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするとこ
ろは、パラジウムの使用量を最少に抑えて安価なリード
フレームを提供すると共に、不具合をなくしたリードフ
レームの製造方法を提供することにある。
め、本発明によるリードフレームは、金属板より成形さ
れるリードフレームにおいて、半導体素子搭載部分と金
線ボンディング部分と基板実装面側の半田接合部分との
必要最小限個所にのみ部分的なパラジウム鍍金が施され
ていることを特徴としている。
属板より成形されるリードフレームにおいて、半導体素
子搭載側表面と基板実装側表面のみにパラジウム鍍金が
施されていて、成形されたリード部,パッド部その他の
実装不要部分及び側面には鍍金が施されていないことを
特徴としている。
属板より成形されるリードフレームにおいて、半導体素
子搭載側表面と基板実装側表面の必要最小限の部分のみ
にパラジウム鍍金が施されていて、成形されたリード
部,パッド部その他の実装不要部分及び側面には鍍金が
施されていないことを特徴としている。
積は最少限となるので、全面にパラジウム鍍金を施して
いた従来のリードフレームに比べて、安価なリードフレ
ームを提供できる。
方法は、金属板を成形してリードフレーム素材を準備
し、該リードフレーム素材の半導体素子搭載部分の必要
最小限個所に部分的にパラジウム鍍金を施し、次に前記
リードフレーム素材の金ワイヤーボンディング部分及び
基板実装面側の半田接合部分の必要最小限個所に部分的
にパラジウム鍍金を施すようにした。
方法は、金属板を成形してリードフレーム素材を準備
し、該リードフレーム素材の半導体素子搭載側表面にの
みパラジウム鍍金を施し、次に前記リードフレーム素材
の基板実装側表面にのみパラジウム鍍金を施し、前記リ
ードフレーム素材のリード部,パッド部その他の実装不
要部分及び側面には鍍金を施さないようにした。
方法は、リードフレームを形成すべき金属板を準備し
て、該金属板の表裏面上にレジスト層を設け、該レジス
ト層の表面に所望のリードフレーム形状を有するマスク
を例えば密接し、露光し、現像して鍍金を施すためのマ
スクを作成した後、露出した金属板表面に鍍金を施し
て、少なくともパラジウム層を含む鍍金層を設け、次に
前記マスクを剥離し、再度両面前面にレジスト層を設
け、所定のパターンを有するマスクを用いて露光し、現
像してエッチングマスクを得、次いでエッチング処理し
てリード部,パッド部その他の形状を成形するようにし
た。
方法は、リードフレームを形成すべき金属板を準備し
て、該金属板の表裏面上にレジスト層を設け、該レジス
ト層の表面に所望のリードフレーム形状を有するマスク
を例えば密接し、露光し、現像して鍍金を施すためのマ
スクを作成した後、露出した金属板表面に鍍金を施し
て、少なくともパラジウム層を含む鍍金層を設け、次に
レジスト層を除去し、前記鍍金層をエッチングレジスト
として用いて金属板をエッチングし、該エッチング処理
により前記金属板の要エッチング部分が貫通貫通する前
にエッチング処理を停止し、前記金属板の裏面をテープ
でマスクし、再びエッチング処理を施すことにより前記
金属板部分の要エッチング部分を貫通させて、前記テー
プにより多数のリード部等が個々独立した位置関係に保
持されるようにした。
方法は、リードフレームを形成すべき金属板を準備し
て、該金属板の表裏面上にレジスト層を設け、該レジス
ト層の表面に所望のリードフレーム形状を有するマスク
を例えば密接し、露光し、現像してエッチングマスクを
作成した後、露出した金属板部をエッチングして除去
し、リードフレーム形状を形成し、次いで、この表裏面
に鍍金を施して、少なくともパラジウム層を含む鍍金層
を設けるようにした。
方法は、リードフレームを形成すべき金属板を準備し
て、該金属板の表裏面上にレジスト層を設け、該レジス
ト層の表面に所望のリードフレーム形状を有するマスク
を例えば密接し、露光し、現像して鍍金を施すためのマ
スクを作成した後、露出した金属板表面に鍍金を施し
て、少なくともパラジウム層を含む鍍金層を設け、次に
レジスト層を除去し、前記鍍金層をエッチングレジスト
として用いて金属板をエッチングして、多数のリード
部,パッド部その他の形状を形成するようにした。
ていた従来のリードフレームに比べて安価なリードフレ
ームを提供できるばかりか、リードフレームの所定位置
に半導体素子を搭載し樹脂封止した後、これを個片にす
べくダイシング等によりカットする際、切断されるべき
金属部分はエッチング処理により既に溶解しているため
樹脂のみを切断すれば済み、従来のリードフレームにお
けるようにリード抜けや樹脂破損等の不具合を生じない
リードフレームを提供することが出来る。
した実施例に基づき説明する。実施例1 図1は、本発明に係るリードフレームの製造方法の一実
施例を示す工程図である。図中、1はリードフレームを
形成すべき銅板等の金属板、2は金属板1の表裏面上に
設置されたドライフィルム、3は金属板1の表面上に設
置されたドライフィルム2上に被せられていて遮光剤を
用いてリードフレームパターン3aを形成してなるガラ
スマスク、4は金属板1の裏面上に設置されたドライフ
ィルム2上に被せられていて金属板1を挟んでリードフ
レームパターン3aと対称に遮光剤を用いてリードフレ
ームパターン4aを形成してなるガラスマスク、5,6
は所要の遮光パターンを形成してなるガラスマスク、7
は金属板1を挟んで対向設置された複数のエッチング液
噴射ノズルである。
て説明する。先ず、図1(a)に示すように、金属板1
の表裏面全面にフォトレジストとしての役目をするドラ
イフィルム2を設置した後、リードフレームパターン3
a,4aを有するガラスマスク3,4をパターンを位置
合わせした状態で表裏面上に被せて、この両面をガラス
マスク3,4を介して紫外光で露光する。
フィルム付金属板1を現像液に漬けて現像すれば、図1
(b)に示すように紫外光の当たった部分即ち金線接合
部や半導体素子搭載部などパラジウム鍍金を施す必要の
ある部分のドライフィルム2のみが除去される。
拡大して示すようにニッケル(Ni),パラジウム(Pd),
金(Au)など順次必要な部分に必要な鍍金を行う。かく
して、ドライフィルム2を剥離することにより、図1
(d)に示すような断面形状の鍍金層1a付き金属板1
を得ることが出来る。
属板1の表裏面全体に再びドライフィルム2を設置し、
これに、図1(e)に示すように、鍍金を施した部分の
みが遮光されるようにパターンを形成したガラスマスク
5,6を被せて、両面を再び紫外光で露光する。そし
て、図1(b)で説明したのと同様にして現像を行い、
図1(f)に示したような断面形状を有する鍍金層1a
付き金属板1を得る。
図1(g)に示す如く、噴射ノズル7によりエッチング
液を吹き付けてエッチング処理を行う。このエッチング
処理により、鍍金の施されていない部分の金属は溶解除
去されて、最後にドライフィルム2を剥離することによ
り、図1(h)に示すような断面形状を有する即ち必要
最少限の部分のみに鍍金の施された一駒分のリードフレ
ームが得られる。
ドフレームの何駒分かを含む長さの金属板が適宜のコン
ベアーで搬送されることにより連続的に実行され、工程
の最後で裁断されて個々のリードフレームが完成する。
この説明から明らかなように、各リードフレームには表
裏面の必要個所にのみパラジウム鍍金が施される結果と
なる。
実施例を示す工程図である。図中、図1で用いたのと実
質上同一の部材および部分には同一符号が付されてお
り、それらについての説明は省略されている。図1との
比較で明らかなように、図2(a),(b),(c)及び
(d)で示される各工程は、図1のそれらと同じである
ので説明は省略し、図2(e)以降に示されている工程
について説明する。
付き金属板1の両面には、噴射ノズル7によりエッチン
グ液を吹き付けられてエッチング処理が行なわれる。こ
のエッチング処理は、鍍金の施されていない部分の金属
が殆ど溶解除去されて極薄となる程度まで行われる。
の一側全面に、図2(f)に示すようにテープ8を貼着
した後、図2(g)に示すようにテープ8の貼着されて
いない側から、再び噴射ノズル7によりエッチング液を
吹き付けてエッチング処理を行ない、極薄にされた鍍金
の施されていない金属部分(リード部を繋ぐタイバーや
吊りリード部等の組み立て後切断される不要部分)を完
全に溶解除去する。この場合、残った鍍金の施されてい
る金属部分即ち半導体素子が搭載されるパッド部やリー
ド部等の必要部分は、図2(h)に示されるように、テ
ープ8により相対位置関係が崩れることなく確実に保持
される。
他の実施例を示す工程図である。図中、図1で用いたの
と実質上同一の部材および部分には同一符号が付されて
おり、それらについての説明は省略されている。図1と
の比較で明らかなように、図3(a)及び(b)で示さ
れる各工程は、図1のそれらと同じであるので説明は省
略し、図3(c)以降に示されている工程について説明
する。
ームパターンに対応してドライフィルム2が残された金
属板1の両面には、噴射ノズル7によりエッチング液が
吹き付けられてエッチング処理が行なわれる。このエッ
チング処理は、ドライフィルム2の存在しない部分の金
属が溶解除去されて、図3(d)に示されるように金属
板1が穴明きの状態になるまで行われる。このようにし
て穴明き状態にされた金属板1の両表面からドライフィ
ルム2が剥離されて、図3(d)に示された如き横断面
を有するリードフレーム素材が製作される。
属板1)の表裏面の必要個所に、図3(e)に拡大して
示したようにニッケル(Ni)鍍金,パラジウム(Pd)鍍
金及び金(Au)鍍金が夫々施されて、リードフレームが
完成する。即ち、図3(f)に示したように、先ずリー
ドフレーム表裏面全体に下地層としてニッケル(Ni)鍍
金が施され、次に図3(g)に示したように、半導体搭
載部分と金線ボンディング部分と基板実装面側の半田接
合部分との必要最小限個所にのみパラジウム(Pd)鍍金
が施され、最後に図3(h)に示したように、リードフ
レーム表裏面全体に金(Au)が施されて、リードフレー
ムが完成する。このように、リードフレームの完成品は
高価なパラジウムの使用量が最小限に抑えられており、
従来のリードフレームに比べて安価となる。
他の実施例を示す工程図である。図中、図1で用いたの
と実質上同一の部材および部分には同一符号が付されて
おり、それらについての説明は省略されている。図1と
の比較で明らかなように、図4(a)乃至(d)で示さ
れる各工程は、図1のそれらと同じであるので説明は省
略し、図4(e)以降に示されている工程について説明
する。
行わずに、図4(e)に示されたように、図4(d)で
得られた鍍金処理済みの金属板1の両面に噴射ノズル7
でエッチング液を吹き付けてエッチング処理することに
より製品を得るようにした点で、第1実施例とは異な
る。この実施例によれば、より安価に製品を提供するこ
とが出来る。
よる場合に比べて遥かに安価なリードフレームを提供で
きるばかりか、リード抜けや樹脂破損などの不具合を生
じないリードフレームを提供することが出来る。
施例を示す工程図である。
実施例を示す工程図である。
他の実施例を示す工程図である。
他の実施例を示す工程図である。
Claims (6)
- 【請求項1】金属板より成形されるリードフレームにお
いて、半導体素子搭載部分と金線ボンディング部分と基
板実装面側の半田接合部分との必要最小限個所にのみ部
分的なパラジウム鍍金が施されていることを特徴とする
リードフレーム。 - 【請求項2】金属板より成形されるリードフレームにお
いて、半導体素子搭載側表面と基板実装側表面のみにパ
ラジウム鍍金が施されていて、成形されたリード部,パ
ッド部その他の実装不要部分及び側面には鍍金が施され
ていないことを特徴とするリードフレーム。 - 【請求項3】金属板より成形されるリードフレームにお
いて、半導体素子搭載側表面と基板実装側表面の必要最
小限の部分のみにパラジウム鍍金が施されていて、成形
されたリード部,パッド部その他の実装不要部分及び側
面には鍍金が施されていないことを特徴とするリードフ
レーム。 - 【請求項4】金属板を成形してリードフレーム素材を準
備し、該リードフレーム素材の半導体素子搭載部分の必
要最小限個所に部分的にパラジウム鍍金を施し、次に前
記リードフレーム素材の金線ボンディング部分及び基板
実装面側の半田接合部分の必要最小限個所に部分的にパ
ラジウム鍍金を施すようにしたことを特徴とするリード
フレームの製造方法。 - 【請求項5】金属板を成形してリードフレーム素材を準
備し、該リードフレーム素材の半導体素子搭載側表面に
のみパラジウム鍍金を施し、次に前記リードフレーム素
材の基板実装側表面にのみパラジウム鍍金を施し、前記
リードフレーム素材のリード部,パッド部その他の実装
不要部分及び側面には鍍金を施さないようにしたリード
フレームの製造方法。 - 【請求項6】金属板を成形してリードフレーム素材を準
備し、該リードフレーム素材の半導体素子搭載側表面の
必要最小限の部分のみにパラジウム鍍金を施し、次に前
記リードフレーム素材の基板実装側表面の必要最小限の
部分のみにパラジウム鍍金を施し、前記リードフレーム
素材のリード部,パッド部その他の実装不要部分及び側
面には鍍金を施さないようにしたリードフレームの製造
方法。
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