JP2003071245A - 有機塩素化合物除去用バグフィルターとその除去方法 - Google Patents
有機塩素化合物除去用バグフィルターとその除去方法Info
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Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Filtering Materials (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 バグフィルターが充分に耐熱性がある1
70〜210℃で有機塩素化合物を分解する充分な能力
を有する有機塩素化合物分解除去用バグフィルターと、
それを用いた有機塩素化合物の除去方法を提供する。 【解決手段】 上記課題は、クロムを主成分とする触媒
を担持した有機塩素化合物分解除去用バグフィルター
と、それを用いた有機塩素化合物の除去方法によって解
決される。
70〜210℃で有機塩素化合物を分解する充分な能力
を有する有機塩素化合物分解除去用バグフィルターと、
それを用いた有機塩素化合物の除去方法を提供する。 【解決手段】 上記課題は、クロムを主成分とする触媒
を担持した有機塩素化合物分解除去用バグフィルター
と、それを用いた有機塩素化合物の除去方法によって解
決される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、産業廃棄物や都市
ごみなどを処理する焼却施設等から排出される排ガス中
に含まれるダイオキシン等の有害有機塩素化合物を分解
除去するフィルターと、それを用いた有害有機塩素化合
物の除去方法に関するものである。
ごみなどを処理する焼却施設等から排出される排ガス中
に含まれるダイオキシン等の有害有機塩素化合物を分解
除去するフィルターと、それを用いた有害有機塩素化合
物の除去方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】最近、ごみ焼却施設等で発生するダイオ
キシン等の有害有機化合物が大きな社会問題になってお
り、その対策が種々講じられている。
キシン等の有害有機化合物が大きな社会問題になってお
り、その対策が種々講じられている。
【0003】この有害有機塩素化合物を除去する方法は
種々開発されており、触媒等を担持したバグフィルター
を用いて有機塩素化合物を除去する方法は、特開平10
−180039号公報に開示されている。
種々開発されており、触媒等を担持したバグフィルター
を用いて有機塩素化合物を除去する方法は、特開平10
−180039号公報に開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
バグフィルターは低温では有機塩素化合物を分解する能
力が低いため、バグフィルターで捕集した有機塩素化合
物を改めて分解処理しなければならないという問題があ
った。一方、230℃程度の高温になれば有機塩素化合
物を分解する充分な能力を発揮するが、この温度ではバ
グフィルターの耐熱性が問題となり、長期間の使用が困
難であった。
バグフィルターは低温では有機塩素化合物を分解する能
力が低いため、バグフィルターで捕集した有機塩素化合
物を改めて分解処理しなければならないという問題があ
った。一方、230℃程度の高温になれば有機塩素化合
物を分解する充分な能力を発揮するが、この温度ではバ
グフィルターの耐熱性が問題となり、長期間の使用が困
難であった。
【0005】本発明の目的は、バグフィルターが充分に
耐熱性がある170〜210℃で有機塩素化合物を分解
する充分な能力を有する有機塩素化合物分解除去用バグ
フィルターを提供することにある。
耐熱性がある170〜210℃で有機塩素化合物を分解
する充分な能力を有する有機塩素化合物分解除去用バグ
フィルターを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するべく鋭意検討の結果、クロムを主成分とする
触媒を担持したバグフィルターを用いることで、170
〜210℃程度の温度域での触媒の分解能が増し、バグ
フィルター出口側の有機塩素化合物の濃度を低く保てる
ことを見出して本発明を完成するに至った。
を解決するべく鋭意検討の結果、クロムを主成分とする
触媒を担持したバグフィルターを用いることで、170
〜210℃程度の温度域での触媒の分解能が増し、バグ
フィルター出口側の有機塩素化合物の濃度を低く保てる
ことを見出して本発明を完成するに至った。
【0007】すなわち、本発明は、クロムを主成分とす
る触媒を担持した有機塩素化合物分解除去用バグフィル
ターと、それを用いた有機塩素化合物の除去方法に関す
るものである。
る触媒を担持した有機塩素化合物分解除去用バグフィル
ターと、それを用いた有機塩素化合物の除去方法に関す
るものである。
【0008】
【発明の実施の形態】クロムを主成分とする触媒におけ
るクロムは元素、塩あるいは酸化物等である。この触媒
はクロム単独でもよい。クロム以外の成分としてはセリ
ウム、マンガン、ランタン、パラジウム、レニウム等の
元素、塩あるいは酸化物等を挙げることができ、好まし
くはセリウム、マンガン、パラジウムからなる群から選
ばれた少なくとも1つ以上の元素、塩あるいは酸化物等
である。クロムとクロム以外の成分との比率は重量比で
1:4〜100:1程度、好ましくは1:1〜10:1
程度が適当である。
るクロムは元素、塩あるいは酸化物等である。この触媒
はクロム単独でもよい。クロム以外の成分としてはセリ
ウム、マンガン、ランタン、パラジウム、レニウム等の
元素、塩あるいは酸化物等を挙げることができ、好まし
くはセリウム、マンガン、パラジウムからなる群から選
ばれた少なくとも1つ以上の元素、塩あるいは酸化物等
である。クロムとクロム以外の成分との比率は重量比で
1:4〜100:1程度、好ましくは1:1〜10:1
程度が適当である。
【0009】上記の各触媒は担体に担持させることがで
きる。好ましい担体はチタニア、シリカ、アルミナ、珪
藻土等であり、チタニアが特に好ましい。担体の使用量
は上記の各触媒成分1重量部に対し0.5〜100重量
部程度、通常1〜20重量部程度でよい。
きる。好ましい担体はチタニア、シリカ、アルミナ、珪
藻土等であり、チタニアが特に好ましい。担体の使用量
は上記の各触媒成分1重量部に対し0.5〜100重量
部程度、通常1〜20重量部程度でよい。
【0010】上記の各触媒の製造には、この種の触媒の
一般的な調製方法を適用できる。例えば触媒の製造用原
料は、上記各金属の化合物として、硝酸塩、炭酸塩、ハ
ロゲン化物等の無機酸塩および酢酸塩、シュウ酸塩など
有機酸塩が使用される。また、触媒担体への担持操作に
は、通常の沈殿法、混練法、含浸法およびイオン交換法
などの技術が利用できる。このように調製された触媒組
成物は、必要があれば常法により焼成する。焼成は、窒
素中または空気中において、300〜700℃の温度で
1〜10時間加熱して行うのが好ましい。
一般的な調製方法を適用できる。例えば触媒の製造用原
料は、上記各金属の化合物として、硝酸塩、炭酸塩、ハ
ロゲン化物等の無機酸塩および酢酸塩、シュウ酸塩など
有機酸塩が使用される。また、触媒担体への担持操作に
は、通常の沈殿法、混練法、含浸法およびイオン交換法
などの技術が利用できる。このように調製された触媒組
成物は、必要があれば常法により焼成する。焼成は、窒
素中または空気中において、300〜700℃の温度で
1〜10時間加熱して行うのが好ましい。
【0011】バグフィルターは市販のものにクロムを主
成分とする触媒を担持させて使用することができる。例
えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリフェニルスルフィ
ルド、ポリテトラフルオロエチレン及び耐熱性に優れた
ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾール等の不織布
フィルター、またはガラス繊維等の織布フィルター等が
使用される。また、フィルター面積1m2当たり200
g以上の触媒の担持が可能で、かつフィルター厚さが2
mm以上のものが好都合である。
成分とする触媒を担持させて使用することができる。例
えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリフェニルスルフィ
ルド、ポリテトラフルオロエチレン及び耐熱性に優れた
ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾール等の不織布
フィルター、またはガラス繊維等の織布フィルター等が
使用される。また、フィルター面積1m2当たり200
g以上の触媒の担持が可能で、かつフィルター厚さが2
mm以上のものが好都合である。
【0012】フィルターへの触媒の担持法は、触媒の水
溶液スラリーにフィルターを浸し、フィルターに触媒を
均一に含浸させた後、乾燥させる方法が最適であるが、
特にこの方法に限定されるものではない。
溶液スラリーにフィルターを浸し、フィルターに触媒を
均一に含浸させた後、乾燥させる方法が最適であるが、
特にこの方法に限定されるものではない。
【0013】本発明のバグフィルターは逆洗型、振動型
等の間欠式ダスト払い落とし方式あるいはパルスジェッ
ト、ソニックジェット、リバースジェット等の連続式ダ
スト払い落とし方式いずれの方式でも使用することがで
きる。
等の間欠式ダスト払い落とし方式あるいはパルスジェッ
ト、ソニックジェット、リバースジェット等の連続式ダ
スト払い落とし方式いずれの方式でも使用することがで
きる。
【0014】バグフィルターの分解除去対象は有機塩素
化合物全般であるが、特にポリ塩素化芳香族化合物を対
象としており、例えば、2,3,7,8−テトラクロロ
ジベンゾダイオキシンで代表されるようなポリ塩素化ジ
ベンゾダイオキシン類、2,3,4,7,8−ペンタク
ロロジベンゾフランで代表されるようなポリ塩素化ジベ
ンゾフラン類、3,3’,4,4’,5−ペンタクロロ
ビフェニルで代表されるようなポリ塩素化ビフェニル
類、O−クロロフェノールで代表されるような塩素化フ
ェノール類、クロロベンゼンで代表されるような塩素化
ベンゼン類等である。
化合物全般であるが、特にポリ塩素化芳香族化合物を対
象としており、例えば、2,3,7,8−テトラクロロ
ジベンゾダイオキシンで代表されるようなポリ塩素化ジ
ベンゾダイオキシン類、2,3,4,7,8−ペンタク
ロロジベンゾフランで代表されるようなポリ塩素化ジベ
ンゾフラン類、3,3’,4,4’,5−ペンタクロロ
ビフェニルで代表されるようなポリ塩素化ビフェニル
類、O−クロロフェノールで代表されるような塩素化フ
ェノール類、クロロベンゼンで代表されるような塩素化
ベンゼン類等である。
【0015】本発明の処理対象のガスにおける有機塩素
化合物の濃度は特に制限されず、飽和濃度であってもよ
く、飽和濃度を越えていてミスト等の形態で含むもので
あってもよい。しかしながら、通常は2,3,7,8−
テトラクロロジベンゾダイオキシン換算で0.01〜5
00ng/Nm3程度、特に0.05〜10ng/Nm3
程度のものである。
化合物の濃度は特に制限されず、飽和濃度であってもよ
く、飽和濃度を越えていてミスト等の形態で含むもので
あってもよい。しかしながら、通常は2,3,7,8−
テトラクロロジベンゾダイオキシン換算で0.01〜5
00ng/Nm3程度、特に0.05〜10ng/Nm3
程度のものである。
【0016】分解条件としては、反応温度は120〜3
50℃程度、好ましくは150〜250℃程度、特に好
ましくは170〜210℃程度で、線速度(バグフィル
ター1m2当りの標準状態におけるガスの供給速度)は
0.1〜5m/min程度が適当である。
50℃程度、好ましくは150〜250℃程度、特に好
ましくは170〜210℃程度で、線速度(バグフィル
ター1m2当りの標準状態におけるガスの供給速度)は
0.1〜5m/min程度が適当である。
【0017】
【実施例】1.有機塩素化合物除去用バグフィルターの
調製 [実施例]有機塩素化合物除去用の(クロム+セリウム
+パラジウム/チタニア)触媒を水に所定量添加してス
ラリーとし、これに内径20cm、長さ1.5mのポリ
イミドフェルト製のフィルターを浸してスラリーを含浸
させた。スラリーを含浸したバグフィルターは、スラリ
ーが垂れないように乾燥させた。この手段により調整し
たバグフィルターには、フィルター面積1m2当たり4
00g(CrO3:CeO2:PdO:TiO2=5.
0:0.5:0.5:94.0)の触媒が担持された。
調製 [実施例]有機塩素化合物除去用の(クロム+セリウム
+パラジウム/チタニア)触媒を水に所定量添加してス
ラリーとし、これに内径20cm、長さ1.5mのポリ
イミドフェルト製のフィルターを浸してスラリーを含浸
させた。スラリーを含浸したバグフィルターは、スラリ
ーが垂れないように乾燥させた。この手段により調整し
たバグフィルターには、フィルター面積1m2当たり4
00g(CrO3:CeO2:PdO:TiO2=5.
0:0.5:0.5:94.0)の触媒が担持された。
【0018】[比較例]有機塩素化合物除去用の(バナ
ジウム/チタニア触媒)を水に所定量添加してスラリー
とし、これに内径20cm、長さ1.5mのポリイミド
フェルト製のフィルターを浸してスラリーを含浸させ
た。スラリーを含浸したバグフィルターは、スラリーが
垂れないように乾燥させた。この手段により調整したバ
グフィルターには、フィルター面積1m2当たり425
g(V2O5:TiO2=6.0:94.0)の触媒が担
持された。
ジウム/チタニア触媒)を水に所定量添加してスラリー
とし、これに内径20cm、長さ1.5mのポリイミド
フェルト製のフィルターを浸してスラリーを含浸させ
た。スラリーを含浸したバグフィルターは、スラリーが
垂れないように乾燥させた。この手段により調整したバ
グフィルターには、フィルター面積1m2当たり425
g(V2O5:TiO2=6.0:94.0)の触媒が担
持された。
【0019】2.反応条件及び実験結果
上記有機塩素化合物除去用バグフィルター(実施例、比
較例)をフィルター試験装置に設置し、その性能試験を
行った。反応温度はそれぞれ170℃,190℃,21
0℃に設定、排ガスを線速度(LV)1.2m/min
になるようフィルターに流通、DXN類濃度をフィルタ
ー入口と出口で測定し、毒性等価換算濃度に換算、それ
らから除去率を求めた(結果−表1)。
較例)をフィルター試験装置に設置し、その性能試験を
行った。反応温度はそれぞれ170℃,190℃,21
0℃に設定、排ガスを線速度(LV)1.2m/min
になるようフィルターに流通、DXN類濃度をフィルタ
ー入口と出口で測定し、毒性等価換算濃度に換算、それ
らから除去率を求めた(結果−表1)。
【0020】なお、排ガスの性状は入口DXN類濃度:
1〜5ng−TEQ/Nm3、煤塵量:3g/Nm3以
下、SOx濃度:20ppm以下、NOx濃度:90p
pm以下、HCl濃度:50ppm以下であった。ま
た、DXN類除去率は下記の定義に従った。 DXN類除去率(%)=((入口DXN類濃度−出口DX
N類濃度)÷入口DXN類濃度)×100
1〜5ng−TEQ/Nm3、煤塵量:3g/Nm3以
下、SOx濃度:20ppm以下、NOx濃度:90p
pm以下、HCl濃度:50ppm以下であった。ま
た、DXN類除去率は下記の定義に従った。 DXN類除去率(%)=((入口DXN類濃度−出口DX
N類濃度)÷入口DXN類濃度)×100
【0021】
【表1】
【0022】
【発明の効果】本発明により、排ガス中に含まれる有機
塩素化合物を低温で高い分解率で分解除去することがで
き、しかもこのバグフィルターを長期間にわたり安定使
用することができる。
塩素化合物を低温で高い分解率で分解除去することがで
き、しかもこのバグフィルターを長期間にわたり安定使
用することができる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 鹿田 勉
東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日
本鋼管株式会社内
(72)発明者 茂木 康弘
東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日
本鋼管株式会社内
Fターム(参考) 4D019 AA01 BA04 BA13 BB02 BB03
BC07 CA04
4D048 AA11 AB01 AB03 BA07X
BA19X BA25X BA31X BA41X
CD05
4D058 JA04 NA10 TA06
Claims (2)
- 【請求項1】 クロムを主成分とする触媒を担持した有
機塩素化合物分解除去用バグフィルター - 【請求項2】 有機塩素化合物を含有するガスを170
〜210℃で請求項1のバグフィルターに接触させるこ
とを特徴とする有機塩素化合物の除去方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001260540A JP2003071245A (ja) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | 有機塩素化合物除去用バグフィルターとその除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001260540A JP2003071245A (ja) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | 有機塩素化合物除去用バグフィルターとその除去方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003071245A true JP2003071245A (ja) | 2003-03-11 |
Family
ID=19087722
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001260540A Pending JP2003071245A (ja) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | 有機塩素化合物除去用バグフィルターとその除去方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003071245A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010017707A (ja) * | 2008-07-09 | 2010-01-28 | Wc Heraeus Gmbh | 酸化触媒 |
JP2020114588A (ja) * | 2014-03-21 | 2020-07-30 | ハルドール・トプサー・アクチエゼルスカベット | フィルターバッグアッセンブリ |
-
2001
- 2001-08-30 JP JP2001260540A patent/JP2003071245A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010017707A (ja) * | 2008-07-09 | 2010-01-28 | Wc Heraeus Gmbh | 酸化触媒 |
JP2020114588A (ja) * | 2014-03-21 | 2020-07-30 | ハルドール・トプサー・アクチエゼルスカベット | フィルターバッグアッセンブリ |
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