JP3448246B2

JP3448246B2 - バグフィルタ及び排ガス浄化方法

Info

Publication number: JP3448246B2
Application number: JP28937099A
Authority: JP
Inventors: 惠志田; 公利小瀬; 具承増田; 守潮木; 秀昭親松
Original assignee: Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Current assignee: Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date: 1999-10-12
Filing date: 1999-10-12
Publication date: 2003-09-22
Anticipated expiration: 2019-10-12
Also published as: JP2001104728A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば都市ゴミ焼
却炉，産業廃棄物焼却炉，汚泥焼却炉等の各種焼却炉、
熱分解炉、溶融炉等から排出される排ガスを浄化する技
術に関し、特に排ガス中に含有される窒素酸化物やダイ
オキシン類等のハロゲン化芳香族化合物並びに高縮合度
芳香族炭化水素，環境ホルモンを個別に、又は同時に無
害化するためのバグフィルタ及びバグフィルタを用いた
排ガス浄化方法に関する。

【０００２】

【背景技術】一般に排ガス中に含まれるダスト成分の除
去のために、図２に示すようなバグフィルタを用いて、
除塵している。従来においてはこのバグフィルタに脱硝
触媒を担持させて排ガス中の有害物（煤塵，塩化水素，
硫黄酸化物，窒素酸化物，ダイオキシン，水銀等）を除
去する技術が提案されている（特開平７−２０４４６６
号公報参照）。

【０００３】図２は上記提案にかかるバグフィルタを用
いた燃料排ガス処理装置の系統図である。図３はバグフ
ィルタの概略図である。図２に示すように、燃焼排ガス
処理装置は、排ガス１１に消石灰１２をブロワ１３ａに
より供給する消石灰供給装置１３と、該消石灰の中和反
応によって塩化水素，硫黄酸化物等を除去した排ガス１
１に窒素酸化物の還元剤１４をポンプ１５ａにより供給
する還元剤供給装置１５と、図３に示す付着層１６が形
成される脱硝触媒を担持させたバグフィルタ本体１７を
備えた集塵装置１９とから構成されている。ここで、上
記バグフィルタ本体１７は、図３に示すように、排ガス
１１中のダスト成分１１ａ及び消石灰１２が付着する結
果、付着層１６を形成してダスト成分１１ａを除去する
ようにしている。そして、図３に示すように、還元剤１
４であるアンモニアが添加された排ガス１１を付着層１
６及びバグフィルタ本体１７を通過させて排ガス中の窒
素酸化物（ＮＯｘ）を還元除去し、浄化された排ガス２
０として大気へ放出している。なお、バグフィルタ本体
１７に付着したダスト成分は、例えば逆圧力付与、振
動、逆洗浄等によって付着層１６を払い落とし、図２に
示す集塵装置１９の下部に設けた灰排出装置２１から排
出している。

【０００４】ここで、上記有害物質の除去のための脱硝
触媒の分解用触媒として、チタニア（ＴｉＯ₂）を担体
とし、活性成分として五酸化バナジウム（Ｖ₂Ｏ₅）を
担持したものが使用されている。

【０００５】この従来の脱硝触媒の製造方法の一例を以
下に説明する。先ず、触媒の担体としてのＴｉＯ₂の原
料となる硫酸チタン又は塩化チタンの溶液を加熱加水分
解するか又はＮＨ₃等により中和することで、沈殿さ
せ、得られた含水酸化チタンを４００〜６００℃程度で
熱処理することにより触媒担体となるＴｉＯ₂を得る。
次に、活性成分となるＶ₂Ｏ₅のアンモニウム塩等の原
料溶液とＴｉＯ₂を混合し、混合後ハニカム状等に成形
して、４５０〜５５０℃で焼成する。

【０００６】このようにして得られた触媒は、比表面積
が５０〜６８ｍ²／ｇ程度と小さく、２００℃以下の低
温での活性が著しく低下するため、従来の廃棄物焼却排
ガスの脱硝等においては、排ガスを再度加熱すること
で、バグフィルタ本体に担持した場合でも２００℃以上
で分解処理を行っているのが、現状である。

【０００７】また、ダイオキシン類は焼却炉内での高温
時においては熱分解されるが、ガス冷却装置を通過して
除塵装置で除塵する場合に、４００℃以下の低温領域で
はダイオキシン類が再生成される場合があり、問題とな
る。

【０００８】また、従来においては、排ガスは一度除塵
装置（例えばバグフィルタ）を通した後に、触媒装置を
通過させ、その後に脱硝触媒により別途ダイオキシン類
を除去することとしているが、装置の簡略化の要求があ
り、ダスト成分の除去と共に排ガス中のダイオキシン類
を高効率で除去し、例えば厚生省の排出規制値である
０．１ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ³を確保する技術の開発が望
まれている。

【０００９】一方、排ガス中に含まれる上記有害物質の
例えばダイオキシン類等の分解において、例えばチタニ
ア（ＴｉＯ₂）を担体とし、活性成分として五酸化バナ
ジウム（Ｖ₂Ｏ₅）と三酸化タングステン（ＷＯ₃）と
を担持した触媒を用いて排ガスの処理を行うことが提案
されている（特開平２−３５９１４号公報）。

【００１０】この従来の特開平２−３５９１４号公報の
技術は、触媒として酸化チタン担体に五酸化バナジウム
および三酸化タングステンを担持させたもの（ＴｉＯ₂
６０重量％、Ｖ₂Ｏ₅４重量％、ＷＯ₃３．５重量％）
についての技術が開示されているが、ダイオキシン類の
分解率が５０％以下しかなく、分解効率が悪いものであ
るので、バグフィルタ本体に担持した場合においてもダ
イオキシン類の分解効率が低いものとなり、更なるダイ
オキシン類等の分解効率が高いものが求められている。

【００１１】本発明は、上記問題に鑑み、２００℃以下
（特に１５０℃以下）の低温域における脱硝活性、ダイ
オキシン類及び高縮合度芳香族炭化水素、環境ホルモン
等の有害物質の分解活性を向上させ、排ガスから煤塵及
び気体状有害物質（例えばダイオキシン類等）を同時に
除去するバグフィルタ及び排ガス浄化方法を提供するこ
とを課題とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
ための、第一番目の発明は、排ガス中のダスト成分を浄
化するバグフィルタであって、下記「表３」に示される
Ｘ線回折パターンを有し、脱水された状態において酸化
物のモル比で表わして、（１±０．８）Ｒ₂Ｏ・［ａＭ₂
Ｏ₃・ｂＭ´Ｏ・ｃＡｌ₂Ｏ₃］・ｙＳｉＯ₂（上記式中、
Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イオン、ＭはVI
II族元素、希土類元素、チタン、バナジウム、クロム、
ニオブ、アンチモン及びガリウムからなる群より選ばれ
た少なくとも１種以上の元素イオン、Ｍ´はマグネシウ
ム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムのアルカリ
土類金属イオン、ａ＞０、２０＞ｂ≧０、ａ＋ｃ＝１、
３０００＞ｙ＞１１）なる化学式を有する結晶性シリケ
ートに、Ｖ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｆｅ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐ
ｄ，Ｒｕ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ａｕからなる群より選ばれた少
なくとも１種以上の金属を担持させてなるダイオキシン
類触媒を担持してなることを特徴とする。

【表３】

【００１３】第二番目の発明は、第一番目の発明におい
て、上記分解触媒の比表面積が９０ｍ²／ｇ以上である
ことを特徴とする。

【００１４】第三番目の発明は、排ガス中のダスト成分
を浄化するバグフィルタを用いる排ガス浄化方法であっ
て、化学合成繊維をフェルト状に織り上げたバグフィル
タ本体にダイオキシン類分解触媒を担持し、排ガス中の
ダスト成分の除去と共に、ダイオキシン類の分解並びに
脱硝を行う排ガス浄化方法において、上記触媒が下記
「表４」に示されるＸ線回折パターンを有し、脱水され
た状態において酸化物のモル比で表わして、（１±０．
８）Ｒ₂Ｏ・［ａＭ₂Ｏ₃・ｂＭ´Ｏ・ｃＡｌ₂Ｏ₃］・ｙ
ＳｉＯ₂（上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又
は水素イオン、ＭはVIII族元素、希土類元素、チタン、
バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモン及びガリウム
からなる群より選ばれた少なくとも１種以上の元素イオ
ン、Ｍ´はマグネシウム、カルシウム、ストロンチウ
ム、バリウムのアルカリ土類金属イオン、ａ＞０、２０
＞ｂ≧０、ａ＋ｃ＝１、３０００＞ｙ＞１１）なる化学
式を有する結晶性シリケートに、Ｖ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｆ
ｅ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ａｕ
からなる群より選ばれた少なくとも１種以上の金属を担
持させてなる触媒であることを特徴とする。

【表４】

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。

【００１６】図１に本実施の形態にかかるバグフィルタ
の一例を示す。図１に示すように、本実施の形態にかか
るバグフィルタ１００は、例えば焼却炉，熱分解炉，溶
融炉等から排出される排ガス中のダスト成分を浄化する
バグフィルタであって、化学合成繊維をフェルト状に織
り上げたバグフィルタ本体１０１にダイオキシン類分解
触媒１０２を担持してなるものである。

【００１７】本発明では、上記ダイオキシン類分解触媒
（以下、単に「分解触媒」ともいう。）１０２として、
以下の触媒を例示することができる。

【００１８】本実施の形態に係るダイオキシン類の分解
触媒１０２は、下記「表５」に示されるＸ線回折パター
ンを有し、脱水された状態において酸化物のモル比で表
わして、（１±０．８）Ｒ₂Ｏ・〔ａＭ₂Ｏ₃・ｂＭ′
Ｏ・ｃＡｌ₂Ｏ₃〕・ｙＳｉＯ₂（上記式中、Ｒはアル
カリ金属イオン及び／又は水素イオン、ＭはVIII族元
素、希土類元素、チタン、バナジウム、クロム、ニオ
ブ、アンチモン及びガリウムからなる群より選ばれた少
なくとも１種以上の元素イオン、Ｍ′はマグネシウム、
カルシウム、ストロンチウム、バリウムのアルカリ土類
金属イオン、ａ＞０、２０＞ｂ≧０、ａ＋ｃ＝１、３０
００＞ｙ＞１１）なる化学式を有する結晶性シリケート
に、Ｖ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｆｅ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，
Ｒｕ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ａｕからなる群より選ばれた少なく
とも１種以上の金属を担持させてなる触媒である。

【表５】

【００１９】また、本実施の形態に係る排ガス浄化方法
は、排ガス中に含有される有害物質と接触して分解して
無害化することのできる触媒１０２を担持させたバグフ
ィルタ本体１０２を用いる方法であって、上記触媒１０
２が、上記「表５」に示されるＸ線回折パターンを有
し、脱水された状態において酸化物のモル比で表わし
て、（１±０．８）Ｒ₂Ｏ・〔ａＭ₂Ｏ₃・ｂＭ′Ｏ・
ｃＡｌ₂Ｏ₃〕・ｙＳｉＯ₂（上記式中、Ｒはアルカリ
金属イオン及び／又は水素イオン、ＭはVIII族元素、希
土類元素、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アン
チモン及びガリウムからなる群より選ばれた少なくとも
１種以上の元素イオン、Ｍ′はマグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウムのアルカリ土類金属イオ
ン、ａ＞０、２０＞ｂ≧０、ａ＋ｃ＝１、３０００＞ｙ
＞１１）なる化学式を有する結晶性シリケートに、Ｖ，
Ｍｎ，Ｃｏ，Ｆｅ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｉ
ｒ，Ｒｈ，Ａｕからなる群より選ばれた少なくとも１種
以上の金属を担持させてなるものである。

【００２０】本発明に係る触媒組成物の成分及び組成比
は特に限定されるものではないが、代表例として結晶性
シリケート１００重量部に対して、触媒成分（Ｖ，Ｍ
ｎ，Ｃｏ，Ｆｅ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｉ
ｒ，Ｒｈ，Ａｕ）によって触媒活性を有するよう適宜調
製すればよい。例えばＶを触媒成分とした場合、一成分
系では例えば五酸化バナジウム等が０．００１〜５重量
部、二成分以上の系では各々０．００００５重量部以上
の配合とすることで十分活性を発現することができる。

【００２１】上記触媒成分をバグフィルタ本体に担持す
るには、触媒粉体を含むスラリーにバグフィルタ用濾布
を浸漬し、該濾布に触媒粉体を担持させ、水切り後、乾
燥、焼成して得られる。

【００２２】上述した酸化触媒は、焼却炉からの排ガス
を処理するバグフィルタに担持する触媒で用いる場合に
は、その比表面積は９０ｍ²／ｇ以上、好ましくは９０
〜２００ｍ²／ｇであることが好ましい。これは比表面
積が２００ｍ²／ｇを超えた場合、排気ガスを処理する
際の２００℃温度域において、粒子の成長により比表面
積の減少が起こり、熱安定性に乏しく活性が低下し、長
期間に亙って安定して使用することができないからであ
る。また、比表面積が９０ｍ²／ｇ未満の場合には、従
来と同様に２００℃以下での活性が著しく低下し、好ま
しくないからである。

【００２３】上記触媒の担持量は１〜５００ｇ／ｍ²と
するのがよい。これは、１ｇ／ｍ²未満であるとダイオ
キシン類の分解性能が不十分であり、一方５００ｇ／ｍ
²を超えた場合には排ガスの圧力損失が増加するので好
ましくないからである。バグフィルタ本体に用いられる
化学合成繊維としては、ポリイミド系，ポリフェニレン
サルファイド系，ポリフルオロエチレン系，ポリエステ
ル系のものを用いることができる。また、担持はバグフ
ィルタ本体の内部又は表面に担持することができる。

【００２４】排ガス処理に使用される触媒は、ペレット
状，板状，円筒状，コルゲート状，ハニカム状等の一体
成型された任意の形状とすればよい。なお、ガスとの接
触面積を大とすることが好ましいことは当然であるが、
粉体状触媒の充填密度の程度によっては排ガスの流動背
圧が上がり好ましくない。この対策としては通常は粉体
をその比表面積を過度に低下させることなく所定の密度
に圧縮して得た、例えばハニカム状の成型体を使用する
のが特に好ましい。また、バグフィルターに触媒成分を
含有させ、除塵と触媒分解の両方を働かせる場合は、触
媒の粉末成分をバグフィルターにコートする方法も採用
できる。

【００２５】ここで、本発明の触媒で分解処理する排ガ
ス中の有害物質とは、窒素酸化物の他、ダイオキシン類
やＰＸＢ（Ｘはハロゲンを表す。）類に代表される有害
なハロゲン化芳香族化合物、高縮合度芳香族炭化水素等
の有害物質をいうが、本発明の酸化触媒作用により分解
できる排ガス中の有害物質（又は環境ホルモン）であれ
ばこれらに限定されるものではない。

【００２６】本発明で分解処理する灰や土壌中に含まれ
る芳香族ハロゲン系化合物としては、ダイオキシン類や
ＰＣＢ類に代表される有害な物質（例えば環境ホルモ
ン）であればこれらに限定されるものではない。ここ
で、前記ダイオキシン類とは、ポリハロゲン化ジベンゾ
−ｐ−ダイオキシン類（ＰＸＤＤｓ）及びポリハロゲン
化ジベンゾフラン類（ＰＸＤＦｓ）の総称であり（Ｘは
ハロゲンを示す）、ハロゲン系化合物とある種の有機ハ
ロゲン化合物の燃焼時に微量発生するといわれる。ハロ
ゲンの数によって一ハロゲン化物から八ハロゲン化物ま
であり、これらのうち、特に四塩化ジベンゾ−ｐ−ダイ
オキシン（Ｔ₄ＣＤＤ）は、最も強い毒性を有するもの
として知られている。なお、有害なハロゲン化芳香族化
合物としては、ダイオキシン類の他にその前駆体となる
種々の有機ハロゲン化合物（例えば、フェノール，ベン
ゼン等の芳香族化合物（例えばハロゲン化ベンゼン類，
ハロゲン化フェノール及びハロゲン化トルエン等）、ハ
ロゲン化アルキル化合物等）が含まれており、灰中から
除去する必要がある。すなわち、ダイオキシン類とは塩
素化ダイオキシン類のみならず、臭素化ダイオキシン類
等のハロゲン化ダイオキシン類を表す。また、ＰＸＢ類
（ポリハロゲン化ビフェニル類）はビフェニルにハロゲ
ン原子が数個付加した化合物の総称であり、ハロゲンの
置換数、置換位置により異性体があるが、ＰＣＢ（ポリ
塩化ビフェニル）の場合では、２，６−ジクロロビフェ
ニル、２，２´−ジクロロビフェニル、２，３，５−ト
リクロロビフェニル等が代表的なものであり、毒性が強
く、焼却した場合にはダイオキシン類が発生するおそれ
があるものとして知られており、灰中から除去する必要
がある。なお、ＰＸＢ類には当然コプラナーＰＸＢも含
まれるのはいうまでもない。

【００２７】また、高縮合度芳香族炭化水素は多核芳香
族化合物の総称であり、単数又は複数のＯＨ基を含んで
もよく、発癌性物質として認められており、排ガス中か
ら除去する必要がある。

【００２８】また、多くの製造工程においては、煤塵に
加えて、例えばホルムアルデヒド，ベンゼン又はフェノ
ールのような気体状有機化合物を含む排ガスが発生する
こともある。これらの有機化合物もまた、環境汚染物質
であり、人間の健康を著しく損ねるので、排ガスから除
去する必要がある。

【００２９】また、本発明で処理される窒素酸化物と
は、通常ＮＯ及びＮＯ₂の他、これらの混合物をいい、
ＮＯｘとも称されている。しかし、該ＮＯｘにはこれら
以外に各種酸化数の、しかも不安定な窒素酸化物も含ま
れている場合が多い。従ってｘは特に限定されるもので
はないが通常１〜２の値である。雨水等で硝酸、亜硝酸
等になり、またはＮＯは光化学スモッグの主因物質の一
つであるといわれており、人体には有害な化合物であ
る。

【００３０】本発明によるバグフィルタを使用すること
により、上述した有害物質である窒素酸化物，ハロゲン
化芳香族化合物，高縮合度芳香族炭化水素等の有害物質
や気体状有機化合物を接触的に分解して無害化処理する
ことができる。

【００３１】また窒素酸化物については本発明の触媒を
担持したバグフィルタ本体を備えた集塵装置の前流側に
塩基性物質（例えばアンモニア等）の存在させ、還元反
応により無害化処理が同時に行うことができる。

【００３２】ここで、本発明のバグフィルタを用いた排
ガス処理のシステムについて、前述した図２を参照しつ
つ説明する。

【００３３】図２に示すように、燃焼炉により排出され
る排ガスの温度を１００〜２００℃に低減させ、消石灰
供給装置１３から中和剤として消石灰を必要量供給し、
この消石灰の中和反応により排ガス１１中の塩化水素，
硫黄酸化物等の一部が除去される。

【００３４】上記排ガス１１中の塩化水素，硫黄酸化物
等の一部が除去された排ガス１１中に、還元剤（Ｎ
Ｈ₃）１４を還元剤供給装置１５から必要量供給し、供
給された中和剤、還元剤を含む排ガスはフィルタ型集塵
装置１９に導入される。

【００３５】該集塵装置１９においては、図１に示すよ
うに、中和剤及び還元内を含む排ガスが導入され、有害
物質分解触媒を担持したフェルト状のバグフィルタ本体
１０１の上流側表面上には、煤塵と中和剤とで形成され
る付着層１０３が形成される。この付着層１０３を排ガ
ス１１が通過する時に、排ガス１１中に残留している塩
化水素，硫黄酸化物等は消石灰と反応して、吸収除去さ
れ、煤塵も同時に濾過効果により除去される。このよう
にして付着層１０３を通過した排ガス１１は還元剤であ
るアンモニアと一緒にバグフィルタ本体１０１に導入さ
れ、排ガスのダイオキシン類はダイオキシン類分解触媒
により分解除去されると共に窒素酸化物は脱硝作用によ
り、アンモニアに還元されて除去され、清浄化された排
ガス２０は外部は放出される。

【００３６】なお、バグフィルタ本体１０２の上流側に
付着した付着層１０３は徐々に層の厚さが増加していく
ので、厚くなりすぎないように、所定期間毎に適宜逆
圧、逆洗浄、又は振動等の操作により、付着層１０３を
払い落として集塵装置１９の下部に設けた灰排出装置２
１によって排出し、別途処理するようにしている。

【００３７】本発明によるバグフィルタでは、化学合成
繊維をフェルト状に織り上げて構成したバグフィルタ本
体１０１に有害物質分解触媒を担持しているので、触媒
の保持力が増加し、且つバグフィルタ本体での担持によ
り触媒機能の低下を防止することができる。

【００３８】また、バグフィルタ本体１０１はフェルト
状に織り上げた合成繊維で構成されているために、表面
濾過性能が良好であり、且つ圧力損失値が低く、高流速
濾過を行うことが可能である。また、水洗，薬液洗浄に
よるクリーニング及び触媒の再生に当たって、ガラス繊
維を布状に織り上げたもののような目開き等による強度
低下を起こすこともない。よって、本バグフィルタは触
媒性能を長寿命化することができ、且つ長期間再生して
使用することができ、更新コストを大幅に低減すること
ができる。

【００３９】［実施例１］水ガラス１号（ＳｉＯ₂：３０％）：５６１６ｇを水：
５４２９ｇに溶解し、この溶液を溶液Ａとした。一方、
水：４１７５ｇに硫酸アルミニウム：７１８．９ｇ、塩
化第二鉄：１１０ｇ、酢酸カルシウム：４７．２ｇ、塩
化ナトリウム：２６２ｇ及び濃塩酸：２０２０ｇを混合
して溶解し、この溶液を溶液Ｂとした。溶液Ａと溶液Ｂ
を一定割合で供給して沈殿を生成させ、十分攪拌してｐ
Ｈ：８．０のスラリを得た。このスラリを２０リットル
のオートクレーブに仕込み、さらにテトラプロピルアン
モニウムブロマイドを５００ｇを添加し、１６０℃にて
７２時間水熱合成を行い、合成後水洗して乾燥させ、さ
らに５００℃、３時間焼成させ結晶性シリケート１を得
た。この結晶性シリケート１は酸化物のモル比で（結晶
水を省く）０．５Ｎａ₂Ｏ・０．５Ｈ₂Ｏ・〔０．８Ａ
ｌ₂Ｏ₃・０．２Ｆｅ₂Ｏ₃・０．２５ＣａＯ〕・２５
ＳｉＯ₂の組成式で表され、結晶構造はＸ線回折で前記
表５にて表示されるものであった。

【００４０】上記結晶性シリケート１を４ＮのＮＨ₄Ｃ
ｌ水溶液４０℃に３時間攪拌してＮＨ₄イオン交換を実
施した。イオン交換後洗浄して１００℃、２４時間乾燥
させた後、４００℃、３時間焼成してＨ型の結晶性シリ
ケート１を得た。

【００４１】このＨ型結晶性シリケートに、各々メタバ
ナジン酸アンモニウム水溶液、硝酸マンガン水溶液、硝
酸コバルト水溶液、硝酸銅水溶液硝酸銀、塩化白金酸水
溶液、硝酸パラジウム水溶液、塩化ルテニウム水溶液、
塩化イリジウム水溶液、塩化ロジウム水溶液を含浸し、
蒸発乾固後、５００℃×３時間焼成して粉末触媒を得
た。

【００４２】得られた粉末触媒に、それぞれＶ₂Ｏ₅を
３ｗｔ％、ＭｎＯ₂を３ｗｔ％、Ｃｏ₃Ｏ₄を３ｗｔ
％、ＣｕＯを３ｗｔ％、ＡｇＯを３ｗｔ％、Ｐｔを１ｗ
ｔ％、Ｐｄを１ｗｔ％、Ｒｕを１ｗｔ％、Ｉｒを１ｗｔ
％、Ｒｈを１ｗｔ％、各々担持して粉末触媒を得た。

【００４３】この粉末触媒をスラリー状とし、各々バグ
フィルタ本体に担持させてバグフィルタを得た。本実施
例１のバグフィルタは高い効率でダイオキシン類の分解
と共に脱硝ができた。

【００４４】

【発明の効果】本発明によれば、排ガス中のダスト成分
の除去を行うと同時にダイオキシン類の分解並びに脱硝
ができ、排ガス処理装置の簡略化を図ることができる。

【００４５】また、化学合成繊維をフェルト状に織り上
げたバグフィルタ本体に有害物質分解触媒を担持するこ
とにより、触媒性能の長寿命化を図り、水洗，薬液洗浄
及び触媒の再生に際してのバグフィルタ本体の強度低下
を防ぐことができ、長期間に亙って使用して更新コスト
の低減を図ることができる。

【００４６】また、フェルト状のバグフィルタ本体を採
用しているために、表面濾過性が良好であり、且つ圧力
損失値が低く、高流速濾過にも対応でき、集塵装置のコ
ンパクト化を図ることができる。

【００４７】また、従来のような単なる脱硝触媒を担持
したものと異なり、本発明のバグフィルタ本体に担持し
た触媒はいずれもダイオキシン類の分解効率が低温にお
いても高く、集塵装置の後流側にダイオキシン類等の分
解装置を別途設けることなく、排ガスの浄化を行うこと
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態にかかるバグフィルタの概略図を
示す。

【図２】バグフィルタを用いた燃料排ガス処理装置の系
統図である。

【図３】従来のバグフィルタの概略図である。

【符号の説明】

１１排ガス１２消石灰１３消石灰供給装置１４還元剤１５還元剤供給装置１６付着層１７バグフィルタ本体１９集塵装置２０浄化排ガス２１灰排出装置１００バグフィルタ１０１バグフィルタ本体１０２触媒１０３付着層

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩＢ０１Ｊ 23/42 Ｂ０１Ｊ 29/72 Ａ 23/89 29/78 Ａ 29/72 32/00 29/78 Ｂ０１Ｄ 53/36 ＺＡＢＧ 32/00 １０４ＢＦ２３Ｊ 15/00 Ｆ２３Ｊ 15/00 Ｊ (72)発明者潮木守神奈川県横浜市中区錦町12番地三菱重工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者親松秀昭神奈川県横浜市磯子区杉田四丁目四番25 号アイ・シー・ティー株式会社内 (56)参考文献特開平10−180039（ＪＰ，Ａ) 特開平11−253970（ＪＰ，Ａ) 特開平11−156192（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B01D 39/00 - 39/20

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】排ガス中のダスト成分を浄化するバグフ
ィルタであって、下記「表１」に示されるＸ線回折パターンを有し、脱水
された状態において酸化物のモル比で表わして、（１±０．８）Ｒ₂Ｏ・［ａＭ₂Ｏ₃・ｂＭ´Ｏ・ｃＡｌ₂
Ｏ₃］・ｙＳｉＯ₂ （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはVIII族元素、希土類元素、チタン、バナジウ
ム、クロム、ニオブ、アンチモン及びガリウムからなる
群より選ばれた少なくとも１種以上の元素イオン、Ｍ´
はマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウ
ムのアルカリ土類金属イオン、ａ＞０、２０＞ｂ≧０、
ａ＋ｃ＝１、３０００＞ｙ＞１１）なる化学式を有する
結晶性シリケートに、Ｖ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｆｅ，Ｃｕ，Ａ
ｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ａｕからなる群よ
り選ばれた少なくとも１種以上の金属を担持させてなる
ダイオキシン類触媒を担持してなることを特徴とするバ
グフィルタ。【表１】
【請求項２】請求項１において、上記分解触媒の比表面積が９０ｍ²／ｇ以上であること
を特徴とするバグフィルタ。
【請求項３】排ガス中のダスト成分を浄化するバグフ
ィルタを用いる排ガス浄化方法であって、化学合成繊維
をフェルト状に織り上げたバグフィルタ本体にダイオキ
シン類分解触媒を担持し、排ガス中のダスト成分の除去
と共に、ダイオキシン類の分解並びに脱硝を行う排ガス
浄化方法において、上記触媒が下記「表２」に示されるＸ線回折パターンを
有し、脱水された状態において酸化物のモル比で表わし
て、（１±０．８）Ｒ₂Ｏ・［ａＭ₂Ｏ₃・ｂＭ´Ｏ・ｃＡｌ₂
Ｏ₃］・ｙＳｉＯ₂ （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはVIII族元素、希土類元素、チタン、バナジウ
ム、クロム、ニオブ、アンチモン及びガリウムからなる
群より選ばれた少なくとも１種以上の元素イオン、Ｍ´
はマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウ
ムのアルカリ土類金属イオン、ａ＞０、２０＞ｂ≧０、
ａ＋ｃ＝１、３０００＞ｙ＞１１）なる化学式を有する
結晶性シリケートに、Ｖ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｆｅ，Ｃｕ，Ａ
ｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ａｕからなる群よ
り選ばれた少なくとも１種以上の金属を担持させてなる
触媒であることを特徴とする排ガス浄化方法。【表２】