JP2002510665A - 2,2−ジクロロ−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンの精製および使用方法 - Google Patents
2,2−ジクロロ−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンの精製および使用方法Info
- Publication number
- JP2002510665A JP2002510665A JP2000542279A JP2000542279A JP2002510665A JP 2002510665 A JP2002510665 A JP 2002510665A JP 2000542279 A JP2000542279 A JP 2000542279A JP 2000542279 A JP2000542279 A JP 2000542279A JP 2002510665 A JP2002510665 A JP 2002510665A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ccl
- distillation column
- composition
- mixture
- mole percent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C19/00—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms
- C07C19/08—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine
- C07C19/10—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine and chlorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/19—Fluorine; Hydrogen fluoride
- C01B7/191—Hydrogen fluoride
- C01B7/195—Separation; Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/19—Fluorine; Hydrogen fluoride
- C01B7/191—Hydrogen fluoride
- C01B7/195—Separation; Purification
- C01B7/196—Separation; Purification by distillation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/23—Preparation of halogenated hydrocarbons by dehalogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/582—Recycling of unreacted starting or intermediate materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
パン(すなわち、CF3CCl2CF3、またはCFC−216aa)、それのフ ッ化水素との共沸組成物の精製、およびそれらの利用に関する。
フルオロプロパン(すなわち、CF3CH2CF3、またはHFC−236fa) を調製するのに使用される(PCT国際公報第96/17813号を参照)。生
成物であるCF3CH2CF3は、冷媒および消火剤としての使用を含む様々な用 途を有する。
rofluorination)することから調製することができる。前駆体の
CFC−216aaへの転換に対して好ましい反応速度を得るために、代表的に
過剰量のHFが使用される。HFは、生成混合物のハロゲン化炭化水素成分から
、慣用の水溶液洗浄技法を使用して除去することができる。しかし、相当量の洗
浄液の排出が生じ、水性廃棄物処理の問題を引き起こす可能性がある。
として必要とされている。
に十分な圧力において、分離ゾーンに混合物を入れる工程を有し、それにより6
9モルパーセント未満のHFを含む有機物に富む相が底部層として形成され、9
0モルパーセントを超えるHFを含むHFに富む相が頂部層として形成される。
なCF3CCl2CF3を回収するために、蒸留塔において蒸留にかけることがで きる。HFおよびCF3CCl2CF3を含む留出物は、蒸留塔の頂部から除去す ることができ、一方、本質的にHFを含まないCF3CCl2CF3は、蒸留塔の 底部から回収することができる。所望であれば、留出物を分離ゾーンに再循環さ
せることができる。
蒸留にかけることができる。HFおよびCF3CCl2CF3を含む留出物は、蒸 留塔の頂部から除去することができ、一方、本質的に純粋なHFは、蒸留塔の底
部から回収することができる。所望であれば、留出物を分離ゾーンに再循環させ
ることができる。
果的な量のCF3CCl2CF3と組み合わせた、フッ化水素を含む組成物も提供 するが、前記組成物は、CF3CCl2CF3を約13.8から31.3モルパー セント含有する。
先に示したように本質的にHFを含まないCF3CCl2CF3を調製する工程と 、得られたCF3CCl2CF3を水素と反応させる工程とによって特徴づけられ る。
の方法も提供する。この方法は、CF3CCl2CF3とHFとの共沸混合物を上 述のように水素と接触させる工程と、HFの存在下で、CF3CCl2CF3を水 素と反応させる工程とによって特徴づけられる。
すると、HFおよびCFC−216aa(HF:CFC−216aaのモル比が
約1:1より大きい)を含む供給混合物は、ライン(210)を通過し、ライン
(235)および(240)からの回収物と一緒に、冷却器(100)を通過し
て分離ゾーン(200)に入る。供給混合物は、例えば、パークロロプロペンの
クロロフッ素化によってCFC−216aaを合成するための反応器から導入す
ることができ、供給ライン(210)は、HCl除去カラム(不図示)に続くこ
とができる。分離ゾーン(200)は、約0℃から約100℃間の温度、好まし
くは約0℃から約25℃の間、および混合物を液体として維持するのに十分な圧
力に保持する。例えば、約100℃では分離器を約260psia(1792k
Pa)より大きい圧力に維持し、約0℃では分離器を約10psia(69kP
a)より大きい圧力に維持する。このような温度では、液化された流れは、1つ
の相が供給混合物に比べて有機物に富み、もう1つの相が供給混合物に比べてH
Fに富む、2つの相を形成する。有機物に富む相は、代表的に31モル%を超え
る有機物を含み、HFに富む相は、代表的に90モル%を超えるHFを含む。0
℃から25℃の好ましい温度範囲内では、有機物に富む相は、代表的に10モル
パーセント以下のHFを含み、HFに富む相は、代表的に98モルパーセント以
上のHFを含む。
除去され、多段蒸留塔(300)に供給される。塔(300)は、HFおよびC
FC−216aaを含む低沸点の共沸混合物、または共沸混合物様混合物が形成
されるような条件下で操作される。塔(300)の操作圧力は、代表的に約10
psia(69kPa)から約250psia(1723kPa)の間であり、
塔頂部での温度は、代表的に約0℃から約100℃の間であるが、正確な温度は
操作圧力に依存する。HF/CFC−216aa共沸混合物は、オーバーヘッド
部分に蒸留され、塔(300)の頂部からライン(235)を通って除去され、
冷却器(100)に戻され再循環される。本質的に純粋なHFは、蒸留塔の底部
からライン(310)を通って除去することができる。
て除去され、別の多段蒸留塔(400)に供給される。塔(400)は、HFお
よびCFC−216aaを含む低沸点の共沸混合物、または共沸混合物様組成物
が形成されるような条件下で操作される。塔(400)の操作圧力は、代表的に
約10psia(69kPa)から約250psia(1723kPa)の間で
あり、塔頂部での温度は通常、約0℃から約100℃の間であるが、正確な温度
は操作圧力に依存する。HF/CFC−216aa共沸混合物は、オーバーヘッ
ド部分に蒸留され、塔の頂部からライン(240)を通って除去され、冷却器(
100)に再循環される。本質的に純粋なCFC−216aaは、塔の底部から
ライン(320)を通って除去される。
高温で、CFC−216aaを水素と反応させる方法を含む。また、温度約35
0℃から700℃の範囲内の温度において、CFC−216aaを触媒なしで水
素と反応させる方法も含む。
、圧力軽減および調節弁、圧縮機、ポンプ、貯蔵タンクといった装置のさらなる
品目を含める必要があることを、当業者であれば理解できるであろう。装置のそ
のような補助品目の提供は、慣用の化学工学における実施に従うものである。
の供給源から得ることができる。こうした供給源としては、CF3CCl=CC l2のCF3CCl2CF3へのクロロフッ素化によって得られた生成物混合物など
が挙げられる。
組成物は、CF3CCl2CF3を約13.8から31.3モルパーセント含有す る。
るのに効果的な量のCF3CCl2CF3とからなる組成物も提供する。効果的な 量とは、HFと組み合わせた場合に、共沸混合物、または共沸混合物様混合物の
形成をもたらす量を意味する。当技術分野で認識されるように、共沸混合物また
は共沸混合物様組成物は、2つ以上の異なる成分の混合物であり、所与の圧力下
で液体形態である場合には実質的に一定の温度で沸騰する。そして、沸騰温度は
、個々の成分の沸騰温度よりも高くなるか、または低くなる可能性があり、沸騰
している液体組成物と本質的に同一の蒸気組成物を提供するものである。
示す液体混合物である。共沸混合物は、1つの液相のみが存在する場合には均一
である。共沸混合物は、2つ以上の液相が存在する場合には不均一である。それ
にもかかわらず、共沸混合物の極小共沸点の特徴は、バルク液体の組成がそれと
平衡状態にある蒸気の組成と同一であることであり、共沸混合物の蒸留は分離技
法として効果的ではない。この議論の目的は、共沸混合物様組成物は、共沸混合
物のようにふるまう(例えば、一定沸点の特徴、または、煮沸もしくは蒸発で分
画されない傾向を有する)組成物を意味する。したがって、そのような組成物の
沸騰または蒸発の間に形成された蒸気の組成は、元の液体の組成と同じか、また
は実質的に同じである。したがって、沸騰または蒸発の間、液体組成物は仮に変
化したとしても、最小または無視できる程度に変化するだけである。これは、沸
騰または蒸発の間に、液体組成物が相当な程度に変化する非共沸混合物様組成物
とは対照的である。
圧力において液体組成物の沸点が固定されており、沸騰している組成物上の蒸気
の組成は本質的に沸騰している液体組成物の組成である(すなわち、液体組成物
の成分の分画は起こらない)。当技術分野ではまた、共沸混合物または共沸混合
物様液体組成物が異なる圧力で沸騰に供される場合には、共沸組成物の沸点およ
び各成分の重量パーセントのどちらも変化する可能性があるということが認識さ
れている。したがって、共沸混合物または共沸混合物様組成物は、組成物の間に
存在する独特の関係という点、または成分の組成範囲の点、もしくは特定の圧力
において固定された沸点によって特徴づけられる組成物の各成分の正確な重量パ
ーセントという点で定義することができる。当技術分野ではまた、種々の共沸組
成物(特定の圧力における沸点も含む)を計算することができることも認識され
ている(例えば、W.Schotte、Ind.Eng.Chem.Proce
ss Des.Dev.1980、19、pp432〜439を参照)。そのよ
うな計算の精度を確認するため、および/または、同一または他の温度および圧
力における共沸組成物の計算を修正するために、同一の成分を含む共沸組成物の
実験的同定を用いることができる。
7モルパーセントのHF、および約13.8から31.3モルパーセントのCF 3 CCl2CF3からなる組成物を含む(約0℃から約110℃間の温度、および 約73.9kPaから約2217kPa間の圧力で沸騰する共沸混合物を形成す
る)。
19.5℃と32.6℃である。12.7psia(87.7kPa)の圧力お
よび4℃における比揮発度は、HFが85.7モルパーセントおよびCFC−2
16aaが14.3モルパーセントに近づくにつれ、ほぼ1.0になることが見
出された。620kPa(89.9psia)の圧力および60℃における比揮
発度は、HFが77.4モルパーセントおよびCFC−216aaが22.6モ
ルパーセントに近づくにつれ、ほぼ1.0になることが見出された。こうしたデ
ータは、慣用の蒸留手順の利用では化合物の比揮発度の値が低いために、実質的
に純粋な化合物の分離が得られないことを示している。
x法を使用した。この手順では、既知体積のセルにおける総絶対圧力を、種々の
既知の2成分組成物について一定の温度で測定する。PTx法の使用は、Har
old R.Null著、1970年、Wiley−Interscience
出版、「Phase Equilibrium in Process Des
ign」の124から126ページに詳述されており、その全開示を参照するこ
とにより本明細書に取り込む。2つの液相が存在するような条件下において、蒸
気および液体、または蒸気および2つの各液相の試料を入手し、それぞれの組成
を確認するために分析した。
モデルによって、セル中の平衡状態にある蒸気および液体組成物に換算され、液
相の非理想物を表すことができる。NRTL方程式などの活量係数方程式の利用
は、Reid、PrausnitzとPoling著、McGraw Hill
出版、第4版、「The Properties of Gases and
Liquids」の241から387ページ、およびStanley M.Wa
las著、1985年、Butterworth出版によって出版された、「P
hase Equilibria in Chemical Engineer
ing」の165から244ページに詳述されており、以前に認証された参照の
それぞれの全開示を、参照することにより本明細書に取り込む。
RTL方程式は、HFおよびCFC−216aaの混合物が、理想的なスタイル
でふるまうか否かを十分に予測することができ、そのような混合物中の成分の比
揮発度を十分に予測することができると考えられている。したがって、低いCF
C−216aa濃度において、HFがCFC−216aaと比べて十分な比揮発
度を有する一方で、その比揮発度は、60℃においてCFC−216aaが22
.6モルパーセントに近づくにつれほぼ1.0になる。このため、そのような混
合物から慣用の蒸留によって、HFからCFC−216aaを分離することが不
可能になる。比揮発度が1.0に近づいたところで、系は共沸混合物によく似た
ものを形成していると定義する。比揮発度が1.0であるところで、系は共沸混
合物を形成していると定義する。
ることが見出された。12.7psia(87.7kPa)の圧力、および4℃
では、共沸混合物の蒸気の組成は、HFが約85.7モルパーセント、およびC
FC−216aaが約14.3モルパーセントであることが分かった。圧力89
.9psia(620kPa)、および60℃では、共沸混合物の蒸気の組成は
、HFが約77.4モルパーセント、およびCFC−216aaが約22.6モ
ルパーセントであることが分かった。上記の発見に基づき、約86.2モルパー
セントのHFと、約13.8モルパーセントのCFC−216aaとからなる共
沸組成物は、0℃および10.7psia(73.9kPa)で形成することが
でき、また約68.7モルパーセントのHFと、約31.3モルパーセントのC
FC−216aaとからなる共沸組成物は、110℃および322psia(2
217kPa)で形成できることが計算された。したがって、本発明は、本質的
に約86.2から68.7モルパーセントのHFと、約13.8から31.3モ
ルパーセントのCFC−216aaとからなる、共沸混合物または共沸混合物様
組成物を提供し、前記組成物は、73.9kPaにおいて約0℃から2217k
Paにおいて約110℃の沸点を有する。
際に有用であり、再循環されたHFは、反応体として機能することができ、再循
環されたCFC−216aaは、反応熱の温度効果を和らげるように機能するこ
とができる。1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン(すなわち、C
F3CH2CF3、またはHFC−236fa)、2−クロロ−1,1,1,2, 3,3,3−ヘプタフルオロプロパン(すなわち、CF3CClFCF3、または
CFC−217ba)およびパーフルオロプロパン(すなわち、CF3CF2CF 3 、またはFC−218)を生成するための出発原料として共沸混合物を使用す ることもできる。HFを含む共沸混合物を含有する蒸留は、代表的に、HFなし
での蒸留(例えばHFが蒸留前に除去される蒸留)より、さらに都合の良い条件
下で行うことができるということもまた、当分野の一般技術者の誰にでも明白で
あろう。HFは、生成混合物のハロゲン化炭化水素成分から、慣用の水溶液有機
相洗浄技法を使用して除去することができる。しかし、相当量の洗浄液の排出が
生じ、水性廃棄物処理の問題を引き起こす可能性がある。したがって、そのよう
な生成混合物中でHFを利用する方法が、依然として必要とされている。
して)を、触媒の存在下または非存在下で、HFC−236faに水素化分解す
ることができる。PCT国際公報第WO96/17813号では、約300℃以
下の高温で、フッ化アルミナ、フッ化アルミニウム、およびそれらの混合物から
なる群から選択される支持体上に支持された触媒的に効果的な量のパラジウムの
存在下において、CFC−216aaのHFC−236faへの水素化分解に向
けた方法を開示している。米国特許第5,364,992号は、約0psig(
101kPa)から1000psig(6994kPa)の範囲内の圧力、約3
50℃から700℃の範囲内の温度において、HFC−236faを生成するの
に十分な時間にわたって、ニッケル、鉄、またはそれらの合金でできた空の反応
器中で、CFC−216aaを、CFC−216aaの1モル当たり少なくとも
0.1モルの水素と接触させることによって、CFC−216aaをHFC−2
36faに水素化分解する方法を開示している。
aaを添加することを含む種々の供給源から得られる一方で、本発明の有利な利
用は、上述されたように、CFC−216aaの調製からの流出液混合物を処理
することにある。一般に、反応流出液は、HF:CFC−216aaのモル比が
約0.1:1から約100:1である。好ましいHF:CFC−216aaのモ
ル比は、気相のフッ素化反応の場合には約1:1から10:1であり、液相の反
応の場合には約1:1から約50:1である。最も好ましいHF:CFC−21
6aaのモル比は、この方法から最大の利益を得るためには約2:1から5:1
である。発明に従って処理された最初の混合物が、HClおよび他の低沸点物質
(例えば、CF3CClFCF3)もまた含有する場合には、HClおよび他の低
沸点物質は、混合物を共沸混合物分離塔に供給する前に、別の蒸留塔で除去する
ことができる。
独立した蒸留塔で除去することができる。
よび連結したユニットは、フッ化水素、塩化水素、および塩素に耐性のある材料
で構成される必要がある。フッ素化の分野で公知である、代表的な構成材料には
、ステンレス鋼、特にオーステナイト型、Monel(登録商標)ニッケル−銅
合金、Hastelloy(登録商標)ニッケルをベースとした合金、Inco
nel(登録商標)ニッケル−クロム合金などの、公知の高ニッケル合金などが
ある。反応器の組み立てに適するものはまた、一般にライニングとして使用され
る、ポリトリフルオロクロロエチレン、およびポリテトラフルオロエチレンなど
の高分子プラスチックである。
大いに利用することができると考える。したがって、以下の好ましい特定の実施
形態は単に例示的なものとして解釈すべきであり、開示の残りの部分を決して制
約するものではない。
度は摂氏温度である。データは、測定および計算された熱力学的性質を使って計
算したものから得た。縦列の一番上の数字は、図1を参照する。
ム酸アンモニウムの熱分解から得られた酸化クロム(47.25g、35mL、
10〜20メッシュ、(2.0〜0.84mm))を、流動化砂浴中で加熱した
外径5/8インチ(1.58cm)のInconel(登録商標)ニッケル合金
反応器に入れた。これを窒素流(50cc/分)中で175℃に加熱し、また、
その温度になった時にHF流(50cc/分)も反応器に通し始めた。15分後
、窒素流を20cc/分まで減少し、HF流を80cc/分まで増加させた。反
応器温度を2時間で徐々に400℃まで上昇させ、さらに30分間にわたって4
00℃に保持した。このピリオドの終了時において、反応器を、窒素流下で触媒
評価のために望ましい操作温度にした。
15ca、216ca、および217caを含む。
ined Hastelloy C276(登録商標)ニッケル合金のU管反応
器を水素化脱ハロゲン化のために使用した。300psig(2169kPa)
の圧力下において、CF3CCl2CF3およびH2を、H2:CF3CCl2CF3の
モル比6:1で供給した。種々の温度における水素化分解の結果(モル%)を表
3に示す。
ある。
Claims (9)
- 【請求項1】 HFおよびCF3CCl2CF3を含む混合物の分離方法であ って、 (a)約0℃から約100℃の温度、および混合物を液相に維持するのに十分
な圧力において、分離ゾーンに混合物を入れる工程であって、それにより69モ
ルパーセント未満のHFを含む有機物に富む相が底部層として形成され、90モ
ルパーセントを超えるHFを含むHFに富む相が頂部層として形成される工程と
、 (b1)前記分離ゾーンの底部から、有機物に富む相を取り出し、それを蒸留
塔において蒸留する工程と、 (c1)前記(b1)の蒸留塔の頂部から、HFおよびCF3CCl2CF3を 含む留出物を除去する工程と、 (d1)前記(b1)の蒸留塔の底部から、本質的にHFを含まないCF3C Cl2CF3を回収する工程と を有することを特徴とする方法。 - 【請求項2】 前記分離ゾーンを0℃から25℃の温度で操作することを特
徴とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記(c1)で除去された留出物を、前記分離ゾーンに再循
環させることを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 HFおよびCF3CCl2CF3を含む混合物の分離方法であ って、 (a)約0℃から約100℃の温度、および混合物を液相に維持するのに十分
な圧力において、分離ゾーンに混合物を入れる工程であって、それにより69モ
ルパーセント未満のHFを含む有機物に富む相が底部層として形成され、90モ
ルパーセントを超えるHFを含むHFに富む相が頂部層として形成される工程と
、 (b2)前記分離ゾーンの頂部からHFに富む相を取り出し、それを蒸留塔に
おいて蒸留する工程と、 (c2)前記(b2)の蒸留塔の頂部から、HFおよびCF3CCl2CF3を 含む留出物を除去する工程と、 (d2)前記(b2)の蒸留塔の底部から、本質的に純粋なHFを回収する工
程と を有することを特徴とする方法。 - 【請求項5】 前記(c2)で除去された留出物を、前記分離ゾーンに再循
環させることを特徴とする請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 (b1)前記分離ゾーンの底部から有機物に富む相を取り出
し、それを蒸留塔において蒸留する工程と、 (c1)前記(b1)の蒸留塔の頂部から、HFおよびCF3CCl2CF3を 含む留出物を除去する工程と、 (d1)前記(b1)の蒸留塔の底部から、本質的にHFを含まないCF3C Cl2CF3を回収する工程と をさらに有することを特徴とする請求項5に記載の方法。 - 【請求項7】 1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンを製造す
る方法であって、 (i)フッ化水素との共沸混合物または共沸混合物様組成物を形成するのに効
果的な量のCF3CCl2CF3を組み合わせた、フッ化水素を含む組成物であっ て、CF3CCl2CF3を約13.8から31.3モルパーセント含有する組成 物と、(ii)水素とを接触させる工程と、 HFの存在下で、CF3CCl2CF3を水素と反応させる工程と によって特徴づけられる方法。 - 【請求項8】 HFおよびCF3CCl2CF3を含む混合物から、1,1, 1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンを製造する方法であって、 (a)約0℃から約100℃の温度、および混合物を液相に維持するのに十分
な圧力の分離ゾーンに混合物を入れる工程であって、それにより69モルパーセ
ント未満のHFを含む有機物に富む相が底部層として形成され、90モルパーセ
ントを超えるHFを含むHFに富む相が頂部層として形成される工程と、 (b1)前記分離ゾーンの底部から有機物に富む相を取り出し、それを蒸留塔
において蒸留する工程と、 (c1)前記(b1)の蒸留塔の頂部から、HFおよびCF3CCl2CF3を 含む留出物を除去する工程と、 (d1)前記(b1)の蒸留塔の底部から、本質的にHFを含まないCF3C Cl2CF3を回収する工程と、 (e)前記(d1)からのCF3CCl2CF3を、水素と反応させる工程と によって特徴づけられる方法。 - 【請求項9】 フッ化水素との共沸混合物または共沸混合物様組成物を形成
するのに効果的な量のCF3CCl2CF3と組み合わせた、フッ化水素を含む組 成物であって、CF3CCl2CF3を約13.8から31.3モルパーセント含 有することを特徴とする組成物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US8071098P | 1998-04-03 | 1998-04-03 | |
US60/080,710 | 1998-04-03 | ||
PCT/US1999/007224 WO1999051556A2 (en) | 1998-04-03 | 1999-04-01 | Processes for the purification and use of 2,2-dichloro-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane and azeotropes thereof with hf |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002510665A true JP2002510665A (ja) | 2002-04-09 |
Family
ID=22159124
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000542279A Ceased JP2002510665A (ja) | 1998-04-03 | 1999-04-01 | 2,2−ジクロロ−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンの精製および使用方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6211135B1 (ja) |
EP (1) | EP1068170A2 (ja) |
JP (1) | JP2002510665A (ja) |
AU (1) | AU3377899A (ja) |
WO (1) | WO1999051556A2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6211135B1 (en) * | 1998-04-03 | 2001-04-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Processes for the purification and use of 2,2-dichloro-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane and azeotropes thereof with HF |
US7094936B1 (en) | 2001-07-20 | 2006-08-22 | Great Lakes Chemical Corporation | Process for preparing halogenated alkanes |
US20050177012A1 (en) * | 2001-07-20 | 2005-08-11 | Pcbu Services, Inc. | Halocarbon production processes, halocarbon separation processes, and halocarbon separation systems |
US20030028057A1 (en) * | 2001-07-20 | 2003-02-06 | Stephen Owens | Methods and materials for the preparation and purification of halogenated hydrocarbons |
US7329786B2 (en) | 2001-09-28 | 2008-02-12 | Great Lakes Chemical Corporation | Processes for producing CF3CFHCF3 |
US7223351B2 (en) * | 2003-04-17 | 2007-05-29 | Great Lakes Chemical Corporation | Fire extinguishing mixtures, methods and systems |
TW200505821A (en) * | 2003-07-24 | 2005-02-16 | Showa Denko Kk | Azeotropic mixture of fluoromethane and hydrogen chloride and process for purifying fluoromethane |
US20050020863A1 (en) * | 2003-07-25 | 2005-01-27 | Honeywell International Inc. | Method of making fluorinated propanes |
US20050038302A1 (en) * | 2003-08-13 | 2005-02-17 | Hedrick Vicki E. | Systems and methods for producing fluorocarbons |
CN100393679C (zh) | 2003-10-14 | 2008-06-11 | 纳幕尔杜邦公司 | 制备1,1,1,3,3,3-六氟丙烷以及1,1,1,2,3,3-六氟丙烷和1,1,1,2,3,3,3-七氟丙烷中至少之一的方法 |
US20070106099A1 (en) * | 2005-11-10 | 2007-05-10 | Pcbu Services, Inc. | Production processes and systems |
GB0721991D0 (en) | 2007-11-09 | 2007-12-19 | Ineos Fluor Holdings Ltd | Preparation method |
CN103626626B (zh) * | 2013-11-01 | 2015-06-24 | 西安近代化学研究所 | 氟化氢和2-氯-1,1,1,2-四氟丙烷混合物的分离方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04108746A (ja) * | 1989-12-19 | 1992-04-09 | E I Du Pont De Nemours & Co | ヘキサフルオロプロピレンの多段階合成 |
JPH04145033A (ja) * | 1989-12-19 | 1992-05-19 | E I Du Pont De Nemours & Co | ヘキサフルオロプロピレンの多段階合成 |
JPH04330022A (ja) * | 1990-11-20 | 1992-11-18 | E I Du Pont De Nemours & Co | ジクロロペンタフルオロプロパンの処理方法 |
JPH05132434A (ja) * | 1991-04-15 | 1993-05-28 | Daikin Ind Ltd | フツ化水素と1,1,1−トリフルオロ−2−クロロエタンの共沸混合物および1,1,1−トリフルオロ−2−クロロエタンの精製方法 |
JPH05255144A (ja) * | 1991-11-15 | 1993-10-05 | Hoechst Ag | 弗化水素および1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタンを含有する混合物の分離方法 |
JPH06135867A (ja) * | 1991-04-17 | 1994-05-17 | Elf Atochem Sa | フッ化水素をその1,1,1−トリフルオロ−2−クロロエタンとの混合物から分離する方法 |
WO1995017366A1 (fr) * | 1993-12-22 | 1995-06-29 | Daikin Industries, Ltd. | Procede de purification de 1,1,1,3,3-pentafluoro-2,3-dichloropropane |
US5481051A (en) * | 1994-12-08 | 1996-01-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | 2,2-dichlorohexafluoropropane hydrogenolysis |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4911792A (en) * | 1988-08-01 | 1990-03-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the separation of HF via phase separation and distillation |
US5364992A (en) * | 1989-10-10 | 1994-11-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Halocarbon hydrogenolysis |
US5220083A (en) * | 1989-12-19 | 1993-06-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Synthesis of perfluoropropane |
US5171901A (en) * | 1990-02-14 | 1992-12-15 | Bayer Aktiengesellschaft | Process for the preparation of 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane and 2-chloro-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane |
CA2066017C (en) * | 1991-04-15 | 2002-07-02 | Takehide Tsuda | Azeotropic mixture of hydrogen fluoride and 1,1,1-trifluoro-2-chloroethane and process for purification of 1,1,1-trifluoro-2-chloroethane |
US6291729B1 (en) * | 1994-12-08 | 2001-09-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Halofluorocarbon hydrogenolysis |
EP0968053A4 (en) * | 1995-11-29 | 2000-01-05 | Du Pont | HALOGENATED HYDROCARBON PROCESSING CATALYSTS, THEIR PRECURSORS, THEIR PREPARATION AND THEIR USE |
DE69911186T2 (de) * | 1998-04-03 | 2004-07-15 | E.I. Du Pont De Nemours And Co., Wilmington | Verfahren zur reinigung und verwendung von 2-chloro-1,1,1,2,3,3,3-heptafluorpropan und ihre azeotrope mit hf |
US6211135B1 (en) * | 1998-04-03 | 2001-04-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Processes for the purification and use of 2,2-dichloro-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane and azeotropes thereof with HF |
-
1999
- 1999-04-01 US US09/283,448 patent/US6211135B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-01 JP JP2000542279A patent/JP2002510665A/ja not_active Ceased
- 1999-04-01 AU AU33778/99A patent/AU3377899A/en not_active Abandoned
- 1999-04-01 EP EP99915209A patent/EP1068170A2/en not_active Withdrawn
- 1999-04-01 WO PCT/US1999/007224 patent/WO1999051556A2/en not_active Application Discontinuation
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04108746A (ja) * | 1989-12-19 | 1992-04-09 | E I Du Pont De Nemours & Co | ヘキサフルオロプロピレンの多段階合成 |
JPH04145033A (ja) * | 1989-12-19 | 1992-05-19 | E I Du Pont De Nemours & Co | ヘキサフルオロプロピレンの多段階合成 |
JPH04330022A (ja) * | 1990-11-20 | 1992-11-18 | E I Du Pont De Nemours & Co | ジクロロペンタフルオロプロパンの処理方法 |
JPH05132434A (ja) * | 1991-04-15 | 1993-05-28 | Daikin Ind Ltd | フツ化水素と1,1,1−トリフルオロ−2−クロロエタンの共沸混合物および1,1,1−トリフルオロ−2−クロロエタンの精製方法 |
JPH06135867A (ja) * | 1991-04-17 | 1994-05-17 | Elf Atochem Sa | フッ化水素をその1,1,1−トリフルオロ−2−クロロエタンとの混合物から分離する方法 |
JPH05255144A (ja) * | 1991-11-15 | 1993-10-05 | Hoechst Ag | 弗化水素および1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタンを含有する混合物の分離方法 |
WO1995017366A1 (fr) * | 1993-12-22 | 1995-06-29 | Daikin Industries, Ltd. | Procede de purification de 1,1,1,3,3-pentafluoro-2,3-dichloropropane |
US5481051A (en) * | 1994-12-08 | 1996-01-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | 2,2-dichlorohexafluoropropane hydrogenolysis |
JPH10510266A (ja) * | 1994-12-08 | 1998-10-06 | イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー | 2−クロロ−2−ハイドロヘキサフルオロプロパンおよびそのhfとの共沸混合物の製造 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1068170A2 (en) | 2001-01-17 |
WO1999051556A2 (en) | 1999-10-14 |
AU3377899A (en) | 1999-10-25 |
WO1999051556A3 (en) | 1999-11-18 |
US6211135B1 (en) | 2001-04-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106905108B (zh) | 含e-1,3,3,3-四氟丙烯和氟化氢的共沸组合物及其应用 | |
JP5567627B2 (ja) | 1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロペンおよびフッ化水素を含む共沸組成物およびその使用 | |
US6540933B1 (en) | Process for the production of hexafluoropropylene from CC1F2CC1FCF3 and azeotropes of CC1F2CC1FCF3 with HF | |
KR20080066837A (ko) | 2,3,3,3-테트라플루오로프로펜 및 불화수소를 포함하는공비 조성물 및 그의 용도 | |
JP2002510665A (ja) | 2,2−ジクロロ−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンの精製および使用方法 | |
KR101497709B1 (ko) | 노나플루오로펜텐 및 불화수소를 포함하는 공비 조성물 및그의 용도 | |
JP2002510664A (ja) | 2−クロロ−1,1,1,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロパンと、そのhfとの共沸混合物を精製および使用する方法 | |
WO2007053177A1 (en) | Azeotrope compositions comprising 1,1,3,3,3-pentafluoropropene and hydrogen fluoride and uses thereof | |
KR100328104B1 (ko) | 플루오르화수소및디플루오로메탄의분리방법 | |
JP2009513816A (ja) | トリデカフルオロ−3−ヘプテンとフッ化水素とを含む共沸組成物およびその使用 | |
WO1997007052A1 (en) | Azeotropes of chlorofluoroethanes with hydrogen fluoride | |
US6635187B1 (en) | Compositions comprising hydrofluorocarbons and their manufacture | |
US5817893A (en) | Processes for the manufacture and purification of 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutane and by-products | |
JP4275313B2 (ja) | フッ化水素から1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンを分離する方法 | |
US5789633A (en) | Azeotropic or azeotrope-like compositions of hydrofluoric acid with dihaloethanes | |
US6077819A (en) | Azeotropes of chlorofluoroethanes of the formula CF3 CC12+x ub. F.s1-x with HF and manufacturing processes therewith | |
EP1683778A2 (en) | Azeotropes of CCIF2CCIFCF3 with HF, and use thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060213 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090306 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090608 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100629 |
|
A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20101022 |