JP2002319715A - 圧電体素子及びこれを用いたインジェクタ - Google Patents
圧電体素子及びこれを用いたインジェクタInfo
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Abstract
型化,低コスト,高熱放散性を達成することができる圧
電体素子及びこれを用いたインジェクタを提供するこ
と。 【解決手段】 圧電セラミックス11よりなるセラミッ
ク層と内部電極層21,22とを交互に積層してなるセ
ラミック積層体10と,セラミック積層体10の表面の
少なくとも一部に,少なくとも一層設けられた有機材料
よりなる有機絶縁層41と,有機絶縁層41の上層にお
いて少なくとも一層設けられた無機材料よりなる無機絶
縁層42とを有している。
Description
る圧電体素子,及びこれを用いたインジェクタに関す
る。
る圧電体素子は,低電圧で高い変位を得るために,一層
の厚みが一般に20〜200μmの薄板の圧電セラミッ
クスと金属の内部電極層を交互に設け,一般的には10
0〜700枚積層してなる積層体の構造をとっている。
内部電極層は,その端部が積層体の側面に露出している
ので,これらの内部電極層間においてい短絡(ショー
ト)の可能性があり,それを防止する対策が種々とられ
ている。
て絶縁する構造をとる場合がある。しかしながら,この
有機材料は,通常の空気雰囲気中では絶縁効果があるも
のの,圧電体素子を高湿下や軽油,ガソリン等の液体中
においては,あまり効果がない。
電極層にAg系材料をもちいると,マイグレーションが
発生し,短絡する(特開平3−12974号公報参
照)。軽油やガソリン中には,水分も含まれているた
め,高湿下と同様である。更に,内部電極層間距離が極
端に短い場合(例えば100μm以下)に高電圧を印加
した場合は,マイグレーションでないにもかかわらず,
短絡してしまう。これは,水分吸収により圧電素子の絶
縁抵抗が低下する為である。従って,内層電極材料がA
g系でなくても,例えば銅,ニッケル等の卑金属でも短
絡してしまう。
器(乾燥空気中)に内蔵してしまう方法(以下カプセル
構造)が一般的である。しかしながら,カプセル構造の
場合,アクチュエータ全体の体積が大きくなり小型化が
困難なこと,部品点数が増加することによるコストアッ
プや変位ロス,さらにはカプセルと圧電体素子との隙間
の為に熱放散性も悪化する。
2層以上の有機高分子膜で絶縁する方法がある(特開平
62−88382号公報,特開平4−279070号公
報)。これらの方法では,どちらも外側に架橋密度の高
い有機材料を用いることで,水分の透過を防止するもの
である。しかし,有機材料を用いている限りにおいて
は,何らかの水分透過があり短絡は避けられない。
水分の透過を防止する方法もある(特開平2−1309
70号公報)が,有機絶縁材料にクラックが入った場
合,金属皮膜と積層体の内部電極層間で短絡してしま
う。さらに,無機絶縁材料を複数重合させて皮膜を形成
する方法(特開平3−155180号公報)もあるが,
無機材料は硬いために,積層体作動での変位を吸収でき
ずクラックが発生してしまう。クラックが発生した場
合,その部分より水分は透過してしまう。また,上記公
報には,意図的にスリットを設けて変位を吸収する方法
も記載されているが,この方法ではクラックと同様にス
リットより水分は透過してしまう。
短絡しない高信頼性と,小型化,低コスト,高熱放散性
を達成することができる圧電体素子及びこれを用いたイ
ンジェクタを提供しようとするものである。
りなるセラミック層と内部電極層とを交互に積層してな
るセラミック積層体と,該セラミック積層体の表面の少
なくとも一部に,少なくとも一層設けられた有機材料よ
りなる有機絶縁層と,該有機絶縁層の上層において少な
くとも一層設けられた無機材料よりなる無機絶縁層とを
有していることを特徴とする圧電体素子にある(請求項
1)。
その表面に有し,さらにその上層には無機絶縁層を有し
ている。そのため,圧電体素子は,作動特性を維持しつ
つ外部からの水分の透過を防止することができる。即
ち,上記有機絶縁層は弾性を有しており,圧電体素子の
変位をその弾性により吸収することができる。しかしな
がら,有機絶縁層は,水分の遮断を確実に行うことはで
きず,透過させてしまう。一方,上記無機絶縁層は,水
分の透過を確実に防止することができる。しかしなが
ら,無機絶縁層は,弾性を殆ど有しておらず,圧電体素
子の変位に直接的には対応できない。
電体素子の表面に直接配設し,その上層に上記無機絶縁
層を配設している。そのため,上記圧電体素子が変位し
た際には,その変位を有機絶縁層の弾性により吸収し,
その最外層の無機絶縁層への影響を抑制することができ
る。それ故,上記無機絶縁層は,圧電体素子の変位に殆
ど左右されることなく良好な成膜状態を維持し,水分透
過を十分に遮断することができる。
電体素子を使用する際に,これが高湿下に晒される場
合,あるいは燃料等の液体中に晒される場合には,その
晒される表面を上記有機絶縁層と無機絶縁層により覆う
ことにより,水分の圧電体素子表面への浸入を防止する
ことができる。そのため,圧電体素子の側表面に露出し
た内部電極層が短絡することを防止することができる。
そして,そのため,従来のように圧電体素子の周囲を別
部材により覆うカプセル構造をとる必要がなく,圧電体
素子の全体構造の小型化,低コストか,高放熱性を得る
ことができる。
て弁体を開閉させ,燃料の噴射制御を行うよう構成され
たインジェクタにおいて,上記圧電体素子は,燃料通路
に内蔵されていると共に燃料に晒された状態で作動する
よう構成されていることを特徴とするインジェクタにあ
る(請求項9)。
電体素子をアクチュエータ(圧電アクチュエータ)とし
て用い,圧電体素子の変位により弁体を開閉するよう構
成されている。そして,圧電体素子は,インジェクタの
ハウジング内の燃料通路内に燃料に晒された状態で配設
されている。また,圧電体素子の周囲にはカバー等を配
設しない。これにより,圧電体素子を収納するハウジン
グの大きさはコンパクトにすることができ,インジェク
タ全体の小型化を図ることができる。
ることによって,圧電体素子の変位に伴う自己発熱時の
放熱作用を高めることができ,ひいては圧電体素子の性
能を高めることができる。したがって,本発明によれ
ば,コンパクトで高性能のインジェクタを提供すること
ができる。
いて,上記有機絶縁層のトータル厚みは1μm以上であ
り,上記無機絶縁層のトータル厚みは100μm以下で
あることが好ましい(請求項2)。上記有機絶縁層のト
ータル厚みが1μm未満である場合には,圧電体素子を
変位させた際にその変位を吸収することが困難となる。
一方,有機絶縁層の厚みを厚くしすぎると,その内部に
ボイドが発生して絶縁性等に問題が生じる。そのため,
有機絶縁層のトータル厚みは100μm以下とすること
が好ましい。
mを超える場合には,少しの変位でクラックが入りやす
くなり,圧電体素子の変位に対する対抗性が低下すると
いう問題が生ずる。そのため,より好ましくは30μm
以下がよい。一方,無機絶縁層が水の透過を遮断するた
めには少なくとも50nm以上の厚みが必要である。し
たがって,上記無機絶縁層のトータル厚みは50nm〜
30μmの範囲内にあることがより好ましい(請求項
3)。
℃以下であることが好ましい(請求項4)。上記無機絶
縁層の成膜温度が300℃を超える場合には,その下層
の有機絶縁層を分解してしまうおそれがある。さらに
は,圧電体素子に電極を取り出すための半田や導電性接
着剤が用いられている場合にも,それらを分解するおそ
れがある。それ故,上記のごとく無機絶縁層の成膜温度
は300℃以下とすることが好ましい。
c Layer Epitaxy)法により成膜されていることが好ま
しい(請求項5)。上記圧電体素子の外形状は,断面形
状が四角形,六角形,八角形その他の多角形,円形,楕
円形,樽形の柱状を呈し,非常に複雑な形状である。か
かる形状の圧電体素子に無機絶縁層をピンホール等の欠
陥のない状態で成膜する必要がある。成膜方法として
は,乾式の成膜方法としてスパッタ,CVD,蒸着等い
ろいろあるが,成膜メカニズムで分類すると,吸着法と
堆積法である。
間では形成できない。積層体を回転させたり,何度も成
膜を繰り返したりする必要がある。これに対し,吸着法
は複雑な形状でも均一な膜を形成することができる。一
方,成膜にはめっき等の湿式も考えられるが,成膜時に
積層体が湿気を含んでしまうので,成膜後に乾燥等の工
程を追加する必要があり,また複雑な形状への均一厚み
形成が困難である。
らは特にALE法が望ましいことを見出した。ALE法
は,2種以上の原料(元素または化合物)を交互に供給
して,基板表面の吸着反応と,原料と目的生成物との蒸
気圧の差とを利用することにより,1原子層または1分
子層ずつ結晶成長させる方法である。そして,ALE法
は,ピンホールはできにくく,緻密な膜が形成できる。
一般的なALE法ではその被成膜体は,300〜600
℃程度まで加熱しなければならず,今回のセラミック圧
電素子には従来適用できなかった。本発明者らは,反応
性の高い原料を用い成膜することで解決することができ
た。
はAl,Ti,Ta,Sn,Zn,Hf,Zr,Siの
酸化物,または酸窒化物であることが好ましい(請求項
6)。これらは,上記ALE法によって緻密な状態で成
膜することができる。
有機材料よりなる有機絶縁層を有していることが望まし
い(請求項7)。これにより,上記無機絶縁層を最外層
の有機絶縁層が保護することができ,無機絶縁層の損傷
を防止することができる。
における燃料通路に配設し,燃料に晒された状態で圧電
アクチュエータとして使用することができる(請求項
7)。即ち,上記第2の発明(請求項8)において,イ
ンジェクタに内蔵される圧電体素子としては,請求項1
〜8のいずれか1項に記載の圧電体素子を用いることが
できる(請求項9)。
絶縁層及び無機絶縁層からなる絶縁層が,上記インジェ
クタ内部の燃料に晒された場合にも十分に機能し,内部
電極層間の短絡を防止することができる。さらには,上
述したごとく,圧電体素子の周囲にはカバー等を配設す
る必要がないので,圧電体素子を収納するハウジングの
大きさはコンパクトにすることができ,インジェクタ全
体の小型化を図ることができる。また,燃料と圧電体素
子とを直接接触させることによって,圧電体素子の変位
に伴う自己発熱時の放熱作用を高めることもできる。
施例につき,図1〜図3を用いて説明する。本例の圧電
体素子1は,図1に示すごとく,圧電セラミックスより
なるセラミック層11と内部電極層21,22とを交互
に積層してなるセラミック積層体10を有している。ま
た圧電体素子1は,該セラミック積層体10の表面の少
なくとも一部に,少なくとも一層設けられた有機材料よ
りなる有機絶縁層41と,該有機絶縁層41の上層にお
いて少なくとも一層設けられた無機材料よりなる無機絶
縁層42とを有している。以下,これを詳説する。
図2,図3に示すごとく,セラミック層11の層間に内
部電極層21,22を交互に正負となるように形成して
なる。同図に示すごとく,一方の内部電極層21は一方
の側面101に露出するように配設され,他方の内部電
極層22は他方の側面102に露出するように配設され
ている。そして,セラミック積層体10の側面101,
102には,露出した内部電極層21,22の端部を導
通させるようにAgペーストを焼き付けてなる側面電極
31,32をそれぞれ設ける。上記側面電極31,32
上には,図1に示すごとく,SUSよりなる外部電極3
4を導電性接着剤35(エポキシ樹脂+Ag70wt
%)を用いて接合した。
図2に示すごとく,積層方向の中央部分を駆動部11
1,これを挟持するように配置された部分をバッファー
部112,さらにこのバッファー部112を挟持するよ
うに配置された部分をダミー部113とした。なお,こ
のバッファー部112およびダミー部113は必ずしも
設ける必要はない。
セラミック層11は,グリーンシート法を用いて製造す
ることができる。本例では,セラミック層11の組成が
最終的にいわゆるPZT(ジルコン酸チタン酸鉛)系の
圧電セラミックスとなるように調整した。なお,その他
の材質の圧電セラミックスを採用することも可能であ
る。
およびパラジウムのペーストを,セラミック層用のグリ
ーンシートの表面にスクリーン印刷することにより配設
することができる。なお,内部電極層21,22の材質
としては,他の導電性材料,例えば,銅,ニッケル,白
金,銀等,あるいは,これらの混合物を用いてもよい。
トの一例及び積層体の展開図を示す。同図(a)(b)
に示すごとく,セラミック層11の表面には,一端側に
控え部119というセラミック層が露出した面を残し
て,Ag/Pdペーストよりなる内部電極層21,22
が形成される。そして,これらは,同図(c)に示すご
とく,控え部119が,側面101と102に交互に位
置するように積層される。実施例では,部分電極構造を
示したが,全面電極構造等の他の電極構造に対しても本
発明は有効である。
1,22の積層体は,熱圧着工程,脱脂工程,焼成工程
等を経て一体焼成積層型のセラミック積層体10とな
る。その後,上記側面電極31,32及び外部電極34
を図1,図2のごとく配設した後,上記有機絶縁層41
をセラミック積層体10の側面全体に形成し,さらにそ
の上層に上記無機絶縁層42を形成する。
リコーン樹脂を用いる。具体的な形成方法としては,デ
ィッピング方法を用いて行う。そして,セラミック積層
体10の積層方向の両端面の中央部分には形成されず,
側面全体を覆うように有機絶縁層41を配置した。ま
た,その厚みは80μmとした。なお,本例では上記シ
リコーン樹脂を用いたが,ポリイミド樹脂,エポキシ樹
脂あるいはウレタン樹脂等の他の樹脂を用いることもで
きる。
41の上層に100nm厚みのAl 2O3よりなる無機絶
縁層42を設けた。無機絶縁層42の成膜は,ALE
(Atomic Layer Epitaxy)法により行った。
板(本例では有機絶縁層41に相当)に化学吸着する十
分な飽和分子量以上のガスと,そのガスと反応する同じ
く飽和分子量以上のガスを交互に反応炉に導入し,成膜
をする手法である。また,気相での反応(CVDモー
ド)を防ぐため,各ガスの導入後,反応炉内を,N2や
Arなどのガスでパージをする。
ウム)とH2Oの気体を使用し形成した。TMAは室温
でもH2Oと激しく反応する性質があり100℃程度の
基板温度でも十分Al2O3薄膜を形成することが可能で
ある。酸化剤として用いるガスは,H2Oでなくともよ
い。たとえばH2O2,O2や,より活性なO3,CH3O
HやC2H5OHなどのアルコールでも薄膜形成が可能で
ある。
機絶縁層41を損傷させないために,無機絶縁層42の
成膜温度を300℃以下の低温になるよう工夫した。T
MAおよびH2Oはボトル内にて室温で気化されたもの
をキャリアガスであるN2各400sccmで反応炉に
導入した。またパージガスとしてN2を使用した。この
時,導入時間は気化TMAが0.6sec,TMAのパ
ージが2.4sec,気化H2Oが1.0sec,H2O
のパージが4.0secにて成膜し,このサイクルを5
000回繰り返し成膜を行った。
とにより成膜されないようにした。これは,電極取り出
し部は後ほどの工程ではんだ付けなどの方法で配線を接
合するためである。なお。マスク等を用いなくともウェ
ットエッチングや研磨によって後から無機絶縁層を取り
除いてもよい。
ガスを用いAlxOyNz膜を成膜してもよい。ALE法
で,NをAl2O3中に添加するには,例えばTMA導入
→パージ→H2O+NH3導入→パージ→…といったサイ
クルでAlxOyNz膜を形成する方法と,TMA導入→
パージ→H2O導入→パージ→TMA導入→パージ→N
H3導入→パージ→…といった,Al2O3層とAlN層
を交互に成膜する手法,あるいは,TMA導入→パージ
→H2O+NH3導入→パージ→…を所望のサイクル数だ
け繰り返し次にTMA導入→パージ→NH3導入→パー
ジ→…を所望のサイクル数繰り返す,言わば,Al2O3
+AlNの積層薄膜を形成する方法がある。
てAl2O3を用いたが,これに代えて,AlON,Si
O2,TiO2,Ta2O5,SnO2,ZnO,ZrO2を
用いることもできる。さらに,半導体デバイスなどで一
般的に用いられているSi3N4を適用することもでき
る。
例の圧電体素子1は,上記有機絶縁層41をその側面全
体に有し,さらにその上層には無機絶縁層42を有して
いる。そのため,圧電体素子1は,作動特性を維持しつ
つ外部からの水分の透過を防止することができる。
おり,圧電体素子1の変位をその弾性により吸収するこ
とができる。しかしながら,有機絶縁層41は,水分の
遮断を確実に行うことはできず,透過させてしまう。こ
れは,有機絶縁層41を上記10μmから例えば200
μmまで増加させても同様である。一方,上記無機絶縁
層42は,水分の透過を確実に防止することができる。
しかしながら,無機絶縁層は,弾性を殆ど有しておら
ず,圧電体素子1の変位に直接的には対応できない。
を圧電体素子1の側面に直接配設し,その上層に無機絶
縁層42を配設している。そのため,圧電体素子1が変
位した際には,その変位を有機絶縁層41の弾性により
吸収し,その最外層の無機絶縁層42への影響を抑制す
ることができる。それ故,上記無機絶縁層42は,圧電
体素子1の変位に殆ど左右されることなく良好な成膜状
態を維持し,水分透過を十分に遮断することができる。
れる場合,あるいは燃料等の液体中に晒される場合にお
いても,上記有機絶縁層41と無機絶縁層42の存在に
よって,水分の圧電体素子1の側表面への浸入を防止す
ることができる。そのため,圧電体素子1の側表面に露
出した内部電極層21,22が短絡することを防止する
ことができる。そして,そのため,従来のように圧電体
素子の周囲を別部材により覆うカプセル構造をとる必要
がなく,圧電体素子の全体構造の小型化,低コストか,
高放熱性を得ることができる。
素子1の変位を利用して弁体を開閉させ,燃料の噴射制
御を行うよう構成されたインジェクタ5の一例を示す。
本例のインジェクタ5は,図4に示すごとく,ディーゼ
ルエンジンのコモンレール噴射システムに適用したもの
である。このインジェクタ5は,同図に示すごとく,駆
動部としての上記圧電体素子1が収容される上部ハウジ
ング52と,その下端に固定され,内部に噴射ノズル部
54が形成される下部ハウジング53を有している。
に対し偏心する縦穴521内に,圧電体素子1が挿通固
定されている。縦穴521の側方には,高圧燃料通路5
22が平行に設けられ,その上端部は,上部ハウジング
52上側部に突出する燃料導入管523内を経て外部の
コモンレール(図略)に連通している。
レーン通路524に連通する燃料導出管525が突設
し,燃料導出管525から流出する燃料は,燃料タンク
(図略)へ戻される。ドレーン通路524は,縦穴52
1と駆動部(圧電体素子)1との間の隙間50を経由
し,さらに,この隙間50から上下ハウジング52,5
3内を下方に延びる図示しない通路によって後述する3
方弁551に連通してしる。
1内を上下方向に摺動するノズルニードル541と,ノ
ズルニードル541によって開閉されて燃料溜まり54
2から供給される高圧燃料をエンジンの各気筒に噴射す
る噴孔543を備えている。燃料溜まり542は,ノズ
ルニードル541の中間部周りに設けられ,上記高圧燃
料通路522の下端部がここに開口している。ノズルニ
ードル541は,燃料溜まり542から開弁方向の燃料
圧を受けるとともに,上端面に面して設けた背圧室54
4から閉弁方向の燃料圧を受けており,背圧室544の
圧力が降下すると,ノズルニードル541がリフトし
て,噴孔543が開放され,燃料噴射がなされる。
て増減される。3方弁551は,背圧室544と高圧燃
料通路522,またはドレーン通路524と選択的に連
通させる構成である。ここでは,高圧燃料通路522ま
たはドレーン通路524へ連通するポートを開閉するボ
ール状の弁体を有している。この弁体は,上記駆動部1
により,その下方に配設される大径ピストン552,油
圧室553,小径ピストン554を介して,駆動され
る。
ジェクタ5における駆動源として,上記圧電体素子1を
用いている。ここで重要な点は,上記圧電体素子1が,
縦穴521という低圧の燃料通路の中に配設されてお
り,燃料に晒された状態で作動するよう構成されている
ことである。そして,圧電体素子1は,そのセラミック
積層体10の側面全体を覆うように上記有機絶縁層41
及び無機絶縁層42を有している。
は,圧電体素子1を従来のようにカプセル構造にする必
要がなくコンパクトにできるので,インジェクタ5全体
の小型化を図ることができる。そして,圧電体素子1
は,インジェクタ5内部の燃料通路内に燃料に晒された
状態で配設されている。そのため,圧電体素子1が変位
の繰り返しにより発熱した場合においても,燃料への伝
熱によって自己放熱性を高めることができる。それ故,
圧電体素子1の温度上昇を抑制することができ,高性能
な状態を維持することができる。そして,実際に圧電体
素子1を,雰囲気温度が85℃,湿度が85%の条件
で,1000hrまで作動させたが,短絡は発生しなか
った。
上記実施例1の構造の圧電体素子1を採用すると共に,
これをカプセル構造とすることなく直接燃料内に晒して
配設することによって,コンパクトで高性能のインジェ
クタとなる。
素子1の優れた特性を評価すべく,従来構造を有する比
較例としての圧電体素子9を作製し,実施例1の圧電体
素子1と比較した。本比較例1の圧電体素子9を図5に
示す。同図に示すごとく,圧電体素子9は,セラミック
積層体10の側面全体に有機絶縁層41を設けたが,そ
の外層には何も設けなかった。即ち,上記無機絶縁層4
2を設けなかった以外は実施例1と同様の構造とした。
示すごとく,蛇腹状のカバー95に挿入してカプセル構
造とした状態で,実施例2のインジェクタ5に組み込ん
だ。そして,実施例2(実施例1)における圧電体素子
1と比較した。比較項目は,発熱量である。
較例1)は35℃の温度上昇が見られたが,圧電体素子
1(実施例1)は5℃の温度上昇で収まった。この結果
から,実施例1の圧電体素子1の構造は,アクチュエー
タとして非常に優れていることがわかる。
に示すごとく,セラミック積層体10の側面だけでな
く,積層方向の両端面も含めてすべての表面を覆うよう
に,上記有機絶縁層41及び無機絶縁層42を配設した
例である。その他は実施例1と同様である。この場合に
は,水分の浸入をさらに確実に防止することができる。
その他は実施例1と同様の作用効果が得られる。
に示すごとく,積層体の側面だけに上記有機絶縁層41
及び無機絶縁層42を配設し,積層方向の両端面には全
く絶縁層を設けない例である。その他は実施例1と同様
である。この場合には,圧電体素子1の積層方向の端面
を平坦に維持することができ,変位力を伝える面積を大
きくとることができる。その他は実施例1と同様の作用
効果が得られる。
に示すごとく,積層体の積層方向の端面にベローズ部材
7を配設した。そして,ベローズ部材7の基端部をも覆
うように有機絶縁層41と無機絶縁層42を配設した。
その他は実施例1と同様である。この場合には,上記ベ
ローズ部材7の配設によって積層体の変位をベローズに
より吸収できるので,有機材料及び無機材料の変位を抑
えることができる。その他は実施例1と同様の作用効果
が得られる。
層体よりなるセラミック積層体10を有する圧電体素子
を例に取ったが,図10に示すごとく,セラミック積層
体10の断面形状が樽形の場合や,図11に示すごと
く,セラミック積層体10の断面形状が八角形の場合,
その他の形状の場合でも同様の作用効果が得られる。
明図。
示す説明図。
示す展開図。
説明図。
明図。
説明図。
明図。
明図。
明図。
を示す説明図。
を示す説明図。
Claims (10)
- 【請求項1】 圧電セラミックスよりなるセラミック層
と内部電極層とを交互に積層してなるセラミック積層体
と,該セラミック積層体の表面の少なくとも一部に,少
なくとも一層設けられた有機材料よりなる有機絶縁層
と,該有機絶縁層の上層において少なくとも一層設けら
れた無機材料よりなる無機絶縁層とを有していることを
特徴とする圧電体素子。 - 【請求項2】 請求項1において,上記有機絶縁層のト
ータル厚みは1μm以上であり,上記無機絶縁層のトー
タル厚みは100μm以下であることを特徴とする圧電
体素子。 - 【請求項3】 請求項2において,上記無機絶縁層のト
ータル厚みは50nm〜30μmの範囲内にあることを
特徴とする圧電体素子。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1項において,
上記無機絶縁層の成膜温度は300℃以下であることを
特徴とする圧電体素子。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項において,
上記無機絶縁層は,ALE(Atomic Layer Epitaxy)
法により成膜されていることを特徴とする圧電体素子。 - 【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項において,
上記無機絶縁層を構成する無機材料はAl,Ti,T
a,Sn,Zn,Hf,Zr,Siの酸化物,または酸
窒化物であることを特徴とする圧電体素子。 - 【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項において,
上記無機絶縁層の上層には,さらに有機材料よりなる有
機絶縁層を有していることを特徴とする圧電体素子。 - 【請求項8】 請求項1〜7のいずれか1項において,
上記圧電体素子は,インジェクタ内における燃料通路に
配設され,燃料に晒された状態で圧電アクチュエータと
して使用されることを特徴とする圧電体素子。 - 【請求項9】 圧電体素子の変位を利用して弁体を開閉
させ,燃料の噴射制御を行うよう構成されたインジェク
タにおいて,上記圧電体素子は,燃料通路に内蔵されて
いると共に燃料に晒された状態で作動するよう構成され
ていることを特徴とするインジェクタ。 - 【請求項10】 請求項9において,上記圧電体素子と
しては,請求項1〜8のいずれか1項に記載の圧電体素
子を用いることを特徴とするインジェクタ。
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