JP2002231849A - 高周波装置 - Google Patents

高周波装置

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JP2002231849A JP2001021726A JP2001021726A JP2002231849A JP 2002231849 A JP2002231849 A JP 2002231849A JP 2001021726 A JP2001021726 A JP 2001021726A JP 2001021726 A JP2001021726 A JP 2001021726A JP 2002231849 A JP2002231849 A JP 2002231849A
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Kazuharu Kimura
和治 木村
Tatsuya Miya
龍也 宮
Takashi Nakajima
貴史 中島
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    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
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    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
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Abstract

(57)【要約】 【課題】弾性表面波デバイス等の高周波デバイスを誘電
体基板にバンプ実装した高周波装置の入出力間の電磁界
結合を抑制し、高周波特性の劣化を防止する。 【解決手段】誘電体基板2の弾性表面波デバイス1(高
周波デバイス)の実装面のGND電極5を導体線路14
で導体パターン11に接続し、スルーホール9を介して
裏面GND7に接続する。GND電極6を導体線路12
で導体パターン10に接続し、スルーホール8を介して
裏面GND7に接続する。GND電極5とGND電極6
間は導体線路13で接続する。導体線路12,13,1
4はアンテナとして機能し、弾性表面波デバイス1の入
力間の電磁界結合を抑制し、高周波装置の高周波特性の
劣化を防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は高周波装置に関し、
特に高周波領域で使用され、複数の入出力端子およびグ
ランド端子を有する弾性表面波デバイスや半導体デバイ
ス等の高周波デバイスを誘電体基板上にバンプ実装した
高周波装置の入出力間の電磁界結合を抑制した誘電体基
板の配線パターン構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、高周波デバイスである圧電体を
使用した弾性表面波デバイスは自動車電話や携帯電話等
に内蔵される高周波回路にフィルタとして使用されてい
る。
【0003】従来、特許第2892993号公報に開示
されているように、弾性表面波デバイスをセラミックス
製の誘電体基板に搭載し、該基板上に形成された入力端
子および出力端子に弾性表面波デバイスをワイヤボンデ
ィングによって接続して高周波装置が構成されていた。
【0004】近年、携帯電話等に見られるように小型
化、高速化が進展し、高周波回路のフィルタにおいても
小型化、高速化が要求されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記の高周波装置で
は、接続にワイヤを使用しているために小型化への対応
が難しく、また高周波帯域における利得損失が大きく、
所望の特性が得られない問題があった。
【0006】このために、高周波装置の小型化および特
性の向上を目的に、弾性表面波デバイスを誘電体基板に
フリップチップ実装する技術が提案されている。図14
および図15は、その技術例を示す高周波装置の斜視図
である。
【0007】図14においては、誘電体基板2の表面導
体パターンとしては、入力用導体線路3および出力用導
体線路4とその周囲を除いた部分がグランド(以下、G
NDと称す)のベタとなる表面GND15がある。ま
た、図15においては、誘電体基板2の表面導体パター
ンとしては、入力用導体線路3および出力用導体線路4
と弾性表面波デバイス1の実装エリア外まで引き出され
たGND電極5,6がある。GND電極5,6は誘電体
基板2の裏面GND7とスルーホール8,9を介して接
続されている。しかし、図14,図15に示した技術の
いずれの場合も入出力導体線路間に直達波を阻止するよ
うなアンテナとなる導体が無いために、入出力間の電磁
界結合によって生ずる直達波の影響を軽減することがで
きない。その結果、図14,図15に示した技術では、
減衰帯域での減衰量が充分にとれないという課題があっ
た。また、高周波領域で使用される半導体を利用した高
周波デバイスにおいても入出力導体線路間の電磁界結合
によって高周波領域における電気的特性が劣化する課題
があった。
【0008】従って、本発明の目的は、高周波領域で使
用される圧電体あるいは半導体を利用した高周波デバイ
スを誘電体基板に実装した構造を備えた高周波装置の上
記の問題点を解決することにあり、特に入出力間の電磁
界結合が抑制した誘電体基板の配線パターン構造を提供
することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の構成は、
少なくとも1個の入力端子と、少なくとも1個の出力端
子と、2個以上の複数のGND端子とを有する圧電体あ
るいは半導体を利用した高周波デバイスを誘電体基板の
表面に前記各端子を第1の導体バンプによって接続した
実装構造を備えた高周波装置において、前記誘電体基板
は、一端部が前記入力端子に接続され、前記高周波デバ
イスの実装面に配置された入力用導体線路と、一端部が
前記出力端子に接続され、前記高周波デバイスの実装面
に配置された出力用導体線路と、前記複数の前記GND
端子が接続され、前記高周波デバイスの実装エリア内に
配置された複数のGND電極とを備え、前記高周波デバ
イスの前記誘電体基板の実装エリア内に配置され、前記
入力端子と前記出力端子間の電磁界結合を抑制する第1
の導体線路により前記複数のGND電極の少なくとも一
組が接続されていることを特徴とする。
【0010】前記複数の前記GND電極は、前記誘電体
基板に設けられ、前記GND電極に接続されたスルーホ
ールを介して前記誘電体基板の裏面に設けられたGND
層(裏面GND)に接続することができる。
【0011】上記の本発明の第1の構成の高周波装置に
おいては、前記誘電体基板の前記GND電極と同じ面の
前記高周波デバイスの実装エリア外に、前記前記誘電体
基板の前記裏面GNDにスルーホール接続した導体パッ
ドとを備え、前記導体パッドと前記GND電極を、第2
の導体線路で接続することができる。
【0012】本発明の第2の構成は、少なくとも1個の
入力端子と、少なくとも1個の出力端子と、2個以上の
複数のGND端子とを有する圧電体あるいは半導体を利
用した高周波デバイスを誘電体基板の表面に前記各端子
を導体バンプによって接続した実装構造を備えた高周波
装置において、前記誘電体基板は、一端部が前記入力端
子に接続され、前記高周波デバイスの実装面に配置され
た入力用導体線路と、一端部が前記出力端子に接続さ
れ、前記高周波デバイスの実装面に配置された出力用導
体線路と、前記複数の前記GND端子が接続され、前記
高周波デバイスの実装エリア内に配置された複数のGN
D電極と、前記高周波デバイスの実装エリア外に配置さ
れ、前記誘電体基板の裏面GNDにスルーホール接続し
た複数の導体パッドとを備え、前記GND電極は、前記
誘電体基板の前記実装面に配置され、前記入力端子と前
記出力端子間の電磁界結合を抑制する第3の導体線路に
より前記導体パッドに接続されていることを特徴とす
る。
【0013】上記の第1および第2の構成の高周波装置
において、前記誘電体基板に設けられた前記入力用導体
線路および前記出力用導体線路は、前記誘電体基板の側
面に設けた導体を介して前記誘電体基板の裏面端子に接
続するか、または前記入力用導体線路および前記出力用
導体線路の他端部をスルーホールを介して裏面端子に接
続することができる。該裏面端子にはバンプを設け、外
部接続用電極とすることができる。
【0014】本発明の高周波装置では、高周波デバイス
が誘電体基板にバンプ実装(フリップチップ実装)され
る表面に入出力導体線路とは接触せず、誘電体基板の裏
面GNDにスルーホールを介して接続する導体線路(上
記の第1の導体線路〜第3の導体線路)を設け、該導体
線路がアンテナとして働くことによって高周波デバイス
の入出力間の電磁界結合を抑制し、高周波装置の高周波
特性を防止できる。
【0015】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
図面を参照して詳細に説明する。なお、本実施の形態で
は、高周波デバイスとして圧電体を使用した弾性表面波
デバイスの場合について説明する。
【0016】図1は本発明の第1の実施の形態の高周波
装置の構造を示す図であり、(a)は斜視図、(b)は
(a)のA―A'線に沿った断面図、(c)は誘電体基
板の裏面導体パターンを示す平面図である。図1のよう
に、本発明の第1の実施の形態の高周波装置は、入力端
子,出力端子(表示していない)およびGND端子3
0,30aを持つ弾性表面波デバイス1が機能端子面を
対面させた状態で誘電体基板2に導体バンプ20によっ
てフリップチップ実装されて構成される。
【0017】誘電体基板2の表面には弾性表面波デバイ
ス1が機能端子に対応する入力用導体線路3,出力用導
体線路4およびGND電極5,6を備え、その裏面に
は、裏面GND7と、誘電体基板2の側面の導体を介し
てそれぞれ入力用導体線路3および出力用導体線路4に
接続されている入力用導体線路導出端子3aおよび出力
用導体線路導出端子4aとを備えている。なお、入力用
導体線路3と入力用導体線路導出端子3aの接続および
出力用導体線路4と出力用導体線路導出端子4aの接続
は、スルーホール接続によって行ってもよい。また、入
力用導体線路導出端子3aおよび出力用導体線路導出端
子4aの表面には金バンプまたは半田バンプを設け、外
部接続用電極とすることができる。
【0018】弾性表面波デバイス1の入力端子,出力端
子(表示していない)およびGND端子30,30aは
誘電体基板2の入力用導体線路3,出力用導体線路4お
よびGND電極6,5にそれぞれ導体バンプ20を介し
て接続されている。
【0019】誘電体基板2の表面のGND電極5と導体
パターン10は、導体線路12,導体線路13で接続さ
れている。また、GND電極6と導体パターン11は、
導体線路13,導体線路14で接続されている。導体線
路12,13,14の幅は同じでも異なっていてもよい
が、これらの導体線路の幅は、入力用導体線路3および
出力用導体線路4の幅よりは小さくする。導体線路13
は入力用導体線路3および出力用導体線路4とは接触し
ないように実装エリア内でGND電極5とGND電極6
を接続する導体線路であり、通常100〜200μmの
幅である。導体パターン10および導体パターン11
(パッド)は、それぞれスルーホール8およびスルーホ
ール9を経由して裏面GND7に接続されている。
【0020】導体バンプ20の材料には金(Au)が使
用される。誘電体基板2の材料としては、エポキシ樹
脂.ポリイミド樹脂等の有機樹脂基板やセラミック基板
が使用できる。各電極パターン、各導体線路および各導
体パターンの材料は、誘電体基板2の材料によって選択
される。例えば、誘電体基板2が有機樹脂基板の場合に
は、Cu/Ni/Au等の材料がめっき技術とエッチン
グ技術によって配線される。誘電体基板2がセラミック
基板の場合には、W/Ni/Au等の材料が厚膜技術や
薄膜技術等によって配線される。弾性表面波デバイス1
の入力端子,出力端子(表示していない)およびGND
端子30,30aの表面材料には、例えば金やAl等が
使用されている。
【0021】このように誘電体基板2の表面の入出力用
導体線路間にはスルーホール8,9を介して裏面GND
に接続されているアンテナとして働く導体線路12,1
3,14が設けられていることに大きな特徴がある。
【0022】次に上記の本発明の高周波装置の動作につ
いて図1を参照して説明する。入力用導体線路3から入
力された電気信号は弾性表面波デバイス1に入力すると
弾性表面波に変換される。ある周波数帯のみ励振して、
弾性表面波デバイス1の出力側に到達した弾性表面波は
出力側にて再び電気信号に変換され出力用導体線路4か
ら電気信号が出力される。この際、弾性表面波に変換さ
れない周波数の信号は弾性表面波デバイスの入力にて全
反射されるので出力にはあらわれない。しかるにある特
定の周波数の信号のみが出力され、周波数フィルタとし
て機能する。
【0023】フィルタ特性として重要なのは通過帯域で
の信号のロスと減衰帯域での信号の減衰量であるが、入
力端子から出力端子へのフィードスルー(直達波)の影
響があると、弾性表面波に変換されずに直接入力端子か
ら出力端子へ電気信号が伝わるため減衰特性を劣化して
しまうために、フィードスルーの影響を小さくする事が
要求される。
【0024】本発明では、導体線路12,導体線路1
3,導体線路14がアンテナとして作用し、入力端子か
ら出力端子へのフィードスルー(直達波)の影響を抑制
し、減衰特性の劣化を防止することができる。
【0025】使用する弾性表面波デバイス及び周波数帯
は様々であり、それによってアンテナとして働く導体線
路の最適なパターンも異なる。特に誘電体基板の裏面G
NDへどのようなインピーダンスで接続するかは重要で
ある。
【0026】図2〜図4は、本実施の形態の高周波装置
の誘電体基板2の導体線路のその他の配置例を示す平面
図であり、図1と同様に導体線路12,13,14によ
って各GND電極とスルーホールと接続する各導体パタ
ーンとが接続されている。
【0027】図2〜図4では、導体線路13は各GND
電極を接続している場合であるが、導体線路12,14
の線幅、長さおよび角度あるいは方向が図によって異な
っている。導体線路12,14の線幅及び長さを変える
ことによって弾性表面波デバイス1のグランド端子が裏
面GNDに接続されるまでのインダクタンスが変化し、
阻止信号の周波数が異なってくる。また、導体線路1
2,14の角度の角度が異なることで信号の通過を阻止
して減衰させたい減衰帯域の信号に対する感度が異なっ
てくる。
【0028】次に本発明の第2の実施の形態の高周波装
置について図面を参照して詳細に説明する。
【0029】図5〜図7は本発明の第2の実施の形態の
高周波装置の誘電体基板2の導体線路の配置例を示す平
面図である。図5〜図7は図2〜図4において、誘電体
基板2のスルーホールのある導体パターン10,11が
GND電極6,5と共通となった場合である。即ち、G
ND電極5と導体パターン11が共通であり、GND電
極6と導体パターン10が共通であり、導体線路は導体
線路13のみなる。図5〜図7では導体線路13の長さ
及び入出力用導体線路に対する角度を変化させている。
図5〜図7の配線レイアウトは弾性表面波デバイスの機
能素子部のレイアウトや回路構成によって電磁界的影響
が一番小さくなるように選択される。
【0030】次に本発明の第3の実施の形態の高周波装
置について図面を参照して詳細に説明する。図8〜図1
0は、本発明の第3の実施の形態の高周波装置の誘電体
基板2の導体線路の配置例を示す平面図である。
【0031】図8〜10は、図1で導体線路13がなく
なり、GND電極5と導体パターン11が導体線路14
のみで接続され、GND電極6と導体パターン10が導
体線路12のみで接続されている場合である。図8〜図
10の各図では導体線路12および導体線路14の線
幅、長さ、および角度または方向が異なっている。
【0032】図2〜図10のいずれも入力用導体線路3
および出力用導体線路4とは接触しないGND電極5,
6から誘電体基板2の裏面GND7にスルーホール9,
8を介して接続するための導体線路があり、その導体線
路をアンテナとして働かせて減衰特性の向上を図ってい
る。このようなパターンを用いて900MHz帯の弾性
表面波フィルタを実際に評価した結果、従来パターンに
対して図1〜図4のパターンで6〜10dB、図5〜図
7のパターンで6〜8dB、図8〜図10のパターンで
10dB以上の改善が確認された。
【0033】上記の本発明の実施の形態の説明では、実
装する面側に入力端子,出力端子の一組と2個のGND
端子の一組を対角線上に有する弾性表面波デバイスが3
0,30aを持つ弾性表面波デバイスを誘電体基板に実
装した構造の高周波装置について説明したが、本発明
は、実装する面側に入力端子,出力端子の一組と2個の
GND端子の一組を十字線上に有する弾性表面波デバイ
スを誘電体基板に実装する場合や、3個以上の入出力端
子と3個以上のGND端子を備えた弾性表面波デバイス
を誘電体基板に実装する場合についても適用できる。
【0034】図11は、入力端子,出力端子の一組と2
個のGND端子の一組を十字線上に有する弾性表面波デ
バイスを誘電体基板の導体線路の配置例を示す平面図で
あり、上記の第2の実施の形態におけるその他の例であ
る。図11を参照すると、GND電極5とGND電極6
は導体線路13で接続され、また、各GND電極はスル
ーホール8,9を介して誘電体基板2の裏面GND(表
示していない)に接続されている。導体線路13は弾性
表面波デバイス1の入力端子間の電磁界結合を抑制する
アンテナとして作用する。本端子構造の弾性表面波デバ
イスを誘電体基板に実装する場合の誘電体基板の導体線
路の配置方法については、上記の第1および第3の実施
の形態も適用できることはいうまでもない。
【0035】図12は、1個の入力端子、2個の出力端
子および4個GND端子を備えた弾性表面波デバイスを
誘電体基板に実装する場合の誘電体基板の導体線路の配
置例を示す平面図であり、上記の第2の実施の形態にお
けるその他の例である。図12(a)〜図12(d)で
は、誘電体基板2の弾性表面波デバイス1の実装面に
は、十字線の一つの線上に2個の出力用導体線路4の一
組と、十字線の他の線上に入力用導体線路3の1個が誘
電体基板の実装面端部にまで延出され設けられており、
また各電極間には4個のGND電極5,6,15,16
が対角線上に設けられ、それぞれスルーホール9,8,
9a,8aによって裏面GND7(表示していない)に
接続されている。図12(a)では、GND電極5,1
5とGND電極6,16はそれぞれ導体線路13a,1
3bによって接続されている。図12(b)では、各G
ND電極は交差線状の導体線路13cによって接続され
ている。同様に、図12(c)では、GND電極5,
6,15は、導体線路13e,13d,13fによって
GND電極16に接続されている。図12(d)では、
各GND電極はH字状の導体線路13gによって接続さ
れている。各GND電極間の配線方法は、その他種々が
考えられるが、弾性表面波デバイスの種類、誘電体基板
の裏面GNDへどのようなインピーダンスで接続するか
によって決定される。
【0036】図13は、2個の出力端子、1個の入力端
子および4個GND端子を備えた弾性表面波デバイスを
誘電体基板に実装する場合の誘電体基板の導体線路の配
置例を示す平面図であり、上記の第2の実施の形態にお
けるその他の例である。図13(a)〜図13(d)で
は、誘電体基板2の弾性表面波デバイス1の実装面に
は、対角線の一つの線上に2個の出力用導体線路4の一
組と、対角線の他の線上に入力用導体線路3の1個が誘
電体基板の実装面端部にまで延出され設けられており、
また各電極間には4個のGND電極5,6,15,16
が十字線上に設けられ、それぞれスルーホール9,8,
9a,8aによって裏面GND7(表示していない)に
接続されている。図13(a)では、GND電極5,1
6とGND電極6,15はそれぞれ導体線路13h,1
3iによって接続されている。図13(b)では、各G
ND電極は十字状に交差する導体線路13jによって接
続されている。同様に、図13(c)では、GND電極
5,16,6,15の各GND間は導体線路13k,1
3h,13m,13jによって矩形状に接続されてい
る。図13(d)では、GND電極5,16,6は、導
体線路13k,13q,13iによってGND電極15
に接続されている。各GND電極間の配線方法は、その
他種々が考えられるが、弾性表面波デバイスの種類、誘
電体基板の裏面GNDへどのようなインピーダンスで接
続するかによって決定される。
【0037】本発明は高周波デバイスの実装用誘電体基
板の実装パターンに関するものであるから、弾性表面波
デバイスまたは半導体デバイスの高周波デバイスと、さ
らに集積回路装置、トランジスタ等の能動部品と、チッ
プ抵抗、チップコンデンサ、チップインダクタ等の受動
部品のいずれかまたは両方を誘電体基板に実装して全体
としてモジュールを構成した高周波装置に対しても適用
する事ができる。
【0038】上記の本発明の実施の形態では、高周波デ
バイスとして圧電体を使用した弾性表面波デバイスを誘
電体基板に実装した場合について説明したが、本発明は
半導体を使用した高周波デバイスを誘電体基板に実装し
た場合の高周波装置についても適用できることはいうま
でもない。
【0039】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の高周波装
置では高周波デバイスが誘電体基板にフリップチップ実
装される表面に入出力導体線路とは接触せず、誘電体基
板の裏面GNDにスルーホールを介して接続する導体線
路を設け、該導体線路がアンテナとして働くことによっ
て高周波デバイスの入出力間の電磁界結合を抑制でき
る。この結果、高周波装置の高周波特性の劣化が防止で
きる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態の高周波装置の構造
を示す図であり、(a)は斜視図、(b)は(a)のA
―A'線に沿った断面図、(c)は誘電体基板の裏面導
体パターンを示す平面図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態の高周波装置の他の
第1の例を示す誘電体基板の表面導体パターンの平面図
である。
【図3】本発明の第1の実施の形態の高周波装置の他の
第2の例を示す誘電体基板の表面導体パターンの平面図
である。
【図4】本発明の第1の実施の形態の高周波装置の他の
第3の例を示す誘電体基板の表面導体パターンの平面図
である。
【図5】本発明の第2の実施の形態の高周波装置の誘電
体基板の導体線路の第1の例を示す平面図である。
【図6】本発明の第2の実施の形態の高周波装置の誘電
体基板の導体線路の第2の例を示す平面図である。
【図7】本発明の第2の実施の形態の高周波装置の誘電
体基板の導体線路の第3の例を示す平面図である。
【図8】本発明の第3実施の形態の高周波装置の誘電体
基板の導体線路の第1の例を示す平面図である。
【図9】本発明の第3実施の形態の高周波装置の誘電体
基板の導体線路の第2の例を示す平面図である。
【図10】本発明の第3実施の形態の高周波装置の誘電
体基板の導体線路の第3の例を示す平面図である。
【図11】本発明の第2実施の形態の高周波装置の誘電
体基板の導体線路の第4の例を示す平面図である。
【図12】本発明の第2実施の形態の高周波装置の誘電
体基板の導体線路の第5〜第8の例を示す平面図であ
る。
【図13】本発明の第2実施の形態の高周波装置の誘電
体基板の導体線路の第9〜第12の例を示す平面図であ
る。
【図14】従来の高周波装置の第1の構造例を示す図で
あり、(a)は斜視図、(b)は誘電体基板の裏面導体
パターンの平面図である。
【図15】従来の高周波装置の第2の構造例を示す図で
あり、(a)は斜視図、(b)は誘電体基板の裏面導体
パターンの平面図である。
【符号の説明】
1 弾性表面波デバイス 2 誘電体基板 3 入力用導体線路 3a 入力用導体線路導出端子導体 4 出力用導体線路 4a 出力用導体線路導出端子 5,6,15,16 GND電極 7 裏面GND 8,9,8a,9a スルーホール 10,11 導体パターン 12,13,14 導体線路 13a〜13k,13m,13q 導体線路 15 表面GND 20 導体バンプ 30,30a GND端子
フロントページの続き (72)発明者 中島 貴史 東京都世田谷区太子堂4丁目3番1号 城 南ビル8F 中央電子工業株式会社内 Fターム(参考) 5J097 AA17 AA30 JJ01 JJ06 JJ07 KK10 LL08

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも1個の入力端子と、少なくと
    も1個の出力端子と、2個以上の複数のグランド端子と
    を有し、圧電体あるいは半導体を利用した高周波デバイ
    スを誘電体基板の表面に前記各端子を第1の導体バンプ
    によって接続した実装構造を備えた高周波装置におい
    て、前記誘電体基板は、一端部が前記入力端子に接続さ
    れ、前記高周波デバイスの実装面に配置された入力用導
    体線路と、一端部が前記出力端子に接続され、前記高周
    波デバイスの実装面に配置された出力用導体線路と、前
    記複数の前記グランド端子が接続され、前記高周波デバ
    イスの実装エリア内に配置された複数のグランド電極と
    を備え、前記高周波デバイスの前記誘電体基板の実装エ
    リア内に配置され、前記入力端子と前記出力端子間の電
    磁界結合を抑制する第1の導体線路により前記複数のグ
    ランド電極の少なくとも一組が接続されていることを特
    徴とする高周波装置。
  2. 【請求項2】 前記複数の前記グランド電極は、前記誘
    電体基板に設けられ、前記グランド電極に接続された第
    1のスルーホールを介して前記誘電体基板の裏面に設け
    られたグランド層に接続されていることを特徴とする請
    求項1記載の高周波装置。
  3. 【請求項3】 前記誘電体基板の前記グランド電極と同
    じ面の前記弾性表面波デバイスの実装エリア外に、前記
    前記誘電体基板の裏面に設けられたグランド層に第2の
    スルーホールを介して接続された導体パッドとを備え、
    前記導体パッドと前記グランド電極は、第2の導体線路
    で接続されていることを特徴とする請求項1記載の高周
    波装置。
  4. 【請求項4】 少なくとも1個の入力端子と、少なくと
    も1個の出力端子と、2個以上の複数のグランド端子と
    を有し、圧電体あるいは半導体を利用した高周波デバイ
    スを誘電体基板の表面に前記各端子を導体バンプによっ
    て接続した実装構造を備えた高周波装置において、前記
    誘電体基板は、一端部が前記入力端子に接続され、前記
    高周波デバイスの実装面に配置された入力用導体線路
    と、一端部が前記出力端子に接続され、前記高周波デバ
    イスの実装面に配置された出力用導体線路と、前記複数
    の前記グランド端子が接続され、前記高周波デバイスの
    実装エリア内に配置された複数のグランド電極と、前記
    高周波デバイスの実装エリア外に配置され、前記誘電体
    基板の裏面のグランド層に第3のスルーホールを介して
    接続された複数の導体パッドとを備え、前記グランド電
    極は、前記誘電体基板の前記実装面に配置され、前記入
    力端子と前記出力端子間の電磁界結合を抑制する第3の
    導体線路により前記導体パッドに接続されていることを
    特徴とする高周波装置。
  5. 【請求項5】 前記グランド電極の数が3個以上であ
    り、該グランド電極の少なくとも2個が前記第1の導体
    線路で接続されていることを特徴とする請求項1〜3の
    いずれかに記載の高周波装置。
  6. 【請求項6】 前記グランド電極の数が3個以上であ
    り、該グランド電極が交差する前記第1の導体線路で接
    続されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
    に記載の高周波装置。
  7. 【請求項7】 前記グランド電極の数が3個以上であ
    り、該グランド電極のうちの一つのグランド電極と残り
    のグランド電極が放射状に接続されていることを特徴と
    する請求項1〜3のいずれかに記載の高周波装置。
  8. 【請求項8】 前記グランド電極の数が3個以上であ
    り、該グランド電極が前記第1の導体線路でリング状に
    接続されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれ
    かに記載の高周波装置。
  9. 【請求項9】 前記第1の導体線路の幅は前記入力用導
    体線路および前記出力用導体線路の幅よりも小さいこと
    を特徴とする請求項1〜3,5〜8のいずれかに記載の
    高周波装置。
  10. 【請求項10】 前記第1の導体線路と前記第2の導体
    線路の幅は同じまたは異なり、かつこれらの導体線路の
    幅は、前記入力用導体線路および前記出力用導体線路の
    幅よりも小さいことを特徴とする請求項3記載の高周波
    装置。
  11. 【請求項11】 前記第3の導体線路の幅は前記入力用
    導体線路および前記出力用導体線路の幅よりも小さいこ
    とを特徴とする請求項4記載の高周波装置。
  12. 【請求項12】 前記入力用導体線路および前記出力用
    導体線路の他端部は、前記誘電体基板の側面に設けた導
    体を介して前記誘電体基板の裏面に設けられた第1の裏
    面端子および第2の裏面端子にそれぞれ接続されている
    ことを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の高
    周波装置。
  13. 【請求項13】 前記入力用導体線路および前記出力用
    導体線路の他端部は、第4のスルーホールを介して前記
    誘電体基板の裏面に設けられた第1の裏面端子および第
    2の裏面端子にそれぞれ接続されていることを特徴とす
    る請求項1〜11のいずれかに記載の高周波装置。
  14. 【請求項14】 前記第1の裏面端子および前記第2の
    裏面端子上に第2の導体バンプが設けられていることを
    特徴とする請求項13記載の高周波装置。
  15. 【請求項15】 前記第1の導体バンプが金バンプであ
    ることを特徴とする請求項1〜14のいずれかに記載の
    高周波装置。
  16. 【請求項16】 前記第2の導体バンプが金バンプまた
    は半田バンプであることを特徴とする請求項14に記載
    の高周波装置。
  17. 【請求項17】 前記高周波デバイスが弾性表面波デバ
    イスまたは半導体デバイスであり、前記誘電体基板に、
    さらに集積回路装置、トランジスタ等の能動部品と、チ
    ップ抵抗、チップコンデンサ、チップインダクタ等の受
    動部品のいずれかまたは両方が実装されていることを特
    徴とする請求項1〜16のいずれかに記載の高周波装
    置。
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