JP2002217263A - 被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法 - Google Patents

被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法

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JP2002217263A JP2001005791A JP2001005791A JP2002217263A JP 2002217263 A JP2002217263 A JP 2002217263A JP 2001005791 A JP2001005791 A JP 2001005791A JP 2001005791 A JP2001005791 A JP 2001005791A JP 2002217263 A JP2002217263 A JP 2002217263A
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 最近一枚のウエハに形成されるデバイスの数
が飛躍的に増え、一枚のウエハについて検査等の処理を
終えるにも長時間を要するため、ロット単位で処理する
までかなりの日時を要し、その期間中処理済みのウエハ
まで半導体製造装置内に止め置くことになり、ロット単
位のウエハを後工程に廻す時間がそれだけ遅延し、結果
的にTATの短縮が難しい。 【解決手段】 本発明のウエハWの搬送システムEは、
複数のプローバ2と、キャリア単位でウエハWを自動搬
送するAGV3とを備え、プローバ2及びAGV3は、
互いにウエハWを一枚ずつ受け渡すアダプタ及びピンセ
ットと、これらを制御するグループコントローラ5及び
AGVコントローラ4と、これらのコントローラ5、4
の制御信号を光信号として送受信するPIO通信インタ
ーフェース11A、11Bとを有している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被処理体の搬送シ
ステム及び被処理体の搬送方法に関し、更に詳しくは半
導体製造装置と自動搬送装置の間で被処理体を枚葉単位
で受け渡すことができる被処理体の搬送システム及び被
処理体の搬送方法に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば半導体装置の検査工程では半導体
ウエハ(以下、単に「ウエハ」と称す。)の検査装置と
してプローバが広く用いられている。プローバは、通
常、ローダ室とプローバ室とを備え、ウエハ状態でデバ
イスの電気的特性検査を行う。ローダ室は、複数(例え
ば、25枚)のウエハが収納されたキャリアを載置する
キャリア載置部と、キャリア載置部からウエハを一枚ず
つ搬送するウエハ搬送機構(以下、「アーム機構」と称
す。)と、アーム機構を介して搬送されるウエハのプリ
アライメントを行うプリアライメント機構(以下、「サ
ブチャック」と称す。)とを備えている。また、プロー
バ室は、ウエハを載置してX、Y、Z及びθ方向に移動
する載置台(以下、「メインチャック」と称す。)と、
メインチャックと協働してウエハのアライメントを行う
アライメント機構と、メインチャックの上方に配置され
たプローブカードと、プローブカードとテスタ間に介在
するテストヘッドとを備えている。
【0003】従って、ウエハの検査を行う場合には、ま
ずオペレータがロット単位で複数のウエハが収納された
キャリアをローダ室のキャリア載置部に載置する。次い
で、プローバが駆動すると、アーム機構がキャリア内の
ウエハを一枚ずつ取り出し、サブチャックを介してプリ
アライメントを行った後、アーム機構を介してプローバ
室内のメインチャックへウエハを引き渡す。ローダ室で
はメインチャックとアライメント機構が協働してウエハ
のアライメントを行う。アライメント後のウエハをメイ
ンチャックを介してインデックス送りしながらプローブ
カードと電気的に接触させて所定の電気的特性検査を行
う。ウエハの検査が終了すれば、メインチャック上のウ
エハをローダ室のアーム機構で受け取ってキャリア内の
元の場所に戻した後、次のウエハの検査を上述の要領で
繰り返す。キャリア内の全てのウエハの検査が終了すれ
ば、オペレータが次のキャリアと交換し、新たなウエハ
について上述の検査を繰り返す。
【0004】しかしながら、例えば300mmウエハの
ように大口径化すると、複数枚のウエハが収納されたキ
ャリアは極めて重いため、オペレータがキャリアを持ち
運ぶことが殆ど不可能に近くなって来ている。また、持
ち運びできたとしても重量物であるため一人での持ち運
びには危険を伴う。
【0005】そこで、特開平10−303270号公報
では自動搬送車(以下、「AGV」と称す。)を使って
キャリアを搬送し、工程設備との間で同一ロットのウエ
ハをキャリア単位で受け渡すことができる搬送方法が提
案されている。この搬送方法を用いれば、オペレータに
よるキャリアの搬送は自動化され、上述の問題は解決す
ることができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、最近の
ウエハの大口径化及び超微細化により一枚のウエハに形
成されるデバイスの数が飛躍的に増え、一枚のウエハに
ついて検査等の処理を終えるにも長時間を要するため、
上述のようにAGVを介してキャリア単位で同一ロット
のウエハを検査装置等の半導体製造装置まで搬送し得た
としても、キャリアで搬送されたウエハをロット単位で
処理するまでかなりの日時を要し、その期間中処理済み
のウエハまで半導体製造装置内に止め置くことになり、
ひいてはロット単位のウエハを後工程に廻す時間がそれ
だけ遅延し、結果的にTAT(Turn-Around-Time)の短
縮が難しいという課題があった。
【0007】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、自動搬送装置と複数の半導体製造装置との
間でウエハ等の被処理体を枚葉単位で受け渡しを確実に
行い、複数の半導体製造装置を用いて被処理体を並行処
理して被処理体のTATの短縮を実現することができる
被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法を提供
することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
の被処理体の搬送システムは、被処理体に対して所定の
処理を施す複数の半導体製造装置と、これらの半導体製
造装置に対してそれぞれの要求に応じて上記被処理体を
一枚ずつ受け渡すためにキャリア単位で被処理体を自動
搬送する自動搬送装置とを備え、上記半導体製造装置及
び上記自動搬送装置は、互いに上記被処理体を一枚ずつ
受け渡す第1、第2の受け渡し機構と、第1、第2の受
け渡し機構を制御する制御装置と、この制御装置の制御
信号を光信号として送受信する光結合並列I/O通信イ
ンターフェースとを有することを特徴とするものであ
る。
【0009】また、本発明の請求項2に記載の被処理体
の搬送システムは、請求項1に記載の発明において、第
1の受け渡し機構は、上記被処理体を支持する昇降可能
な保持体と、この保持体上に上記被処理体を真空吸着す
る第1の真空吸着機構を有し、第2の受け渡し機構は、
上記被処理体を一枚ずつ搬送するアームと、このアーム
上に上記被処理体を真空吸着する最2の真空吸着機構と
を有することを特徴とするものである。
【0010】また、本発明の請求項3に記載の被処理体
の搬送システムは、請求項1または請求項2に記載の発
明において、上記光結合並列I/O通信インターフェー
スは第1、第2の真空吸着機構を制御するための光信号
を送受信する信号ポートを有することを特徴とするもの
である。
【0011】また、本発明の請求項4に記載の被処理体
の搬送方法は、光結合並列I/O通信インターフェース
を介して光通信を行って半導体製造装置の第1の受け渡
し機構と自動搬送装置の第2の受け渡し機構との間で被
処理体を一枚ずつ受け渡す方法であって、第1、第2の
受け渡し機構が上記被処理体の受け渡しに備えて準備す
る工程と、第2の受け渡し機構が上記被処理体の受け渡
しのために第1の受け渡し機構へアクセスする工程と、
第1、第2の受け渡し機構間で上記被処理体を受け渡す
工程、第2の受け渡し機構が第1の受け渡し機構から退
避して上記被処理体の受け渡しを終了する工程とを備え
たことを特徴とするものである。
【0012】また、本発明の請求項5に記載の被処理体
の搬送方法は、光結合並列I/O通信インターフェース
を介して光通信を行って半導体製造装置の第1の受け渡
し機構と自動搬送装置の第2の受け渡し機構との間で被
処理体を一枚ずつ受け渡す方法であって、第1、第2の
受け渡し機構間で上記被処理体の搬送を開始する時、上
記自動搬送装置から上記半導体製造装置へその旨通知す
る工程と、第1の受け渡し機構における上記被処理体の
有無に基づいて第2の受け渡し機構のアクセス可能を確
認した時、上記半導体製造装置から上記自動搬送装置へ
その旨通知する工程と、第1、第2の受け渡し機構間で
の上記被処理体の搬送、受け渡しを行った時、上記自動
搬送装置から上記半導体製造装置へその旨通知する工程
と、第2の受け渡し機構における上記被処理体の有無に
基づいて第2の受け渡し機構の退避可能を確認した時、
上記半導体製造装置から上記自動搬送装置へその旨通知
する工程と、第2の受け渡し機構が第1の受け渡し機構
から退避して上記被処理体の搬送、受け渡しの終了を確
認した時、上記自動搬送装置から上記半導体製造装置へ
その旨通知する工程とを備えたことを特徴とするもので
ある。
【0013】また、本発明の請求項6に記載の被処理体
の搬送方法は、請求項5に記載の発明において、上記被
処理体の有無の確認を第1の受け渡し機構の真空吸着機
構を介して行うことを特徴とするものである。
【0014】また、本発明の請求項7に記載の被処理体
の搬送方法は、請求項5または請求項6に記載の発明に
おいて、上記被処理体の受け渡しの終了の確認を第2の
受け渡し機構の真空吸着機構を介して行うことを特徴と
するものである。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図1〜図16に示す実施形
態に基づいて本発明を説明する。本実施形態の被処理体
の搬送システム(Automated material handling system
(AMHS))Eは、図1の(a)、(b)に示すよう
に、被処理体であるウエハ(図示せず)の検査工程を含
む工場全体を生産管理するホストコンピュータ1と、こ
のホストコンピュータ1の管理下でウエハの電気的特性
検査を行う複数の半導体製造装置例えば検査装置(例え
ば、プローバ)2と、これらのプローバ2に対してそれ
ぞれの要求に応じてウエハを一枚ずつ自動搬送する複数
の自動搬送装置(以下、「AGV」と称す。)3と、こ
れらのAGV3を制御する搬送制御装置(以下、「AG
Vコントローラ」と称す。)4とを備えている。プロー
バ2とAGV3は、SEMI規格E23やE84に基づ
く光結合された並列I/O(以下、「PIO」と称
す。)通信インターフェースを有し、両者間でPIO通
信を行うことによりウエハWを一枚ずつ受け渡すように
してある。このプローバ2はウエハWを一枚ずつ枚葉単
位で受け取って検査を行うため、枚葉式プローバ2とし
て構成されている。以下では枚葉式プローバ2を単にプ
ローバ2として説明する。また、AGVコントローラ4
はホストコンピュータ1とSECS(Semiconductore Q
uipment Communication Standard)通信回線を介して接
続され、ホストコンピュータ1の管理下でAGV3を無
線通信を介して制御すると共にウエハWをロット単位で
管理している。
【0016】また、図1に示すように、複数のプローバ
2はグループコントローラ5を介してホストコンピュー
タ1とSECS通信回線を介して接続され、ホストコン
ピュータ1はグループコントローラ5を介して複数のプ
ローバ2を管理している。グループコントローラ5は、
プローバ2のレシピデータやログデータ等の検査に関す
る情報を管理している。また、各プローバ2にはそれぞ
れテスタ6がSECS通信回線を介して接続され、各プ
ローバ2はそれぞれのテスタ6からの指令に従って所定
の検査を個別に実行する。これらのテスタ6はテスタホ
ストコンピュータ(以下、「テスタホスト」と称す。)
7を介してホストコンピュータ1とSECS通信回線を
介して接続され、ホストコンピュータ1はテスタホスト
7を介して複数のテスタ6を管理している。また、ホス
トコンピュータ1にはウエハの検査結果に基づいて所定
のマーキングを行うマーキング装置8がマーキング指示
装置9を介して接続されている。マーキング指示装置9
はテスタホスト7のデータに基づいてマーキング装置8
に対してマーキングを指示する。更に、ホストコンピュ
ータ1には複数のキャリアCを保管するストッカ10が
SECS通信回線を介して接続され、ストッカ10はホ
ストコンピュータ1の管理下で検査の前後のウエハをキ
ャリア単位で保管、分類すると共にキャリア単位でウエ
ハの出し入れを行う。
【0017】而して、プローバ2は、図2の(a)に示
すように、ローダ室21と、プローバ室22とを備えて
いる。ローダ室21はアダプタ23、アーム機構24及
びサブチャック25を有し、アダプタ23を除き従来の
プローバに準じて構成されている。アダプタ23はAG
V3との間でウエハWを一枚ずつ受け渡す第1の受け渡
し機構として構成されている。アダプタ23の詳細は後
述する。アーム機構24は、上下二段のアーム241を
有し、それぞれのアーム241でウエハWを真空吸着し
て保持し、真空吸着を解除することでアダプタ23との
間でウエハの受け渡しを行い、受け取ったウエハWをプ
ローバ室22へ搬送する。サブチャック25はアーム機
構24でウエハWを搬送する。また、プローバ室22は
ウエハチャック26、アライメント機構27及びプロー
ブカード28を有している。メインチャック26はX、
Yテーブル261を介してX、Y方向へ移動すると共に
図示しない昇降機構及びθ回転機構を介してZ及びθ方
向へ移動する。アライメント機構27は、従来公知のよ
うにアライメントブリッジ271、CCDカメラ272
等を有し、メインチャック26と協働してウエハWとプ
ローブカード28とのアライメントを行う。プローブカ
ード28は複数のプローブ28Aを有し、プローブ28
Aとメインチャック26上のウエハが電気的に接触し、
テストヘッド(図示せず)を介してテスタ6(図1の
(a)参照)と接続される。尚、アーム機構24は上下
二段のアーム241を有しているため、以下では必要に
応じて上段のアームを上アーム241A、下段のアーム
を下アーム241Bとして説明する。
【0018】アダプタ23は本実施形態に固有の機器で
ある。このアダプタ23は、図2の(b)に示すよう
に、偏平な筒状に形成され且つテーパ面を有するアダプ
タ本体231と、アダプタ本体231の底面中央で昇降
するサブチャック232とを備え、AGV3との間ある
いはアーム機構24との間でウエハWを受け渡す際にサ
ブチャック232が昇降すると共にウエハWを吸着保持
する。このアダプタ23は、例えばキャリアテーブル
(図示せず)に着脱可能に配設され、キャリアテーブル
のインデクサ(図示せず)を介して昇降するようになっ
ている。従って、ウエハWを受け渡す際に、アダプタ2
3がインデクサを介して上昇すると共に、図2の(b)
に示すようにサブチャック232がウエハWの受け渡し
位置まで上昇し、ウエハWを受け取った後、同図に二点
鎖線で示す位置まで下降してアダプタ本体231を介し
てウエハWのセンタリングを行う。また、キャリアテー
ブルはキャリアも配置可能に構成され、キャリアあるい
はアダプタ23を判別する判別センサ(図示せず)を有
し、従来のプローバ2と同一に使用できるようになって
いる。
【0019】また、AGV3は、図1の(b)、図2の
(a)、(b)に示すように、装置本体31と、装置本
体31の一端部に配置され且つキャリアCを載置するキ
ャリア載置部32と、キャリア内でのウエハの収納位置
を検出するマッピングセンサ33と、キャリアC内のウ
エハを搬送するアーム機構34と、ウエハWのプリアラ
イメントを行うサブチャック35と、光学式のプリアラ
イメントセンサ36(図11参照)と、ウエハWのID
コード(図示せず)を読み取る光学式文字読取装置(O
CR)37と、駆動源となるバッテリ(図示せず)とを
備え、AGVコントローラ4との無線通信を介してスト
ッカ10とプローバ2間や複数のプローバ2間を自走し
てキャリアCを搬送し、アーム機構34を介してキャリ
アCのウエハ2Wを複数のプローバ2に対して一枚ずつ
配るようにしてある。
【0020】アーム機構34はAGV3に搭載されたウ
エハ搬送機構である。このアーム機構34はウエハWの
受け渡し時に回転及び昇降可能に構成されている。即
ち、アーム機構34は、図2の(a)、(b)に示すよ
うに、ウエハWを真空吸着する上下二段のアーム341
を有する真空保持装置38と、これらのアーム341を
前後動可能に支持する正逆回転可能な基台342と、基
台342内に収納された駆動機構(図示せず)とを備
え、ウエハWを受け渡す際に後述のように上下のアーム
341が駆動機構を介して基台342上で個別に前後へ
移動し、ウエハWを受け渡す方向へ基台342が正逆回
転する。尚、以下では、必要に応じて上段のアームを上
アーム341A、下段のアームを下アーム341Bとし
て説明する。
【0021】しかし、AGV3に搭載可能なコンプレッ
サは搭載バッテリを電源にしているが、前述したように
バッテリとしては例えばせいぜい25V程度の低容量も
のしか搭載することができないため、アーム機構34の
真空吸着機構としては利用するには空気流量が不足す
る。即ち、AGV3の搭載バッテリを電源とする小型の
コンプレッサ344で空気をそのままエジェクタ347
Aから排気してもコンプレッサ344の空気流量が小さ
いため、アーム341の排気路341C内の空気を十分
に吸引排気することができず、アーム341上にウエハ
Wを真空吸着することができない。そこで、真空保持装
置38に以下のような特殊な工夫を施すことで流量不足
を補っている。
【0022】即ち、本実施形態の真空保持装置38は、
図3、図4に示すように、ウエハWを吸着保持する上下
二段のアーム341と、これらのアーム341内に形成
された且つウエハWの吸着面で開口する排気路341C
と、この排気路341Cに配管344Aを介して連結さ
れた真空吸着機構343とを備え、AGVコントローラ
4の制御下で駆動する。
【0023】真空吸着機構343は、搭載バッテリで駆
動するコンプレッサ344と、このコンプレッサ344
から圧送される空気を所定の圧力(例えば、0.45M
Pa)で圧縮空気として貯留する空気タンク345と、
この空気タンク345から流出する圧縮空気の圧力を調
整する空気調整機構346と、この空気調整機構346
から供給される圧力空気を噴出させるエジェクタ347
Aとを備えている。更に、真空吸着機構343は、気体
圧調整機構346とエジェクタ347Aの間に配設され
て配管344Aを開閉する切換弁347と、アーム34
1とエジェクタ347Aの間に配設されて配管344A
を開閉するパイロット付き逆止弁348と、アーム34
1とパイロット付き逆止弁348の間に配設されて排気
路341C内の圧力を検出する圧力センサ349とを備
え、アーム341でウエハWを保持し解放するようにし
てある。
【0024】コンプレッサ344は空気を圧送して所定
圧力で圧縮空気を空気タンク345内に一旦貯留する。
AGV3の搭載バッテリを電源とする小型のコンプレッ
サ344の空気流量が小さくても所定量の圧縮空気で空
気タンク345内に一旦貯留することによってウエハW
の真空吸着に必要な空気流量を確保することができる。
即ち、空気タンク345内に貯留された圧縮空気を利用
することによりウエハWの真空吸着に必要な空気流量を
確保することができる。気体圧調整機構346は、図4
に示すように、エアフィルタ346A、減圧弁346
B、及び圧力計346Cを有し、空気タンク345内の
圧縮空気を貯留すると共にウエハWの真空吸着に必要な
一定の流量で圧縮空気をエジェクタ347Aから外部へ
排気する。尚、図3の配管344Aの斜線部分は減圧部
分である。
【0025】切替弁347は図4に示すようにソレノイ
ドバルブによって構成され、ソレノイドが付勢されると
気体圧調整機構346とアーム341とを連通し、それ
以外の時は気体圧調整機構346をアーム341から遮
断する。従って、切替弁347が付勢される気体圧調整
機構346から一定圧の空気が流れ、エジェクタ347
Aから空気を排気すると共にアーム341の排気路34
1Cから空気を吸引して排気する。この時、アーム34
1でウエハWを保持していると、アーム341の排気路
341Cの開口部をウエハWで閉じているため、排気路
341C(図4では配管344Aの減圧部分も排気路3
41Cとして示してある)内は減圧状態になってウエハ
Wをアーム341上に真空吸着することになる。この時
の真空度を圧力センサ349が検出し、この検出値に基
づいてソレノイドバルブ347AのON、OFFを制御
する。また、空気タンク345内の空気が消費されるこ
とで圧力計346Cの検出値に基づいてコンプレッサ3
44のON、OFFを制御する。また、パイロット付き
逆止弁348はソレノイドが付勢されるとアーム341
の排気路341Cをエジェクタ347A側に連通して排
気路341Cから空気を吸引し、ソレノイドが付勢状態
でなくなるとパイロット付き逆止弁348が排気路34
1Cを閉じて所定の減圧度を保持する。アーム341で
の真空吸着を解除する時にはパイロット付き逆止弁34
8のソレノイドを付勢して排気路341Cとエジェクタ
347Aを連通させて排気路341Cを大気に開放すれ
ば良い。
【0026】また、圧力センサ349は、図4に示すよ
うに、第1圧力スイッチ349A及び第2圧力スイッチ
349Bを有し、それぞれ異なった圧力を検出する。第
1圧力スイッチ349Aはアーム341上のウエハWの
有無を検出するセンサで、排気路341C内の圧力が例
えば大気圧より25kPa低い圧力を検出し、この検出
値に基づいてウエハWの存在の有無を知らせる。また、
第2圧力スイッチ349Bは排気路341C内の圧力漏
れを検出するセンサで、排気路341C内の圧力が例え
ば大気圧より40kPa低い圧力を検出し、内圧がこの
検出値より高くなった時点で圧力漏れのあることを知ら
せる。第2圧力スイッチ349Bが圧力漏れを検出する
と、即ち排気路341C内の圧力が高くなると(真空度
が低下すると)、第2圧力スイッチ349Bの検出結果
に基づいてソレノイドバルブ347を付勢してパイロッ
ト付き逆止弁348が開いて圧縮空気をエジェクタ34
7Aから排気することにより排気路341C内の減圧を
行い、第2圧力スイッチ349Bの圧力が大気圧より4
0kPa以上低い圧力に達したらソレノイドバルブ34
7をOFFすると共にパイロット付き逆止弁348が閉
じて減圧状態を保持する。また、圧力計346Cの値が
所定の値を下回った場合には、コンプレッサ344が駆
動して空気タンク345内に圧縮空気を補充する。
【0027】而して、AGV3がプローバ2のウエハW
の受け渡し位置に到達すると、AGV3においてアーム
機構34が駆動してキャリアC内のウエハWを一枚ずつ
取り出す。ところが、図5に示すようにキャリアCの内
面には例えば上下方向に25段の溝Cが形成され、こ
れらの溝CにそれぞれウエハWを挿入して水平に収納
している。そのため、ウエハWはキャリアC内の溝C
に左右にゆとりを持って挿入されウエハWの左右に隙間
があるため、アーム機構34を用いてキャリアCからウ
エハWを取り出した後、例えば光学式のセンサを用いて
センタリングを行う必要がある。ところが、本実施形態
ではキャリアCを利用してウエハWのセンタリングを行
う。
【0028】即ち、キャリアCは、図5に示すように、
キャリアCの背面に背面に向けて側面が徐々に狭くなる
傾斜面Cが左右対称に形成されている。そこで、ウエ
ハWのセンタリングを行う際にこの傾斜面Cを利用す
る。例えば、図5に示すようにアーム機構34を駆動
し、真空吸着機構343をOFFの状態にしてアーム3
41を所定のウエハWの下側からカセットC内へ挿入す
る。この間にアーム機構34が僅かに上昇しアーム34
1上にウエハWを載せる。この状態でアーム341をキ
ャリアC内の奥へ更に挿入すると、アーム341を介し
てウエハWが同図の破線で示す位置から奥に移動する間
にキャリアCの左右の傾斜面Cと当接して止まる一
方、アーム341は奥に進入する。この際、左右の傾斜
面Cは左右対称になっているため、アーム機構341
がウエハWをキャリアC内に押し込む間にアーム341
上のウエハWを左右の傾斜面Cに接触させて自動的に
センタリングを行うことができる。センタリング後に真
空吸着機構343が駆動してウエハWをアーム341で
吸着保持する。この状態でアーム341がキャリアC内
から後退し、ウエハWをキャリアCから取り出す。アー
ム機構34は上述のようにしてキャリアCから一枚のウ
エハWを取り出すと、90°回転してプローバ2のアダ
プタ23にウエハWを受け渡す。このようにAGV3に
おいてウエハWのセンタリングを行うことができるた
め、AGV3からプローバ室22内のメインチャック2
6に対してウエハWを直に受け渡す際には改めてウエハ
Wの位置合わせを行う必要がない。即ち、AGV3にお
いてウエハWのセンタリングを行うことでAGV3から
プローバ室22内のメインチャック26に対して直に引
き渡す際の位置合わせを実施していることになる。
【0029】AGV3のアーム機構34がプローバ2の
アダプタ23との間でウエハWの受け渡しを行う際に
は、前述のようにプローバ2とAGV3間で光結合PI
O通信を行う。そのため、AGV3とプローバ2はそれ
ぞれPIO通信インターフェース11A、11B(図
1、図7参照)を備え、互いにPIO通信を利用して一
枚のウエハWの受け渡しを正確に行うようにしてある。
AGV3は従来にないアーム機構34を備えているた
め、従来のSEMI規格で規定された通信回線に加え
て、アーム機構34の真空吸着機構343を制御するた
めの信号回線及びアーム341を制御するための信号回
線を有している。
【0030】また、プローバ2は前述のようにウエハW
の受け渡しのためのロードポートとして一つのアダプタ
(以下では、必要に応じて「ロードポート」とも称
す。)23を備えている。ところが、ロードポート23
が一つの場合にはプローバ2では検査済みのウエハWを
取り出すまでは次のウエハWを投入することができず、
スループット向上に限界があった。そこで、本実施形態
では図6に示すようにソフトウエアによって実際のロー
ドポート(以下、「実ロードポート」と称す。)23と
は別に仮想ロードポート23Vを少なくとも一つプロー
バ2に設定し、あたかも複数のロードポートがあるかの
ごとく取り扱うようにしてある。即ち、AGV3は、ウ
エハWを受け渡す際に図6に示すようにプローバ2内に
検査済みのウエハWが存在していても、光信号Lによる
PIO通信を行う時にソフトウエアを介して図7に示す
PIO通信インターフェース11A、11Bの信号回線
のロードポート番号を切り換え、プローバ2内にウエハ
Wが存在していても新たにウエハWを投入することがで
きる。
【0031】AGV3とプローバ2とのPIO通信を介
してプローバ2に仮想ロードポート23Vを指定する
と、実ロードポート23に検査済みのウエハWを戻すこ
となく、例えばアンロード用のアーム241やアンロー
ドテーブル(図示せず)が仮想ロードポート23Vとし
て機能し、これらで検査済みのウエハWを保持し、アダ
プタ23を空けておき次のウエハWを待機することがで
きる。このように仮想ロードポート23Vを設けること
で、アンロード用のアーム241やアンロードテーブル
(図示せず)をフルに活用することができ、スループッ
トの向上を図ることができ、余分な実ロードポートを設
ける必要がなく、フットプリントアップや装置のコスト
アップを防止することができる。
【0032】ところで、本実施形態の搬送システムE
は、図7に示すようにAGV3のアーム機構34とプロ
ーバ2のアダプタ23との間でウエハWを正確に受け渡
すために独自のPIO通信インターフェース11A、1
1Bを備えている。これらのPIO通信インターフェー
ス11A、11Bは図7に示すようにそれぞれ8つのポ
ートを有する8ビットのインターフェースとして構成さ
れ、第1ビットポートから第8ビットポートには同図に
示す信号が割り振られ、一部のビットポートがアダプタ
23のサブチャック232及びAGV3のアーム機構3
4を制御する光信号(後述のAENB信号、PENB信
号等)のために割り当てられている。
【0033】そこで、PIO通信インターフェース11
A、11Bを介してのPIO通信を利用したAGV3と
プローバ2間のウエハWの搬送方法について図8〜図1
6を参照しながら説明する。図8〜図12はAGV3か
らプローバ3へウエハWをロードする方法を示し、図1
3はプローバ2内のウエハWの流れを示し、図14から
図16はプローバ2からAGV3へウエハWをアンロー
ドする方法を示す。
【0034】まず、AGV3からプローバ2へウエハW
を受け渡すウエハのロード方法について説明する。ホス
トコンピュータ1がSECS通信を介してAGVコント
ローラ4へウエハWの搬送指令を送信すると、図8のフ
ローチャートに示すように、AGV3はAGVコントロ
ーラ4の制御下でプローバ2の前(ウエハ受け渡し位
置)へ移動する(ステップS1)。AGV3が図10の
(a)に示すようにプローバ2に到達すると、図10の
(b)に示すようにマッピングセンサ33がキャリアC
側へ進出すると共にアーム機構34が昇降し、アーム機
構34が昇降する間にマッピングセンサ33を介してキ
ャリアC内のウエハWをマッピングした後、図10の
(c)に示すようにアーム機構34の上アーム341A
が前進して所定のウエハWの僅か下方からキャリアC内
に進入する。この間に図8のフローチャートに示すよう
に上アーム341AとキャリアCを介してウエハWのセ
ンタリングを行う(ステップS2)。即ち、図10の
(c)に示すように上アーム341AがキャリアCの最
奥部へ進入する間に、アーム機構34が僅かに上昇して
上アーム341A上にウエハWを載せ、そのまま上アー
ム341Aが最奥部に到達する。この間に上アーム34
1AはウエハWをキャリアCの左右対称の傾斜面C
接触させてウエハWのセンタリングを行う。次いで、ア
ーム機構34の真空吸着機構343が駆動して上アーム
341AでウエハWを真空吸着した後、上アーム341
AがキャリアCから後退してセンタリング後のウエハW
をキャリアCから取り出す(ステップS2)。このセン
タリング処理によってメインチャック26に対するウエ
ハWの位置合わせも自動的に行われるため、AGV3か
らメインチャック26に対して直にウエハWを引き渡す
こともできる。
【0035】上アーム341AでウエハWをキャリアC
から取り出すと、図10の(d)に示すようにサブチャ
ック35が上昇してアーム341からウエハWを受け取
った後、サブチャック25が回転する間にプリアライメ
ントセンサ36を介してウエハWのプリアライメントを
行う。引き続き、図10の(e)に示すようにサブチャ
ック35が回転を停止した後下降し、ウエハWを上アー
ム341Aへ戻す間にアーム機構34が上昇しOCR3
7でウエハWに附されたIDコードを読み取ってウエハ
Wのロットを識別した後、図10の(f)に示すように
アーム機構34が90°回転してプローバ2のアダプタ
23にアーム341の向きを合わせ、図11の(a)に
示す状態になる。OCR37で識別されたウエハWのI
DコードはAGV3からAGVコントローラ4を経由し
てホストコンピュータに通知し、更に、ホストコンピュ
ータ1からプローバ2へ通知する。
【0036】次いで、図8、図9に示すようにAGV3
とプローバ2間でPIO通信インターフェース11A、
11Bを介してPIO通信を開始する。まず、図8、図
9に示すようにAGV3はプローバ2に対してHigh
状態のCS_0信号を送信した後、High状態のVA
LID信号を送信する。CS_0信号がHigh状態で
であればVALID信号はHigh状態を維持し、プロ
ーバ2のアダプタ(ロードポート)23がウエハWの受
け取り可能な状態であるかを確認する(ステップS
3)。プローバ2はVALID信号を受信すると図9に
示すようにプローバ2のL_REQ信号をHigh状態
にしてAGV3へ送信してウエハロード可能であること
を通知する。
【0037】AGV3は図8に示すようにL_REQ信
号を受信したか否かを判断し(ステップS4)、AGV
3がL_REQ信号を受信していないと判断すると、プ
ローバ2はAGV3へL_REQ信号を送信する(ステ
ップS5)。AGV3がL_REQ信号を受信した旨判
断すると、ウエハWのロードを開始するためにAGV3
ではTR_REQ信号をHigh状態にしてプローバ3
へTR_REQ信号を送信し(ステップS6)、AGV
3はプローバ2に対してウエハWの搬送態勢になった旨
通知する。プローバ2は図9に示すようにTR_REQ
信号を受信するとREADY信号をHigh状態にして
AGV3に対してREADY信号を送信し、ロードポー
ト23がアクセス可能であることをAGV3に通知す
る。
【0038】AGV3はプローバ2からREADY信号
を受信したか否かを判断し(ステップS7)、AGV3
がREADY信号を受信していないと判断すると、プロ
ーバ2はAGV3へREADY信号を送信し(ステップ
S8)、アクセス可能である旨通知する。AGV3がR
EADY信号を受信した旨判断すると、図9に示すよう
にAGV3ではBUSY信号をHigh状態にしてプロ
ーバ3へその信号を送信し(ステップS9)、プローバ
2に対してウエハWの搬送を開始する旨通知する。
【0039】次いで、AGV3は図8に示すようにプロ
ーバ2からAENB信号を受信したか否かを判断し(ス
テップS10)、AGV3がAENB信号を受信してい
ないと判断すると、図9に示すようにプローバ2はAE
NB信号をHigh状態にしてAGV3へ送信し(ステ
ップS11)、アーム341Aがアクセス可能なことを
通知する。AENB信号は、プローバ2がAGV3から
BUSY信号をHigh状態で受信した時にAGV3へ
送信される、本発明においてウエハWの受け渡しのため
に定義された信号である。即ち、AENB信号は、ウエ
ハWのロード時にはアダプタ23のサブチャック232
が下降位置にあってウエハWを保持せず、ウエハWをロ
ードできる状態(上アーム341Aのアクセス可能な状
態)でHigh状態になり、アンロード時にはサブチャ
ック232が上昇位置にあってウエハWを保持し、ウエ
ハWをアンロードできる状態(上アーム341Aのアク
セス可能な状態)でHigh状態になる。また、ロード
時にアダプタ23のサブチャック232でウエハWを検
出してウエハWのロードを確認した状態でAENB信号
はLow状態になり、アンロード時にサブチャック23
2でウエハWを検出せずウエハWのアンロードを確認し
た状態でAENB信号はLow状態になる。
【0040】而して、ステップS10においてAGV3
がHigh状態のAENB信号を受信した旨判断する
と、AGV3からのウエハWの搬送(ロード)を開始し
(ステップS11)、図11の(a)に示す状態からア
ーム機構34の上アーム341Aがプローバ2のアダプ
タ23に向けて進出し、同図の(b)に示すようにウエ
ハWをロードポート23の真上まで搬送する。
【0041】次いで、AGV3はプローバ2へPENB
信号を送信し(ステップS12)、プローバ2でウエハ
Wを検出してAENB信号がLow状態で且つL_RE
Q信号がLow状態であるか否かを判断し(ステップS
13)、プローバ2がいずれの信号もHigh状態でサ
ブチャック232が下降位置でウエハWを保持せず、ア
クセス可能である判断すると、図11の(c)に示すよ
うにサブチャック232が上昇すると共にアーム機構3
4の真空吸着機構343が真空吸着を解除する。PEN
B信号は、本発明において定義された信号で、ロード時
には真空吸着機構343をOFFにしてウエハWを上ア
ーム341Aから解放した時にHigh状態になり、上
アーム341AがAGV3側に戻ってウエハWのロード
が完了した時にLow状態になる。また、PENB信号
は、アンロード時には真空吸着機構343をONにして
ウエハWを下アーム341Bで吸着した時にHigh状
態になり、下アーム341BがAGV3側に戻ってウエ
ハWのアンロードが完了した時にLow状態になる。
【0042】上述のように上アーム341AがウエハW
を解放すると、ロードポート23内のサブチャック23
2は図9に示すように真空吸着を行ってウエハWを受け
取る(ステップS14)。引き続き、図9に示すように
プローバ2がAENB信号をLow状態にしてAGV3
へその信号を送信し、サブチャック323でウエハWを
保持している旨通知する(ステップS15)。また、こ
れと同時にプローバ2はL_REQ信号をLow状態に
してその信号をAGV3へ送信し(ステップS16)、
AGV3へロード終了を通知する。
【0043】その後、ステップS13へ戻り、再度プロ
ーバ2でウエハWを検出してAENB信号がLow状態
で且つL_REQ信号がLow状態であるか否かを判断
し、いずれの信号もLow状態であり、ロードを終了し
た旨判断すると、上アーム341Aをロードポート23
からAGV3へ戻す(ステップS17)。AGV3では
上アーム341Aが戻るとTR_REQ信号、BUSY
信号、PENB信号をいずれもLow状態にしてそれぞ
れの信号をプローバ2へ送信し、ウエハWのロードを終
了した旨通知する(ステップS18)。
【0044】次いで、AGV3では図9に示すようにC
OMPT信号をHigh状態にしてプローバ2へ送信し
てウエハWの搬送作業を完了した旨通知した後(ステッ
プS19)、AGV3ではプローバ2からREADY信
号をLow状態で受信したか否かを判断し(ステップS
20)、AGV3においてREADY信号を受信してい
ないと判断すると、図9に示すようにプローバ2ではR
EADY信号をLow状態してAGV3へ送信し、一連
の搬送作業が完了したことを通知する(ステップS2
1)。AGV3がREADY信号をLow状態で受信し
た旨判断すると、図9に示すようにAGV3ではCS_
0信号、VALID信号をLow状態にしてプローバ3
へそれぞれの信号を送信し(ステップS22)、ウエハ
Wの搬送作業を終了すると共に図11の(d)に示すよ
うにアーム機構34を逆方向に90°回転させ、ホスト
コンピュータ1の指示を待って次のウエハWの受け渡し
態勢に入る。
【0045】プローバ2では図11の(e)に示すよう
にアダプタ23内でウエハWを受け取ったサブチャック
232が一旦下降してアダプタ23内でウエハWのセン
タリングを行った後、同図の(f)に示すようにアダプ
タ23がアーム機構24とのウエハWの受け渡し位置ま
で下降すると共にサブチャック232が上昇してアダプ
タ本体231の上方まで上昇する。この状態でアーム機
構24の上アーム241Aが同図の(g)に示すように
アダプタ23側へ進出し、アダプタ23のサブチャック
231が下降すると共に上アーム241AでウエハWを
真空吸着して受け取る。
【0046】上アーム241AでウエハWを受け取る
と、アーム241は図12の(a)に示すように向きを
プローバ室22内のメインチャック26の方向に向け
る。後は従来のプローバと同様に、同図の(b)に示す
ようにアーム機構24とサブチャック25が協働してウ
エハWのプリアライメントを行った後、同図の(c)に
示すようにメインチャック26へウエハWを引き渡す。
更に、同図の(d)に示すようにアライメント機構27
を介してアライメントを行った後、同図の(e)に示す
ようにメインチャック26をインデックス送りを行いな
がらウエハWとプローブカード28のプローブ28Aと
電気的に接触させてウエハWの電気的特性検査を行う。
尚、図12の(b)、(c)において26AはウエハW
の昇降ピンである。
【0047】ウエハWを受け取ったプローバ2が検査を
実施している間に、ウエハWの受け渡しを終了した上述
のAGV3はホストコンピュータ1の制御下で同一ロッ
トのウエハWを他の複数のプローバ2の要求に応じて、
上述の要領で他の複数のプローバ2との間でウエハWの
受け渡しを行った後、それぞれのプローバ2において同
一の検査を並行して実施することができる。
【0048】プローバ2でのウエハWの電気的特性検査
を終了すると、図13の(a)に示すようにメインチャ
ック26の昇降ピン26Aが上昇してウエハWをメイン
チャック26から持ち上げる。引き続き、同図の(b)
に示すようにアーム機構24の下アーム241Bがメイ
ンチャック26へ進出してウエハWを受け取り、同図の
(c)に示すようにアーム機構24を90°回転させ、
先端をアダプタ23に向けた後、同図の(d)に示すよ
うにアーム機構24がアダプタ23へ進出すると、同図
の(e)に示すようにアダプタ23内のサブチャック2
32が上昇してウエハWを下アーム241Bから受け取
る。その後、図13の(f)に示すようにAGVコント
ローラ4の制御下でAGV3がプローバ2の前に移動す
る。AGV3がプローバ2と対峙すると、アダプタ23
が図13の(f)に示すように二点鎖線で示す位置から
ウエハWを受け渡す実線位置まで上昇する。
【0049】図14、図15に示すようにAGV3がA
GVコントローラ4からの指示に基づいて所定のプロー
バ2の前に移動すると(ステップ31)、AGV3とプ
ローバ2間のPIO通信を開始する。AGV3はプロー
バ2に対してCS_0信号を送信した後、VALID信
号を送信する(ステップS32)。プローバ2はVAL
ID信号を受信すると図15に示すようにプローバ2で
はU_REQ信号をHigh状態にしてAGV3へ送信
してウエハWをアンロードするための搬送を指示する。
【0050】AGV3は図14に示すようにU_REQ
信号を受信したか否かを判断し(ステップS33)、A
GV3がU_REQ信号を受信していないと判断する
と、プローバ2はAGV3へU_REQ信号を送信する
(ステップS34)。これによりステップS33におい
てAGV3がU_REQ信号を受信した旨判断すると、
ウエハWの搬送を開始するためにAGV3はTR_RE
Q信号をHigh状態にしてプローバ3へその信号を送
信し(ステップS35)、プローバ2に対してウエハW
の搬送態勢になったことを通知する。
【0051】次いで、AGV3ではプローバ2からRE
ADY信号を受信したか否かを判断し(ステップS3
6)、AGV3においてREADY信号を受信していな
いと判断すると、プローバ2ではAGV3へREADY
信号をHigh状態にして送信する(ステップS3
7)。AGV3がREADY信号を受信し、プローバ2
へのアクセス可能と判断すると、図15に示すようにA
GV3ではBUSY信号をHigh状態にしてプローバ
3へその信号を送信し(ステップS38)、プローバ2
に対してウエハWの搬送を開始する。
【0052】次いで、AGV3は図14に示すようにプ
ローバ2からAENB信号をHigh状態で受信したか
否かを判断し(ステップS39)、AGV3ではAEN
B信号を受信していないと判断すると、図15に示すよ
うにプローバ2はAENB信号をHigh状態にして送
信する(ステップS40)。ステップS39においてA
GV3ではAENB信号をHigh状態で受信し、プロ
ーバ2におけるウエハWを検出しロードポート23内の
サブチャック232が上昇状態でアンロード可能である
と判断すると、図16の(a)に示すように下アーム3
41BがAGV3からアダプタ23の真上まで移動する
(ステップS41)。
【0053】次いで、AGV3は真空吸着機構343を
ONしてプローバ2へPENB信号をHigh状態で送
信した後(ステップS42)、プローバ2ではウエハW
がアンロードされて無いことを検出してプローバ2のA
ENB信号がLow状態で且つU_REQ信号がLow
状態であるか否かを判断し(ステップS43)、プロー
バ2においていずれの信号もHigh状態でサブチャッ
ク232がアクセス可能状態である判断すると、図16
の(a)に示すようにアダプタ23が上昇すると共にサ
ブチャック232が下降した後、アーム機構34の下ア
ーム341BでウエハWを真空吸着してウエハWをアダ
プタ23からアーム機構34へ引き渡す(ステップS4
4)。プローバ2ではウエハWが取り除かれたことを検
出すると図15に示すようにU_REQ信号をLow状
態にしてその信号をAGV3へ送信し、ウエハWが取り
除かれたことをAGV3に通知する(ステップS4
5)。引き続き、プローバ2ではAENB信号をLow
状態にしてAGV3へ送信し、アダプタ23にウエハW
がない旨通知する(ステップS46)。
【0054】その後、ステップS43へ戻り、プローバ
2ではアダプタ23のサブチャック232にウエハWの
無くAENB信号がLow状態で且つU_REQ信号が
Low状態であるか否かを判断し、いずれの信号もLo
w状態でアダプタ23でのウエハWのアンロードが終了
したと判断すると、下アーム341Bがロードポート2
3からAGV3へ戻る(ステップS47)。AGV3は
下アーム341Bが戻るとTR_REQ信号、BUSY
信号、PENB信号をいずれもLow状態にしてそれぞ
れの信号をプローバ2へ送信し、アンロード作業が終了
したことをプローバ2に通知した後(ステップS4
8)、AGV3は図15に示すようにCOMPT信号を
High状態にしてプローバ2へ送信し、アンロード作
業の完了を通知する(ステップS49)。
【0055】次いで、AGV3がプローバ2からLow
状態のREADY信号を受信したか否かを判断し(ステ
ップS50)、AGV3がREADY信号を受信してい
ないと判断すると、図14に示すようにプローバ2がR
EADY信号をLow状態して送信する(ステップS5
1)。AGV3がLow状態のREADY信号を受信し
た旨判断すると、図15に示すようにAGV3ではCS
_0信号、VALID信号をLow状態にしてプローバ
3へそれぞれの信号を送信し(ステップS52)、ウエ
ハWの搬送を終了すると共に図16の(b)に示すよう
にアーム機構34を逆方向に90°回転させた後、図1
6の(c)に示すようにサブチャック35が上昇してウ
エハWを下アーム341Bから受け取り、プリアライメ
ントセンサ36でオリフラを検出する。引き続き、同図
の(d)に示すようにサブチャック35が下降して下ア
ーム341BへウエハWを戻し、アーム機構34が上昇
してOCR37でウエハWのIDコードを読み取った
後、同図の(e)に示すように下アーム341Bをキャ
リアC内の元の場所へ収納する。
【0056】以上説明したように本実施形態によれば、
ウエハWの電気的特性検査を行う複数のプローバ2と、
これらのプローバ2に対してそれぞれの要求に応じてウ
エハWを一枚ずつ受け渡すためにキャリア単位でウエハ
Wを自動搬送するAGV3とを備え、プローバ2及びA
GV3は、互いにウエハWを一枚ずつ受け渡すアダプタ
23及びアーム機構34と、これらのアダプタ23及び
アーム機構34を制御するグループコントローラ5及び
AGVコントローラ4と、これらのコントローラ5、4
の制御信号を光信号として送受信するPIO通信インタ
ーフェース11A、11Bとを有するため、PIO通信
インターフェース11A、11Bを介して光通信を行う
ことでアダプタ23及びアーム機構34を制御してAG
V3と複数のプローバ3との間でウエハWを枚葉単位で
の受け渡しを確実に行い、複数のプローバ3を用いてウ
エハWを並行処理してウエハWのTATの短縮を実現す
ることができる。
【0057】また、本実施形態によれば、アダプタ23
は、ウエハWを支持する昇降可能なサブチャック232
と、このサブチャック232上にウエハWを真空吸着す
る真空吸着機構(図示せず)を有し、アーム機構34
は、ウエハWを一枚ずつ搬送する上下二段のアーム34
1A、11Bと、これらのアーム341A、11B上に
ウエハWを真空吸着する真空吸着機構343とを有し、
また、PIO通信インターフェース11A、11Bはア
ダプタ23及びアーム機構34それぞれの真空吸着機構
343を制御するための光信号を送受信する信号ポート
を有するするため、PIO通信インターフェース11
A、11Bを介して光通信を行うことで真空吸着機構3
43を正確に駆動制御してサブチャック232またはア
ーム341A、341BによってウエハWを確実に吸
着、解放してウエハWを正確に受け渡しことができる。
【0058】尚、本発明は上記実施形態に何等制限され
るものではなく、必要に応じて適宜設計変更することが
できる。例えば、本実施形態のプローバ2はローダ室に
簡単な変更を加えるだけで従来と同様にキャリア単位で
も検査を実施することができるようにすることができ
る。また、上記実施形態では半導体製造装置としてプロ
ーバ2を例に挙げて説明したが、本発明はウエハ等の被
処理体に所定の処理を施す半導体製造装置について広く
適用することができる。
【0059】
【発明の効果】本発明の請求項1〜請求項6に記載の発
明によれば、自動搬送装置と複数の半導体製造装置との
間でウエハ等の被処理体を枚葉単位で受け渡しを確実に
行い、被処理体のTATの短縮を実現することができる
被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法を提供
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の被処理体の搬送システムの一
実施形態を示す概念図、(b)はAGVの構成を概念図
である。
【図2】(a)はプローバとAGV間のウエハを受け渡
す状態を概念的に示す平面図、(b)は(a)の要部を
示す断面図である。
【図3】AGVに用いられるアーム機構の真空吸着機構
を示す概念図である。
【図4】図3に示す真空吸着機構を示す回路図である。
【図5】キャリアを利用したウエハのセンタリング方法
を説明するための説明図である。
【図6】プローバに仮想ロードポートを設定した場合の
ウエハの受け渡しを説明するための説明図である。
【図7】図1に示す搬送システムのPIO通信に用いら
れるPIO通信インターフェースを示す構成図である。
【図8】図1に示す搬送システムを用いたウエハの搬送
方法に適用されるウエハのロード方法を示すフローチャ
ートである。
【図9】図8に示すロード方法に適用される光通信のタ
イミングチャートである。
【図10】(a)〜(f)は図8に示すフローチャート
に対応するロード工程を示す工程図である。
【図11】(a)〜(g)は図8に示すフローチャート
に対応するロード工程を示す工程図である。
【図12】(a)〜(e)はプローバ内におけるウエハ
のフローを示す工程図である。
【図13】(a)〜(f)は図8に示すフローチャート
に対応するロード工程を示す工程図である。
【図14】図1に示す搬送システムを用いたウエハの搬
送方法におけるウエハのアンロード方法を示すフローチ
ャートである。
【図15】図14に示すアンロード方法に適用される光
通信のタイミングチャートである。
【図16】(a)〜(e)は図14に示すフローチャー
トに対応するアンロード工程を示す工程図である。
【符号の説明】
E 被処理体の搬送システム C キャリア W ウエハ(被処理体) 2 プローバ(検査装置、半導体製造装置) 3 AGV 4 AGVコントローラ(制御装置) 11A、11B PIO通信インターフェース 23 アダプタ(第1の受け渡し機構) 232 サブチャック(第1の真空吸着機構) 34 アーム機構(第2の受け渡し機構) 341 アーム 343 真空吸着機構(第2の真空吸着機構)
フロントページの続き Fターム(参考) 4M106 AA01 BA01 CA01 DD30 DJ02 DJ07 5F031 CA02 DA08 FA01 FA03 FA07 FA09 FA11 FA12 GA03 GA04 GA08 GA24 GA47 GA48 GA49 GA50 JA04 JA25 JA27 JA34 JA49 KA06 KA07 KA08 KA10 KA18 MA01 MA06 PA01 PA18

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被処理体に対して所定の処理を施す複数
    の半導体製造装置と、これらの半導体製造装置に対して
    それぞれの要求に応じて上記被処理体を一枚ずつ受け渡
    すためにキャリア単位で被処理体を自動搬送する自動搬
    送装置とを備え、上記半導体製造装置及び上記自動搬送
    装置は、互いに上記被処理体を一枚ずつ受け渡す第1、
    第2の受け渡し機構と、第1、第2の受け渡し機構を制
    御する制御装置と、この制御装置の制御信号を光信号と
    して送受信する光結合並列I/O通信インターフェース
    とを有することを特徴とする被処理体の搬送システム。
  2. 【請求項2】 第1の受け渡し機構は、上記被処理体を
    支持する昇降可能な保持体と、この保持体上に上記被処
    理体を真空吸着する第1の真空吸着機構を有し、第2の
    受け渡し機構は、上記被処理体を一枚ずつ搬送するアー
    ムと、このアーム上に上記被処理体を真空吸着する第2
    の真空吸着機構とを有することを特徴とする請求項1に
    記載の被処理体の搬送システム。
  3. 【請求項3】 上記光結合並列I/O通信インターフェ
    ースは第1、第2の真空吸着機構を制御するための光信
    号を送受信する信号ポートを有することを特徴とする請
    求項1または請求項2に記載の被処理体の搬送システ
    ム。
  4. 【請求項4】 光結合並列I/O通信インターフェース
    を介して光通信を行って半導体製造装置の第1の受け渡
    し機構と自動搬送装置の第2の受け渡し機構との間で被
    処理体を一枚ずつ受け渡す方法であって、第1、第2の
    受け渡し機構が上記被処理体の受け渡しに備えて準備す
    る工程と、第2の受け渡し機構が上記被処理体の受け渡
    しのために第1の受け渡し機構へアクセスする工程と、
    第1、第2の受け渡し機構間で上記被処理体を受け渡す
    工程、第2の受け渡し機構が第1の受け渡し機構から退
    避して上記被処理体の受け渡しを終了する工程とを備え
    たことを特徴とする被処理体の搬送方法。
  5. 【請求項5】 光結合並列I/O通信インターフェース
    を介して光通信を行って半導体製造装置の第1の受け渡
    し機構と自動搬送装置の第2の受け渡し機構との間で被
    処理体を一枚ずつ受け渡す方法であって、第1、第2の
    受け渡し機構間で上記被処理体の搬送を開始する時、上
    記自動搬送装置から上記半導体製造装置へその旨通知す
    る工程と、第1の受け渡し機構における上記被処理体の
    有無に基づいて第2の受け渡し機構のアクセス可能を確
    認した時、上記半導体製造装置から上記自動搬送装置へ
    その旨通知する工程と、第1、第2の受け渡し機構間で
    の上記被処理体の搬送、受け渡しを行った時、上記自動
    搬送装置から上記半導体製造装置へその旨通知する工程
    と、第2の受け渡し機構における上記被処理体の有無に
    基づいて第2の受け渡し機構の退避可能を確認した時、
    上記半導体製造装置から上記自動搬送装置へその旨通知
    する工程と、第2の受け渡し機構が第1の受け渡し機構
    から退避して上記被処理体の搬送、受け渡しの終了を確
    認した時、上記自動搬送装置から上記半導体製造装置へ
    その旨通知する工程とを備えたことを特徴とする被処理
    体の搬送方法。
  6. 【請求項6】 上記被処理体の有無の確認を第1の受け
    渡し機構の真空吸着機構を介して行うことを特徴とする
    請求項5に記載の被処理体の搬送方法。
  7. 【請求項7】 上記被処理体の受け渡しの終了の確認を
    第2の受け渡し機構の真空吸着機構を介して行うことを
    特徴とする請求項5または請求項6に記載の被処理体の
    搬送方法。
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