JP7307240B1 - 真空ウエーハ搬送システム - Google Patents
真空ウエーハ搬送システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP7307240B1 JP7307240B1 JP2022106717A JP2022106717A JP7307240B1 JP 7307240 B1 JP7307240 B1 JP 7307240B1 JP 2022106717 A JP2022106717 A JP 2022106717A JP 2022106717 A JP2022106717 A JP 2022106717A JP 7307240 B1 JP7307240 B1 JP 7307240B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- wafer
- transfer
- process chamber
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims abstract description 108
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 99
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 5
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 67
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
12 プロセスチャンバ
12A プロセスチャンバ群
12B プロセスチャンバ群
14 バッファーチャンバ
16 トランスファーチャンバ
18 ウエーハ搬送装置
20 プロセス処理装置
22 ゲートバルブ
24 環境制御装置
26 ゲートバルブ
28 駆動モジュール
30 離間領域
32 駆動部
34 基板自動搬送装置
36 ロボットハンド
38 ロードポート
40 ロードロックチャンバ
42 ゲートバルブ
44 環境制御装置
Claims (3)
- ウエーハが通過するゲートバルブと、内部を真空状態にするための環境制御装置と、を有し、真空環境下において前記ウエーハに対して所定の物理的処理又は化学的処理を実行するプロセスチャンバと、
真空環境下において前記ウエーハを収容可能なバッファーチャンバと、
前記ウエーハを前記プロセスチャンバに送り出し又は前記プロセスチャンバから前記ウエーハを取り出すウエーハ搬送装置と、前記ウエーハが通過するゲートバルブと、を有するトランスファーチャンバと、
を含む真空ウエーハ搬送システムであって、
複数の前記プロセスチャンバが、第一の直線方向に沿って増設可能であり、
前記バッファーチャンバと前記トランスファーチャンバとが連通可能となるように前記第一の直線方向に沿って配置され、前記バッファーチャンバと前記トランスファーチャンバが一体的に駆動する駆動モジュールを構成し、
複数の前記プロセスチャンバが前記第一の直線方向に沿って配置されてなるプロセスチャンバ群を複数群設け、
前記各プロセスチャンバ群同士の間には、所定の離間領域が設けられ、
前記駆動モジュールが前記離間領域に配置される、真空ウエーハ搬送システム。 - 前記トランスファーチャンバが前記プロセスチャンバと接続した後、前記トランスファーチャンバの前記ゲートバルブと前記プロセスチャンバの前記ゲートバルブとの間に挟まれた大気圧状態の微小空間に対して前記プロセスチャンバの前記環境制御装置により真空引きを行い、前記微小空間の圧力が前記トランスファーチャンバの内部圧力と同じ圧力になったタイミングで前記トランスファーチャンバの前記ゲートバルブを開き、その後、前記微小空間の圧力が前記プロセスチャンバの内部圧力と同じ圧力になったタイミングで前記プロセスチャンバの前記ゲートバルブを開いて、前記ウエーハの受け渡しを行う、請求項1に記載の真空ウエーハ搬送システム。
- 前記駆動モジュールを前記第一の直線方向及び前記第一の直線方向に対して直交する第二の直線方向に沿って移動させるための駆動部を有する、請求項1又は2に記載の真空ウエーハ搬送システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022106717A JP7307240B1 (ja) | 2022-06-30 | 2022-06-30 | 真空ウエーハ搬送システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022106717A JP7307240B1 (ja) | 2022-06-30 | 2022-06-30 | 真空ウエーハ搬送システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP7307240B1 true JP7307240B1 (ja) | 2023-07-11 |
JP2024006121A JP2024006121A (ja) | 2024-01-17 |
Family
ID=87072484
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022106717A Active JP7307240B1 (ja) | 2022-06-30 | 2022-06-30 | 真空ウエーハ搬送システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7307240B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7386375B1 (ja) | 2020-11-18 | 2023-11-24 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 分散された入力/出力(io)制御及びインターロックリングアーキテクチャ |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002217263A (ja) | 2001-01-12 | 2002-08-02 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法 |
JP2002313876A (ja) | 2001-04-19 | 2002-10-25 | Murata Mach Ltd | 無人搬送車 |
JP2002313870A (ja) | 2001-04-11 | 2002-10-25 | Canon Inc | ガラス基板移動台車 |
JP2002343847A (ja) | 2001-05-18 | 2002-11-29 | Nec Yamaguchi Ltd | ウェハ搬送装置 |
WO2003073497A1 (fr) | 2002-02-28 | 2003-09-04 | Tokyo Electron Limited | Corps de cuve recevant un milieu a traiter et systeme de traitement |
JP2004363207A (ja) | 2003-06-03 | 2004-12-24 | Advanced Display Inc | 搬送システム及びこれに用いる搬送車とステーション |
KR101310079B1 (ko) | 2012-08-13 | 2013-09-23 | 주식회사 디스닉스 | 도킹구조를 가지는 오토 로더 |
JP2015115517A (ja) | 2013-12-13 | 2015-06-22 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | 基板搬送装置及びefem |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH081923B2 (ja) * | 1991-06-24 | 1996-01-10 | ティーディーケイ株式会社 | クリーン搬送方法及び装置 |
JPH07122616A (ja) * | 1993-10-21 | 1995-05-12 | Ebara Corp | 半導体製造装置 |
US5981399A (en) * | 1995-02-15 | 1999-11-09 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for fabricating semiconductor devices |
JP4029968B2 (ja) * | 2002-07-01 | 2008-01-09 | 株式会社アドバンスト・ディスプレイ | 搬送車、製造装置及び搬送システム |
JP2010080469A (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-08 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置及び真空搬送装置 |
US7897525B2 (en) * | 2008-12-31 | 2011-03-01 | Archers Inc. | Methods and systems of transferring, docking and processing substrates |
JP5159743B2 (ja) * | 2009-10-15 | 2013-03-13 | 株式会社カネカ | Cvd装置 |
JP5938194B2 (ja) * | 2011-11-11 | 2016-06-22 | 株式会社ダイヘン | 基板搬送装置 |
CN114025926A (zh) * | 2019-02-14 | 2022-02-08 | 柿子技术公司 | 模块化材料处理机器人平台 |
KR20220075636A (ko) * | 2020-11-30 | 2022-06-08 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
-
2022
- 2022-06-30 JP JP2022106717A patent/JP7307240B1/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002217263A (ja) | 2001-01-12 | 2002-08-02 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法 |
JP2002313870A (ja) | 2001-04-11 | 2002-10-25 | Canon Inc | ガラス基板移動台車 |
JP2002313876A (ja) | 2001-04-19 | 2002-10-25 | Murata Mach Ltd | 無人搬送車 |
JP2002343847A (ja) | 2001-05-18 | 2002-11-29 | Nec Yamaguchi Ltd | ウェハ搬送装置 |
WO2003073497A1 (fr) | 2002-02-28 | 2003-09-04 | Tokyo Electron Limited | Corps de cuve recevant un milieu a traiter et systeme de traitement |
JP2004363207A (ja) | 2003-06-03 | 2004-12-24 | Advanced Display Inc | 搬送システム及びこれに用いる搬送車とステーション |
KR101310079B1 (ko) | 2012-08-13 | 2013-09-23 | 주식회사 디스닉스 | 도킹구조를 가지는 오토 로더 |
JP2015115517A (ja) | 2013-12-13 | 2015-06-22 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | 基板搬送装置及びefem |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7386375B1 (ja) | 2020-11-18 | 2023-11-24 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 分散された入力/出力(io)制御及びインターロックリングアーキテクチャ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2024006121A (ja) | 2024-01-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9355876B2 (en) | Process load lock apparatus, lift assemblies, electronic device processing systems, and methods of processing substrates in load lock locations | |
US8382088B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
US10468278B2 (en) | Substrate transfer method and substrate processing apparatus | |
JP2011504288A5 (ja) | ||
US20200176288A1 (en) | Systems and Methods for Workpiece Processing | |
KR101155534B1 (ko) | 진공처리장치 | |
JP2012501549A (ja) | 大面積基板処理システム用ロードロックチャンバ | |
KR102164404B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
US9748124B2 (en) | Vacuum processing apparatus and operating method thereof | |
JP7307240B1 (ja) | 真空ウエーハ搬送システム | |
TW201227864A (en) | Vacuum processing apparatus | |
US11923215B2 (en) | Systems and methods for workpiece processing | |
JP7307241B1 (ja) | 基板自動搬送装置 | |
US11862506B2 (en) | Substrate processing system, vacuum substrate transfer module, and substrate transfer method | |
JP5892828B2 (ja) | 真空処理装置 | |
US11817332B2 (en) | Multi-wafer volume single transfer chamber facet | |
KR20040013295A (ko) | 반도체 제조설비 | |
JP4356480B2 (ja) | 搬送装置と半導体製造装置 | |
KR20230146648A (ko) | 워크피스 프로세싱을 위한 시스템 및 방법 | |
KR20230066455A (ko) | 프로세싱 후 기판을 세정하기 위한 방법 및 장치 | |
CN115881590A (zh) | 集成电路设备和半导体器件的制备方法 | |
CN112530830A (zh) | 基片处理***、阀板组件及其基片处理***的工作方法 | |
CN112530829A (zh) | 基片处理***、阀板组件及其基片处理***的工作方法 | |
JPH07115121A (ja) | 排気装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220701 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20220701 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220722 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20220723 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220818 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221022 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20221227 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230408 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230628 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230629 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7307240 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |