JP2002214643A - 液晶表示素子及び電子装置 - Google Patents

液晶表示素子及び電子装置

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JP2002214643A JP2001009325A JP2001009325A JP2002214643A JP 2002214643 A JP2002214643 A JP 2002214643A JP 2001009325 A JP2001009325 A JP 2001009325A JP 2001009325 A JP2001009325 A JP 2001009325A JP 2002214643 A JP2002214643 A JP 2002214643A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶表示素子のドライバとして適用されるシ
フトレジスタを安定動作させる。 【解決手段】 液晶表示素子1の表示領域11は、マト
リクス状に配置されたm×n個の画素を有しており、主
走査方向に伸延するn本のゲートラインGL1〜GLn
と、副走査方向に伸延するm本のデータラインDL1〜
DLmが一方の基板上に形成されている。ゲートライン
GL1〜GLnのそれぞれと、そこに直接的にまたは間
接的に接続されたTFT、画素容量、補償容量などの素
子から構成される回路は分布定数的な電気的特定を有し
ている。液晶表示素子1には、表示領域11のゲートラ
インGL1〜GLnと同等に分布定数的な電気的特性を
有するように構成されたゲートラインGLn+1、GL
n+2が設けられている。ゲートドライバ2は、表示領
域11のゲートラインGLnを選択した次の水平期間
で、ダミー素子領域12のゲートラインGLn+1を選
択する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アクティブマトリ
クス型の液晶表示素子、及び電子装置に関する。
【0002】
【従来の技術】TFT液晶表示装置は、アクティブ素子
としてのTFT(Thin Film Transistor)を画素毎に設
け、このTFTのオン/オフによって画素容量へデータ
を書き込むことによって、所望の画像を表示するもので
ある。このように所望の画像を表示させるために、通
常、TFT液晶表示素子は、ゲートドライバとドレイン
ドライバからなる駆動回路によって構成される。
【0003】ゲートドライバは、TFT液晶表示素子の
ゲートラインを1ラインずつ順次選択していくものであ
り、シフトレジスタが広く用いられている。ゲートドラ
イバを構成するシフトレジスタとして、例えば、特開2
000−35772号公報に記載されているように、T
FTから各段が構成されたものが知られている。このシ
フトレジスタでは、各段の動作は、その前後の段におけ
る回路動作の影響を受ける。
【0004】シフトレジスタの各段から液晶表示素子の
ゲートラインに出力された出力信号は、このゲートライ
ン及びこれに接続されたTFT、画素容量、補償容量が
形成する、分布定数的な特定を有する回路によって減衰
されることとなる。従って、各ゲートライン及びそこに
接続された素子による分布定数的な特性を有する回路
が、シフトレジスタの回路動作にも影響を及ぼすことと
なる。
【0005】ところが、上記公報において、シフトレジ
スタの段数は、TFT液晶表示素子の表示画素のライン
数と同じだけ設けられるものとなっていたため、最後の
段の回路動作は、他の段とは異なり、後ろの段の回路動
作による影響を受けない。従って、最後の段の回路動作
は、それ以前の段の回路動作に対して微妙な差異が生じ
てしまう。さらに、長期間の駆動を行っていると、その
微妙な差異が徐々に前の段にも波及していくことも考え
られ、ゲートドライバを構成するシフトレジスタの動作
が不安定になってしまうという問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点を解消するためになされたものであり、ドラ
イバとして適用されるシフトレジスタを安定動作させる
ことを可能とした液晶表示素子、及びこの液晶表示素子
を適用した電子装置を提供することを目的とする。
【0007】本発明は、また、ドライバとして適用され
るシフトレジスタを安定動作させるために、表示領域外
に形成する素子の面積を小さく抑えた液晶表示素子、及
びこの液晶表示素子を適用した電子装置を提供すること
を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の第1の観点にかかる液晶表示素子は、対向
する一対の基板間に液晶が封入され、マトリクス状に配
置された複数の画素を有するアクティブマトリクス型の
液晶表示素子であって、前記一対の基板の一方には、内
面に共通電極が形成され、前記一対の基板の他方には、
前記マトリクスの主走査方向に伸延して設けられた複数
の走査ラインと、前記マトリクスの副走査方向に伸延し
て設けられた複数のデータラインと、前記複数の画素に
それぞれ含まれ、対応する行の走査ラインに接続された
複数のアクティブ素子と、前記複数の画素にそれぞれ含
まれて当該画素のアクティブ素子に接続され、前記共通
電極及びその間の液晶と共に画素容量を形成する複数の
画素電極と、前記複数のアクティブ素子にそれぞれ接続
された複数の補償容量と、前記複数の画素が形成された
領域の外側に設けられ、各走査ライン及びこれに直接的
または間接的に接続されたアクティブ素子の寄生容量、
画素容量及び補償容量が形成する回路と同等の回路特性
を有する負荷と、が形成されたことを特徴とする。
【0009】上記液晶表示素子では、前記複数の画素が
形成された領域の外側に、各走査ライン及びこれに直接
的または間接的に接続されたアクティブ素子、画素容量
及び補償容量が形成する回路と同等の回路特性を有する
負荷が設けられている。このため、各走査ラインの走査
に用いられるドライバの各段が、前後の段による影響を
受けるものであっても、画素領域中の各走査ラインに対
応する段は、前後の段による影響を受けずに、安定して
動作することが可能となる。このため、各走査ラインの
選択が安定して選択されるものとすることができる。
【0010】また上記液晶表示素子は、補償容量を設け
ず、前記負荷は、各走査ライン及びこれに直接的または
間接的に接続されたアクティブ素子の寄生容量及び画素
容量が形成する回路と同等の回路特性を有するように設
定してもよい。
【0011】上記液晶表示素子において、前記負荷は、
少なくとも1つのダミー走査ラインと、前記ダミー走査
ライン及び前記複数のデータラインの一方に設けられ、
前記ダミー走査ライン及び前記複数のデータラインの他
方と重なるダミー容量電極と、前記ダミー走査ライン及
び前記複数のデータラインの他方と、前記ダミー容量電
極と前記ダミー走査ライン及び前記複数のデータライン
の他方との間に設けられた絶縁膜と、からなるコンデン
サと、を備え、前記コンデンサは、前記各走査ラインに
おける前記アクティブ素子の寄生容量と前記画素容量と
前記補償容量との合成容量にそれぞれ等しくなるように
構成されたものとすることができる。
【0012】ここで、画素容量及び補償容量と同一の構
造のものを負荷としてそれぞれ形成するよりも、これら
の合成容量と等しいダミー容量を形成する方が、基板上
に占める負荷の面積を小さくすることができる。つま
り、画素容量及び補償容量からなる容量並びに走査ライ
ン自身の抵抗によって構成される回路と同等の特性を有
する回路を、ほぼダミー走査ラインの幅のみで非常に小
さく形成することもできる。これにより、画素が形成さ
れる領域、すなわち表示領域の割合を大きくすることが
できる。なお、抵抗値と容量値との調整は、ダミー走査
ラインの幅と、ダミー容量電極の長さを調整することに
よって行うことができる。
【0013】本発明の第1の観点にかかる他の液晶表示
素子は、対向する一対の基板間に液晶が封入され、マト
リクス状に配置された複数の画素を有するアクティブマ
トリクス型の液晶表示素子であって、前記一対の基板の
一方には、内面に共通電極が形成され、前記一対の基板
の他方には、前記マトリクスの主走査方向に伸延して設
けられた複数の走査ラインと、前記マトリクスの副走査
方向に伸延して設けられた複数のデータラインと、前記
複数の画素にそれぞれ含まれ、対応する行の走査ライン
に接続された複数のアクティブ素子と、前記複数の画素
にそれぞれ含まれて当該画素のアクティブ素子に接続さ
れ、前記共通電極及びその間の液晶と共に画素容量を形
成する複数の画素電極と、前記複数のアクティブ素子に
それぞれ接続された複数の補償容量と、前記複数の画素
が形成された領域の外側に設けられ、各走査ライン及び
これに直接的または間接的に接続された画素容量及び補
償容量が形成する回路と同等の回路特性を有する負荷
と、が形成されたものとすることができる。
【0014】すなわち、負荷が各走査ライン及び画素容
量及び補償容量が形成する回路と同等の回路特性を有す
るので、液晶表示素子がダミー走査ラインを構成すると
き、ダミー走査ラインと負荷との間に前記複数のアクテ
ィブ素子と全く同じ寄生容量を有する調整用アクティブ
素子を設ければ、容易にダミー走査ラインは走査ライン
と等しい動作特性にすることができる。このとき、調整
用アクティブ素子は前記アクティブ素子と同一プロセス
で製造することができるので複数のアクティブ素子の寄
生容量測定すること必要がなく、負荷の設計を簡略化す
ることができる。
【0015】また、上記液晶表示素子は、補償容量を設
けず、前記負荷は、各走査ライン及びこれに直接的また
は間接的に接続された画素容量が形成する回路と同等の
回路特性を有するように設定してもよい。
【0016】なお、前記共通電極は、前記負荷に対応す
る位置には形成されていなくてもよい。
【0017】上記目的を達成するため、本発明の第2の
観点にかかる電子装置は、対向する一対の基板間に液晶
が封入され、マトリクス状に配置された複数の画素を有
するアクティブマトリクス型の液晶表示素子を有する電
子装置であって、内面に共通電極が形成された第1の基
板と、前記マトリクスの主走査方向に伸延して設けられ
た複数の走査ラインと、前記マトリクスの副走査方向に
伸延して設けられた複数のデータラインと、前記複数の
画素にそれぞれ含まれ、対応する行の走査ラインに接続
された複数のアクティブ素子と、前記複数の画素にそれ
ぞれ含まれて当該画素のアクティブ素子に接続され、前
記共通電極及びその間の液晶と共に画素容量を形成する
複数の画素電極と、前記複数のアクティブ素子にそれぞ
れ接続された複数の補償容量と、前記複数の画素が形成
された領域の外側に設けられた少なくとも1つのダミー
走査ラインと、前記ダミー走査ライン及び前記複数のデ
ータラインの一方に設けられ、前記ダミー走査ライン及
び前記複数のデータラインの他方と重なるダミー容量電
極と、前記ダミー走査ライン及び前記複数のデータライ
ンの他方と、前記ダミー容量電極と前記ダミー走査ライ
ン及び前記複数のデータラインの他方との間に設けられ
た絶縁膜と、からなり、前記各走査ラインにおける前記
アクティブ素子の寄生容量と前記画素容量と前記補償容
量との合成容量に等しいコンデンサと、を備える液晶表
示素子と、前記複数の走査ライン及び前記負荷を順次選
択して所定の信号を出力する走査ドライバと、前記走査
ドライバによる走査ラインの選択に従って、対応する画
素容量に書き込むための画像データ信号を出力するデー
タドライバと を備えることを特徴とする。
【0018】上記電子装置において、前記走査ドライバ
は、前記複数の走査ラインと前記ダミー走査ラインの数
との合計に等しい段を有するシフトレジスタによって構
成されたものとすることができる。
【0019】したがって、前記複数の走査ラインに走査
する段を正常に動作するための補助的なダミー段をダミ
ー走査ラインに接続し、且つダミー走査ラインの容量を
各走査ラインの容量と等しくすることで、補助的なダミ
ー段に供給する信号を、前記複数の走査ラインに供給す
る信号と同一にしても安定した駆動をすることができる
ので、ダミー段用に新たな電圧値や振幅の信号を設定す
る必要がないので電圧生成回路及び配線設計を簡素化す
ることができる。
【0020】なお、上記電子装置に含まれる液晶表示素
子は、補償容量を設けず、コンデンサは、各走査ライン
におけるアクティブ素子の寄生容量と画素容量との合成
容量に等しくなるように設定しても同様の効果を得るこ
とができる。
【0021】ここで、前記シフトレジスタの各段は、前
記アクティブ素子と同一プロセスで形成された電界効果
トランジスタの組み合わせによって構成されたものであ
ってもよい。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の実施の形態について説明する。
【0023】図1は、この実施の形態にかかる液晶表示
装置の構成を、等価回路図を以て示す図である。図示す
るように、この液晶表示装置は、液晶表示素子1と、ゲ
ートドライバ2と、ドレインドライバ3と、コントロー
ラ4とから構成されている。
【0024】液晶表示素子1は、画素基板とコモン基板
との間に液晶を封入して構成されるものであり、表示領
域11と、ダミー素子領域12とを備えている。画素基
板上には、表示領域11に配されたn本のゲートライン
GL1〜GLnと、ダミー素子領域12に配され、ゲー
トラインGL1〜GLnと同一材料からなり、ゲートラ
インGL1〜GLnと一括してパターニング形成された
2本のダミーゲートライン(ダミー走査ライン)GLn
+1、GLn+2とが、主走査方向(図では、横方向)
に伸延して互いに平行に形成されている。また、m本の
ドレインラインDL1〜DLmが、表示領域11及びダ
ミー素子領域12をまたがって副走査方向(図では、縦
方向)に伸延して互いに平行に形成されている。
【0025】画素基板には、表示領域11においてゲー
トラインGL1〜GLnとドレインラインDL1〜DL
mの交差位置に対応して形成されたマトリクス状の画素
をそれぞれ構成するTFT、画素電極等が設けられてい
る(詳細は後述)。また、ダミー素子領域12におい
て、ダミー素子が設けられている(詳細は後述)。画素
基板では、これらTFT、画素電極、ダミー素子の上に
配向膜が形成されている。一方、コモン基板上には、コ
モン電極と配向膜とが形成されているが、コモン電極
は、表示領域11の範囲にのみ形成されている。
【0026】図2(a)は、表示領域11に形成された
各画素の構造を示す図である。図では、画素基板上に形
成されたもののみを示しているが、実際にはこれにコモ
ン基板のコモン電極が対向している。また、電極や配線
を構成する金属層の間には絶縁層が形成されているが、
図では省略している。図2(b)は、各画素の等価回路
(横方向に隣接する2画素分)を示す図である。
【0027】表示領域11において画素基板上の1番下
の層には、金属材料からなるゲートラインGL(GL1
〜GLn)と、ゲートラインGLと一体に形成されたT
FT111のゲート電極Gが形成されている。また、補
償容量113を形成するための補償電極CEと、補償電
極CEに定電圧を供給する補償電極ラインCLとが一体
に形成される。ゲート電極Gの上には、SiNからなる
ゲート絶縁膜を介して、アモルファスシリコンによって
構成され、TFT111の半導体層を形成するアモルフ
ァスシリコン半導体層a−Siが形成されている。半導
体層の両側には、不純物層を介してソース電極S及びド
レイン電極Dが設けられ、ソース電極Sは、透明のIT
O(Indium Tin Oxide)からなり、画素容量112を形
成するための透明電極TEと接続されている。
【0028】ドレイン電極Dは、ゲートラインGLの延
在方向と直交する方向に延在するデータラインDL(D
L1〜DLm)と一体に形成されている。そして、これ
らTFT111上に再びSiNからなる絶縁保護膜が形
成され、そしてその上に配向膜が設けられることとな
る。透明電極TEは、少なくとも部分的に重なり合うよ
うに対向する位置にある補償電極CEと、この補償電極
CEとの間のゲート絶縁膜と同じ膜とでコンデンサを構
成すると共に補償容量113を形成し、対向する位置に
あるコモン基板側のコモン電極の間の液晶をコンデンサ
としたと共に画素容量112を形成する。
【0029】このようにして形成される構造により、各
画素においては、ゲートラインGLによる配線抵抗11
4と、配線抵抗114にゲートが接続されたアクティブ
素子としてのTFT111と、TFT111のドレイン
に並列に接続された画素容量112と補償容量113と
から回路が構成されることとなる。そして、ゲートライ
ンGL1〜GLnのそれぞれについて、このような各画
素の回路が主走査方向の画素数分だけ接続された分布定
数的な特性を有する電気回路が負荷として構成されるこ
ととなる。
【0030】図3(a)は、ダミー素子領域12に形成
された各ダミー素子の構造を示す図である。このダミー
素子には、表示領域11の画素と異なり、コモン電極は
対向していない。もっとも、この図においても、電極や
配線を構成する金属層の間に形成されている絶縁層は省
略している。図3(b)は、各ダミー素子の等価回路
(横方向に隣接する2つ分)を示す図である。
【0031】ダミー素子領域12において画素基板上の
1番下の層には、ゲートライン(GLn+1、GLn+
2)と、ゲートラインGLと一体に形成されたTFT1
21のゲート電極Gとが形成されている。また、ダミー
容量123を形成するためのダミー容量電極DiE(i
は1〜mのいずれか)と、ダミー容量電極DiEに定電
圧を供給するダミー容量電極ラインDiLとが一体に形
成される。これらは、表示領域11のゲートラインGL
等と同じ金属材料で、同一プロセスにおいて形成されて
いる。
【0032】ゲート電極Gの上には、アモルファスシリ
コンによって構成され、TFT121の半導体層を形成
するアモルファスシリコン半導体層a−Siが形成され
ている。これらの上に、透明のSiNからなる絶縁層が
形成され、さらにその上に、ITOからなり、ダミー容
量電極DiEと共にダミー容量123を形成する透明電
極TEが形成されている。これらも、表示領域11にお
ける対応するものと、同一の材料で同一プロセスにおい
て形成されている。
【0033】その上に、再びSiNからなるゲート絶縁
層が形成され、さらにその上に、金属材料からなるデー
タラインDL(DL1〜DLm:表示領域11のものと
同一)と、データラインDLと一体に形成されたTFT
121のドレイン電極Dと、TFT121のソース電極
Sとが形成されている。ソース電極Sと透明電極TEと
は、コンタクトホールを介して接続されている。そし
て、この上に再びSiNからなる絶縁保護膜が形成され
る。
【0034】ダミー容量123は、ダミー容量電極Di
Eと、透明電極TEと、ダミー容量電極DiEと透明電
極TEとの間のゲート絶縁膜と同一の膜と、から構成さ
れ、このようにして形成される構造により、ダミーゲー
トラインGLによる配線抵抗124と、配線抵抗124
にゲートが接続されたアクティブ素子としてのTFT1
21と、TFT121のドレインに接続されたダミー容
量123からなるダミー素子が構成されることとなる。
【0035】TFT121は、形状、寸法、及びデータ
ラインDLやゲートラインGLとの相対的配置がTFT
111と全く同じため、TFT121における、接続さ
れたデータラインDLとの間に生じる寄生容量やゲート
−ドレイン間の寄生容量は、TFT111における、接
続されたデータラインDLとの間に生じる寄生容量やゲ
ート−ドレイン間の寄生容量に等しい。ダミー容量12
3は、表示領域11における画素容量112と補償容量
113との合成容量に等しくなるように形成されてい
る。そして、ゲートラインGLn+1、GLn+2のそ
れぞれについて、このようなダミー素子が主走査方向の
画素数分だけ接続された分布定数的な特性を有する電気
回路が負荷として構成されるが、これらはGL1〜GL
nのそれぞれの負荷と同じ特性を有するものとなる。
【0036】ゲートドライバ2は、詳細を後述するシフ
トレジスタによって構成され、コントローラ4からの制
御信号群Gcntに従って、ゲートラインGL1〜GL
n+1に順次ハイレベルの選択信号を出力する。ドレイ
ンドライバ3は、コントローラ4からの制御信号群Dc
ntに従って、同じくコントローラ4から供給される画
像データ信号Dataを1ライン分蓄積し、所定のタイ
ミングでドレインラインDL1〜DLmに出力する。な
お、ゲートドライバ2のa−Si又はp−Siからなる
半導体層を有するTFT201〜206は、画素基板上
に、液晶表示素子1の表示領域11のTFT111及び
ダミー素子領域12のTFT121と同一プロセスで形
成される。コントローラ4は、ゲートドライバ2に制御
信号群Gcntを供給すると共に、ドレインドライバ3
に制御信号群Dcntと画像データ信号Dataとを供
給する。
【0037】図4は、ゲートドライバ2を構成するシフ
トレジスタの回路構成を示す図である。図示するよう
に、このシフトレジスタは、表示領域11に配されたn
本のゲートラインGL1〜GLnと、ダミー素子領域1
2に配された2本のゲートラインGLn+1、GLn+
2とにそれぞれ対応するn+2個の段200(1)〜2
00(n+2)から構成されている。
【0038】制御信号群Gcntに含まれる信号とし
て、コントローラ4からクロック信号CK1、CK2、
スタート信号Dst、終了信号Dend、正の電圧レベ
ルを有する電源電圧Vdd、及び負の電圧レベルを有す
る基準電圧Vssが供給されている。各段200(1)
〜200(n+2)の構成はほぼ同じであるため、1番
目の段200(1)を例に採って説明すると、当該段内
には、6個のnチャネル型の電界効果トランジスタであ
るTFT201〜206が形成されている。
【0039】TFT201のゲートには、スタート信号
Dstが供給され、ドレインには、電源電圧Vddが常
時供給されている。TFT201のソースは、TFT2
02のゲートと、TFT205のゲートとに接続されて
いる。このTFT201のソース、TFT202のゲー
ト及びTFT205のゲートで囲まれた配線を、ノード
A1と呼ぶ(なお、2段目以降は、それぞれA2〜An
+2とする)。ハイレベルのスタート信号Dstが供給
されてTFT201がオンすると、ノードA1に電荷が
蓄積される。
【0040】TFT202のドレインには、クロック信
号CK1が供給され、TFT202がオンしている際
に、クロック信号CK1のレベルがほぼそのまま出力信
号OUTとして、そのソースから1番目のゲートライン
GL1に出力される。また、TFT202のソースは、
TFT203のドレインに接続されている。
【0041】TFT204のゲートとドレインとには、
電源電圧Vddが供給され、常にオン状態となってい
る。TFT204は、電源電圧Vddを供給する際の負
荷として機能し、そのソースから電源電圧Vddをほぼ
そのままTFT205のドレインに供給する。TFT2
04は、TFT以外の抵抗素子などに置き換えることも
可能である。TFT205のソースには、基準電圧Vs
sが供給されており、TFT205がオンした際に、T
FT204のソースとTFT205のドレインとの間に
蓄積された電荷を放出させる。
【0042】TFT206のゲートには、次の段である
2番目の段200(2)の出力信号OUT2が供給され
る。TFT206のドレインはノードA1に接続されて
おり、ソースには基準電圧Vssが供給されている。出
力信号OUT2がハイレベルとなるとTFT206がオ
ンし、ノードA1に蓄積されている電荷を放出させる。
【0043】他の奇数番目の段200(3),200
(5),…,200(n+1)の構成は、TFT201
のゲートに前の段の出力信号OUT2,OUT4,…,
OUTnが供給される以外は、1番目の段200(1)
と同じである。最後の段段以外の偶数番目の段200
(2),200(4),…,200(n)の構成は、T
FT201のゲートに前の段の出力信号OUT1,OU
T3,…,OUTnが供給され、TFT202のドレイ
ンにクロック信号CK2が供給される以外は、1番目の
段200(1)と同じである。最後の段200(n+
2)の構成は、TFT201のゲートに前の段の出力信
号OUTn+1が供給され、TFT206のゲートに制
御信号群Gcntに含まれる終了信号Dendが供給さ
れる以外は、1番目の段200(1)と同じである。
【0044】以下、この実施の形態にかかる液晶表示装
置における動作について説明する。図5は、ゲートドラ
イバ2を構成するシフトレジスタの動作を示すタイミン
グチャートである。このタイミングチャートにおいて、
Tの期間が、液晶表示素子1における1水平期間とな
る。また、各水平期間において、ドレインドライバ3
は、コントローラ4からの制御信号群Dcntに従っ
て、当該水平期間の次の水平期間に対応する1ライン分
の画像データ信号Dataを取り込んでいる。
【0045】まず、タイミングT0からタイミングT1
までの間でスタート信号Dstがハイレベルとなり、1
番目の段200(1)のTFT201がオンし、1番目
の段200(1)のノードA1に電荷が蓄積される。こ
れにより、TFT202、205がオンし、TFT20
3がオフする。次に、タイミングT1においてクロック
信号CK1がハイレベルに変化すると、この信号のレベ
ルがほぼそのまま出力信号OUT1として表示領域11
の1番目のゲートラインGL1に出力される。
【0046】ゲートラインGL1に出力された出力信号
OUT1は、ゲートラインGL1及びこれに直接的また
は間接的に接続された各素子が構成する回路によって減
衰されるが、ゲートラインGL1に接続された全てのT
FT111をオン状態とするのに十分なレベルがある。
ゲートラインGL1に接続された各TFT111がオン
しているタイミングで、ドレインドライバ3は、ゲート
ラインGL1に対応する画素の画像データ信号をドレイ
ンラインDL1〜DLmにそれぞれ出力する。これによ
り、ゲートラインGL1に対応する画素容量112に画
像データ信号が書き込まれるが、補償容量113を設け
たことによってTFT111に起因する減衰を小さく抑
えることができる。
【0047】また、タイミングT1からT2の間でハイ
レベルの出力信号OUT1が2番目の段200(2)の
TFT201に供給されると、2番目の段200(2)
のノードA2に電荷が蓄積され、TFT202、205
がオンし、TFT203がオフする。次に、タイミング
T2においてクロック信号CK2がハイレベルに変化す
ると、この信号のレベルがほぼそのま出力信号OUT2
として表示領域11の2番目のゲートラインGL2に出
力される。
【0048】ゲートラインGL2に出力された出力信号
OUT2により、上記と同様にしてゲートラインGL2
に接続された全てのTFT111がオン状態となり、ド
レインドライバ3からドレインラインDL1〜DLmに
出力された画像データ信号がゲートラインGL2に対応
する画素容量112に書き込まれる。出力信号OUT2
は、また、1番目の段200(1)のTFT206に供
給され、TFT206をオン状態とさせることにより、
1番目の段200(1)のノードA1に蓄積された電荷
を放出させる。このとき、出力信号OUT2のゲートラ
インGL2の出力による減衰の影響を、1番目の段20
0(1)のTFT206も受けることとなる。
【0049】タイミングT3以降も同様の動作を繰り返
し、タイミングTn−1からTnの間で前の段の出力信
号がn番目の段200(n)のTFT201に供給され
ると、n番目の段200(n)のノードAnに電荷が蓄
積され、TFT202、205がオンし、TFT203
がオフする。次に、タイミングTnにおいてクロック信
号CK2がハイレベルに変化すると、この信号のレベル
がほぼそのまま出力信号OUTnとして表示領域11の
n番目のゲートラインGLnに出力される。
【0050】ゲートラインGLnに出力された出力信号
OUTnにより、上記と同様にしてゲートラインGLn
に接続された全てのTFT111がオン状態となり、ド
レインドライバ3からドレインラインDL1〜DLmに
出力された画像データ信号がゲートラインGLnに対応
する画素容量112に書き込まれる。出力信号OUTn
は、また、n−1番目の段200(n−1)のTFT2
06に供給され、TFT206をオン状態とさせること
により、n−1番目の段200(n−1)のノードAn
−1に蓄積された電荷を放出させる。
【0051】さらに、タイミングTnからTn+1の間
で出力信号OUTnがn+1番目の段200(n+1)
のTFT201に供給されることにより、n+1番目の
段200(n+1)のノードAn+1に電荷が蓄積さ
れ、TFT202、205がオンし、TFT203がオ
フする。次に、タイミングTn+1においてクロック信
号CK1がハイレベルに変化すると、この信号のレベル
がほぼそのまま出力信号OUTn+1としてダミー素子
領域12のn+1番目(ダミー素子領域12に限れば1
番目)のゲートラインGLn+1に出力される。
【0052】ゲートラインGLn+1に出力された出力
信号OUTn+1により、ゲートラインGLn+1に接
続された全てのTFT121がオン状態となる。これに
より、ゲートラインGLn+1及びこれに直接的または
間接的に接続された素子が構成する負荷は、上記したゲ
ートラインGL1〜GLnのものと同等になる。出力信
号OUT2は、ゲートラインGLn+1及びこれに接続
された素子からなる負荷によって減衰されながら、n番
目の段200(n)のTFT206に供給され、TFT
206をオン状態とさせることにより、n番目の段20
0(n)のノードAnに蓄積された電荷を放出させる。
【0053】また、タイミングTn+1からTn+2の
間では出力信号OUTn+1がn+2番目の段200
(n+2)のTFT201に供給され、n+2番目の段
200(n+2)のノードAn+2に電荷が蓄積され
る。そして、タイミングTn+2においてクロック信号
CK2がハイレベルに変化すると、この信号のレベルが
ほぼそのまま出力信号OUTn+2としてダミー素子領
域12のn+2番目(ダミー素子領域12に限れば2番
目)のゲートラインGLn+2に出力される。出力信号
OUTn+2は、ゲートラインGLn+2及びこれに接
続された素子からなる負荷によって減衰されながら、n
+1番目の段200(n+1)のTFT206に供給さ
れ、n+1番目の段200(n+1)のノードAn+1
に蓄積された電荷を放出させる。
【0054】さらに、タイミングTn+3になると、コ
ントローラ4からの制御信号群Gcntとしてハイレベ
ルの終了信号Dendがn+2番目の段200(n+
2)のTFT206に供給され、TFT206がオンす
る。これにより、n+2番目の段200(n+2)のノ
ードAn+2に蓄積された電荷が放出される。以下、垂
直期間毎に上記のような動作を繰り返していく。
【0055】以上説明したように、この実施の形態にか
かる液晶表示装置では、液晶表示素子1において表示領
域11の外側にダミー素子領域12を設けている。ダミ
ー素子領域12には、表示領域11の各ゲートラインG
L1〜GLn及びこれに直接または間接に接続される素
子による負荷と同じ分布定数的な特性を有する負荷が、
ゲートラインGLn+1、GLn+2のそれぞれについ
て構成されることとなる。そして、ゲートドライバ2を
構成するシフトレジスタは、ダミー素子領域12にある
ゲートラインGLn+1、GLn+2についても同じよ
うに走査している。
【0056】このため、ゲートラインGLn+1、GL
n+2のそれぞれの負荷並びにトランジスタ構成がゲー
トラインGL1〜GLnのそれぞれの負荷並びにトラン
ジスタ構成と等しいので、ゲートラインGLn+1、G
Ln+2にそれぞれ供給される信号、電圧として、ゲー
トラインGL1〜GLnにそれぞれ供給される所定の振
幅の信号CK1、CK2や電圧Vdd、Vssを利用す
ることができる。また、ダミー段200(n+1)、2
00(n+2)用に新たな電圧値や振幅の信号を設定す
る必要がないので電圧生成回路及び配線設計を簡素化す
ることができる。そして、表示領域11で最終のゲート
ラインGLnに対応するシフトレジスタのn+1、n+
2番目のダミー段200(n+1)、200(n+2)
が安定に動作できるので、n番目の段200(n)も、
それより前の段と同様の動作特性を有するものとなり、
画像の表示のために必要なシフトレジスタの動作を安定
化させることができる。
【0057】また、ダミー素子領域12に形成されてい
る各ダミー素子120は、表示領域11に形成されてい
る各画素の画素容量112と補償容量113との合成容
量に等しいダミー容量123を有している。ダミー容量
123は、表示のために必要なものではないので画素開
口率を考慮する必要がなく、同一の基板上にあるため画
素容量112よりも電極間の間隔が小さいので、画素容
量112よりも必要な面積を小さくすることができる。
このため、ダミー素子領域12に表示領域11の各ゲー
トラインGL1〜GLnの負荷と同等の負荷を形成する
ために必要となる面積を小さくすることができ、表示領
域11の面積を相対的に大きくすることができる。
【0058】本発明は、上記の実施の形態に限られず、
種々の変形、応用が可能である。以下、本発明に適用可
能な上記の実施の形態の変形態様について説明する。
【0059】上記の実施の形態では、ダミー素子領域1
2におけるゲートラインGLn+1、GLn+2は、表
示領域11におけるゲートラインGL1〜GLnと同じ
幅に構成して配線抵抗124が配線抵抗114と同じ抵
抗値を有するものとし、画素容量112と補償容量11
3の合成容量に等しいダミー容量123を形成すること
で、ダミー素子120を構成するものとしていた。しか
しながら、ダミー素子120の構成はこれに限られるも
のではない。
【0060】図6(a)は、ダミー素子の他の構造を示
す図である。このダミー素子にもコモン電極は対向して
いない。また、この図においても、電極や配線を構成す
る金属層の間に形成されている絶縁層は省略している。
図6(b)は、各ダミー素子の等価回路(横方向に隣接
する2つ分)を示す図である。すなわち、各ダミー容量
133は、図2(a)に示す画素を有する液晶表示装置
において、TFT111のゲートラインGLとの寄生容
量、ドレインラインDLとの寄生容量からなるTFT
(アクティブ素子)111の寄生容量と、画素容量11
2の容量と、補償容量113の容量と、の合成容量とな
るように設定されている。
【0061】この場合には、ダミー素子領域12におい
て画素基板上の1番下の層には、ゲートラインGL1〜
GLnと同一材料からなり、ゲートラインGL1〜GL
nと一括してパターニング形成され、各ゲートラインG
L1〜GLnとそれぞれ等しい容量の2本のダミーゲー
トラインGLn+1、GLn+2が形成されている。ゲ
ートラインGLの上には、SiNからなる絶縁層が1層
以上形成され、その上にデータラインDL(DL1〜D
Lm:表示領域11のものと同一)と、各データライン
DLには、各データラインDLと一体に形成され、ダミ
ーゲートラインGLn+1、GLn+2に向けて突出す
るダミー容量電極DiE(iは1〜mのいずれか)が形
成されている。ダミー容量電極DiEとダミーゲートラ
インGLn+1、GLn+2との重なり部分によってダ
ミー容量133が形成される。すなわち、各データライ
ンDLi(iは1〜mのいずれか)は、ダミーゲートラ
インGLと交差する箇所毎にでダミー容量電極DiEと
接続されている。
【0062】このように形成される構造により、ダミー
ゲートラインGLn+1、GLn+2のダミー容量電極
DiEと重ならない部分による配線抵抗134と、これ
に接続されたダミー容量133とからなるダミー素子が
構成されることとなる。配線抵抗134の抵抗値とダミ
ー容量133の容量値とは、ダミーゲートラインGLn
+1、GLn+2の幅wd1とダミー容量電極DiEの
長さln1を調整することによって、調整される。そし
て、ダミーゲートラインGLn+1、GLn+2のそれ
ぞれについて、このようなダミー素子が主走査方向の画
素数分だけ接続された負荷が構成されるが、これらはゲ
ートラインGL1〜GLnのそれぞれの負荷と同等の分
布定数的な電気特性を有するものとなる。
【0063】これによっても、ゲートドライバ2を構成
するシフトレジスタのn番目の段200(n)を、それ
より前の段と同様に安定して動作させることが可能とな
る。また、以上のような構成を有するダミー素子は、上
記の実施の形態で示したダミー素子よりも、さらに小さ
く構成することが可能となる。このため、液晶表示素子
1における表示領域11の面積の割合を、上記の実施の
形態よりもさらに大きくすることが可能となる。
【0064】上記の実施の形態では、ダミー素子領域1
2には、2本のゲートラインGLn+1、GLn+2を
設けるものとしていた。しかしながら、任意の数のゲー
トラインをダミー素子領域12に付加するものとするこ
とができる。ダミー素子領域12におけるゲートライン
の数を多くすれば多くするほど、ゲートドライバ2を構
成するシフトレジスタを安定動作させることができ、少
なくすれば少なくするほど、表示領域11の面積比を大
きくすることができる。ここで、ダミー素子領域12に
どれくらいの数のゲートラインを形成するかは、回路の
安定動作と表示領域の面積との間のバランスによって選
ぶことができる。
【0065】また、上記実施の形態で示した図6(a)
のダミー容量電極DiEの代わりに図6(c)に示すよ
うに、ダミーゲートラインGLn+1、GLn+2と一
体的に設けられたダミー容量電極GjE(jは1〜mの
いずれか)としてもよい。すなわち、ダミーゲートライ
ンGLn+1、GLn+2のそれぞれは、データライン
DL1、DL2、DL3、……、DLmと交差する箇所
毎に設けられたダミー容量電極G1E、G2E、G3
E、……、GmEと接続されている。ここでデータライ
ンDLの幅の長さをwd2とし、ダミー容量電極GjE
の縦方向(DLデータラインの延在方向)の長さをln
2とすると、ダミー容量電極GjEにおけるデータライ
ンDLとの重なり部分の面積(wd2×ln2)は、上
記実施の形態における面積(wd1×ln1)に等しい
ように設計されている。
【0066】なお、ダミー容量電極GjEは、ダミーゲ
ートラインGLに跨って2箇所に設けられているが、上
記のような面積に設定されれば、図6(a)のようにど
ちらか一方のみに設けてもよい。同様に、図6(a)に
示すダミー容量電極DiEは、データラインDLに跨っ
て横方向(ダミーゲートラインGLの延在方向)の2箇
所に設けてもよい。
【0067】また、上記各実施形態では液晶表示装置に
ついて説明したが、ゲートドライバ2の構成を撮像素子
のゲートドライバに応用することができる。
【0068】図7は、第3の実施の形態における、フォ
トセンサとしてダブルゲートトランジスタを適用した撮
像素子を有する撮像装置の構成を示すブロック図であ
る。この撮像装置は、例えば指紋センサとして使用され
るもので、図示するように、コントローラ70、撮像素
子71、トップゲートドライバ72、ボトムゲートドラ
イバ73及びドレインドライバ74から構成されてい
る。
【0069】トップゲートドライバ72は、撮像素子領
域71aに設けられたトップゲートラインTGL1〜T
GLnと接続され、ダミー素子領域71bに設けられた
ダミートップゲートラインTGLn+1、TGLn+2
と接続され、図4に示すシフトレジスタと同一の構成か
らなる。一方、ボトムゲートドライバ73は、撮像素子
領域71aに設けられたボトムゲートラインBGL1〜
BGLnと接続され、ダミー素子領域71bに設けられ
たダミーボトムゲートラインBGLn+1、BGLn+
2と接続され、図4に示すシフトレジスタと同一の構成
からなる。
【0070】撮像素子71は、マトリクス状に配置され
た複数のダブルゲートトランジスタ81で構成される。
ダブルゲートトランジスタ81のトップゲート電極91
はトップゲートラインTGLに、ボトムゲート電極92
はボトムゲートラインBGLに、ドレイン電極93はド
レインラインDLに、ソース電極94は接地されたグラ
ウンドラインGrLにそれぞれ接続されている。撮像素
子71の下方には、ダブルゲートトランジスタ81の半
導体層を励起する波長域の光は発光するバックライトが
載置されている。
【0071】このような各トップゲートラインTGL1
〜TGLnの合成容量は、接続されたダブルゲートトラ
ンジスタ81における、トップゲート電極91とドレイ
ン電極93との間の寄生容量Ctgd、トップゲート電
極91とソース電極94との間の寄生容量Ctgs、ト
ップゲート電極91とボトムゲート電極92との間の寄
生容量Cge、並びにトップゲートラインTGLとボト
ムゲートラインBGLとの間の重なり容量Cglの和と
なる。各ダミートップゲートライン(ダミー走査ライ
ン)TGLn+1、GLn+2は、各トップゲートライ
ンTGL1〜TGLnの上記合成容量と等しくなるよう
に、交差するドレインラインDLとの間の重なり面積
を、図6(a)又は図6(c)のようにすることで設定
されている。
【0072】そして、各ボトムゲートラインBGL1〜
BGLnの合成容量は、接続されたダブルゲートトラン
ジスタ81における、ボトムゲート電極91とドレイン
電極93との間の寄生容量Cbgd、ボトムゲート電極
91とソース電極94との間の寄生容量Cbgs、ボト
ムゲート電極91とボトムゲート電極92との間の寄生
容量Cge、並びにボトムゲートラインBGLとボトム
ゲートラインBGLとの間の重なり容量Cglの和とな
る。各ダミーボトムゲートライン(ダミー走査ライン)
BGLn+1、GLn+2は、各ボトムゲートラインB
GL1〜BGLnの上記合成容量と等しくなるように、
交差するドレインラインDLとの間の重なり面積を、図
6(a)又は図6(c)のようにすることで設定されて
いる。
【0073】撮像素子71を構成するダブルゲートトラ
ンジスタ81は、トップゲート電極91に印加されてい
る電圧が+25(V)で、ボトムゲート電極92に印加
されている電圧が0(V)であると、トップゲート電極
91と半導体層との間に配置される窒化シリコンからな
るゲート絶縁膜と半導体層とに蓄積されている正孔が吐
出され、リセットされる。ダブルゲートトランジスタ8
1は、ソース、ドレイン電極93、94間が0(V)
で、トップゲート電極91に印加されている電圧が−1
5(V)で、ボトムゲート電極92に印加されている電
圧が0(V)となり、半導体層への光の入射によって発
生した正孔−電子対のうちの正孔が上記半導体層及び上
記ゲート絶縁膜に蓄積されるフォトセンス状態となる。
この所定期間に蓄積される正孔の量は光量に依存してい
る。
【0074】フォトセンス状態において、バックライト
がダブルゲートトランジスタ81に向け光を照射する
が、このままではダブルゲートトランジスタ81の半導
体層の下方の位置するボトムゲート電極92が遮光する
ので半導体層には十分なキャリアが生成されない。この
とき、ダブルゲートトランジスタ81上方の絶縁膜上に
指を載置すると、指の凹部(指紋形状を決める溝にあた
る)の直下にあたるダブルゲートトランジスタ81の半
導体層には、絶縁膜等で反射された光があまり入射され
ない。
【0075】このように光の入射量が少なくて十分な量
の正孔が半導体層内に蓄積されずに、トップゲート電極
91に印加されている電圧が−15(V)で、ボトムゲ
ート電極92に印加されている電圧が+10(V)とな
ると、半導体層内に空乏層が広がり、nチャネルがピン
チオフされ、半導体層が高抵抗となる。一方、フォトセ
ンス状態において指の凸部(指の溝と溝の間の山)の直
下にあたるダブルゲートトランジスタ81の半導体層に
は、絶縁膜等で反射された光が入射され十分な量の正孔
が半導体層内に蓄積された状態で、このような電圧が印
加された場合は、蓄積されている正孔がトップゲート電
極91に引き寄せられて保持されることにより、半導体
層のボトムゲート電極92側にnチャネルが形成され、
半導体層が低抵抗となる。これらの読み出し状態におけ
る半導体層の抵抗値の違いが、ドレインラインDLの電
位の変化となって現れる。
【0076】トップゲートドライバ72は、撮像素子7
1のトップゲートラインTGLに接続され、コントロー
ラ70からの制御信号群Tcntに従って、各トップゲ
ートラインTGLに+25(V)または−15(V)の
信号を選択的に出力する。トップゲートドライバ72
は、出力信号のレベルの相違、これに応じた入力信号の
レベルの相違、並びに出力信号及び入力信号の位相の違
いを除き、上記したゲートドライバ52を構成するシフ
トレジスタと実質的に同一の構成を有している。
【0077】ボトムゲートドライバ73は、撮像素子7
1のボトムゲートラインBGLに接続され、コントロー
ラ70からの制御信号群Bcntに従って、各ボトムゲ
ートラインBGLに+10(V)または0(V)の信号
を出力する。ボトムゲートドライバ73は、出力信号の
レベルの相違、これに応じた入力信号のレベルの相違、
並びに出力信号及び入力信号の位相の違いを除き、上記
したゲートドライバ52を構成するシフトレジスタと実
質的に同一の構成を有している。
【0078】ドレインドライバ74は、撮像素子71の
ドレインラインDLに接続され、コントローラ70から
の制御信号群Dcntに従って、後述する所定の期間に
おいて全てのドレインラインDLに定電圧(+10
(V))を出力し、電荷をプリチャージさせる。ドレイ
ンドライバ74は、プリチャージの後の所定の期間にお
いてダブルゲートトランジスタ81の半導体層に光の入
射、非入射に応じてチャネルが形成されているか否かに
よって変化する各ドレインラインDLの電位を読み出
し、画像データDATAとしてコントローラ70に供給
する。
【0079】コントローラ70は、制御信号群Tcn
t、Bcntによってそれぞれトップゲートドライバ7
2、ボトムゲートドライバ73を制御して、両ドライバ
72、73からライン毎に所定のタイミングで所定レベ
ルの信号を出力させる。これにより、撮像素子71の各
ラインを順次リセット状態、フォトセンス状態、読み出
し状態とさせる。コントローラ70は、また、制御信号
群Dcntによりドレインドライバ74にドレインライ
ンDLの電位変化を読み出させ、画像データDATAと
して順次取り込んでいく。
【0080】上記の各実施の形態では、本発明のアクテ
ィブ素子としてTFTを適用した場合を例として説明し
たが、MIM(Metal Insulator Metal)等の他のアク
ティブ素子も適用することができる。また、液晶表示素
子や撮像素子と同一の基板上にゲートドライバ、ドレイ
ンドライバが形成された電子装置だけでなく、別途形成
され、液晶表示素子や撮像素子に取り付けられた電子装
置にも本発明を適用することができる。
【0081】なお、上記各実施の形態では、ダミー素子
領域12のゲートラインGLn+1、GLn+2のそれ
ぞれの負荷の一部として補償容量が設けられているが、
表示領域11に配されたn本のゲートラインGL1〜G
Lnにそれぞれ接続された画素に補償電極CEが設けら
れていない構造でのダミー素子領域12のゲートライン
GLn+1、GLn+2のそれぞれの負荷は、上記各実
施の形態でのダミー素子領域12のゲートラインGLn
+1、GLn+2のそれぞれの負荷から各画素の補償容
量が除かれたものに相当するように設定すればよい。
【0082】なお、上記各実施の形態では、ダミー素子
領域12のゲートラインGLn+1、GLn+2の2本
を設けたが、ゲートラインGLn+1の1本のみとし、
ゲートドライバ2も段200(1)〜200(n+1)
とした構成にしてもよい。
【0083】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
走査ドライバによる画素の走査を安定して行うことがで
きるようになる。
【0084】また、画素容量と補償容量の合成容量と等
しい容量を形成したり、走査ラインとデータラインの一
方に容量電極を設けて所定の容量を形成したりすること
により、表示領域外に設ける負荷の面積を小さくするこ
とができ、相対的に表示領域の面積を大きくすることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態にかかる液晶表示装置の構
成を示す図である。
【図2】(a)は、図1の表示領域に形成された各画素
の構造を示す図であり、(b)は、その等価回路図であ
る。
【図3】(a)は、図1のダミー素子領域に形成された
各ダミー素子の構造を示す図であり、(b)は、その等
価回路図である。
【図4】図1のゲートドライバを構成するシフトレジス
タの回路構成を示す図である。
【図5】図4のシフトレジスタの動作を示すタイミング
チャートである。
【図6】(a)は、ダミー素子の他の構造を示す図であ
り、(b)は、その等価回路図であり、(c)は、ダミ
ー素子のさらに他の構造を示す図である。
【図7】本発明の実施の形態にかかる撮像装置の構成を
示すブロック図である。
【符号の説明】
1・・・液晶表示素子、2・・・ゲートドライバ、3・・・ドレ
インドライバ、4・・・コントローラ、11・・・表示領域、
12・・・ダミー素子領域、110・・・画素、111・・・T
FT、112・・・画素容量、113・・・補償容量、114
・・・配線抵抗、120・・・ダミー素子、121・・・TF
T、123・・・ダミー容量、124・・・配線抵抗、133
・・・ダミー容量、134・・・配線抵抗、200・・・段、2
01〜206・・・TFT
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H092 JA25 JA26 JA34 JA37 JA41 JB22 JB31 JB68 NA07 NA11 2H093 NC22 NC34 NC35 NC62 ND34 ND37 ND58 5C094 AA53 BA03 BA43 CA19 EA04 EA07 FB19

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】対向する一対の基板間に液晶が封入され、
    マトリクス状に配置された複数の画素を有するアクティ
    ブマトリクス型の液晶表示素子であって、 前記一対の基板の一方には、内面に共通電極が形成さ
    れ、 前記一対の基板の他方には、 前記マトリクスの主走査方向に伸延して設けられた複数
    の走査ラインと、 前記マトリクスの副走査方向に伸延して設けられた複数
    のデータラインと、 前記複数の画素にそれぞれ含まれ、対応する行の走査ラ
    インに接続された複数のアクティブ素子と、 前記複数の画素にそれぞれ含まれて当該画素のアクティ
    ブ素子に接続され、前記共通電極及びその間の液晶と共
    に画素容量を形成する複数の画素電極と、 前記複数のアクティブ素子にそれぞれ接続された複数の
    補償容量と、 前記複数の画素が形成された領域の外側に設けられ、各
    走査ライン及びこれに直接的または間接的に接続された
    アクティブ素子の寄生容量、画素容量及び補償容量が形
    成する回路と同等の回路特性を有する負荷と、が形成さ
    れたことを特徴とする液晶表示素子。
  2. 【請求項2】対向する一対の基板間に液晶が封入され、
    マトリクス状に配置された複数の画素を有するアクティ
    ブマトリクス型の液晶表示素子であって、 前記一対の基板の一方には、内面に共通電極が形成さ
    れ、 前記一対の基板の他方には、 前記マトリクスの主走査方向に伸延して設けられた複数
    の走査ラインと、 前記マトリクスの副走査方向に伸延して設けられた複数
    のデータラインと、 前記複数の画素にそれぞれ含まれ、対応する行の走査ラ
    インに接続された複数のアクティブ素子と、 前記複数の画素にそれぞれ含まれて当該画素のアクティ
    ブ素子に接続され、前記共通電極及びその間の液晶と共
    に画素容量を形成する複数の画素電極と、 前記複数の画素が形成された領域の外側に設けられ、各
    走査ライン及びこれに直接的または間接的に接続された
    アクティブ素子の寄生容量及び画素容量が形成する回路
    と同等の回路特性を有する負荷と、が形成されたことを
    特徴とする液晶表示素子。
  3. 【請求項3】対向する一対の基板間に液晶が封入され、
    マトリクス状に配置された複数の画素を有するアクティ
    ブマトリクス型の液晶表示素子であって、 前記一対の基板の一方には、内面に共通電極が形成さ
    れ、 前記一対の基板の他方には、 前記マトリクスの主走査方向に伸延して設けられた複数
    の走査ラインと、 前記マトリクスの副走査方向に伸延して設けられた複数
    のデータラインと、 前記複数の画素にそれぞれ含まれ、対応する行の走査ラ
    インに接続された複数のアクティブ素子と、 前記複数の画素にそれぞれ含まれて当該画素のアクティ
    ブ素子に接続され、前記共通電極及びその間の液晶と共
    に画素容量を形成する複数の画素電極と、 前記複数のアクティブ素子にそれぞれ接続された複数の
    補償容量と、 前記複数の画素が形成された領域の外側に設けられ、各
    走査ライン及びこれに直接的または間接的に接続された
    画素容量及び補償容量が形成する回路と同等の回路特性
    を有する負荷と、が形成されたことを特徴とする液晶表
    示素子。
  4. 【請求項4】対向する一対の基板間に液晶が封入され、
    マトリクス状に配置された複数の画素を有するアクティ
    ブマトリクス型の液晶表示素子であって、 前記一対の基板の一方には、内面に共通電極が形成さ
    れ、 前記一対の基板の他方には、 前記マトリクスの主走査方向に伸延して設けられた複数
    の走査ラインと、 前記マトリクスの副走査方向に伸延して設けられた複数
    のデータラインと、 前記複数の画素にそれぞれ含まれ、対応する行の走査ラ
    インに接続された複数のアクティブ素子と、 前記複数の画素にそれぞれ含まれて当該画素のアクティ
    ブ素子に接続され、前記共通電極及びその間の液晶と共
    に画素容量を形成する複数の画素電極と、 前記複数の画素が形成された領域の外側に設けられ、各
    走査ライン及びこれに直接的または間接的に接続された
    画素容量が形成する回路と同等の回路特性を有する負荷
    と、が形成されたことを特徴とする液晶表示素子。
  5. 【請求項5】前記負荷は、 少なくとも1つのダミー走査ラインと、 前記ダミー走査ライン及び前記複数のデータラインの一
    方に設けられ、前記ダミー走査ライン及び前記複数のデ
    ータラインの他方と重なるダミー容量電極と、前記ダミ
    ー走査ライン及び前記複数のデータラインの他方と、前
    記ダミー容量電極と前記ダミー走査ライン及び前記複数
    のデータラインの他方との間に設けられた絶縁膜と、か
    らなるコンデンサと、 を備え、 前記コンデンサは、前記各走査ラインにおける前記アク
    ティブ素子の寄生容量と前記画素容量と前記補償容量と
    の合成容量にそれぞれ等しくなるように構成されている
    ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。
  6. 【請求項6】前記負荷は、 少なくとも1つのダミー走査ラインと、 前記ダミー走査ライン及び前記複数のデータラインの一
    方に設けられ、前記ダミー走査ライン及び前記複数のデ
    ータラインの他方と重なるダミー容量電極と、前記ダミ
    ー走査ライン及び前記複数のデータラインの他方と、前
    記ダミー容量電極と前記ダミー走査ライン及び前記複数
    のデータラインの他方との間に設けられた絶縁膜と、か
    らなるコンデンサと、 を備え、 前記コンデンサは、前記各走査ラインにおける前記アク
    ティブ素子の寄生容量と前記画素容量との合成容量にそ
    れぞれ等しくなるように構成されていることを特徴とす
    る請求項2に記載の液晶表示素子。
  7. 【請求項7】前記共通電極は、前記負荷に対応する位置
    には形成されていないことを特徴とする請求項1乃至6
    のいずれか1項に記載の液晶表示素子。
  8. 【請求項8】対向する一対の基板間に液晶が封入され、
    マトリクス状に配置された複数の画素を有するアクティ
    ブマトリクス型の液晶表示素子を有する電子装置であっ
    て、 内面に共通電極が形成された第1の基板と、 前記マトリクスの主走査方向に伸延して設けられた複数
    の走査ラインと、 前記マトリクスの副走査方向に伸延して設けられた複数
    のデータラインと、 前記複数の画素にそれぞれ含まれ、対応する行の走査ラ
    インに接続された複数のアクティブ素子と、 前記複数の画素にそれぞれ含まれて当該画素のアクティ
    ブ素子に接続され、前記共通電極及びその間の液晶と共
    に画素容量を形成する複数の画素電極と、 前記複数のアクティブ素子にそれぞれ接続された複数の
    補償容量と、 前記複数の画素が形成された領域の外側に設けられた少
    なくとも1つのダミー走査ラインと、 前記ダミー走査ライン及び前記複数のデータラインの一
    方に設けられ、前記ダミー走査ライン及び前記複数のデ
    ータラインの他方と重なるダミー容量電極と、前記ダミ
    ー走査ライン及び前記複数のデータラインの他方と、前
    記ダミー容量電極と前記ダミー走査ライン及び前記複数
    のデータラインの他方との間に設けられた絶縁膜と、か
    らなり、前記各走査ラインにおける前記アクティブ素子
    の寄生容量と前記画素容量と前記補償容量との合成容量
    に等しいコンデンサと、 を備える液晶表示素子と、 前記複数の走査ライン及び前記負荷を順次選択して所定
    の信号を出力する走査ドライバと、 前記走査ドライバによる走査ラインの選択に従って、対
    応する画素容量に書き込むための画像データ信号を出力
    するデータドライバとを備えることを特徴とする電子装
    置。
  9. 【請求項9】対向する一対の基板間に液晶が封入され、
    マトリクス状に配置された複数の画素を有するアクティ
    ブマトリクス型の液晶表示素子を有する電子装置であっ
    て、 内面に共通電極が形成された第1の基板と、 前記マトリクスの主走査方向に伸延して設けられた複数
    の走査ラインと、 前記マトリクスの副走査方向に伸延して設けられた複数
    のデータラインと、 前記複数の画素にそれぞれ含まれ、対応する行の走査ラ
    インに接続された複数のアクティブ素子と、 前記複数の画素にそれぞれ含まれて当該画素のアクティ
    ブ素子に接続され、前記共通電極及びその間の液晶と共
    に画素容量を形成する複数の画素電極と、 前記複数の画素が形成された領域の外側に設けられた少
    なくとも1つのダミー走査ラインと、 前記ダミー走査ライン及び前記複数のデータラインの一
    方に設けられ、前記ダミー走査ライン及び前記複数のデ
    ータラインの他方と重なるダミー容量電極と、前記ダミ
    ー走査ライン及び前記複数のデータラインの他方と、前
    記ダミー容量電極と前記ダミー走査ライン及び前記複数
    のデータラインの他方との間に設けられた絶縁膜と、か
    らなり、前記各走査ラインにおける前記アクティブ素子
    の寄生容量と前記画素容量との合成容量に等しいコンデ
    ンサと、 を備える液晶表示素子と、 前記複数の走査ライン及び前記負荷を順次選択して所定
    の信号を出力する走査ドライバと、 前記走査ドライバによる走査ラインの選択に従って、対
    応する画素容量に書き込むための画像データ信号を出力
    するデータドライバとを備えることを特徴とする電子装
    置。
  10. 【請求項10】前記走査ドライバは、前記複数の走査ラ
    インと前記ダミー走査ラインの数との合計に等しい段を
    有するシフトレジスタによって構成されることを特徴と
    する請求項8又は請求項9に記載の電子装置。
  11. 【請求項11】前記シフトレジスタの各段は、前記アク
    ティブ素子と同一プロセスで形成された電界効果トラン
    ジスタの組み合わせによって構成されることを特徴とす
    る請求項8乃至10のいずれかに記載の電子装置。
  12. 【請求項12】前記コンデンサは、前記アクティブ素子
    と同一プロセス内で形成されることを特徴とする請求項
    8乃至11のいずれかに記載の電子装置。
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