JP2002198411A - 圧力制御方法、搬送装置およびクラスタツール - Google Patents
圧力制御方法、搬送装置およびクラスタツールInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 トランスファチャンバ内の圧力制御を効率よ
く行う。 【解決手段】 カセットチャンバCC1、CC2とトラ
ンスファチャンバTCとでドライポンプDP1を共有化
するとともに、ウエハWの搬送時にトランスファチャン
バTC内の排気を停止し、ゲートバルブPG1、PG2
を開いた時だトランスファチャンバTC内のN2パージ
を行う。
く行う。 【解決手段】 カセットチャンバCC1、CC2とトラ
ンスファチャンバTCとでドライポンプDP1を共有化
するとともに、ウエハWの搬送時にトランスファチャン
バTC内の排気を停止し、ゲートバルブPG1、PG2
を開いた時だトランスファチャンバTC内のN2パージ
を行う。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は圧力制御方法、搬送
装置およびクラスタツールに関し、特に、半導体装置や
液晶表示装置などの製造プロセスに適用して好適なもの
である。
装置およびクラスタツールに関し、特に、半導体装置や
液晶表示装置などの製造プロセスに適用して好適なもの
である。
【0002】
【従来の技術】半導体などの製造プロセスでは、ウエハ
を大気に曝すことなく、複数の処理を行うために、複数
のプロセスチャンバが連結されたクラスタツールが普及
してきている。このようなクラスタツールでは、複数の
プロセスチャンバに対してウエハを出し入れするトラン
スファチャンバが設けられている。そして、トランスフ
ァチャンバ内の圧力制御を行いつつ、ウエハの搬送を行
うことにより、大気やパーティクルなどによるコンタミ
ネーションからウエハが保護される。ここで、従来のト
ランスファチャンバ内の圧力制御方法では、トランスフ
ァチャンバ内の圧力を一定に維持するために、トランス
ファチャンバ内を常時真空引きしながら、N2パージが
行われていた。
を大気に曝すことなく、複数の処理を行うために、複数
のプロセスチャンバが連結されたクラスタツールが普及
してきている。このようなクラスタツールでは、複数の
プロセスチャンバに対してウエハを出し入れするトラン
スファチャンバが設けられている。そして、トランスフ
ァチャンバ内の圧力制御を行いつつ、ウエハの搬送を行
うことにより、大気やパーティクルなどによるコンタミ
ネーションからウエハが保護される。ここで、従来のト
ランスファチャンバ内の圧力制御方法では、トランスフ
ァチャンバ内の圧力を一定に維持するために、トランス
ファチャンバ内を常時真空引きしながら、N2パージが
行われていた。
【0003】図5は、従来の圧力制御方法が適用される
クラスタツールの概略構成を示す断面図である。図5に
おいて、トランスファチャンバTCには、カセットチャ
ンバCC1、CC2がゲートバルブCG1、CG2を介
して連結されるとともに、プロセスチャンバPC1、P
C2がゲートバルブPG1、PG2を介して連結されて
いる。
クラスタツールの概略構成を示す断面図である。図5に
おいて、トランスファチャンバTCには、カセットチャ
ンバCC1、CC2がゲートバルブCG1、CG2を介
して連結されるとともに、プロセスチャンバPC1、P
C2がゲートバルブPG1、PG2を介して連結されて
いる。
【0004】ここで、カセットチャンバCC1、CC2
には、カセットチャンバCC1、CC2内の排気を行う
ためのドライポンプDP2が設けられるとともに、トラ
ンスファチャンバTCには、トランスファチャンバTC
内の排気を行うためのドライポンプDP3が設けられて
いる。また、プロセスチャンバPC1、PC2には、プ
ロセスチャンバPC1、PC2内の排気を行うためのド
ライポンプDP4、DP5およびターボポンプTP1、
TP2がそれぞれ設けられている。
には、カセットチャンバCC1、CC2内の排気を行う
ためのドライポンプDP2が設けられるとともに、トラ
ンスファチャンバTCには、トランスファチャンバTC
内の排気を行うためのドライポンプDP3が設けられて
いる。また、プロセスチャンバPC1、PC2には、プ
ロセスチャンバPC1、PC2内の排気を行うためのド
ライポンプDP4、DP5およびターボポンプTP1、
TP2がそれぞれ設けられている。
【0005】また、カセットチャンバCC1、CC2お
よびトランスファチャンバTCには、N2パージを行う
ためのN2排出部1〜3が設けられ、さらに、トランス
ファチャンバTCには、トランスファチャンバTC内の
圧力を検出するためのキャパシタンスマノメータ4およ
びコンベクトロン(ピラニーゲージ)5が設けられると
ともに、トランスファチャンバTC内の圧力を制御する
ための圧力コントローツバルブPCVが設けられてい
る。
よびトランスファチャンバTCには、N2パージを行う
ためのN2排出部1〜3が設けられ、さらに、トランス
ファチャンバTCには、トランスファチャンバTC内の
圧力を検出するためのキャパシタンスマノメータ4およ
びコンベクトロン(ピラニーゲージ)5が設けられると
ともに、トランスファチャンバTC内の圧力を制御する
ための圧力コントローツバルブPCVが設けられてい
る。
【0006】ここで、プロセスチャンバPC1、PC2
内にウエハWを搬入する場合、ウエハWが収容されたカ
セットC1、C2をカセットチャンバCC1、CC2内
に設置する。そして、ゲートバルブCG1、CG2を閉
じた状態で、ドライポンプDP2によりカセットチャン
バCC1、CC2内を排気することにより、カセットチ
ャンバCC1、CC2内の圧力を170mTorr程度
にし、170mTorr程度まで真空引きしたら排気を
終了する。
内にウエハWを搬入する場合、ウエハWが収容されたカ
セットC1、C2をカセットチャンバCC1、CC2内
に設置する。そして、ゲートバルブCG1、CG2を閉
じた状態で、ドライポンプDP2によりカセットチャン
バCC1、CC2内を排気することにより、カセットチ
ャンバCC1、CC2内の圧力を170mTorr程度
にし、170mTorr程度まで真空引きしたら排気を
終了する。
【0007】また、トランスファチャンバTC内でも、
N2パージを行いつつ、ドライポンプDP3による排気
を行い、100又は200mTorr程度の圧力に維持
する。
N2パージを行いつつ、ドライポンプDP3による排気
を行い、100又は200mTorr程度の圧力に維持
する。
【0008】さらに、プロセスチャンバPC1、PC2
内においても、ドライポンプDP4、DP5およびター
ボポンプTP1、TP2による排気を行い、0.1mT
orr程度の圧力に維持する。
内においても、ドライポンプDP4、DP5およびター
ボポンプTP1、TP2による排気を行い、0.1mT
orr程度の圧力に維持する。
【0009】そして、各チャンバ内の圧力が所定値に達
すると、ゲートバルブCG1、CG2を開き、搬送アー
ムARを用いることにより、カセットC1、C2に収容
されたウエハWをトランスファチャンバTC内に搬送
し、さらに、ゲートバルブPG1、PG2を開き、トラ
ンスファチャンバTC内に搬送されたウエハWをプロセ
スチャンバPC1、PC2内に搬送する。
すると、ゲートバルブCG1、CG2を開き、搬送アー
ムARを用いることにより、カセットC1、C2に収容
されたウエハWをトランスファチャンバTC内に搬送
し、さらに、ゲートバルブPG1、PG2を開き、トラ
ンスファチャンバTC内に搬送されたウエハWをプロセ
スチャンバPC1、PC2内に搬送する。
【0010】ここで、ゲートバルブCG1、CG2、P
G1、PG2を開いた際に、トランスファチャンバTC
内の圧力を制御し、トランスファチャンバTC内の圧力
を常に一定(100または200mTorr程度)に維
持する。これにより、各チャンバ間の圧力差を所定の範
囲内に収めて、パーティクルの巻き上げを防止するとと
もに、プロセスチャンバPC1、PC2内に残留する処
理ガスG1、G2の流出を防止する。
G1、PG2を開いた際に、トランスファチャンバTC
内の圧力を制御し、トランスファチャンバTC内の圧力
を常に一定(100または200mTorr程度)に維
持する。これにより、各チャンバ間の圧力差を所定の範
囲内に収めて、パーティクルの巻き上げを防止するとと
もに、プロセスチャンバPC1、PC2内に残留する処
理ガスG1、G2の流出を防止する。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
圧力制御方法では、トランスファチャンバTC内を常時
排気するために、カセットチャンバCC1、CC2及び
トランスファチャンバTCにドライポンプDP2、DP
3をそれぞれ独自に設ける必要があった。また、トラン
スファチャンバTC内の圧力を制御するために、キャパ
シタンスマノメータ4や圧力コントローツバルブPCV
などの圧力制御部品を用いる必要があった。このため、
これらの整備にかかるコストや消費電力が大きいという
問題があった。さらに、トランスファチャンバTC内の
排気中は常にN2パージが行われるため、N2の消費量
が大きいという問題もあった。
圧力制御方法では、トランスファチャンバTC内を常時
排気するために、カセットチャンバCC1、CC2及び
トランスファチャンバTCにドライポンプDP2、DP
3をそれぞれ独自に設ける必要があった。また、トラン
スファチャンバTC内の圧力を制御するために、キャパ
シタンスマノメータ4や圧力コントローツバルブPCV
などの圧力制御部品を用いる必要があった。このため、
これらの整備にかかるコストや消費電力が大きいという
問題があった。さらに、トランスファチャンバTC内の
排気中は常にN2パージが行われるため、N2の消費量
が大きいという問題もあった。
【0012】そこで、本発明の目的は、トランスファチ
ャンバ内の圧力制御を効率よく行うことが可能な圧力制
御方法、搬送装置およびクラスタツールを提供すること
である。
ャンバ内の圧力制御を効率よく行うことが可能な圧力制
御方法、搬送装置およびクラスタツールを提供すること
である。
【0013】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、請求項1記載の発明によれば、トランスファチ
ャンバを介してカセットチャンバからプロセスチャンバ
へ処理対象を搬送する際に、前記トランスファチャンバ
内の排気を停止させることを特徴とする。
ために、請求項1記載の発明によれば、トランスファチ
ャンバを介してカセットチャンバからプロセスチャンバ
へ処理対象を搬送する際に、前記トランスファチャンバ
内の排気を停止させることを特徴とする。
【0014】これにより、トランスファチャンバ内の圧
力をほぼ一定に保ちつつ、カセットチャンバからプロセ
スチャンバへ処理対象を搬送することができ、処理対象
の搬送時におけるトランスファチャンバ内の圧力制御を
不要として、給排気設備を集約化することができる。
力をほぼ一定に保ちつつ、カセットチャンバからプロセ
スチャンバへ処理対象を搬送することができ、処理対象
の搬送時におけるトランスファチャンバ内の圧力制御を
不要として、給排気設備を集約化することができる。
【0015】また、請求項2記載の発明によれば、前記
プロセスチャンバのゲートバルブの開閉状態に基づい
て、前記トランスファチャンバへのパージを行うステッ
プをさらに備えることを特徴とする。
プロセスチャンバのゲートバルブの開閉状態に基づい
て、前記トランスファチャンバへのパージを行うステッ
プをさらに備えることを特徴とする。
【0016】これにより、プロセスチャンバのゲートバ
ルブが開いた時だけ、トランスファチャンバからプロセ
スチャンバへ向かう気流を生成することが可能となり、
トランスファチャンバ内の排気を停止させた場合におい
ても、パージガスの消費量を抑制しつつ、トランスファ
チャンバ内のパーティクルや汚染物質をプロセスチャン
バを介して排気することが可能となる。
ルブが開いた時だけ、トランスファチャンバからプロセ
スチャンバへ向かう気流を生成することが可能となり、
トランスファチャンバ内の排気を停止させた場合におい
ても、パージガスの消費量を抑制しつつ、トランスファ
チャンバ内のパーティクルや汚染物質をプロセスチャン
バを介して排気することが可能となる。
【0017】また、請求項3記載の発明によれば、前記
トランスファチャンバをアイドル中に排気するステップ
と、前記トランスファチャンバの排気を停止させ、前記
処理対象が載置されたカセットチャンバを排気するステ
ップと、前記カセットチャンバから前記トランスファチ
ャンバへ前記処理対象を搬送する際に、前記カセットチ
ャンバ内の排気を停止させるステップをさらに備えるこ
とを特徴とする。
トランスファチャンバをアイドル中に排気するステップ
と、前記トランスファチャンバの排気を停止させ、前記
処理対象が載置されたカセットチャンバを排気するステ
ップと、前記カセットチャンバから前記トランスファチ
ャンバへ前記処理対象を搬送する際に、前記カセットチ
ャンバ内の排気を停止させるステップをさらに備えるこ
とを特徴とする。
【0018】これにより、カセットチャンバとトランス
ファチャンバとの排気を交互に行うことが可能となるこ
とから、カセットチャンバとトランスファチャンバとで
ドライポンプを共有した場合においても、これらのチャ
ンバ間での大気突入を防止することが可能となり、設備
にかかるコストを低減することが可能となる。
ファチャンバとの排気を交互に行うことが可能となるこ
とから、カセットチャンバとトランスファチャンバとで
ドライポンプを共有した場合においても、これらのチャ
ンバ間での大気突入を防止することが可能となり、設備
にかかるコストを低減することが可能となる。
【0019】また、請求項4記載の発明によれば、トラ
ンスファチャンバを介してカセットチャンバからプロセ
スチャンバへ処理対象を搬送する搬送手段と、前記処理
対象を前記プロセスチャンバに搬送する際に、前記トラ
ンスファチャンバ内の排気を停止させる圧力制御手段と
を備えることを特徴とする。
ンスファチャンバを介してカセットチャンバからプロセ
スチャンバへ処理対象を搬送する搬送手段と、前記処理
対象を前記プロセスチャンバに搬送する際に、前記トラ
ンスファチャンバ内の排気を停止させる圧力制御手段と
を備えることを特徴とする。
【0020】これにより、トランスファチャンバ内の排
気の停止中に、カセットチャンバの排気を行うことが可
能となることから、トランスファチャンバとカセットチ
ャンバとでドライポンプを共有化して、給排気設備を集
約化することができる。
気の停止中に、カセットチャンバの排気を行うことが可
能となることから、トランスファチャンバとカセットチ
ャンバとでドライポンプを共有化して、給排気設備を集
約化することができる。
【0021】また、請求項5記載の発明によれば、処理
対象を載置するカセットチャンバと、前記処理対象の処
理を行うプロセスチャンバと、前記カセットチャンバお
よび前記プロセスチャンバとゲートバルブを介して連結
され、前記カセットチャンバから前記プロセスチャンバ
へ前記処理対象を搬送するトランスファチャンバと、前
記カセットチャンバと前記トランスファチャンバとに共
通して設けられたドライポンプと、前記プロセスチャン
バへ前記処理対象を搬送する際に、前記トランスファチ
ャンバ内の排気を停止させる圧力制御手段とを備えるこ
とを特徴とする。
対象を載置するカセットチャンバと、前記処理対象の処
理を行うプロセスチャンバと、前記カセットチャンバお
よび前記プロセスチャンバとゲートバルブを介して連結
され、前記カセットチャンバから前記プロセスチャンバ
へ前記処理対象を搬送するトランスファチャンバと、前
記カセットチャンバと前記トランスファチャンバとに共
通して設けられたドライポンプと、前記プロセスチャン
バへ前記処理対象を搬送する際に、前記トランスファチ
ャンバ内の排気を停止させる圧力制御手段とを備えるこ
とを特徴とする。
【0022】これにより、トランスファチャンバとカセ
ットチャンバとでドライポンプを共有化することが可能
となり、ウエハのコンタミネーションを抑制しつつ、設
備にかかるコストを抑制することができる。
ットチャンバとでドライポンプを共有化することが可能
となり、ウエハのコンタミネーションを抑制しつつ、設
備にかかるコストを抑制することができる。
【0023】また、請求項6記載の発明によれば、前記
圧力制御手段は、前記トランスファチャンバ内の排気の
停止中に、前記ドライポンプを用いて前記カセットチャ
ンバ内の排気を行うことを特徴とする。
圧力制御手段は、前記トランスファチャンバ内の排気の
停止中に、前記ドライポンプを用いて前記カセットチャ
ンバ内の排気を行うことを特徴とする。
【0024】これにより、カセットチャンバとトランス
ファチャンバとでドライポンプを共有した場合において
も、大気突入を防止しつつ、カセットチャンバ内の圧力
とトランスファチャンバ内の圧力とをそれぞれ別個に制
御することが可能となる。
ファチャンバとでドライポンプを共有した場合において
も、大気突入を防止しつつ、カセットチャンバ内の圧力
とトランスファチャンバ内の圧力とをそれぞれ別個に制
御することが可能となる。
【0025】また、請求項7記載の発明によれば、前記
トランスファチャンバおよび前記カセットチャンバの排
気の停止に伴って、前記ドライポンプの電源をオフする
ことを特徴とする。
トランスファチャンバおよび前記カセットチャンバの排
気の停止に伴って、前記ドライポンプの電源をオフする
ことを特徴とする。
【0026】これにより、ドライポンプの消費電力の大
幅な削減が可能となる。
幅な削減が可能となる。
【0027】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態に係わる
圧力制御方法について図面を参照しながら説明する。
圧力制御方法について図面を参照しながら説明する。
【0028】図1は、本発明の一実施形態に係わる圧力
制御方法が適用されるクラスタツールの概略構成を示す
断面図である。図1において、トランスファチャンバT
Cには、カセットチャンバCC1、CC2がゲートバル
ブCG1、CG2を介して連結されるとともに、プロセ
スチャンバPC1、PC2がゲートバルブPG1、PG
2を介して連結されている。
制御方法が適用されるクラスタツールの概略構成を示す
断面図である。図1において、トランスファチャンバT
Cには、カセットチャンバCC1、CC2がゲートバル
ブCG1、CG2を介して連結されるとともに、プロセ
スチャンバPC1、PC2がゲートバルブPG1、PG
2を介して連結されている。
【0029】ここで、カセットチャンバCC1、CC2
およびトランスファチャンバTCでは、ドライポンプD
P1が共有化され、このドライポンプDP1により、カ
セットチャンバCC1、CC2およびトランスファチャ
ンバTCの排気を別個に行う。また、プロセスチャンバ
PC1、PC2には、プロセスチャンバPC1、PC2
内の排気を行うためのドライポンプDP4、DP5およ
びターボポンプTP1、TP2がそれぞれ設けられてい
る。
およびトランスファチャンバTCでは、ドライポンプD
P1が共有化され、このドライポンプDP1により、カ
セットチャンバCC1、CC2およびトランスファチャ
ンバTCの排気を別個に行う。また、プロセスチャンバ
PC1、PC2には、プロセスチャンバPC1、PC2
内の排気を行うためのドライポンプDP4、DP5およ
びターボポンプTP1、TP2がそれぞれ設けられてい
る。
【0030】また、カセットチャンバCC1、CC2お
よびトランスファチャンバTCには、N2パージを行う
ためのN2排出部1〜3が設けられ、さらに、トランス
ファチャンバTCには、トランスファチャンバTC内の
圧力を検出するためのコンベクトロン5が設けられてい
る。
よびトランスファチャンバTCには、N2パージを行う
ためのN2排出部1〜3が設けられ、さらに、トランス
ファチャンバTCには、トランスファチャンバTC内の
圧力を検出するためのコンベクトロン5が設けられてい
る。
【0031】以下、図1のクラスタツールの動作につい
て説明する。
て説明する。
【0032】図2は、本発明の一実施形態に係わる圧力
制御方法を示すフローチャートである。図2において、
アイドル中は、トランスファチャンバTC内の大気によ
る汚染を防止するため、バルブV6を開き、ドライポン
プDP1による排気を行う(ステップS1)。
制御方法を示すフローチャートである。図2において、
アイドル中は、トランスファチャンバTC内の大気によ
る汚染を防止するため、バルブV6を開き、ドライポン
プDP1による排気を行う(ステップS1)。
【0033】次に、プロセスチャンバPC1、PC2内
にウエハWを搬入する場合、ウエハWが収容されたカセ
ットC1、C2をカセットチャンバCC1、CC2内に
設置する。そして、ゲートバルブCG1、CG2を閉じ
た状態で、バルブV6を閉じることにより、トランスフ
ァチャンバTC内の排気を停止するとともに(ステップ
S2)、バルブV1〜V4を開き、カセットチャンバC
C1、CC2内の排気をドライポンプDP1により行う
(ステップS3)。
にウエハWを搬入する場合、ウエハWが収容されたカセ
ットC1、C2をカセットチャンバCC1、CC2内に
設置する。そして、ゲートバルブCG1、CG2を閉じ
た状態で、バルブV6を閉じることにより、トランスフ
ァチャンバTC内の排気を停止するとともに(ステップ
S2)、バルブV1〜V4を開き、カセットチャンバC
C1、CC2内の排気をドライポンプDP1により行う
(ステップS3)。
【0034】また、プロセスチャンバPC1、PC2内
においても、バルブV7〜V12の開閉を行い、ドライ
ポンプDP4、DP5およびターボポンプTP1、TP
2による排気を行う。
においても、バルブV7〜V12の開閉を行い、ドライ
ポンプDP4、DP5およびターボポンプTP1、TP
2による排気を行う。
【0035】そして、カセットチャンバCC1、CC2
内の真空引きが終了すると、バルブV1〜V4を閉じる
ことにより、カセットチャンバCC1、CC2内の排気
を停止させる(ステップS4)。そして、ゲートバルブ
CG1、CG2を開き(ステップS5)、搬送アームA
Rを用いることにより、カセットC1、C2に収容され
たウエハWをトランスファチャンバTC内に搬送し、さ
らに、ゲートバルブPG1、PG2を開き(ステップS
6)、トランスファチャンバTC内に搬送されたウエハ
WをプロセスチャンバPC1、PC2内に搬送する。そ
して、プロセスチャンバPC1、PC2内へのウエハW
の搬送が終了すると、ゲートバルブPG1、PG2を閉
じる(ステップS7)。
内の真空引きが終了すると、バルブV1〜V4を閉じる
ことにより、カセットチャンバCC1、CC2内の排気
を停止させる(ステップS4)。そして、ゲートバルブ
CG1、CG2を開き(ステップS5)、搬送アームA
Rを用いることにより、カセットC1、C2に収容され
たウエハWをトランスファチャンバTC内に搬送し、さ
らに、ゲートバルブPG1、PG2を開き(ステップS
6)、トランスファチャンバTC内に搬送されたウエハ
WをプロセスチャンバPC1、PC2内に搬送する。そ
して、プロセスチャンバPC1、PC2内へのウエハW
の搬送が終了すると、ゲートバルブPG1、PG2を閉
じる(ステップS7)。
【0036】ここで、ゲートバルブPG1、PG2を開
閉に合わせて、バルブV16を開閉し、ゲートバルブP
G1、PG2が開いた時だけ、トランスファチャンバT
C内のN2パージを行う(ステップS21、S22)。
これにより、トランスファチャンバTCからプロセスチ
ャンバPC1、PC2へ向かう気流を発生させることが
可能となり、N2の消費量を抑制しつつ、トランスファ
チャンバTC内の汚染物質をプロセスチャンバPC1、
PC2を介して排出することが可能となる。
閉に合わせて、バルブV16を開閉し、ゲートバルブP
G1、PG2が開いた時だけ、トランスファチャンバT
C内のN2パージを行う(ステップS21、S22)。
これにより、トランスファチャンバTCからプロセスチ
ャンバPC1、PC2へ向かう気流を発生させることが
可能となり、N2の消費量を抑制しつつ、トランスファ
チャンバTC内の汚染物質をプロセスチャンバPC1、
PC2を介して排出することが可能となる。
【0037】プロセスチャンバPC1、PC2内にウエ
ハWが搬入されると、必要に応じてバルブV17、V1
8を開くことにより、プロセスチャンバPC1、PC2
内に処理ガスG1、G2を導入し、ウエハWの処理を行
う(ステップS8)。なお、プロセスチャンバPC1、
PC2で行われる処理は、例えば、CVD、アニール、
エッチング、蒸着、スパッタ、イオン注入などである。
ハWが搬入されると、必要に応じてバルブV17、V1
8を開くことにより、プロセスチャンバPC1、PC2
内に処理ガスG1、G2を導入し、ウエハWの処理を行
う(ステップS8)。なお、プロセスチャンバPC1、
PC2で行われる処理は、例えば、CVD、アニール、
エッチング、蒸着、スパッタ、イオン注入などである。
【0038】ウエハWの処理が終了すると、ゲートバル
ブPG1、PG2を開き(ステップS9)、トランスフ
ァチャンバTC内に搬送されたウエハWをプロセスチャ
ンバPC1、PC2内に搬出する。そして、プロセスチ
ャンバPC1、PC2内へのウエハWの搬出が終了する
と、ゲートバルブPG1、PG2を閉じる(ステップS
10)。なお、この場合も、ゲートバルブPG1、PG
2を開閉に合わせて、バルブV16を開閉し、ゲートバ
ルブPG1、PG2が開いた時だけ、トランスファチャ
ンバTC内のN2パージを行う(ステップS23、S2
4)。
ブPG1、PG2を開き(ステップS9)、トランスフ
ァチャンバTC内に搬送されたウエハWをプロセスチャ
ンバPC1、PC2内に搬出する。そして、プロセスチ
ャンバPC1、PC2内へのウエハWの搬出が終了する
と、ゲートバルブPG1、PG2を閉じる(ステップS
10)。なお、この場合も、ゲートバルブPG1、PG
2を開閉に合わせて、バルブV16を開閉し、ゲートバ
ルブPG1、PG2が開いた時だけ、トランスファチャ
ンバTC内のN2パージを行う(ステップS23、S2
4)。
【0039】以上の処理を、処理対象となるウエハWが
設置された全てのカセットチャンバCC1、CC2につ
いて繰り返し、全てのウエハWについての処理が終了す
ると、ゲートバルブCG1、CG2を閉じ(ステップS
11)、バルブV6を開くことにより、トランスファチ
ャンバTC内の排気を行う(ステップS12)。
設置された全てのカセットチャンバCC1、CC2につ
いて繰り返し、全てのウエハWについての処理が終了す
ると、ゲートバルブCG1、CG2を閉じ(ステップS
11)、バルブV6を開くことにより、トランスファチ
ャンバTC内の排気を行う(ステップS12)。
【0040】このように、カセットチャンバCC1、C
C2とプロセスチャンバPC1、PC2との間でウエハ
Wを搬送する際に、トランスファチャンバTC内の排気
を停止させることにより、トランスファチャンバTC内
の排気を行うドライポンプDP1を用いてカセットチャ
ンバCC1、CC2内の排気を行うことが可能となり、
カセットチャンバCC1、CC2とプロセスチャンバP
C1、PC2とでドライポンプDP1を共用することが
可能となる。
C2とプロセスチャンバPC1、PC2との間でウエハ
Wを搬送する際に、トランスファチャンバTC内の排気
を停止させることにより、トランスファチャンバTC内
の排気を行うドライポンプDP1を用いてカセットチャ
ンバCC1、CC2内の排気を行うことが可能となり、
カセットチャンバCC1、CC2とプロセスチャンバP
C1、PC2とでドライポンプDP1を共用することが
可能となる。
【0041】また、ウエハWの搬送時にトランスファチ
ャンバTC内の排気が停止されることから、ウエハWの
搬送時におけるトランスファチャンバTC内の圧力制御
が不要となり、図5のキャパシタンスマノメータ4や圧
力コントロールバルブPCVを除去することが可能とな
る。
ャンバTC内の排気が停止されることから、ウエハWの
搬送時におけるトランスファチャンバTC内の圧力制御
が不要となり、図5のキャパシタンスマノメータ4や圧
力コントロールバルブPCVを除去することが可能とな
る。
【0042】図3は、本発明の一実施形態に係わる圧力
制御方法を示すタイミングチャートである。なお、この
実施形態では、まず、カセットチャンバCC1からプロ
セスチャンバPC1へウエハWを搬送した後、カセット
チャンバCC2からプロセスチャンバPC2へウエハW
を搬送する場合について説明する。
制御方法を示すタイミングチャートである。なお、この
実施形態では、まず、カセットチャンバCC1からプロ
セスチャンバPC1へウエハWを搬送した後、カセット
チャンバCC2からプロセスチャンバPC2へウエハW
を搬送する場合について説明する。
【0043】図3において、アイドル中は、バルブV6
を開き、ドライポンプDP1による排気を行う。なお、
この時のトランスファチャンバTC内の圧力は、1mT
orr程度に維持される。
を開き、ドライポンプDP1による排気を行う。なお、
この時のトランスファチャンバTC内の圧力は、1mT
orr程度に維持される。
【0044】次に、ウエハWが収容されたカセットC1
をカセットチャンバCC1内に設置する。そして、ゲー
トバルブCG1を閉じた状態で、バルブV6を閉じるこ
とにより、トランスファチャンバTC内の排気を停止す
るとともに(T1)、バルブV1を開き(T1)、カセ
ットチャンバCC1内の排気を緩やかに行った後、バル
ブV1を閉じるとともにバルブV2を開き、カセットチ
ャンバCC1内の排気を急速に行う。なお、この時のカ
セットチャンバCC1内の圧力は、170mTorr程
度に維持されるとともに、トランスファチャンバTC内
の排気は停止されているため、トランスファチャンバT
C内の圧力は徐々に上昇する。
をカセットチャンバCC1内に設置する。そして、ゲー
トバルブCG1を閉じた状態で、バルブV6を閉じるこ
とにより、トランスファチャンバTC内の排気を停止す
るとともに(T1)、バルブV1を開き(T1)、カセ
ットチャンバCC1内の排気を緩やかに行った後、バル
ブV1を閉じるとともにバルブV2を開き、カセットチ
ャンバCC1内の排気を急速に行う。なお、この時のカ
セットチャンバCC1内の圧力は、170mTorr程
度に維持されるとともに、トランスファチャンバTC内
の排気は停止されているため、トランスファチャンバT
C内の圧力は徐々に上昇する。
【0045】また、プロセスチャンバPC1内では、ド
ライポンプDP4およびターボポンプTP1による排気
が行われ、0.1mTorr程度の圧力に維持される。
ライポンプDP4およびターボポンプTP1による排気
が行われ、0.1mTorr程度の圧力に維持される。
【0046】そして、カセットチャンバCC1内の真空
引きが終了すると、バルブV2を閉じて、カセットチャ
ンバCC1内の排気を停止させるとともに、ゲートバル
ブCG1を開く(T2)。この際、カセットチャンバC
C1とトランスファチャンバTCとの圧力差により気流
が生じるが、カセットチャンバCC1およびトランスフ
ァチャンバTCは気密状態にあり、カセットチャンバC
C1とトランスファチャンバTCとの圧力差は僅かであ
るため、この気流の発生によるパーティクルの巻き上げ
はほとんど生じない。
引きが終了すると、バルブV2を閉じて、カセットチャ
ンバCC1内の排気を停止させるとともに、ゲートバル
ブCG1を開く(T2)。この際、カセットチャンバC
C1とトランスファチャンバTCとの圧力差により気流
が生じるが、カセットチャンバCC1およびトランスフ
ァチャンバTCは気密状態にあり、カセットチャンバC
C1とトランスファチャンバTCとの圧力差は僅かであ
るため、この気流の発生によるパーティクルの巻き上げ
はほとんど生じない。
【0047】ゲートバルブCG1を開くと、搬送アーム
ARを用いることにより、カセットC1に収容されたウ
エハWをトランスファチャンバTC内に搬送する。そし
て、ゲートバルブPG1を開くとともに、バルブV16
を開き(T3)、N2ガスをN2排出部3から噴出させ
つつ、ウエハWをプロセスチャンバPC1内に搬送す
る。
ARを用いることにより、カセットC1に収容されたウ
エハWをトランスファチャンバTC内に搬送する。そし
て、ゲートバルブPG1を開くとともに、バルブV16
を開き(T3)、N2ガスをN2排出部3から噴出させ
つつ、ウエハWをプロセスチャンバPC1内に搬送す
る。
【0048】ここで、ゲートバルブPG1を開いた時に
バルブV16を開くことにより、トランスファチャンバ
TCからプロセスチャンバPC1へ向かう気流を発生さ
せることが可能となり、トランスファチャンバTC内の
排気が停止している場合においても、トランスファチャ
ンバTC内のパーティクルなどをプロセスチャンバPC
1を介して排出することが可能となる。
バルブV16を開くことにより、トランスファチャンバ
TCからプロセスチャンバPC1へ向かう気流を発生さ
せることが可能となり、トランスファチャンバTC内の
排気が停止している場合においても、トランスファチャ
ンバTC内のパーティクルなどをプロセスチャンバPC
1を介して排出することが可能となる。
【0049】プロセスチャンバPC1内へのウエハWの
搬送が終了すると、ゲートバルブPG1を閉じるととも
に、バルブV16を閉じ(T4)、トランスファチャン
バTC内へのN2ガスの導入を停止させる。
搬送が終了すると、ゲートバルブPG1を閉じるととも
に、バルブV16を閉じ(T4)、トランスファチャン
バTC内へのN2ガスの導入を停止させる。
【0050】ここで、ゲートバルブPG1を閉じた時に
バルブV16を閉じることにより、ゲートバルブPG1
が開いた時だけ、トランスファチャンバTC内のN2パ
ージを行うことができ、N2の消費量を抑制しつつ、ト
ランスファチャンバTC内のパーティクルをプロセスチ
ャンバPC1を介して排出することが可能となる。
バルブV16を閉じることにより、ゲートバルブPG1
が開いた時だけ、トランスファチャンバTC内のN2パ
ージを行うことができ、N2の消費量を抑制しつつ、ト
ランスファチャンバTC内のパーティクルをプロセスチ
ャンバPC1を介して排出することが可能となる。
【0051】プロセスチャンバPC1内にウエハWが搬
入されると、必要に応じてバルブV17を開くことによ
り、プロセスチャンバPC1内に処理ガスG1を導入
し、ウエハWの処理を行う。この際、プロセスチャンバ
PC1内の圧力は、プロセスチャンバPC1内で行われ
る処理によって異なる。また、トランスファチャンバT
C内の排気は停止されているため、トランスファチャン
バTC内の圧力は徐々に上昇する。
入されると、必要に応じてバルブV17を開くことによ
り、プロセスチャンバPC1内に処理ガスG1を導入
し、ウエハWの処理を行う。この際、プロセスチャンバ
PC1内の圧力は、プロセスチャンバPC1内で行われ
る処理によって異なる。また、トランスファチャンバT
C内の排気は停止されているため、トランスファチャン
バTC内の圧力は徐々に上昇する。
【0052】ウエハWの処理が終了すると、ゲートバル
ブPG1を開くとともに、バルブV16を開き(T
5)、N2ガスをN2排出部3から噴出させつつ、ウエ
ハWをプロセスチャンバPC1から搬出する。そして、
プロセスチャンバPC1からのウエハWの搬送が終了す
ると、ゲートバルブPG1を閉じるとともに、バルブV
16を閉じ(T6)、トランスファチャンバTC内への
N2ガスの導入を停止させる。
ブPG1を開くとともに、バルブV16を開き(T
5)、N2ガスをN2排出部3から噴出させつつ、ウエ
ハWをプロセスチャンバPC1から搬出する。そして、
プロセスチャンバPC1からのウエハWの搬送が終了す
ると、ゲートバルブPG1を閉じるとともに、バルブV
16を閉じ(T6)、トランスファチャンバTC内への
N2ガスの導入を停止させる。
【0053】次に、ウエハWが収容されたカセットC2
をカセットチャンバCC2内に設置する。そして、バル
ブV3を開き(T7)、カセットチャンバCC2内の排
気を緩やかに行った後、バルブV3を閉じるとともにバ
ルブV4を開き、カセットチャンバCC2内の排気を急
速に行う。ここで、プロセスチャンバPC2内では、ド
ライポンプDP5およびターボポンプTP2による排気
が行われ、0.1mTorr程度の圧力に維持される。
をカセットチャンバCC2内に設置する。そして、バル
ブV3を開き(T7)、カセットチャンバCC2内の排
気を緩やかに行った後、バルブV3を閉じるとともにバ
ルブV4を開き、カセットチャンバCC2内の排気を急
速に行う。ここで、プロセスチャンバPC2内では、ド
ライポンプDP5およびターボポンプTP2による排気
が行われ、0.1mTorr程度の圧力に維持される。
【0054】そして、カセットチャンバCC2内の真空
引きが終了すると、バルブV4を閉じることにより、カ
セットチャンバCC2内の排気を停止させ、ゲートバル
ブCG2を開く(T8)。
引きが終了すると、バルブV4を閉じることにより、カ
セットチャンバCC2内の排気を停止させ、ゲートバル
ブCG2を開く(T8)。
【0055】ゲートバルブCG2を開くと、搬送アーム
ARを用いることにより、カセットC2に収容されたウ
エハWをトランスファチャンバTC内に搬送する。そし
て、ゲートバルブPG2を開くとともに、バルブV16
を開き(T9)、N2ガスをN2排出部3から噴出させ
つつ、ウエハWをプロセスチャンバPC2内に搬送す
る。
ARを用いることにより、カセットC2に収容されたウ
エハWをトランスファチャンバTC内に搬送する。そし
て、ゲートバルブPG2を開くとともに、バルブV16
を開き(T9)、N2ガスをN2排出部3から噴出させ
つつ、ウエハWをプロセスチャンバPC2内に搬送す
る。
【0056】プロセスチャンバPC2内へのウエハWの
搬送が終了すると、ゲートバルブPG2を閉じるととも
に、バルブV16を閉じ(T10)、トランスファチャ
ンバTC内へのN2ガスの導入を停止させる。
搬送が終了すると、ゲートバルブPG2を閉じるととも
に、バルブV16を閉じ(T10)、トランスファチャ
ンバTC内へのN2ガスの導入を停止させる。
【0057】プロセスチャンバPC1内にウエハWが搬
入されると、必要に応じてバルブV18を開くことによ
り、プロセスチャンバPC2内に処理ガスG2を導入
し、ウエハWの処理を行う。この際、プロセスチャンバ
PC2内の圧力は、プロセスチャンバPC2内で行われ
る処理によって異なる。また、トランスファチャンバT
C内の排気は停止されているため、トランスファチャン
バTC内の圧力は徐々に上昇する。
入されると、必要に応じてバルブV18を開くことによ
り、プロセスチャンバPC2内に処理ガスG2を導入
し、ウエハWの処理を行う。この際、プロセスチャンバ
PC2内の圧力は、プロセスチャンバPC2内で行われ
る処理によって異なる。また、トランスファチャンバT
C内の排気は停止されているため、トランスファチャン
バTC内の圧力は徐々に上昇する。
【0058】ウエハWの処理が終了すると、ゲートバル
ブPG2を開くとともに、バルブV16を開き(T1
1)、N2ガスをN2排出部3から噴出させつつ、ウエ
ハWをプロセスチャンバPC2から搬出する。プロセス
チャンバPC2からのウエハWの搬送が終了すると、ゲ
ートバルブPG2を閉じるとともに、バルブV16を閉
じ(T12)、トランスファチャンバTC内へのN2ガ
スの導入を停止させる。
ブPG2を開くとともに、バルブV16を開き(T1
1)、N2ガスをN2排出部3から噴出させつつ、ウエ
ハWをプロセスチャンバPC2から搬出する。プロセス
チャンバPC2からのウエハWの搬送が終了すると、ゲ
ートバルブPG2を閉じるとともに、バルブV16を閉
じ(T12)、トランスファチャンバTC内へのN2ガ
スの導入を停止させる。
【0059】図4は、本発明の一実施形態に係わる搬送
方法によるパーティクルの発生個数を示す図である。図
4において、カセットチャンバCC1、CC2にウエハ
Wを置いた場合(待機)、カセットチャンバCC1、C
C2とプロセスチャンバPC1、PC2との間でウエハ
Wを搬送した場合(真空搬送)、さらにウエハWのエッ
チングを30秒行った場合(RF搬送30秒)のそれぞ
れについて、初期状態、10時間ランニング、30時間
ランニング、50時間ランニング後のパーティクル(大
きさが0.2μm以上)の個数を調べた。この場合、ウ
エハWの搬送時にトランスファチャンバTC内の排気を
停止し、ゲートバルブPG1、PG2を開いた時だけト
ランスファチャンバTC内のN2パージを行っても、パ
ーティクルの個数はほとんど変化しなかった。
方法によるパーティクルの発生個数を示す図である。図
4において、カセットチャンバCC1、CC2にウエハ
Wを置いた場合(待機)、カセットチャンバCC1、C
C2とプロセスチャンバPC1、PC2との間でウエハ
Wを搬送した場合(真空搬送)、さらにウエハWのエッ
チングを30秒行った場合(RF搬送30秒)のそれぞ
れについて、初期状態、10時間ランニング、30時間
ランニング、50時間ランニング後のパーティクル(大
きさが0.2μm以上)の個数を調べた。この場合、ウ
エハWの搬送時にトランスファチャンバTC内の排気を
停止し、ゲートバルブPG1、PG2を開いた時だけト
ランスファチャンバTC内のN2パージを行っても、パ
ーティクルの個数はほとんど変化しなかった。
【0060】このため、上述した実施形態によれば、パ
ーティクルによるウエハWの汚染を引き起こすことな
く、カセットチャンバCC1、CC2とトランスファチ
ャンバTCとでドライポンプDP1を共有化することが
可能となるとともに、N2の消費量も減らすことができ
る。
ーティクルによるウエハWの汚染を引き起こすことな
く、カセットチャンバCC1、CC2とトランスファチ
ャンバTCとでドライポンプDP1を共有化することが
可能となるとともに、N2の消費量も減らすことができ
る。
【0061】なお、上述した実施形態では、カセットチ
ャンバCC1、CC2がトランスファチャンバTCに直
接連結された場合について説明したが、カセットチャン
バCC1、CC2は、ロードロック室であってもよい。
ャンバCC1、CC2がトランスファチャンバTCに直
接連結された場合について説明したが、カセットチャン
バCC1、CC2は、ロードロック室であってもよい。
【0062】また、上述した実施形態では、ウエハWの
搬送中はトランスファチャンバTC内の排気を常に停止
させる場合について説明したが、ウエハWの搬送中にト
ランスファチャンバTC内の圧力が所定値を超えた場合
は、トランスファチャンバTC内の排気を一時的に行う
ようにしてもよい。
搬送中はトランスファチャンバTC内の排気を常に停止
させる場合について説明したが、ウエハWの搬送中にト
ランスファチャンバTC内の圧力が所定値を超えた場合
は、トランスファチャンバTC内の排気を一時的に行う
ようにしてもよい。
【0063】さらに、トランスファチャンバTCおよび
カセットチャンバCC1、CC2の排気の停止に伴っ
て、これらのドライポンプDP1の電源をオフするよう
にしてもよく、これにより、ドライポンプDP1の消費
電力の大幅な削減が可能となる。
カセットチャンバCC1、CC2の排気の停止に伴っ
て、これらのドライポンプDP1の電源をオフするよう
にしてもよく、これにより、ドライポンプDP1の消費
電力の大幅な削減が可能となる。
【0064】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
カセットチャンバからプロセスチャンバへ処理対象を搬
送する際に、トランスファチャンバ内の排気を停止させ
ることにより、カセットチャンバとトランスファチャン
バとでドライポンプを共有化することが可能となるとと
もに、処理対象の搬送時におけるトランスファチャンバ
内の圧力制御を不要とすることができ、給排気設備を集
約化することが可能となる。
カセットチャンバからプロセスチャンバへ処理対象を搬
送する際に、トランスファチャンバ内の排気を停止させ
ることにより、カセットチャンバとトランスファチャン
バとでドライポンプを共有化することが可能となるとと
もに、処理対象の搬送時におけるトランスファチャンバ
内の圧力制御を不要とすることができ、給排気設備を集
約化することが可能となる。
【図1】本発明の一実施形態に係わる圧力制御方法が適
用されるクラスタツールの概略構成を示す断面図であ
る。
用されるクラスタツールの概略構成を示す断面図であ
る。
【図2】本発明の一実施形態に係わる圧力制御方法を示
すフローチャートである。
すフローチャートである。
【図3】本発明の一実施形態に係わる圧力制御方法を示
すタイミングチャートである。
すタイミングチャートである。
【図4】本発明の一実施形態に係わる搬送方法によるパ
ーティクルの発生個数を示す図である。
ーティクルの発生個数を示す図である。
【図5】従来の圧力制御方法が適用されるクラスタツー
ルの概略構成を示す断面図である。
ルの概略構成を示す断面図である。
CC1、CC2 カセットチャンバ TC トランスファチャンバ PC1、PC2 プロセスチャンバ DP1〜DP5 ドライポンプ CG1、CG2、PG1、PG2 ゲートバルブ TP1、TP2 ターボポンプ V1〜V19 バルブ OF オリフラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 青木 利光 東京都港区赤坂五丁目3番6号 TBS放 送センター 東京エレクトロン株式会社内 Fターム(参考) 5F031 CA02 CA05 FA01 FA02 FA11 FA12 JA47 NA05 NA15 NA20
Claims (7)
- 【請求項1】 トランスファチャンバを介してカセット
チャンバからプロセスチャンバへ処理対象を搬送する際
に、前記トランスファチャンバ内の排気を停止させるこ
とを特徴とする圧力制御方法。 - 【請求項2】 前記プロセスチャンバのゲートバルブの
開閉状態に基づいて、前記トランスファチャンバへのパ
ージを行うステップをさらに備えることを特徴とする請
求項1記載の圧力制御方法。 - 【請求項3】 前記トランスファチャンバをアイドル中
に排気するステップと、 前記トランスファチャンバの排気を停止させ、前記処理
対象が載置されたカセットチャンバを排気するステップ
と、 前記カセットチャンバから前記トランスファチャンバへ
前記処理対象を搬送する際に、前記カセットチャンバ内
の排気を停止させるステップをさらに備えることを特徴
とする請求項1または2記載の圧力制御方法。 - 【請求項4】 トランスファチャンバを介してカセット
チャンバからプロセスチャンバへ処理対象を搬送する搬
送手段と、 前記処理対象を前記プロセスチャンバに搬送する際に、
前記トランスファチャンバ内の排気を停止させる圧力制
御手段とを備えることを特徴とする搬送装置。 - 【請求項5】 処理対象を載置するカセットチャンバ
と、 前記処理対象の処理を行うプロセスチャンバと、 前記カセットチャンバおよび前記プロセスチャンバとゲ
ートバルブを介して連結され、前記カセットチャンバか
ら前記プロセスチャンバへ前記処理対象を搬送するトラ
ンスファチャンバと、 前記カセットチャンバと前記トランスファチャンバとに
共通して設けられたドライポンプと、 前記プロセスチャンバへ前記処理対象を搬送する際に、
前記トランスファチャンバ内の排気を停止させる圧力制
御手段とを備えることを特徴とするクラスタツール。 - 【請求項6】 前記圧力制御手段は、前記トランスファ
チャンバ内の排気の停止中に、前記ドライポンプを用い
て前記カセットチャンバ内の排気を行うことを特徴とす
る請求項5記載のクラスタツール。 - 【請求項7】 前記トランスファチャンバおよび前記カ
セットチャンバの排気の停止に伴って、前記ドライポン
プの電源をオフすることを特徴とする請求項5または6
記載のクラスタツール。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000395263A JP2002198411A (ja) | 2000-12-26 | 2000-12-26 | 圧力制御方法、搬送装置およびクラスタツール |
PCT/JP2001/011338 WO2002052638A1 (fr) | 2000-12-26 | 2001-12-25 | Procede de regulation de pression, dispositif de transfert, et outil en grappe |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000395263A JP2002198411A (ja) | 2000-12-26 | 2000-12-26 | 圧力制御方法、搬送装置およびクラスタツール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002198411A true JP2002198411A (ja) | 2002-07-12 |
JP2002198411A5 JP2002198411A5 (ja) | 2008-02-14 |
Family
ID=18860753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000395263A Pending JP2002198411A (ja) | 2000-12-26 | 2000-12-26 | 圧力制御方法、搬送装置およびクラスタツール |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002198411A (ja) |
WO (1) | WO2002052638A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004140153A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
WO2012042800A1 (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-05 | 株式会社アルバック | ロードロック装置、排気制御装置及びロードロック装置の動作方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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