JP2002066329A - エチレンの三量化触媒及びこの触媒を用いたエチレンの三量化方法 - Google Patents
エチレンの三量化触媒及びこの触媒を用いたエチレンの三量化方法Info
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- JP2002066329A JP2002066329A JP2000263249A JP2000263249A JP2002066329A JP 2002066329 A JP2002066329 A JP 2002066329A JP 2000263249 A JP2000263249 A JP 2000263249A JP 2000263249 A JP2000263249 A JP 2000263249A JP 2002066329 A JP2002066329 A JP 2002066329A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】エチレンから効率よく、かつ高選択的に１−ヘ
キセンを製造する。 【解決手段】一般式 ＡＣｒＢn（式中、ｎは１〜３の
整数である。Ａは三脚型構造を有する中性の多座配位子
であり、Ｃｒはクロム原子、Ｂは水素原子、ハロゲン原
子、直鎖または分岐状のアルキル基からなる群より選ば
れる１種以上を表す。）で示される三脚型構造を有する
中性の多座配位子が配位したクロム錯体とアルキル金属
化合物と、アミン化合物またはアミド化合物からなる触
媒を用いる。
キセンを製造する。 【解決手段】一般式 ＡＣｒＢn（式中、ｎは１〜３の
整数である。Ａは三脚型構造を有する中性の多座配位子
であり、Ｃｒはクロム原子、Ｂは水素原子、ハロゲン原
子、直鎖または分岐状のアルキル基からなる群より選ば
れる１種以上を表す。）で示される三脚型構造を有する
中性の多座配位子が配位したクロム錯体とアルキル金属
化合物と、アミン化合物またはアミド化合物からなる触
媒を用いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、エチレンの三量化
触媒及びこの触媒を用いたエチレンの三量化方法に関す
る。さらに詳しくは、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤ
ＰＥ）の原料コモノマーとして有用な１−ヘキセンをエ
チレンから効率よく、かつ高選択的に製造するエチレン
の三量化触媒、及びその触媒を用いたエチレンの三量化
方法に関する。
触媒及びこの触媒を用いたエチレンの三量化方法に関す
る。さらに詳しくは、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤ
ＰＥ）の原料コモノマーとして有用な１−ヘキセンをエ
チレンから効率よく、かつ高選択的に製造するエチレン
の三量化触媒、及びその触媒を用いたエチレンの三量化
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】エチレンを三量化して１−ヘキセンを得
る方法において、クロム化合物を触媒として用いること
は公知である。例えば、特開昭６２−２６５２３７号公
報にはクロム化合物、ポリヒドロカルビルアルミニウム
オキシド及びドナー配位子からなる触媒系が開示されて
いる。特開平６−２３９９２０号公報には、クロム化合
物、ピロール含有化合物、金属アルキル化合物及びハラ
イドからなる触媒系が、また特開平８−５９７３２号公
報には、クロム化合物、金属アルキル化合物及び酸アミ
ドまたはイミド化合物からなる触媒系が開示されてい
る。
る方法において、クロム化合物を触媒として用いること
は公知である。例えば、特開昭６２−２６５２３７号公
報にはクロム化合物、ポリヒドロカルビルアルミニウム
オキシド及びドナー配位子からなる触媒系が開示されて
いる。特開平６−２３９９２０号公報には、クロム化合
物、ピロール含有化合物、金属アルキル化合物及びハラ
イドからなる触媒系が、また特開平８−５９７３２号公
報には、クロム化合物、金属アルキル化合物及び酸アミ
ドまたはイミド化合物からなる触媒系が開示されてい
る。
【０００３】また、特開平６−２９８６７３号公報に
は、クロミウム塩の多座配位子であるホスフィン、アル
シン及び／またはスチビンとの配位錯体とアルミノキサ
ンからなる触媒が開示されている。さらに、特開平１０
−７７１２号公報には、特定の窒素配位子が配位したク
ロムの塩素錯体やアルキル錯体とアルミニウム化合物か
らなる触媒が、特開平１０−２３１３１７号公報には、
環状ポリアミンまたはヒドロトリス（ピラゾリル）ボレ
ートが配位したクロム錯体とアルキルアルミニウム化合
物からなる触媒が開示されている。
は、クロミウム塩の多座配位子であるホスフィン、アル
シン及び／またはスチビンとの配位錯体とアルミノキサ
ンからなる触媒が開示されている。さらに、特開平１０
−７７１２号公報には、特定の窒素配位子が配位したク
ロムの塩素錯体やアルキル錯体とアルミニウム化合物か
らなる触媒が、特開平１０−２３１３１７号公報には、
環状ポリアミンまたはヒドロトリス（ピラゾリル）ボレ
ートが配位したクロム錯体とアルキルアルミニウム化合
物からなる触媒が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特開昭６２−
２６５２３７号公報に記載の方法では、１−ヘキセンと
同時にポリエチレンが多く副生する欠点がある。また、
触媒の構成成分であるポリヒドロカルビルアルミニウム
オキシド（アルミノキサンとも称する）は、アルキルア
ルミニウムと水を反応させて得られる重合体であるた
め、一定の品質を有するポリヒドロカルビルアルミニウ
ムオキシドの合成が難しい。それ故、エチレンの三量化
反応においても再現性のよい反応を行うことができない
という問題があった。
２６５２３７号公報に記載の方法では、１−ヘキセンと
同時にポリエチレンが多く副生する欠点がある。また、
触媒の構成成分であるポリヒドロカルビルアルミニウム
オキシド（アルミノキサンとも称する）は、アルキルア
ルミニウムと水を反応させて得られる重合体であるた
め、一定の品質を有するポリヒドロカルビルアルミニウ
ムオキシドの合成が難しい。それ故、エチレンの三量化
反応においても再現性のよい反応を行うことができない
という問題があった。
【０００５】特開平６−２３９９２０号公報に記載の方
法は、ポリエチレンの副生が少なく、この点ではかなり
改善している。しかし、触媒の構成成分であるピロール
含有化合物は、空気に対して極めて不安定な物質である
ため着色して劣化しやすい。従って、取り扱いが難しい
ばかりか、反応終了後には着色成分を除去するための処
理または新たな装置を必要とする等、工業的な触媒とし
ては十分なものではなかった。また、特開平８−５９７
３２号公報に記載の方法では、触媒の構成成分である酸
アミドまたはイミド化合物の中で活性を得るには、ある
特定のイミド化合物、即ちマレイミドを用いる必要があ
る。マレイミドは溶解性が低いため触媒調製が煩雑であ
り、しかも、マレイミドは入手が難しいばかりか高価で
あり、経済性の面においても問題がある。
法は、ポリエチレンの副生が少なく、この点ではかなり
改善している。しかし、触媒の構成成分であるピロール
含有化合物は、空気に対して極めて不安定な物質である
ため着色して劣化しやすい。従って、取り扱いが難しい
ばかりか、反応終了後には着色成分を除去するための処
理または新たな装置を必要とする等、工業的な触媒とし
ては十分なものではなかった。また、特開平８−５９７
３２号公報に記載の方法では、触媒の構成成分である酸
アミドまたはイミド化合物の中で活性を得るには、ある
特定のイミド化合物、即ちマレイミドを用いる必要があ
る。マレイミドは溶解性が低いため触媒調製が煩雑であ
り、しかも、マレイミドは入手が難しいばかりか高価で
あり、経済性の面においても問題がある。
【０００６】一方、特開平６−２９８６７３号公報に記
載の方法では、再現性よく合成することのできないアル
ミノキサンを用いなければいけないという問題があっ
た。また、特開平１０−７７１２号公報に記載の方法
は、触媒活性が低いという問題があった。さらに、特開
平１０−２３１３１７号公報に記載の方法は、１−ヘキ
センよりもポリエチレンの生成が多いばかりか、オリゴ
マー中の１−ヘキセン選択性も低いという欠点があっ
た。
載の方法では、再現性よく合成することのできないアル
ミノキサンを用いなければいけないという問題があっ
た。また、特開平１０−７７１２号公報に記載の方法
は、触媒活性が低いという問題があった。さらに、特開
平１０−２３１３１７号公報に記載の方法は、１−ヘキ
センよりもポリエチレンの生成が多いばかりか、オリゴ
マー中の１−ヘキセン選択性も低いという欠点があっ
た。
【０００７】本発明は上記の課題に鑑みてなされたもの
であり、その目的はＬＬＤＰＥの原料コモノマーとして
有用な１−ヘキセンをエチレンから効率よく、かつ高選
択的に製造し、しかも取り扱いの容易なエチレンの三量
化触媒、及びこの触媒を用いたエチレンの三量化方法を
提供することである。
であり、その目的はＬＬＤＰＥの原料コモノマーとして
有用な１−ヘキセンをエチレンから効率よく、かつ高選
択的に製造し、しかも取り扱いの容易なエチレンの三量
化触媒、及びこの触媒を用いたエチレンの三量化方法を
提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するため鋭意検討を行った結果、特定の多座配
位子が配位したクロム錯体とアルキル金属化合物と、ア
ミン化合物またはアミド化合物からなるエチレンの三量
化触媒は、安定で取り扱いが容易であり、しかもこれを
用いると高い活性でエチレンの三量化反応が進行し、高
選択的に１−ヘキセンが生成することを見い出し、本発
明を完成するに至った。
題を解決するため鋭意検討を行った結果、特定の多座配
位子が配位したクロム錯体とアルキル金属化合物と、ア
ミン化合物またはアミド化合物からなるエチレンの三量
化触媒は、安定で取り扱いが容易であり、しかもこれを
用いると高い活性でエチレンの三量化反応が進行し、高
選択的に１−ヘキセンが生成することを見い出し、本発
明を完成するに至った。
【０００９】即ち本発明は、三脚型構造を有する中性の
多座配位子が配位したクロム錯体とアルキル金属化合物
と、アミン化合物またはアミド化合物からなるエチレン
の三量化触媒及びそれを用いたエチレンの三量化方法に
関する。
多座配位子が配位したクロム錯体とアルキル金属化合物
と、アミン化合物またはアミド化合物からなるエチレン
の三量化触媒及びそれを用いたエチレンの三量化方法に
関する。
【００１０】
【発明の実施の形態】次に、本発明についてさらに詳し
く説明する。
く説明する。
【００１１】本発明においては、エチレンの三量化触媒
を構成する一成分として、下記一般式（１） ＡＣｒＢn （１） （式中、ｎは１〜３の整数である。Ａは三脚型構造を有
する中性の多座配位子であり、Ｃｒはクロム原子、Ｂは
水素原子、ハロゲン原子、直鎖または分岐状のアルキル
基からなる群より選ばれる１種以上を表す。）で示され
る三脚型構造を有する中性の多座配位子が配位したクロ
ム錯体が用いられる。
を構成する一成分として、下記一般式（１） ＡＣｒＢn （１） （式中、ｎは１〜３の整数である。Ａは三脚型構造を有
する中性の多座配位子であり、Ｃｒはクロム原子、Ｂは
水素原子、ハロゲン原子、直鎖または分岐状のアルキル
基からなる群より選ばれる１種以上を表す。）で示され
る三脚型構造を有する中性の多座配位子が配位したクロ
ム錯体が用いられる。
【００１２】ここで、クロム錯体に配位させる三脚型構
造を有する中性の多座配位子として用いられるものは特
に限定されないが、例えば、下記一般式（２）
造を有する中性の多座配位子として用いられるものは特
に限定されないが、例えば、下記一般式（２）
【００１３】
【化３】
【００１４】（式中、ｊ，ｋ，ｍはそれぞれ独立して０
〜６の整数である。Ｄ1はそれぞれ独立して、置換基を
有していてもよい２価の炭化水素基、Ｌ1はそれぞれ独
立して、周期表１４族、１５族、１６族または１７族元
素を含有する置換基を表す。また、Ｇ1は炭素またはケ
イ素、Ｒ1は水素基、炭素数１〜１０のアルキル基また
は炭素数１〜１０のアリール基を表す。）または下記一
般式（３）
〜６の整数である。Ｄ1はそれぞれ独立して、置換基を
有していてもよい２価の炭化水素基、Ｌ1はそれぞれ独
立して、周期表１４族、１５族、１６族または１７族元
素を含有する置換基を表す。また、Ｇ1は炭素またはケ
イ素、Ｒ1は水素基、炭素数１〜１０のアルキル基また
は炭素数１〜１０のアリール基を表す。）または下記一
般式（３）
【００１５】
【化４】
【００１６】（式中、ａ，ｂ，ｃはそれぞれ独立して０
〜６の整数であり、ｕは０または１の整数である。Ｄ2
はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい２価の
炭化水素基、Ｌ2はそれぞれ独立して、周期表１４族、
１５族、１６族または１７族元素を含有する置換基を表
す。また、Ｇ2は窒素またはリン、Ｒ2は酸素またはイオ
ウを表す。）で示される三座配位子が好適なものとして
挙げられる。
〜６の整数であり、ｕは０または１の整数である。Ｄ2
はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい２価の
炭化水素基、Ｌ2はそれぞれ独立して、周期表１４族、
１５族、１６族または１７族元素を含有する置換基を表
す。また、Ｇ2は窒素またはリン、Ｒ2は酸素またはイオ
ウを表す。）で示される三座配位子が好適なものとして
挙げられる。
【００１７】上記一般式（２）及び（３）において、Ｄ
1及びＤ2としては特に限定されるものではないが、例え
ば、アルキレン基、シクロアルキレン基、フェニレン
基、トリレン基、キシリレン基等が挙げられる。また、
その置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の
アルキル基類、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ
基類等が挙げられる。
1及びＤ2としては特に限定されるものではないが、例え
ば、アルキレン基、シクロアルキレン基、フェニレン
基、トリレン基、キシリレン基等が挙げられる。また、
その置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の
アルキル基類、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ
基類等が挙げられる。
【００１８】一般式（２）及び（３）において、Ｌ1及
びＬ2で示される周期表１４族、１５族、１６族または
１７族元素を含有する置換基は特に限定されるものでは
ないが、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基等のアルコキシ基類、フェノキシ基、
２，６−ジメチルフェノキシ基等のアリールオキシ基
類、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブ
チルチオ基等のアルキルチオ基類、フェニルチオ基、ト
リルチオ基等のアリールチオ基類、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、ビス（トリメチルシリル）アミノ基
等のジアルキルアミノ基類、ジフェニルアミノ基等のジ
アリールアミノ基類、メチルフェニル基等のアルキルア
リールアミノ基類、ジメチルホスフィノ基、ジエチルホ
スフィノ基等のジアルキルホスフィノ基、ジフェニルホ
スフィノ基、ジトリルホスフィノ基等のジアリールホス
フィノ基、メチルフェニルホスフィノ基等のアルキルア
リールホスフィノ基類が挙げられる。
びＬ2で示される周期表１４族、１５族、１６族または
１７族元素を含有する置換基は特に限定されるものでは
ないが、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基等のアルコキシ基類、フェノキシ基、
２，６−ジメチルフェノキシ基等のアリールオキシ基
類、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブ
チルチオ基等のアルキルチオ基類、フェニルチオ基、ト
リルチオ基等のアリールチオ基類、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、ビス（トリメチルシリル）アミノ基
等のジアルキルアミノ基類、ジフェニルアミノ基等のジ
アリールアミノ基類、メチルフェニル基等のアルキルア
リールアミノ基類、ジメチルホスフィノ基、ジエチルホ
スフィノ基等のジアルキルホスフィノ基、ジフェニルホ
スフィノ基、ジトリルホスフィノ基等のジアリールホス
フィノ基、メチルフェニルホスフィノ基等のアルキルア
リールホスフィノ基類が挙げられる。
【００１９】また、フリル基、ベンゾフリル基、チエニ
ル基、ベンゾチエニル基、ピラゾリル基、トリアゾリル
基、テトラゾリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ベ
ンゾイミダゾリル基、インダゾリル基、キノリル基、イ
ソキノリル基、オキサゾリル基、チアゾール基等の周期
表１４族、１５族、１６族または１７族元素を含有する
複素環基類が挙げられる。これら複素環基類の環上の置
換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、オクチル基、フェニル基等が挙げられ
る。
ル基、ベンゾチエニル基、ピラゾリル基、トリアゾリル
基、テトラゾリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ベ
ンゾイミダゾリル基、インダゾリル基、キノリル基、イ
ソキノリル基、オキサゾリル基、チアゾール基等の周期
表１４族、１５族、１６族または１７族元素を含有する
複素環基類が挙げられる。これら複素環基類の環上の置
換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、オクチル基、フェニル基等が挙げられ
る。
【００２０】一般式（２）におけるＲ1は特に限定され
るものではないが、例えば、水素基類、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ベンジル基、ヒドロキシ
メチル基、シアノエチル基、アリル基、トリフルオロプ
ロピル基等の炭素数１〜１０のアルキル基類またはフェ
ニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−クロロフェニル基
等の炭素数１〜１０のアリール基類が挙げられる。
るものではないが、例えば、水素基類、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ベンジル基、ヒドロキシ
メチル基、シアノエチル基、アリル基、トリフルオロプ
ロピル基等の炭素数１〜１０のアルキル基類またはフェ
ニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−クロロフェニル基
等の炭素数１〜１０のアリール基類が挙げられる。
【００２１】上記一般式（２）及び（３）で示される三
脚型構造を有する中性の三座配位子は特に限定されるも
のではないが、例えば、周期表１４族、１５族、１６族
または１７族元素を含有する置換基を持つ多座配位子と
しては、トリス（メトキシメチル）メタン、１，１，１
−トリス（メトキシメチル）エタン、１，１，１−トリ
ス（メトキシメチル）プロパン、１，１，１−トリス
（メトキシメチル）ブタン、１，１，１−トリス（エト
キシメチル）エタン、１，１，１−トリス（プロポキシ
メチル）エタン、１，１，１−トリス（ブトキシメチ
ル）エタン、１，１，１−トリス（フェノキシメチル）
エタン等の含酸素三座配位子類、１，１，１−トリス
（メチルチオメチル）エタン、１，１，１−トリス（ブ
チルチオメチル）エタン、１，１，１−トリス（フェニ
ルチオメチル）エタン等の含イオウ三座配位子類、１，
１，１−トリス（ジメチルアミノメチル）エタン、１，
１，１−トリス（ジフェニルアミノメチル）エタン等の
含窒素三座配位子類、１，１，１−トリス（ジフェニル
ホスフィノメチル）エタン、１，１，１−トリス（ジメ
チルホスフィノメチル）エタン、１，１，１−トリス
（ジエチルホスフィノメチル）エタン等の含リン三座配
位子類が挙げられる。
脚型構造を有する中性の三座配位子は特に限定されるも
のではないが、例えば、周期表１４族、１５族、１６族
または１７族元素を含有する置換基を持つ多座配位子と
しては、トリス（メトキシメチル）メタン、１，１，１
−トリス（メトキシメチル）エタン、１，１，１−トリ
ス（メトキシメチル）プロパン、１，１，１−トリス
（メトキシメチル）ブタン、１，１，１−トリス（エト
キシメチル）エタン、１，１，１−トリス（プロポキシ
メチル）エタン、１，１，１−トリス（ブトキシメチ
ル）エタン、１，１，１−トリス（フェノキシメチル）
エタン等の含酸素三座配位子類、１，１，１−トリス
（メチルチオメチル）エタン、１，１，１−トリス（ブ
チルチオメチル）エタン、１，１，１−トリス（フェニ
ルチオメチル）エタン等の含イオウ三座配位子類、１，
１，１−トリス（ジメチルアミノメチル）エタン、１，
１，１−トリス（ジフェニルアミノメチル）エタン等の
含窒素三座配位子類、１，１，１−トリス（ジフェニル
ホスフィノメチル）エタン、１，１，１−トリス（ジメ
チルホスフィノメチル）エタン、１，１，１−トリス
（ジエチルホスフィノメチル）エタン等の含リン三座配
位子類が挙げられる。
【００２２】さらに、周期表１４族、１５族、１６族ま
たは１７族元素を含有する複素環基を持つ多座配位子と
しては、トリフリルメタン、トリス（５−メチル−２−
フリル）メタン、トリス（５−エチル−２−フリル）メ
タン、トリス（５−ブチル−２−フリル）メタン、１，
１，１−トリフリルエタン、トリフリルアミン、トリフ
リルホスフィン、トリフリルホスフィンオキシド等の含
酸素三座配位子類、トリス（チエニル）メタン等の含イ
オウ三座配位子類、トリス（ピラゾリル）メタン、トリ
ス（３，５−ジメチル−１−ピラゾリル）メタン、トリ
ス（３，５−ジイソプロピル−１−ピラゾリル）メタ
ン、トリス（３，５−ジフェニル−１−ピラゾリル）メ
タン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−１−ピ
ラゾリル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジメ
チル−１−ピラゾリル）プロパン、１，１，１−トリス
（３，５−ジメチル−１−ピラゾリル）ブタン、トリス
（２−ピリジル）メタン、トリス（６−メチル−２−ピ
リジル）メタン、トリス（２−ピリジル）アミン、トリ
ス（２−ピリジル）ホスフィン、トリス（２−ピリジ
ル）ホスフィンオキシド、トリス（２−ピリジル）ヒド
ロキシメタン、トリス（１−イミダゾリル）メタン等の
含窒素三座配位子類が挙げられる。
たは１７族元素を含有する複素環基を持つ多座配位子と
しては、トリフリルメタン、トリス（５−メチル−２−
フリル）メタン、トリス（５−エチル−２−フリル）メ
タン、トリス（５−ブチル−２−フリル）メタン、１，
１，１−トリフリルエタン、トリフリルアミン、トリフ
リルホスフィン、トリフリルホスフィンオキシド等の含
酸素三座配位子類、トリス（チエニル）メタン等の含イ
オウ三座配位子類、トリス（ピラゾリル）メタン、トリ
ス（３，５−ジメチル−１−ピラゾリル）メタン、トリ
ス（３，５−ジイソプロピル−１−ピラゾリル）メタ
ン、トリス（３，５−ジフェニル−１−ピラゾリル）メ
タン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−１−ピ
ラゾリル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジメ
チル−１−ピラゾリル）プロパン、１，１，１−トリス
（３，５−ジメチル−１−ピラゾリル）ブタン、トリス
（２−ピリジル）メタン、トリス（６−メチル−２−ピ
リジル）メタン、トリス（２−ピリジル）アミン、トリ
ス（２−ピリジル）ホスフィン、トリス（２−ピリジ
ル）ホスフィンオキシド、トリス（２−ピリジル）ヒド
ロキシメタン、トリス（１−イミダゾリル）メタン等の
含窒素三座配位子類が挙げられる。
【００２３】本発明において、上記一般式（１）のＢで
用いられるハロゲン原子は特に限定されるものではない
が、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨ
ウ素原子等が挙げられる。また、直鎖または分岐状のア
ルキル基としては特に限定されるものではないが、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、シク
ロヘキシル基、ベンジル基またはフェニル基等が挙げら
れる。
用いられるハロゲン原子は特に限定されるものではない
が、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨ
ウ素原子等が挙げられる。また、直鎖または分岐状のア
ルキル基としては特に限定されるものではないが、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、シク
ロヘキシル基、ベンジル基またはフェニル基等が挙げら
れる。
【００２４】上記一般式（１）で示されるクロム錯体の
具体的な例としては特に限定されるものではないが、例
えば、トリス（メトキシメチル）メタンクロムトリクロ
ライド（ＩＩＩ）、トリス（メトキシメチル）メタンク
ロム（ベンジル）ジクロライド（ＩＩＩ）、１，１，１
−トリス（メトキシメチル）エタンクロムトリクロライ
ド（ＩＩＩ）、１，１，１−トリス（エトキシメチル）
エタンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、１，１，１−
トリス（ブトキシメチル）エタンクロムトリクロライド
（ＩＩＩ）、１，１，１−トリス（フェノキシメチル）
エタンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリフリルメ
タンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、１，１，１−ト
リス（メチルチオメチル）エタンクロムトリクロライド
（ＩＩＩ）、１，１，１−トリス（ジメチルアミノメチ
ル）エタンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリス
（ピラゾリル）メタンクロムトリクロライド（ＩＩ
Ｉ）、トリス（３，５−ジメチル−１−ピラゾリル）メ
タンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリス（３，５
−ジメチル−１−ピラゾリル）メタンクロム（ヒドリ
ド）ジクロライド（ＩＩＩ）、トリス（３，５−ジメチ
ル−１−ピラゾリル）メタンクロム（ベンジル）ジクロ
ライド（ＩＩＩ）、トリス（３，５−ジメチル−１−ピ
ラゾリル）メタンクロム（エチル）ジクロライド（ＩＩ
Ｉ）、トリス（３，５−ジメチル−１−ピラゾリル）メ
タンクロムトリベンジル（ＩＩＩ）、１，１，１−トリ
ス（３，５−ジメチル−１−ピラゾリル）エタンクロム
トリクロライド（ＩＩＩ）、トリス（３，５−ジイソプ
ロピル−１−ピラゾリル）メタンクロムトリクロライド
（ＩＩＩ）、トリス（３，５−ジフェニル−１−ピラゾ
リル）メタンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリス
（２−ピリジル）メタンクロムトリクロライド（ＩＩ
Ｉ）、トリス（６−メチル−２−ピリジル）メタンクロ
ムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリス（２−ピリジル）
アミンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリス（１−
イミダゾリル）メタンクロムトリクロライド（ＩＩ
Ｉ）、１，１，１−トリス（ジメチルホスフィノメチ
ル）エタンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、１，１，
１−トリス（ジフェニルホスフィノメチル）エタンクロ
ムトリクロライド（ＩＩＩ）、１，１，１−トリス（ジ
エチルホスフィノメチル）エタンクロムトリクロライド
（ＩＩＩ）等が挙げられる。
具体的な例としては特に限定されるものではないが、例
えば、トリス（メトキシメチル）メタンクロムトリクロ
ライド（ＩＩＩ）、トリス（メトキシメチル）メタンク
ロム（ベンジル）ジクロライド（ＩＩＩ）、１，１，１
−トリス（メトキシメチル）エタンクロムトリクロライ
ド（ＩＩＩ）、１，１，１−トリス（エトキシメチル）
エタンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、１，１，１−
トリス（ブトキシメチル）エタンクロムトリクロライド
（ＩＩＩ）、１，１，１−トリス（フェノキシメチル）
エタンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリフリルメ
タンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、１，１，１−ト
リス（メチルチオメチル）エタンクロムトリクロライド
（ＩＩＩ）、１，１，１−トリス（ジメチルアミノメチ
ル）エタンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリス
（ピラゾリル）メタンクロムトリクロライド（ＩＩ
Ｉ）、トリス（３，５−ジメチル−１−ピラゾリル）メ
タンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリス（３，５
−ジメチル−１−ピラゾリル）メタンクロム（ヒドリ
ド）ジクロライド（ＩＩＩ）、トリス（３，５−ジメチ
ル−１−ピラゾリル）メタンクロム（ベンジル）ジクロ
ライド（ＩＩＩ）、トリス（３，５−ジメチル−１−ピ
ラゾリル）メタンクロム（エチル）ジクロライド（ＩＩ
Ｉ）、トリス（３，５−ジメチル−１−ピラゾリル）メ
タンクロムトリベンジル（ＩＩＩ）、１，１，１−トリ
ス（３，５−ジメチル−１−ピラゾリル）エタンクロム
トリクロライド（ＩＩＩ）、トリス（３，５−ジイソプ
ロピル−１−ピラゾリル）メタンクロムトリクロライド
（ＩＩＩ）、トリス（３，５−ジフェニル−１−ピラゾ
リル）メタンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリス
（２−ピリジル）メタンクロムトリクロライド（ＩＩ
Ｉ）、トリス（６−メチル−２−ピリジル）メタンクロ
ムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリス（２−ピリジル）
アミンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリス（１−
イミダゾリル）メタンクロムトリクロライド（ＩＩ
Ｉ）、１，１，１−トリス（ジメチルホスフィノメチ
ル）エタンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）、１，１，
１−トリス（ジフェニルホスフィノメチル）エタンクロ
ムトリクロライド（ＩＩＩ）、１，１，１−トリス（ジ
エチルホスフィノメチル）エタンクロムトリクロライド
（ＩＩＩ）等が挙げられる。
【００２５】これらのうち触媒活性の面から、一般式
（１）で示される三脚型構造を有する中性の多座配位子
としては、複素環基を持つ含窒素三座配位子類が好まし
く用いられ、より好ましくはトリス（３，５−ジメチル
−１−ピラゾリル）メタンが用いられる。また、Ｂとし
てはハロゲン原子が好ましく用いられる。さらに好まし
い三脚型構造を有する中性の多座配位子が配位したクロ
ム錯体としては、トリス（３，５−ジメチル−１−ピラ
ゾリル）メタンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）等が用
いられる。
（１）で示される三脚型構造を有する中性の多座配位子
としては、複素環基を持つ含窒素三座配位子類が好まし
く用いられ、より好ましくはトリス（３，５−ジメチル
−１−ピラゾリル）メタンが用いられる。また、Ｂとし
てはハロゲン原子が好ましく用いられる。さらに好まし
い三脚型構造を有する中性の多座配位子が配位したクロ
ム錯体としては、トリス（３，５−ジメチル−１−ピラ
ゾリル）メタンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）等が用
いられる。
【００２６】本発明において、上記の三脚型構造を有す
る中性の多座配位子が配位したクロム錯体の合成法は特
に限定されるものではないが、例えば、多座配位子とク
ロム化合物とから公知の錯体形成法［例えば、Ｉｎｏｒ
ｇ．Ｃｈｅｍ．，２５，１０８０（１９８６）等］によ
り容易に合成することができる。この場合、使用できる
クロム化合物としては特に限定されるものではないが、
例えば、塩化クロム（ＩＩＩ）、塩化クロム（ＩＩ）、
臭化クロム（ＩＩＩ）、臭化クロム（ＩＩ）、ヨウ化ク
ロム（ＩＩＩ）、ヨウ化クロム（ＩＩ）、フッ化クロム
（ＩＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩ）、トリス（テトラヒ
ドロフラン）クロムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリス
（１，４−ジオキサン）クロムトリクロライド（ＩＩ
Ｉ）、トリス（ジエチルエーテル）クロムトリクロライ
ド（ＩＩＩ）、トリス（ピリジン）クロムトリクロライ
ド（ＩＩＩ）、トリス（アセトニトリル）クロムトリク
ロライド（ＩＩＩ）等が挙げられる。
る中性の多座配位子が配位したクロム錯体の合成法は特
に限定されるものではないが、例えば、多座配位子とク
ロム化合物とから公知の錯体形成法［例えば、Ｉｎｏｒ
ｇ．Ｃｈｅｍ．，２５，１０８０（１９８６）等］によ
り容易に合成することができる。この場合、使用できる
クロム化合物としては特に限定されるものではないが、
例えば、塩化クロム（ＩＩＩ）、塩化クロム（ＩＩ）、
臭化クロム（ＩＩＩ）、臭化クロム（ＩＩ）、ヨウ化ク
ロム（ＩＩＩ）、ヨウ化クロム（ＩＩ）、フッ化クロム
（ＩＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩ）、トリス（テトラヒ
ドロフラン）クロムトリクロライド（ＩＩＩ）、トリス
（１，４−ジオキサン）クロムトリクロライド（ＩＩ
Ｉ）、トリス（ジエチルエーテル）クロムトリクロライ
ド（ＩＩＩ）、トリス（ピリジン）クロムトリクロライ
ド（ＩＩＩ）、トリス（アセトニトリル）クロムトリク
ロライド（ＩＩＩ）等が挙げられる。
【００２７】前記の多座配位子とクロム化合物を反応さ
せ、クロム錯体を形成させる際のクロム金属の濃度は特
に制限されない。また、ここで用いられる溶媒としては
特に限定されるものではないが、有機溶媒が好ましく用
いられる。例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、ノナン、デカン、シクロヘキサン、デカリン等
の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クメン、トリメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン
化炭化水素類が挙げられる。また、上記溶媒はそれぞれ
単独で使用し得るのみならず、二種以上を混合して用い
ることも可能である。
せ、クロム錯体を形成させる際のクロム金属の濃度は特
に制限されない。また、ここで用いられる溶媒としては
特に限定されるものではないが、有機溶媒が好ましく用
いられる。例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、ノナン、デカン、シクロヘキサン、デカリン等
の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クメン、トリメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン
化炭化水素類が挙げられる。また、上記溶媒はそれぞれ
単独で使用し得るのみならず、二種以上を混合して用い
ることも可能である。
【００２８】また、錯体形成反応は、−８０℃から使用
する反応溶媒の沸点までの任意の温度で行われ、好まし
くは２０〜２００℃である。反応溶媒の沸点以上の温度
で錯形成反応を行う場合には、加圧下で行うこともでき
る。反応時間は特に制限されず、通常１分〜４８時間、
好ましくは５分〜２４時間である。なお、反応時のすべ
ての操作は、空気と水分を避けて行なうことが望まし
い。また、原料及び溶媒は十分に乾燥しておくことが好
ましい。
する反応溶媒の沸点までの任意の温度で行われ、好まし
くは２０〜２００℃である。反応溶媒の沸点以上の温度
で錯形成反応を行う場合には、加圧下で行うこともでき
る。反応時間は特に制限されず、通常１分〜４８時間、
好ましくは５分〜２４時間である。なお、反応時のすべ
ての操作は、空気と水分を避けて行なうことが望まし
い。また、原料及び溶媒は十分に乾燥しておくことが好
ましい。
【００２９】さらに別途合成法として、上記の方法によ
り合成した三脚型構造を有する中性の多座配位子が配位
したクロムハロゲン錯体を原料に、アルキル金属化合物
や金属ヒドリド化合物を溶媒中で反応させて、本発明の
三脚型構造を有する中性の多座配位子が配位したクロム
錯体を合成してもよい。
り合成した三脚型構造を有する中性の多座配位子が配位
したクロムハロゲン錯体を原料に、アルキル金属化合物
や金属ヒドリド化合物を溶媒中で反応させて、本発明の
三脚型構造を有する中性の多座配位子が配位したクロム
錯体を合成してもよい。
【００３０】多座配位子が配位したクロム錯体は、通常
固体として沈殿するので、ろ別により反応溶媒から分離
できる。さらに、必要に応じて、上記溶媒を用いて洗浄
を行い、次いで乾燥してエチレンの三量化触媒の構成成
分の一つであるクロム錯体が合成される。なお、沈殿し
ない場合は、溶媒留去、貧溶媒の添加あるいは冷却処理
等により沈殿させることができる。
固体として沈殿するので、ろ別により反応溶媒から分離
できる。さらに、必要に応じて、上記溶媒を用いて洗浄
を行い、次いで乾燥してエチレンの三量化触媒の構成成
分の一つであるクロム錯体が合成される。なお、沈殿し
ない場合は、溶媒留去、貧溶媒の添加あるいは冷却処理
等により沈殿させることができる。
【００３１】本発明においては、三脚型構造を有する中
性の多座配位子が配位したクロム錯体のうち、その多座
配位子がｆａｃｉａｌに配位したクロム錯体を用いるこ
とが好ましい。多座配位子がｆａｃｉａｌに配位したク
ロム錯体を用いることにより、ポリエチレンの副生が抑
えられる等の効果が認められる。ここで、多座配位子が
ｆａｃｉａｌに配位した錯体とは、多座配位子により３
つの配位座が占有された６配位八面体型錯体の異性体の
一つである［化学選書 有機金属化学−基礎と応用−、
１４３頁（裳華房）］。即ち、多座配位子により３つの
配位座が占有された６配位八面体型錯体において、多座
配位子が、３つの配位座が互いにシス位になるような配
置で配位していることを意味する。
性の多座配位子が配位したクロム錯体のうち、その多座
配位子がｆａｃｉａｌに配位したクロム錯体を用いるこ
とが好ましい。多座配位子がｆａｃｉａｌに配位したク
ロム錯体を用いることにより、ポリエチレンの副生が抑
えられる等の効果が認められる。ここで、多座配位子が
ｆａｃｉａｌに配位した錯体とは、多座配位子により３
つの配位座が占有された６配位八面体型錯体の異性体の
一つである［化学選書 有機金属化学−基礎と応用−、
１４３頁（裳華房）］。即ち、多座配位子により３つの
配位座が占有された６配位八面体型錯体において、多座
配位子が、３つの配位座が互いにシス位になるような配
置で配位していることを意味する。
【００３２】本発明において使用されるアルキル金属化
合物は特に限定されるものではないが、例えば、下記一
般式（４） ＲpＭＸq （４） （式中、ｐは０＜ｐ≦３であり、ｑは０≦ｑ＜３であっ
て、しかもｐ＋ｑは１〜３である。Ｍはリチウム、マグ
ネシウム、亜鉛、ボロンまたはアルミニウムを表し、Ｒ
は炭素数１〜１０のアルキル基からなる群より選ばれる
１種以上を表し、Ｘは水素原子、アルコキシド基、アリ
ール基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種以
上を表す。）で示される化合物が好適なものとして挙げ
られる。
合物は特に限定されるものではないが、例えば、下記一
般式（４） ＲpＭＸq （４） （式中、ｐは０＜ｐ≦３であり、ｑは０≦ｑ＜３であっ
て、しかもｐ＋ｑは１〜３である。Ｍはリチウム、マグ
ネシウム、亜鉛、ボロンまたはアルミニウムを表し、Ｒ
は炭素数１〜１０のアルキル基からなる群より選ばれる
１種以上を表し、Ｘは水素原子、アルコキシド基、アリ
ール基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種以
上を表す。）で示される化合物が好適なものとして挙げ
られる。
【００３３】上記一般式（４）において、炭素数１〜１
０のアルキル基は特に限定されるものではないが、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、シク
ロヘキシル基またはオクチル基等が挙げられる。アルコ
キシド基としては特に限定されるものではないが、例え
ば、メトキシド基、エトキシド基、ブトキシド基または
フェノキシド基等が挙げられる。アリール基としては特
に限定されるものではないが、例えば、フェニル基等が
挙げられる。ハロゲン原子としては特に限定されるもの
ではないが、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素
が挙げられる。
０のアルキル基は特に限定されるものではないが、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、シク
ロヘキシル基またはオクチル基等が挙げられる。アルコ
キシド基としては特に限定されるものではないが、例え
ば、メトキシド基、エトキシド基、ブトキシド基または
フェノキシド基等が挙げられる。アリール基としては特
に限定されるものではないが、例えば、フェニル基等が
挙げられる。ハロゲン原子としては特に限定されるもの
ではないが、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素
が挙げられる。
【００３４】なお、上記一般式（４）において、ＭがＡ
ｌで、ｐとｑがそれぞれ１．５のとき、ＡｌＲ1.5Ｘ1.5
となる。このような化合物は、理論的には存在しない
が、通常、慣用的にＡｌ2Ｒ3Ｘ3のセスキ体として表現
されており、これらの化合物も本発明に含まれる。
ｌで、ｐとｑがそれぞれ１．５のとき、ＡｌＲ1.5Ｘ1.5
となる。このような化合物は、理論的には存在しない
が、通常、慣用的にＡｌ2Ｒ3Ｘ3のセスキ体として表現
されており、これらの化合物も本発明に含まれる。
【００３５】上記一般式（４）で示されるアルキル金属
化合物としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチ
ウム、プロピルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブ
チルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、ジエチルマグネシ
ウム、エチルブチルマグネシウム、エチルクロロマグネ
シウム、エチルブロモマグネシウム、ジメチル亜鉛、ジ
エチル亜鉛、ジブチル亜鉛、トリメチルボラン、トリエ
チルボラン、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ヘ
キシルアルミニウム、トリ−ｎ−オクチルアルミニウ
ム、トリシクロヘキシルアルミニウム、ジメチルエチル
アルミニウム、ジエチルアルミニウムヒドリド、ジイソ
ブチルアルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニウムエ
トキシド、ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジシク
ロヘキシルフェニルアルミニウム、エチルアルミニウム
エトキシクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジ
エチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウ
ムクロリド、ジシクロヘキシルアルミニウムクロリド、
メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウ
ムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリ
ド、エチルアルミニウムジクロリド、イソブチルアルミ
ニウムジクロリド等が挙げられる。これらのうち入手の
容易さ及び活性の面から、アルキルアルミニウム化合物
が好ましく用いられ、さらに好ましくはトリエチルアル
ミニウムまたはトリイソブチルアルミニウムが用いられ
る。これらのアルキル金属化合物は単独で使用し得るの
みならず、二種以上を混合して用いることも可能であ
る。アルキル金属化合物の使用量は、クロム錯体１モル
に対して０．１〜１００００当量であり、好ましくは３
〜３０００当量、より好ましくは５〜２０００当量であ
る。
化合物としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチ
ウム、プロピルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブ
チルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、ジエチルマグネシ
ウム、エチルブチルマグネシウム、エチルクロロマグネ
シウム、エチルブロモマグネシウム、ジメチル亜鉛、ジ
エチル亜鉛、ジブチル亜鉛、トリメチルボラン、トリエ
チルボラン、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ヘ
キシルアルミニウム、トリ−ｎ−オクチルアルミニウ
ム、トリシクロヘキシルアルミニウム、ジメチルエチル
アルミニウム、ジエチルアルミニウムヒドリド、ジイソ
ブチルアルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニウムエ
トキシド、ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジシク
ロヘキシルフェニルアルミニウム、エチルアルミニウム
エトキシクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジ
エチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウ
ムクロリド、ジシクロヘキシルアルミニウムクロリド、
メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウ
ムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリ
ド、エチルアルミニウムジクロリド、イソブチルアルミ
ニウムジクロリド等が挙げられる。これらのうち入手の
容易さ及び活性の面から、アルキルアルミニウム化合物
が好ましく用いられ、さらに好ましくはトリエチルアル
ミニウムまたはトリイソブチルアルミニウムが用いられ
る。これらのアルキル金属化合物は単独で使用し得るの
みならず、二種以上を混合して用いることも可能であ
る。アルキル金属化合物の使用量は、クロム錯体１モル
に対して０．１〜１００００当量であり、好ましくは３
〜３０００当量、より好ましくは５〜２０００当量であ
る。
【００３６】本発明において用いられるアミン化合物ま
たはアミド化合物は特に限定されるものではないが、炭
化水素系で構成される３置換の窒素原子を１個以上有
し、炭素数３〜３０を有する化合物が好適なものとして
あげられる。具体的には、特に限定されるものではない
が、トリメチルアミン、トリエチルアミン、１，４−ジ
アザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、
Ｎ−メチルインドール、Ｎ−エチルインドール、Ｎ−メ
チルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ノルマル
プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ
−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミ
ド、Ｎ−ピレニルマレイミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルマ
レイミド、２，６−ジメチルピリジン、Ｎ−メチルアジ
リジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン（Ｄ
ＭＡＰ）、１，８−ビス（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ナ
フタレン（Ｐｒｏｔｏｎ Ｓｐｏｎｇｅ）、Ｎ−メチル
ピロール、３，５−ジメチル−Ｎ−メチルピロール、
１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン−５（Ｄ
ＢＮ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデ
セン−７（ＤＢＵ）、Ｎ−フェニルピロール、Ｎ−エチ
ルピロール、５，１０，１５，２０−テトラフェニル−
２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフ
ィン、２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オク
タエチル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、２９Ｈ，３１
Ｈ−フタロシアニン等があげられ、好ましくは上記のマ
レイミド類、ピリジン類、及び橋頭構造を有するアミン
類があげられる。更に、これらアミン化合物またはアミ
ド化合物は単独のみならず、二種以上を用いることも可
能であり、使用量はクロム錯体に対して０．１〜１００
００等量であり、好ましくは１〜５０００等量、より好
ましくは３〜１００等量用いたとき、高い触媒活性を発
現する。
たはアミド化合物は特に限定されるものではないが、炭
化水素系で構成される３置換の窒素原子を１個以上有
し、炭素数３〜３０を有する化合物が好適なものとして
あげられる。具体的には、特に限定されるものではない
が、トリメチルアミン、トリエチルアミン、１，４−ジ
アザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、
Ｎ−メチルインドール、Ｎ−エチルインドール、Ｎ−メ
チルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ノルマル
プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ
−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミ
ド、Ｎ−ピレニルマレイミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルマ
レイミド、２，６−ジメチルピリジン、Ｎ−メチルアジ
リジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン（Ｄ
ＭＡＰ）、１，８−ビス（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ナ
フタレン（Ｐｒｏｔｏｎ Ｓｐｏｎｇｅ）、Ｎ−メチル
ピロール、３，５−ジメチル−Ｎ−メチルピロール、
１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン−５（Ｄ
ＢＮ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデ
セン−７（ＤＢＵ）、Ｎ−フェニルピロール、Ｎ−エチ
ルピロール、５，１０，１５，２０−テトラフェニル−
２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフ
ィン、２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オク
タエチル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、２９Ｈ，３１
Ｈ−フタロシアニン等があげられ、好ましくは上記のマ
レイミド類、ピリジン類、及び橋頭構造を有するアミン
類があげられる。更に、これらアミン化合物またはアミ
ド化合物は単独のみならず、二種以上を用いることも可
能であり、使用量はクロム錯体に対して０．１〜１００
００等量であり、好ましくは１〜５０００等量、より好
ましくは３〜１００等量用いたとき、高い触媒活性を発
現する。
【００３７】本発明の三脚型構造を有する中性の多座配
位子が配位したクロム錯体とアルキル金属化合物と、ア
ミン化合物またはアミド化合物からなるエチレンの三量
化触媒は、前記のクロム錯体とアルキル金属化合物と、
アミン化合物またはアミド化合物を原料に、溶媒中で接
触させることにより調製できる。接触方法は特に制限さ
れない。
位子が配位したクロム錯体とアルキル金属化合物と、ア
ミン化合物またはアミド化合物からなるエチレンの三量
化触媒は、前記のクロム錯体とアルキル金属化合物と、
アミン化合物またはアミド化合物を原料に、溶媒中で接
触させることにより調製できる。接触方法は特に制限さ
れない。
【００３８】この触媒を調製する際のクロム錯体の濃度
は特に制限されないが、通常、溶媒１ｌあたり０．００
１マイクロモル〜１００ミリモル、好ましくは０．０１
マイクロモル〜１０ミリモルの濃度で使用される。これ
より小さい触媒濃度では十分な活性が得られず、逆にこ
れより大きい触媒濃度では、触媒活性が増加せず経済的
でない。また、ここで用いられる溶媒としては、例え
ば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、イソオクタン、ノナン、デカン、シクロペンタン、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロオクタ
ン、デカリン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、トリメチルベ
ンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族
炭化水素類及び塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン等の塩素化炭化水素類が挙げられ
る。また反応生成物、即ち、１−ヘキセンを溶媒として
用いることもできる。これらの溶媒は、それぞれ単独で
使用し得るのみならず、二種以上を混合して用いること
も可能である。ここで、エチレンの三量化反応時のクロ
ム錯体濃度をコントロールする目的で、必要に応じて濃
縮や希釈しても差し支えない。
は特に制限されないが、通常、溶媒１ｌあたり０．００
１マイクロモル〜１００ミリモル、好ましくは０．０１
マイクロモル〜１０ミリモルの濃度で使用される。これ
より小さい触媒濃度では十分な活性が得られず、逆にこ
れより大きい触媒濃度では、触媒活性が増加せず経済的
でない。また、ここで用いられる溶媒としては、例え
ば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、イソオクタン、ノナン、デカン、シクロペンタン、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロオクタ
ン、デカリン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、トリメチルベ
ンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族
炭化水素類及び塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン等の塩素化炭化水素類が挙げられ
る。また反応生成物、即ち、１−ヘキセンを溶媒として
用いることもできる。これらの溶媒は、それぞれ単独で
使用し得るのみならず、二種以上を混合して用いること
も可能である。ここで、エチレンの三量化反応時のクロ
ム錯体濃度をコントロールする目的で、必要に応じて濃
縮や希釈しても差し支えない。
【００３９】また、前記のクロム錯体とアルキル金属化
合物と、アミン化合物またはアミド化合物を接触させる
際の温度は−１００〜２５０℃、好ましくは０〜２００
℃である。接触時間は特に制限されず、１分〜２４時
間、好ましくは２分〜２時間である。なお、接触時のす
べての操作は、空気と水分を避けて行なうことが望まし
い。また、原料及び溶媒は十分に乾燥しておくことが好
ましい。
合物と、アミン化合物またはアミド化合物を接触させる
際の温度は−１００〜２５０℃、好ましくは０〜２００
℃である。接触時間は特に制限されず、１分〜２４時
間、好ましくは２分〜２時間である。なお、接触時のす
べての操作は、空気と水分を避けて行なうことが望まし
い。また、原料及び溶媒は十分に乾燥しておくことが好
ましい。
【００４０】本発明のエチレンの三量化反応は、前記の
クロム錯体とアルキル金属化合物と、アミン化合物また
はアミド化合物からなる触媒とエチレンを接触させるこ
とにより行うことができる。接触方法は特に制限されな
いが、例えば、三量化反応の原料であるエチレンの存在
下に、クロム錯体とアルキル金属化合物及びアミン化合
物またはアミド化合物を接触させて、接触と同時に三量
化反応を開始する方法、またはクロム錯体とアルキル金
属化合物と、アミン化合物またはアミド化合物を前もっ
て接触させた後、エチレンと接触させて三量化反応を行
う方法が採られる。なお、これらの混合順序は特に制限
されない。
クロム錯体とアルキル金属化合物と、アミン化合物また
はアミド化合物からなる触媒とエチレンを接触させるこ
とにより行うことができる。接触方法は特に制限されな
いが、例えば、三量化反応の原料であるエチレンの存在
下に、クロム錯体とアルキル金属化合物及びアミン化合
物またはアミド化合物を接触させて、接触と同時に三量
化反応を開始する方法、またはクロム錯体とアルキル金
属化合物と、アミン化合物またはアミド化合物を前もっ
て接触させた後、エチレンと接触させて三量化反応を行
う方法が採られる。なお、これらの混合順序は特に制限
されない。
【００４１】本発明におけるエチレンの三量化反応の温
度は、−１００〜２５０℃であるが、好ましくは０〜２
００℃である。反応圧力は、反応系がエチレン雰囲気で
あれば特に制限されないが、通常、絶対圧で０．０１〜
３０００ｋｇ／ｃｍ2であり、好ましくは０．１〜３０
０ｋｇ／ｃｍ2である。また、反応時間は温度や圧力に
左右され、一概に決めることはできないが、通常、５秒
〜６時間である。また、エチレンは、前記の圧力を保つ
ように連続的に供給してもよいし、反応開始時に前記圧
力で封入して反応させてもよい。原料ガスであるエチレ
ンには、反応に不活性なガス、例えば窒素、アルゴン、
ヘリウム等が含まれていても何ら差し支えない。なお、
エチレン三量化反応のすべての操作は、空気と水分を避
けて行うことが望ましい。また、エチレンは十分に乾燥
しておくことが好ましい。
度は、−１００〜２５０℃であるが、好ましくは０〜２
００℃である。反応圧力は、反応系がエチレン雰囲気で
あれば特に制限されないが、通常、絶対圧で０．０１〜
３０００ｋｇ／ｃｍ2であり、好ましくは０．１〜３０
０ｋｇ／ｃｍ2である。また、反応時間は温度や圧力に
左右され、一概に決めることはできないが、通常、５秒
〜６時間である。また、エチレンは、前記の圧力を保つ
ように連続的に供給してもよいし、反応開始時に前記圧
力で封入して反応させてもよい。原料ガスであるエチレ
ンには、反応に不活性なガス、例えば窒素、アルゴン、
ヘリウム等が含まれていても何ら差し支えない。なお、
エチレン三量化反応のすべての操作は、空気と水分を避
けて行うことが望ましい。また、エチレンは十分に乾燥
しておくことが好ましい。
【００４２】本反応は、回分式、半回分式、連続式のい
ずれでも実施できる。エチレンの三量化反応終了後、反
応液に、例えば、水、アルコール、水酸化ナトリウム水
溶液等の失活剤を添加して反応を停止させることができ
る。失活した廃クロム触媒は公知の脱灰処理方法、例え
ば、水またはアルカリ水溶液による抽出等で除去でき
る。生成した１−ヘキセンは、公知の抽出法や蒸留法に
より反応液より分離される。また、副生するポリエチレ
ンは、反応液出口で公知の遠心分離法や１−ヘキセンを
蒸留分離する際の残渣として分離除去することができ
る。
ずれでも実施できる。エチレンの三量化反応終了後、反
応液に、例えば、水、アルコール、水酸化ナトリウム水
溶液等の失活剤を添加して反応を停止させることができ
る。失活した廃クロム触媒は公知の脱灰処理方法、例え
ば、水またはアルカリ水溶液による抽出等で除去でき
る。生成した１−ヘキセンは、公知の抽出法や蒸留法に
より反応液より分離される。また、副生するポリエチレ
ンは、反応液出口で公知の遠心分離法や１−ヘキセンを
蒸留分離する際の残渣として分離除去することができ
る。
【００４３】
【実施例】以下に、本発明を実施例によりさらに詳細に
説明するが、これらの実施例は本発明の概要を示すもの
で、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
説明するが、これらの実施例は本発明の概要を示すもの
で、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【００４４】ＩＲ測定：ＩＲは、島津製作所製 赤外分
光光度計（ＦＴＩＲ−８１００）を用いて、ヌジョール
法で測定した。
光光度計（ＦＴＩＲ−８１００）を用いて、ヌジョール
法で測定した。
【００４５】ガスクロマトグラフィーによる分析：反応
液中に含まれる炭素数４〜８の生成物の定量は、ＧＬサ
イエンス製 ＴＣ−１のカラムを装着した島津製作所製
ガスクロマトグラフ（ＧＣ−１４Ａ）を用いて分析し
た。分析条件は、窒素キャリアを用い、インジェクショ
ン温度２８０℃、検出器温度２８０℃に設定し、内部標
準としてｎ−ヘプタンを用いた。分析は、このガスクロ
マトグラフに反応液を１．０μＬ注入した後、カラムの
温度を４０℃から２５０℃まで昇温することにより行っ
た。
液中に含まれる炭素数４〜８の生成物の定量は、ＧＬサ
イエンス製 ＴＣ−１のカラムを装着した島津製作所製
ガスクロマトグラフ（ＧＣ−１４Ａ）を用いて分析し
た。分析条件は、窒素キャリアを用い、インジェクショ
ン温度２８０℃、検出器温度２８０℃に設定し、内部標
準としてｎ−ヘプタンを用いた。分析は、このガスクロ
マトグラフに反応液を１．０μＬ注入した後、カラムの
温度を４０℃から２５０℃まで昇温することにより行っ
た。
【００４６】また、炭素数１０以上の生成物は、上記ガ
スクロマトグラフとは別途用意したＧＬサイエンス製
ＴＣ−１のカラムを装着した島津製作所製 ガスクロマ
トグラフ（ＧＣ−１４Ａ）を用いて分析した。分析条件
は、窒素キャリアを用い、インジェクション温度３００
℃、検出器温度３００℃に設定し、内部標準としてｎ−
ヘプタンを用いた。分析は、このガスクロマトグラフに
反応液を１．５μｌ注入した後、カラムの温度を５０℃
から３００℃まで昇温することにより行った。
スクロマトグラフとは別途用意したＧＬサイエンス製
ＴＣ−１のカラムを装着した島津製作所製 ガスクロマ
トグラフ（ＧＣ−１４Ａ）を用いて分析した。分析条件
は、窒素キャリアを用い、インジェクション温度３００
℃、検出器温度３００℃に設定し、内部標準としてｎ−
ヘプタンを用いた。分析は、このガスクロマトグラフに
反応液を１．５μｌ注入した後、カラムの温度を５０℃
から３００℃まで昇温することにより行った。
【００４７】気体中に含まれる生成物は、クロムパック
製 Ａｌ2Ｏ3／ＫＣｌのカラムを装着した島津製作所製
ガスクロマトグラフ（ＧＣ−１４Ａ）を用いて分析し
た。分析条件は、窒素キャリアを用い、インジェクショ
ン温度２００℃、検出器温度２００℃及びカラム温度１
２０℃に設定し、絶対検量線法を用いた。分析は、この
ガスクロマトグラフに回収した気体を０．２ｍＬ注入す
ることにより行った。
製 Ａｌ2Ｏ3／ＫＣｌのカラムを装着した島津製作所製
ガスクロマトグラフ（ＧＣ−１４Ａ）を用いて分析し
た。分析条件は、窒素キャリアを用い、インジェクショ
ン温度２００℃、検出器温度２００℃及びカラム温度１
２０℃に設定し、絶対検量線法を用いた。分析は、この
ガスクロマトグラフに回収した気体を０．２ｍＬ注入す
ることにより行った。
【００４８】参考例１ 内容積１００ｍＬのシュレンク管に、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９２，５１１８（１９７０）に記載
の方法で合成した三脚型構造を有するトリス（３，５−
ジメチル−１−ピラゾリル）メタン １２６ｍｇ、トリ
ス（テトラヒドロフラン）クロムトリクロライド（ＩＩ
Ｉ）１４３ｍｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬを加え、
窒素雰囲気下で１２時間攪拌した。生成した結晶をろ別
し、トリス（３，５−ジメチル−１−ピラゾリル）メタ
ンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）を得た（ＩＲ（ヌジ
ョール）：１５６５ｃｍ―1）。以下、この錯体を錯体
Ａと称する。
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９２，５１１８（１９７０）に記載
の方法で合成した三脚型構造を有するトリス（３，５−
ジメチル−１−ピラゾリル）メタン １２６ｍｇ、トリ
ス（テトラヒドロフラン）クロムトリクロライド（ＩＩ
Ｉ）１４３ｍｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬを加え、
窒素雰囲気下で１２時間攪拌した。生成した結晶をろ別
し、トリス（３，５−ジメチル−１−ピラゾリル）メタ
ンクロムトリクロライド（ＩＩＩ）を得た（ＩＲ（ヌジ
ョール）：１５６５ｃｍ―1）。以下、この錯体を錯体
Ａと称する。
【００４９】比較例１ 温度計及び攪拌装置を備えた内容積１５０ｍＬのガラス
製耐圧反応容器に、参考例１で合成した錯体Ａを３．７
ｍｇと乾燥したトルエン８０ｍＬを入れ、混合撹拌し
た。
製耐圧反応容器に、参考例１で合成した錯体Ａを３．７
ｍｇと乾燥したトルエン８０ｍＬを入れ、混合撹拌し
た。
【００５０】反応容器を８０℃に加熱し、撹拌速度を１
４００ｒｐｍに調整後、エチレン圧により０．１５０ｍ
ｏｌ／Ｌのトリイソブチルアルミニウム／トルエン溶液
６．４ｍＬを導入して、エチレンの三量化反応を開始し
た。反応容器内の絶対圧力を５Ｋｇ／ｃｍ2となるよう
にエチレンガスを吹き込み、以後、前記圧力を維持する
ように導入し続け、これらの反応条件を保った状態で３
０分反応を行なった。３０分後、反応容器中に水を窒素
で圧入することによって触媒を失活させて反応を停止し
た。
４００ｒｐｍに調整後、エチレン圧により０．１５０ｍ
ｏｌ／Ｌのトリイソブチルアルミニウム／トルエン溶液
６．４ｍＬを導入して、エチレンの三量化反応を開始し
た。反応容器内の絶対圧力を５Ｋｇ／ｃｍ2となるよう
にエチレンガスを吹き込み、以後、前記圧力を維持する
ように導入し続け、これらの反応条件を保った状態で３
０分反応を行なった。３０分後、反応容器中に水を窒素
で圧入することによって触媒を失活させて反応を停止し
た。
【００５１】反応容器を室温まで冷却し、次いで脱圧し
た。反応液中にはポリエチレン等の固体分は認められな
かった。反応液及び回収した気体中に含まれる生成物を
ガスクロマトグラフィーにより分析した。結果を表１に
示す。
た。反応液中にはポリエチレン等の固体分は認められな
かった。反応液及び回収した気体中に含まれる生成物を
ガスクロマトグラフィーにより分析した。結果を表１に
示す。
【００５２】実施例１〜３ 温度計及び攪拌装置を備えた内容積１５０ｍＬのガラス
製耐圧反応容器に、参考例１で合成した錯体Ａを３．７
ｍｇと乾燥したトルエン８０ｍＬと、表１に示した所定
量のアミン化合物（またはアミド化合物）を入れ、混合
撹拌した。
製耐圧反応容器に、参考例１で合成した錯体Ａを３．７
ｍｇと乾燥したトルエン８０ｍＬと、表１に示した所定
量のアミン化合物（またはアミド化合物）を入れ、混合
撹拌した。
【００５３】反応容器を８０℃に加熱し、撹拌速度を１
４００ｒｐｍに調整後、エチレン圧により０．１５０ｍ
ｏｌ／Ｌのトリイソブチルアルミニウム／トルエン溶液
６．４ｍＬを導入して、エチレンの三量化反応を開始し
た。反応容器内の絶対圧力を５Ｋｇ／ｃｍ2となるよう
にエチレンガスを吹き込み、以後、前記圧力を維持する
ように導入し続け、これらの反応条件を保った状態で３
０分反応を行なった。３０分後、反応容器中に水を窒素
で圧入することによって触媒を失活させて反応を停止し
た。
４００ｒｐｍに調整後、エチレン圧により０．１５０ｍ
ｏｌ／Ｌのトリイソブチルアルミニウム／トルエン溶液
６．４ｍＬを導入して、エチレンの三量化反応を開始し
た。反応容器内の絶対圧力を５Ｋｇ／ｃｍ2となるよう
にエチレンガスを吹き込み、以後、前記圧力を維持する
ように導入し続け、これらの反応条件を保った状態で３
０分反応を行なった。３０分後、反応容器中に水を窒素
で圧入することによって触媒を失活させて反応を停止し
た。
【００５４】反応容器を室温まで冷却し、次いで脱圧し
た。反応液中にはポリエチレン等の固体分は認められな
かった。反応液及び回収した気体中に含まれる生成物を
ガスクロマトグラフィーにより分析した。結果を表１に
示す。
た。反応液中にはポリエチレン等の固体分は認められな
かった。反応液及び回収した気体中に含まれる生成物を
ガスクロマトグラフィーにより分析した。結果を表１に
示す。
【００５５】
【表１】
【００５６】
【発明の効果】本発明によれば、三脚型構造を有する中
性の多座配位子が配位したクロム錯体とアルキル金属化
合物と、アミン化合物またはアミド化合物からなるエチ
レンの三量化触媒は、安定で取り扱いが容易であり、し
かもこれを用いるとエチレンから効率よく、かつ高選択
的に１−ヘキセンを製造することができる。
性の多座配位子が配位したクロム錯体とアルキル金属化
合物と、アミン化合物またはアミド化合物からなるエチ
レンの三量化触媒は、安定で取り扱いが容易であり、し
かもこれを用いるとエチレンから効率よく、かつ高選択
的に１−ヘキセンを製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｆターム(参考） 4G069 AA02 AA06 AA08 BA21A BA21B BA27A BA27B BB08A BB08B BC04A BC16A BC16B BC35A BC58A BC58B BD01A BD03A BD12B BE01A BE01B BE02B BE05A BE13A BE13B BE14A BE14B BE21A BE25A BE32A BE33A BE33B CB47 DA02 FA01 FB05 4H006 AA02 AC21 BA09 BA14 BA44 BA47 BA51 4H039 CA19 CL19 4J028 AA01A AB00A AC42A BA00A BA01B BB00A BB00B BB01B BC01B BC05B BC06B BC09B BC12B BC15B BC16B BC17B BC19B BC24B BC27B CB63C CB65C CB67C CB72C CB73C CB74C CB77C EB02 GA02
Claims (6)
- 【請求項１】下記一般式（１） ＡＣｒＢn （１） （式中、ｎは１〜３の整数である。Ａは三脚型構造を有
する中性の多座配位子であり、Ｃｒはクロム原子、Ｂは
水素原子、ハロゲン原子、直鎖または分岐状のアルキル
基からなる群より選ばれる１種以上を表す。）で示され
る三脚型構造を有する中性の多座配位子が配位したクロ
ム錯体とアルキル金属化合物と、アミン化合物またはア
ミド化合物からなるエチレンの三量化触媒。 - 【請求項２】三脚型構造を有する中性の多座配位子が、
下記一般式（２） 【化１】 （式中、ｊ，ｋ，ｍはそれぞれ独立して０〜６の整数で
ある。Ｄ1はそれぞれ独立して、置換基を有していても
よい２価の炭化水素基、Ｌ1はそれぞれ独立して、周期
表１４族、１５族、１６族または１７族元素を含有する
置換基を表す。また、Ｇ1は炭素またはケイ素、Ｒ1は水
素基、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１
０のアリール基を表す。） または下記一般式（３） 【化２】 （式中、ａ，ｂ，ｃはそれぞれ独立して０〜６の整数で
あり、ｕは０または１の整数である。Ｄ2はそれぞれ独
立して、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、
Ｌ2はそれぞれ独立して、周期表１４族、１５族、１６
族または１７族元素を含有する置換基を表す。また、Ｇ
2は窒素またはリン、Ｒ2は酸素またはイオウを表す。）
で示される三座配位子であることを特徴とする請求項１
に記載のエチレンの三量化触媒。 - 【請求項３】三脚型構造を有する中性の多座配位子がｆ
ａｃｉａｌに配位したクロム錯体を用いることを特徴と
する請求項１または請求項２に記載のエチレンの三量化
触媒。 - 【請求項４】アルキル金属化合物が、下記一般式（４） ＲpＭＸq （４） （式中、ｐは０＜ｐ≦３であり、ｑは０≦ｑ＜３であっ
て、しかもｐ＋ｑは１〜３である。Ｍはリチウム、マグ
ネシウム、亜鉛、ボロンまたはアルミニウムを表し、Ｒ
は炭素数１〜１０のアルキル基からなる群より選ばれる
１種以上を表し、Ｘは水素原子、アルコキシド基、アリ
ール基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種以
上を表す。）で示される化合物であることを特徴とする
請求項１乃至請求項３に記載のエチレンの三量化触媒。 - 【請求項５】アミン化合物またはアミド化合物が、炭素
数３〜３０を有する炭化水素系で構成され３置換の窒素
原子を１個以上有する化合物であることを特徴とする請
求項１乃至請求項４に記載のエチレンの三量化触媒。 - 【請求項６】請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の
エチレンの三量化触媒の存在下で、エチレンを三量化す
ることを特徴とするエチレンの三量化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000263249A JP2002066329A (ja) | 2000-08-28 | 2000-08-28 | エチレンの三量化触媒及びこの触媒を用いたエチレンの三量化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000263249A JP2002066329A (ja) | 2000-08-28 | 2000-08-28 | エチレンの三量化触媒及びこの触媒を用いたエチレンの三量化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002066329A true JP2002066329A (ja) | 2002-03-05 |
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ID=18750818
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000263249A Pending JP2002066329A (ja) | 2000-08-28 | 2000-08-28 | エチレンの三量化触媒及びこの触媒を用いたエチレンの三量化方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002066329A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
2000
- 2000-08-28 JP JP2000263249A patent/JP2002066329A/ja active Pending
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