JP2002042708A - 半導体ウェハ等の板状の試料を装填する試料ホルダ及び荷電粒子ビーム装置 - Google Patents

半導体ウェハ等の板状の試料を装填する試料ホルダ及び荷電粒子ビーム装置

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JP2002042708A
JP2002042708A JP2000228718A JP2000228718A JP2002042708A JP 2002042708 A JP2002042708 A JP 2002042708A JP 2000228718 A JP2000228718 A JP 2000228718A JP 2000228718 A JP2000228718 A JP 2000228718A JP 2002042708 A JP2002042708 A JP 2002042708A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 静電チャック装置を組み込んで半導体ウェハ
等の板状の試料を吸着固定する試料ホルダであって、静
電チャック装置へのダストの吸着等の問題を回避した試
料ホルダとその機構を提供する。 【解決手段】試料ホルダ1に静電チャック2を組み込
み、機械的な試料位置合わせと一時的な試料位置の保持
のために、基準ピン4と駆動ピン5を設けた。試料ホル
ダ1側に接点6を、試料ステージ21側に接点24を設
けて、静電チャック2への電圧の印加は、試料ホルダ1
が試料ステージ21に装着されたときのみ行うようにし
た。更に、試料Wの装着・脱着を容易にし、かつダスト
の発生を押さえるために可倒型の補助リフト8を設け
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】 本発明は、荷電粒子ビーム
を用いた検査装置、加工装置あるいは描画装置等の装置
の使用に際して、半導体ウェハ等の板状の試料を装着す
る試料ホルダ及び試料交換室(予備排気室)と試料室と
を備えた荷電粒子ビーム装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体ウェハの径が大きくなり、
かつパターンが微細化するに従い、走査電子顕微鏡(S
EM)等の荷電粒子ビームを用いたウェハ等の検査装置
にとって、静電吸着力を利用した静電チャック装置は極
めて有用になっている。即ち、パターンの微細化に対応
すべく分解能を極限にまで高めたSEMにおいては、そ
の焦点深度が小さくなっているので、試料の表面は十分
に平坦であることが要求される。しかし試料の厚さが薄
くかつ径が大きい最近の半導体ウェハでは、試料を単に
試料ステージに載置し固定しただけでは、試料の表面は
十分に平坦にはならないからである。このようなとき、
静電チャック装置を用いれば平坦化は容易となる。
【0003】また、試料を試料ホルダに装填した上で試
料ホルダ側ごと装置に挿入する方式は、所定の形状以外
の材料を試料とする場合には、試料ホルダだけを交換す
ればよく、応用範囲が広がり大変便利な方法である。し
かしこの場合、当然静電チャック装置を試料ホルダ側に
組み込む必要がある。
【0004】しかしながら、静電チャック装置にも弱点
がある。即ち、静電によるダストの吸着と試料の離脱が
困難な場合があることである。また、静電チャック装置
を試料室に直接組み込むのではなく、試料ホルダ側に組
み込むようにすれば、吸着してしまったダストのクリー
ニングや静電チャック装置の保守は容易になるものの、
試料交換室から試料室に装着する際の静電チャック電源
との接続をどうするかとか、真空の排気やベントを頻繁
に行う試料交換室においてはダストが舞い上がり易く静
電チャックの吸着に伴いダストが静電チャックに吸着さ
れる可能性が高い等の問題がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した問
題点を解決すべくなされたものであり、静電チャック装
置を試料ホルダ側に組み込みながら静電チャック電源と
の接続問題を回避し、更には静電によるダストの吸着を
軽減し、試料の離脱も容易にすることを目的としてい
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明は、半導体ウェハ等の板状の試料を装着する試料
ホルダにおいて、該試料ホルダは、静電チャック装置
と、該静電チャック装置への受電端子手段と、前記試料
の位置を規定するための基準部と、前記試料を前記基準
部に押し当てて位置決めし、該位置を保持するための駆
動部とを備えたことを特徴とする。
【0007】更に加えて、前記試料ホルダには、前記試
料が前記駆動部によって駆動される方向に前記試料を乗
せて倒れるようになした可倒型の試料リフト手段を備
え、前記可倒型の試料リフト手段は前記駆動部と連動す
るようになしたたことを特徴とする。
【0008】また、試料交換室(予備排気室)と該試料
交換室(予備排気室)を介して試料ホルダを装填する試
料室とを備えた荷電粒子ビーム装置において、前記試料
ホルダには、静電チャック装置と、該静電チャック装置
への受電端子手段と、試料の位置を規定するための基準
部と、前記試料を前記基準部に押し当てて位置決めし、
該位置を保持するための駆動部とを備え、前記試料交換
室(予備排気室)には、前記駆動部を駆動する手段を備
え、前記試料室には、前記静電チャック装置に電力を供
給する手段を備えることを特徴とする。
【0009】更に加えて、前記試料ホルダには、前記試
料が前記駆動部によって駆動される方向に前記試料を乗
せて倒れるようになした可倒型の試料リフト手段を備
え、前記可倒型の試料リフト手段は前記駆動部と連動す
るようになしたことを特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
【0011】図1から図6は、本発明の試料ホルダおよ
び試料ホルダ機構の実施形態の一例を示している。図1
は試料ホルダの平面図であり、図2は断面図である。図
3は部分の詳細を説明するための図である。更に、図4
は試料交換室(予備排気室)の構成と試料ホルダの関係
と動作を説明するための図である。図5は試料室の構成
と試料ホルダの関係と動作を説明するための図である。
図6は試料室と試料交換室及び試料搬送装置との関係を
説明するための図である。
【0012】図6において、10は試料交換室(予備排
気室)、20は試料Wの検査、加工あるいは描画を行う
試料室である。図6の他の構成については後述する。
【0013】図1および2の構成で、Wは半導体ウェハ
試料、1は試料ホルダ、2は静電チャックであって、中
央に孔の開いたドーナツ型のものである。3は試料Wを
試料ホルダ1に装脱着する際、試料Wを支えるリフト
(後述する)が試料ホルダ1および静電チャック2貫通
するためのリフト貫通孔、4は試料Wの位置決めのため
の基準ピン、5は試料1の位置決め及び試料保持のため
の駆動ピン、6は静電チャック2に所望の電圧を印加す
るための接点、7は試料ホルダ1の基準面である。
【0014】駆動ピン5は、図3(a)に示すようなコ
の字型の板5bに取りつけられ、板5bは、図3(a)
(b)に示すようにばね5dで基準ピン4の方向に力が
与えられ、更に、図3(b)に示すように爪5aを有し
ている。更に、図1に示すように試料ホルダ1には貫通
孔1aが開けられ、駆動ピン5が試料ホルダ1の上面に
飛び出ているようになっている。図1において8は可倒
式の補助リフトである。補助リフト8は、図1の試料ホ
ルダ1に開けられた貫通孔1bを貫通して試料ホルダ1
の上面にその先端(図3(c)と(d)の頭部8a)が
飛び出ているようになっている。補助リフト8は、図3
(c)に示すように8bを支点とし、ばね8cで、試料
Wが駆動ピン5によって駆動される方向に試料Wを乗せ
て倒れるように力が与えられていて、頭部8aは静電チ
ャック2の上面よりも低くなっている。8dは補助リフ
ト8の駆動材である。駆動材8dを矢印方向に駆動する
(図示しないが、この駆動材8dは板5bと連結してい
て、図3(b)の爪5aが駆動されると同時に動く)と
補助リフト8が立ち上がって頭部8aが静電チャック2
の上面よりも高くなるようになっている。図3(d)は
可倒式の補助リフトの変形例である。ただし、この場合
は8dの駆動方向は図3(c)とは逆となる。
【0015】更に、図4(a)において、11は試料交
換室10内の試料ホルダ乗せ台、12は試料ホルダ1を
位置決めする位置決めピン、13は試料ホルダ1を位置
決めする際の駆動ピンであって、矢印の方向に駆動する
と試料ホルダ1は位置決め・固定される。14aは、リ
フト貫通孔3を貫通して試料Wを上下させるリフトであ
る。14はリフト14aを上下に駆動するためのリフト
駆動装置である。図4(b)において、15aは爪5a
を駆動する駆動材、15は駆動材15aと爪5aを介し
て駆動ピン5を駆動するための駆動ピン駆動装置であっ
て、駆動材15aを矢印方向に駆動すると、爪5aを介
して駆動ピン5が矢印方向に駆動され、試料Wの保持は
開放される。駆動ピン駆動装置15を駆動して駆動材1
5aを矢印の逆方向に駆動すると、ばね5dの働きで試
料Wは基準ピン4に押し付けられる。
【0016】更に、図5において、21は試料室内の試
料ステージであって、試料Wを所望の位置に移動・駆動
できる。22は試料ホルダ1の位置決めピン、23は試
料ホルダ1の位置決め及び保持のための駆動ピンであっ
て、矢印の方向に駆動すると試料ホルダ1は位置決め・
固定される。24は静電チャック2に所望の電圧を印加
するための試料ステージ21側の接点であって、試料ホ
ルダ1が位置決め・固定されると接点5と接点る24と
が接続される。
【0017】図6において、50はウェハ収納容器、5
1はウェハ収納容器50から検査装置の試料交換室(予
備排気室)10にウェハ試料1を搬送するための試料搬
送装置、52は試料交換室10内と装置外とを真空的に
遮断しかつ試料Wを出し入れするための仕切り弁、53
は同じく試料室21と試料交換室11との間の仕切り弁
である。54は試料Wの検査、加工あるいは描画を行う
ための荷電粒子ビーム光学系である。
【0018】このような構成の動作について次に説明す
る。
【0019】まず始めに、試料Wの装着の場合について
説明する。試料室20と試料交換室(予備排気室)10
との間の仕切り弁53を閉にし、試料交換室10内を図
示しない真空ベント弁によって大気圧にし、更に、試料
交換室10と装置外との間の仕切り弁52を開にする。
このとき、試料ホルダ乗せ台11に装着されている試料
ホルダ1は、位置決めピン12と駆動ピン13によって
決まる所定の位置にあり、更に、リフト14aは上方の
位置(リフト14aの上面が、静電チャック2の上面お
よび補助リフト8が立ち上がっているときの頭部8aよ
りも高い位置)にあり、かつリフト14a上に試料Wは
無い状態である。
【0020】次いで、試料搬送装置51によって、ウェ
ハ収納容器50からウェハ等の試料Wが取り出されてリ
フト14a上に載置される。試料Wがリフト14a上に
載置されると、試料交換室10と試料搬送装置51との
間の仕切り弁52を閉にして真空的に切り離し、図示し
ない真空排気装置によって試料交換室10内の大気は排
気され、試料交換室10内は真空となる。
【0021】試料Wを載置したリフト14aは、試料ホ
ルダ乗せ台11に設けられたリフト駆動装置14によっ
て、下方に下げられ、試料Wは補助リフト8の頭部8a
上に載置される。更に、試料ホルダ乗せ台11に設けら
れた駆動ピン駆動装置15が駆動ピン5を駆動すること
によって、試料Wは基準ピン4に押し付けられるように
して、位置決めされ、かつ水平方向には動かないように
保持されることになる。このとき、補助リフト8も連動
して基準ピン4の方向に倒されて、補助リフト8の頭部
8a上に乗った試料Wはスムーズに基準ピン4側に押し
付けられ位置決めされる。
【0022】試料Wが位置決めされると、駆動ピン13
は図示しない駆動装置によって位置決めピン12の逆の
方向に駆動され、試料ホルダ1の固定は開放される。次
いで、試料室20と試料交換室10との間の仕切り弁5
3を開にして、図示しない試料ホルダ移動装置によっ
て、試料ホルダ1は試料ホルダ乗せ台11から試料ステ
ージ21へと移動・装填される。続いて、駆動ピン23
は図示しない駆動装置によって位置決めピン22の方向
に駆動されると、試料ホルダ1の基準面7が位置決めピ
ン22に押し付けられるようにして位置決めされる。そ
して試料ホルダ1が位置決め・固定されると、それに伴
って試料ホルダ1に設けた接点6と試料ステージ21に
設けた接点24とが接続され、静電チャック2に所望の
電圧が印加されて、静電チャック2は吸着力を得て試料
Wを静電チャック2面上に吸着する。
【0023】このようにした後、試料W上の所望の場所
について、ウェハ検査装置であれば検査を行い、加工装
置であれば加工を行い、描画装置であれば描画を行う。
【0024】次に、試料Wの脱着の場合について説明す
る。まず、試料交換室10と装置外との間の仕切り弁5
2を閉にし、試料交換室10内を真空にした上で、試料
交換室10と試料室20との間の仕切り弁53を開に
し、図示しない駆動装置を駆動して駆動ピン23を位置
決めピン22の逆の方向に動かして緩めて、試料ホルダ
1が脱着可能な状態にした上で、図示しない前記試料ホ
ルダ移動装置によって、試料ホルダ1は試料ステージ2
1から試料ホルダ乗せ台11へと移動される。この操作
に伴って、試料ホルダ1に設けた接点6と試料ステージ
21に設けた接点24とが離れ、静電チャック2は吸着
力を失う。次いで、駆動ピン13の図示しない駆動装置
を駆動して駆動ピン13を位置決めピン12の方向に駆
動して、試料ホルダ1を位置決め・固定する。続いて、
駆動装置15が駆動ピン5を基準ピン4の逆の方向に駆
動することによって、駆動ピン5は試料Wから離れ、か
つ倒れていた補助リフト8が8dを介して立ち上がり、
頭部8aによって試料Wは確実に静電チャック2から離
脱すると共に、試料Wは基準ピン4からも離れる。更に
続いて、リフト14aが、リフト駆動装置14によっ
て、上方に上げられ、これと並行或いは前後して、試料
室20と試料交換室10との間の仕切り弁53を閉にす
る。
【0025】仕切り弁52が閉になったら、図示しない
前記真空ベント弁によって試料交換室10を大気圧にし
た上で、試料交換室10と装置外との間の仕切り弁52
を開にし、リフト14a上に載置されている試料Wを、
試料搬送装置51によって取りだし、前記ウェハ収納容
器50または別のウェハ収納容器に収める。
【0026】本発明では、上記のように、試料ホルダ1
に静電チャック2を組み込み、機械的な試料位置合わせ
と一時的な試料位置の保持のために、基準ピン4と駆動
ピン5を設け、更に、試料ホルダ1側に接点6を、試料
ステージ21側に接点24を設けて、静電チャック2へ
の電圧の印加は、試料ホルダ1が試料ステージ21に装
着されたときのみ行うようにした。更に、試料Wの装着
・脱着を容易かつ確実にするために可倒型の補助リフト
8を設けた。
【0027】以上本発明の実施の形態を説明したが、本
発明は上記形態に限定されるものではない。例えば、前
記実施の形態では、静電チャック2はドーナツ型としそ
の中央にリフト14aを貫通させたが、ドーナツ型でな
い静電チャックを用いてリフトは静電チャックの周りに
複数個設けてもよい。また、接点6および24は静電チ
ャック2への電圧印加用として説明したが、荷電粒子ビ
ームの吸収電流測定用の端子や試料にバイアス電圧を掛
けるための端子等の複数の接点を持たせてもよい。更
に、試料ホルダ1の基準面7は下に開いたテーパ型と
し、位置決めピン12、22、駆動ピン13、23等も
上に開いたテーパ型とすると試料ホルダ1の固定がより
確実にできる。同様に、駆動ピン5も上に開いたテーパ
型としてもよい。
【0028】更に、前記実施の形態では、可倒型補助リ
フト8は、駆動ピン5と連動して動くと説明したが、そ
れぞれ独立に駆動してもよい。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、機械的な試料位置合わせ機構を一時的な試料保持機
構として利用することによって、静電チャック2への電
圧の印加は試料室20内でのみで行うことができ、最も
ダストの舞い上がりが起こり得る試料交換室10内では
印加しないようにしたので、静電チャック2へのダスト
の吸着が押さえられる。また、これによって、試料交換
室10から試料室20への試料ホルダ1の移動の際の静
電チャック2への電圧供給のための機構を不要にした。
【0030】更に、可倒型の補助リフト8を設けること
によって、試料Wの位置合わせの際の静電チャック2の
上面と試料W下面との摩擦による抵抗やダストの発生を
防ぎ、更には静電チャック2からの試料Wの脱着を容易
にした。この補助リフト8の採用によって、ばね5dは
十分弱くでき、静電チャック2の吸着の際、無用な力が
試料Wに掛からず、試料W面の平坦化がスムーズに得ら
れる。更に、試料Wの脱着に際して、リフト14aで試
料Wを上方に上げるとき、この補助リフト8の作用によ
って、試料Wの周縁部が基準ピン4から離されるので、
ここでの摩擦による抵抗やダストの発生を防ぐことがで
きる。
【0031】また、試料ホルダ方式を採用したので、試
料の形状、厚さ、径等の異なる材料にも容易に対応可能
となり、静電チャック装置のクリーニングや保守が容易
になる。
【0032】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる試料ホルダの一実施例を示す平
面図である。
【図2】本発明にかかる試料ホルダの一実施例を示す断
面図である。
【図3】本発明にかかる試料ホルダの細部を説明するた
めの図である。
【図4】本発明にかかる試料ホルダの試料交換室(予備
排気室)内における構成と動作を説明するための図であ
る。
【図5】本発明にかかる試料ホルダの試料室内における
構成と動作を説明するための図である。
【図6】試料搬送装置と試料交換室(予備排気室)と試
料室との関係を説明するための図である。
【符号の説明】
W…半導体ウェハ試料、1…試料ホルダ、2…静電チャ
ック、3…リフト貫通孔、4…基準ピン、5…駆動ピ
ン、6…接点、7…基準面、8…補助リフト(可倒リフ
ト)、10…試料交換室(予備排気室)、11…試料ホ
ルダ乗せ台、12…位置決めピン、13…駆動ピン、1
4…リフト駆動装置、14a…リフト、15…駆動ピン
駆動装置、20…試料室、21…試料ステージ、22…
位置決めピン、23…駆動ピン、24…接点、50…ウ
ェハ収納容器、51…試料搬送装置、52…仕切り弁、
53…仕切り弁、54…荷電粒子ビーム光学系
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/68 H01L 21/68 R G Fターム(参考) 2G001 AA03 BA07 CA03 GA06 GA08 GA09 GA11 JA07 LA11 PA01 PA02 PA07 PA11 PA14 QA02 QA03 3C016 GA10 4M106 AA01 BA02 CA38 DB01 DB11 DB18 DJ03 5C001 AA01 AA02 BB07 DD01 5F031 CA02 FA01 FA12 HA16 HA33 KA02

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウェハ等の板状の試料を装着する
    試料ホルダにおいて、該試料ホルダは、静電チャック装
    置と、該静電チャック装置への受電端子手段と、前記試
    料の位置を規定するための基準部と、前記試料を前記基
    準部に押し当てて位置決めし、該位置を保持するための
    駆動部とを備えたことを特徴とする試料ホルダ。
  2. 【請求項2】 前記試料ホルダには、前記試料が前記駆
    動部によって駆動される方向に前記試料を乗せて倒れる
    ようになした可倒型の試料リフト手段を備えたことを特
    徴とする請求項1記載の試料ホルダ。
  3. 【請求項3】 前記可倒型の試料リフト手段は前記駆動
    部と連動するようになしたことを特徴とする請求項2記
    載の試料ホルダ。
  4. 【請求項4】 試料交換室(予備排気室)と該試料交換
    室(予備排気室)を介して試料ホルダを装填する試料室
    とを備えた荷電粒子ビーム装置において、前記試料ホル
    ダには、静電チャック装置と、該静電チャック装置への
    受電端子手段と、試料の位置を規定するための基準部
    と、前記試料を前記基準部に押し当てて位置決めし、該
    位置を保持するための駆動部とを備え、前記試料交換室
    (予備排気室)には、前記駆動部を駆動する手段を備
    え、前記試料室には、前記静電チャック装置に電力を供
    給する手段を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装
    置。
  5. 【請求項5】 前記試料ホルダには、前記試料が前記駆
    動部によって駆動される方向に前記試料を乗せて倒れる
    ようになした可倒型の試料リフト手段を備えることを特
    徴とする請求項4記載の荷電粒子ビーム装置。
  6. 【請求項6】 前記可倒型の試料リフト手段は前記駆動
    部と連動するようになしたことを特徴とする請求項5記
    載の荷電粒子ビーム装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020009880A (ja) * 2018-07-06 2020-01-16 株式会社日立ハイテクマニファクチャ&サービス 基板保持具及び走査型電子顕微鏡装置

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JP2020009880A (ja) * 2018-07-06 2020-01-16 株式会社日立ハイテクマニファクチャ&サービス 基板保持具及び走査型電子顕微鏡装置
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