JP6994437B2 - 基板保持具及び走査型電子顕微鏡装置 - Google Patents
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Description
図3は、本実施例に係る走査型電子顕微鏡本体におけるロードロック部の概略構成を示した正面断面図である。
図10は、標準Vノッチウェーハの一実施例の構成説明図である。
図11は、特殊Vノッチウェーハの一実施例の構成説明図である。
図5は、本実施例に係るノッチ係合固定ピン機構における相反移動機構の動作説明図である。
図8は、本実施例に係るウェーハ保持具のホールダに特殊Vノッチウェーハを載置する場合の説明図である。
2 ウェーハ、
2n 標準Vノッチウェーハ、
2s 特殊Vノッチウェーハ、
10 試料搬送装置、
S ウェーハ搬送空間、
11 カセット置き台、
12 試料搬送ロボット、
13 ウェーハ収納ケース、
14 プリアライナ、
20 走査型電子顕微鏡装置、
21 ロードロック部、
22 ステージ部、
23 鏡筒部、
24 ロードロック室、
25 試料室、
26 ホールダ、
27(27R、27L) ベアリング、
28 載置面、
29 試料ステージ、
31 筐体、
32(32R,32L) ベース、
33(33R,33L) レール、
34 ロードドア、
35 ゲートバルブ、
40 固定ピン、
40a ノッチ係合固定ピン。
40an 標準ウェーハ用ノッチ係合固定ピン、
40as 特殊ウェーハ用ノッチ係合固定ピン、
40b ノッチ非係合固定ピン、
41 可動ピン、
42(42a,42b,42c、42d、42e) 支持ピン、
45 Vノッチ、
46 回路パターン、
47 ダイ、
50 ノッチ係合固定ピン機構、
51 相反移動機構、
52 収容凹部、
53 揺動レバー、
54 ベアリング、
56 係止突起、
57 引張りばね。
Claims (6)
- 観察試料の基板が載置される載置面に立設され、前記載置面に載置された基板を保持する固定ピン及び可動ピンを備えた基板保持具であって、
前記固定ピンのうち、基板の周縁部に予め形成されている切欠部と係合し、基板の基板面に形成されたパターンの向きが所定向きになるように前記載置面に載置される基板の向きを規制する切欠部係合固定ピンを、切欠部の形成位置が互いに相異なる複数種類の基板それぞれに対応させた複数の基板別切欠部係合固定ピンで構成し、
前記各基板別切欠部係合固定ピンを、それぞれを対応する種類の基板の切欠部との係合位置と非係合位置との間で移動可能に保持し、かつ、前記一の基板別切欠部係合固定ピンが、当該一の前記基板別切欠部係合固定ピンとは対応しない種類の基板の前記載置面への載置により、当該一の基板別切欠部係合固定ピンと対応する種類の基板との非係合位置へ押動されることに連動して、前記他の基板別切欠部係合固定ピンを、当該他の基板別切欠部係合固定ピンと対応する種類の基板との係合位置へ押動する相反移動機構を備えた基板保持具。 - 請求項1記載の基板保持具であって、
前記切欠部の形成位置が互いに相異なる前記複数種類の基板は、標準切欠部基板と、前記標準切欠部基板とパターンの向きを同じにして、前記切欠部の配置位置が前記標準切欠部基板と所定角度ずれた特殊切欠部基板と、である基板保持具。 - 請求項1記載の基板保持具であって、
前記相反移動機構は、
一端側に前記一の基板別切欠部係合固定ピンが立設され、他端側に前記他の基板別切欠部係合固定ピンが立設され、回動可能に軸支された揺動レバーと、
前記載置面に基板が載置されていない状態で、前記基板別切欠部係合固定ピンそれぞれを前記切欠部との係合位置と非係合位置との間の中間位置に配置すべく、前記揺動レバーの回動向きを保持する引っ張りばねと、
を備えて構成されている基板保持具。 - 請求項3記載の基板保持具であって、
前記相反移動機構は、前記載置面に形成された凹部に設けられ、
前記基板別切欠部係合固定ピンを除く前記揺動レバーの回動面が、前記載置面から突出しない、基板保持具。 - 請求項1~4のいずれか1項に記載の基板保持具であって、
前記切欠部の形成位置が互いに相異なる前記複数種類の基板が、Vノッチ若しくはオリフラからなる切欠部の形成位置が互いに相異なる、基板面に回路パターンが形成された複数種類のウェーハである、基板保持具。 - ロードロック部と、ステージ部と、鏡筒部とが一体的に備えられた走査型電子顕微鏡装置であって、
請求項1~5のいずれか1項に記載の基板保持具が、前記ロードロック部のロードロック室に備えられている、走査型電子顕微鏡装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2018128974A JP6994437B2 (ja) | 2018-07-06 | 2018-07-06 | 基板保持具及び走査型電子顕微鏡装置 |
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Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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JP2020009880A JP2020009880A (ja) | 2020-01-16 |
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ID=69152142
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018128974A Active JP6994437B2 (ja) | 2018-07-06 | 2018-07-06 | 基板保持具及び走査型電子顕微鏡装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP6994437B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112602021A (zh) * | 2018-08-23 | 2021-04-02 | Asml荷兰有限公司 | 衬底支撑件、光刻设备、衬底检查设备、器件制造方法 |
JP7341918B2 (ja) * | 2020-02-06 | 2023-09-11 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置および基板処理方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2000294618A (ja) | 1999-04-05 | 2000-10-20 | Jeol Ltd | ウエハ保持機構 |
JP2002042708A (ja) | 2000-07-28 | 2002-02-08 | Jeol Ltd | 半導体ウェハ等の板状の試料を装填する試料ホルダ及び荷電粒子ビーム装置 |
JP2007227192A (ja) | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料保持装置および荷電粒子線装置 |
JP2008311351A5 (ja) | 2007-06-13 | 2009-07-30 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0997583A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-04-08 | Horon:Kk | 真空装置用ウエハ支持装置 |
JP2008311351A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
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2018
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2008311351A5 (ja) | 2007-06-13 | 2009-07-30 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020009880A (ja) | 2020-01-16 |
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