JP2001510434A - シリコン保護層を備えた溶融ポット、シリコン保護層を適用する方法及びその使用 - Google Patents
シリコン保護層を備えた溶融ポット、シリコン保護層を適用する方法及びその使用Info
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.溶融ポットと固化しつつある非鉄溶融物との接触の後溶融ポットと非鉄金 属との接着を回避するために窒化ケイ素保護層を備えた石英、グラファイト又は セラミック溶融ポットであって、該層は、0.3重量%乃至5重量%の酸素含有 率を有しそして長さ(l)対直径(d)比が<10である窒化ケイ素粉末を含ん で成ることを特徴とする溶融ポット。 2.該溶融ポットは、各場合に1000ppm以下のアルカリ金属含有率及び アルカリ土類金属含有率、2000ppm以下のフッ化物含有率、2000pp m以下の塩化物含有率、2000ppm以下の全炭素含有率及び、各場合に、窒 化ケイ素粉末1g当たり100粒子以下の鉄、クロム、コバルト、ニッケル、タ ングステン及び/又はチタン含有率を有することを特徴とする請求の範囲1に記 載の窒化ケイ素保護層を備えた溶融ポット。 3.窒化ケイ素粉末の平均粒子径が50μm以下であることを特徴とする請求 の範囲1又は2に記載の窒化ケイ素保護層を備えた溶融ポット。 4.窒化ケイ素粉末の2乃至100%が結晶学的β相から成ることを特徴とす る請求の範囲1〜3の1つ又は1つより多くに記載の窒化ケイ素保護層を備えた 溶融ポット。 5.窒化ケイ素粉末が無定形であることを特徴とする請求の範囲1〜3の1つ 又は1つより多くに記載の窒化ケイ素保護層を備えた溶融ポット。 6.窒化ケイ素粉末を溶媒に分散させ、次いで、懸濁液、スリップの又は粉末 としての、ブラッシング、噴霧、噴出、浸漬により、又は静電塗布により基材に 塗布し、次いで乾燥することを特徴とする請求の範囲 1〜5の1つ又はそれより多くに記載の窒化ケイ素保護層を適用する方法。 7.液体シリコンを保持しそして液体シリコンを結晶化させてシリコンブロッ ク、ロッド又はビレット及びシリコンウエーハ又はシリコングラニュールを形成 するための、シリコン溶融物の製造のための請求の範囲1〜5の1つ又はそれよ り多くに記載の窒化ケイ素保護層を備えた溶融ポットの使用。
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