JP2001500098A - ヒ素を含まないガラス - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.下方延伸ガラス製造方法を用い、得られたガラスがAs2O3と表されるヒ素 を0.2モルパーセント未満しか含有せず、該ガラスのβ−OHが約0.5未満とな るようにバッチ成分を選択することにより、ケイ酸塩シートガラスを溶融し、 形成することを特徴とするケイ酸塩ガラスの製造方法。 2.前記下方延伸ガラス製造方法がシート形成下方延伸方法であることを特徴と する請求の範囲第1項記載の方法。 3.前記バッチ成分および前記溶融工程における方法の制御変動要因が、前記β −OHが0.4未満となるように調節されることを特徴とする請求の範囲第2項 記載の方法。 4.前記バッチ成分および前記溶融工程における方法の制御変動要因が、前記β −OHが0.35未満となるように調節されることを特徴とする請求の範囲第2項 記載の方法。 5.前記溶融工程が、前記溶融または形成工程中にガラスが白金と接触させられ る下方延伸方法を用いて前記シートを形成することを含むことを特徴とする請 求の範囲第2項記載の方法。 6.前記溶融工程中の前記下方延伸方法が溶融方法であることを特徴とする請求 の範囲第5項記載の方法。 7.前記溶融工程がさらに、Sb2O3、CeO2、SnO2、Fe2O3、ハロゲン 化物含有化合物、およびそれらの混合物からなる群より選択される清澄剤を用 いることを含むことを特徴とする請求の範囲第2項記載の方法。 8.前記バッチ成分および方法の制御変動要因が、前記ガラスが0.1モルパーセ ント未満のAS2O3を含むように調節されることを特徴とする請求の範囲第3 項記載の方法。 9.前記バッチ成分および方法の制御変動要因が、前記溶融工程におけるガラス が実質的にヒ素を含まないように調節されることを特徴とする請求の範囲第5 項記載の方法。 10.前記溶融工程が、得られたガラスが0.02から1モルパーセントのSb2O3を 有 するような量でアンチモン含有材料を用いることを含むことを特徴とする請求 の範囲第2項記載の方法。 11.前記溶融工程が、得られたガラスにおいてハロゲン化物が約0.1から2モルパ ーセントとなるのに十分な量でハロゲン化物含有化合物を用いることを含むこ とを特徴とする請求の範囲第7項記載の方法。 12.前記溶融工程におけるハロゲン化物が塩素によるものであることを特徴とす る請求の範囲第11項記載の方法。 13.前記得られたガラスが、酸化物基準のモルパーセントで表して、60-73%の SiO2、8-14%のAl2O3、5-17%のB2O3、0-5%のTiO2、0-5%のTa 2O5、0-5%のMgO、1-13%のCaO、0-8%のSrO、および0-14%のBa O有するアルミノホウケイ酸塩ガラスからなることを特徴とする請求の範囲第 2項記載の方法。 14.前記得られたガラスが、アルカリ金属酸化物を実質的に含まず、630℃より も高い歪み点、および0℃-300℃の温度範囲に亘り32-46×10-7/℃の間の線熱 膨張係数を有することを特徴とする請求の範囲第13項記載の方法。 15.請求の範囲第1項記載の方法を用いて形成されたケイ酸塩ガラスシート。 16.請求の範囲第13項記載の方法を用いて形成されたケイ酸塩ガラスシート。 17.前記β−OHが0.4未満であることを特徴とする請求の範囲第16項記載のガ ラスシート。 18.前記β−OHが0.35未満であることを特徴とする請求の範囲第16項記載のガ ラスシート。 19.前記ガラスが、0.1モルパーセント未満のAs2O3を含むことを特徴とする 請求の範囲第16項記載のガラスシート。 20.前記ガラスがAs2O3を実質的に含まないことを特徴とする請求の範囲第16 項記載のガラスシート。 21.請求の範囲第19項記載による、フラットパネルディスプレイに使用する平ら なシートガラス基板。 22.前記ガラスが、アルカリ金属酸化物を実質的に含まず、630℃よりも高い歪 み点、および0℃-300℃の温度範囲に亘り32-46×10-7/℃の間の線熱膨張係数 を 有することを特徴とする請求の範囲第16項記載のガラスシート。 23.前記ガラスが、650℃より高い歪み点を有することを特徴とする請求の範囲 第16項記載のガラスシート。 24.下方延伸方法を用いて製造した、0.3モルパーセント末満のAs2O3および 約0.5未満のβ−OHを有する、平らな透明ガラスシート基板。 25.630℃よりも高い歪み点、および0℃-300℃の温度範囲に亘り32-46×10-7/ ℃の間の線熱膨張係数を有し、前記ガラスが、アルカリ金属酸化物を実質的に 含まず、酸化物基準のモルパーセントで表して、64-73%のSiO2、9.5-14% のAl2O3、5-17%のB2O3、0-5%のTiO2、0-5%のTa2O5、1-13%の CaO、0-8%のSrO、および0-14%のBaO、並びにSb2O3、CeO2、 SnO2、Fe2O3、およびそれらの混合物からなる群より選択された清澄剤 から実質的になることを特徴とする請求の範囲第24項記載の基板。 26.約640℃より高い歪み点を有することを特徴とする請求の範囲第25項記載の 基板。 27.前記β−OHが0.4未満であることを特徴とする請求の範囲第26項記載の基 板。 28.前記β−OHが0.35未満であることを特徴とする請求の範囲第26項記載の基 板。 29.前記ガラスが0.1モルパーセント未満のAs2O3を有することを特徴とする 請求の範囲第26項記載の基板。 30.前記ガラスがAs2O3を実質的に含まないことを特徴とする請求の範囲第26 項記載の基板。 31.前記ガラスが、下方延伸方法による形成に適した特性を有することを特徴と する請求の範囲第29項記載の基板。 32.前記ガラスが、溶融または形成中にガラスと接触する白金成分を用いた下方 延伸方法により作成されることを特徴とする請求の範囲第27項記載の基板。 33.白金の存在下で、1500℃より高い融点を有するケイ酸塩ガラス混合物を溶融 し、得られたガラスが、As2O3と表される0.2モルパーセント未満のヒ素を 含み、該ガラスのβ−OHが約0.5未満となるように前記溶融工程中のバッチ 成分を選択し、前記混合物からガラスシートを形成する各工程を含むことを特 徴と するケイ酸塩ガラスシートの製造方法。 34.前記バッチ成分および方法の制御変動要因が、前記β−OHが0.4末満とな るように調節されることを特徴とする請求の範囲第33項記載の方法。 35.前記バッチ成分および方法の制御変動要因が、前記β−OHが0.35未満とな るように調節されることを特徴とする請求の範囲第33項記載の方法。 36.前記溶融工程が、溶融スズバッチ上にガラスシートを浮かべない方法を用い て前記シートを形成することを含むことを特徴とする請求の範囲第33項記載の 方法。 37.前記溶融工程が、前記溶融または形成工程中にガラスが白金と接触させられ る下方延伸方法を用いて前記シートを形成することを含むことを特徴とする請 求の範囲第34項記載の方法。 38.前記下方延伸方法が溶融シート形成方法であることを特徴とする請求の範囲 第37項記載の方法。 39.前記バッチ成分および方法の制御変動要因が、前記ガラスが0.1モルパーセ ント未満のAs2O3を含むように調節されることを特徴とする請求の範囲第36 項記載の方法。 40.前記バッチ成分および方法の制御変動要因が、前記溶融工程における前記ガ ラスが実質的にヒ素を含まないように調節されることを特徴とする請求の範囲 第37項記載の方法。 41.酸化物基準モルパーセントで表して、60-73%のSiO2、8-14%のAl2O3 、5-17%のB2O3、0-5%のTiO2、0-5%のTa2O5、0-5%のMgO、1-13 %のCaO、0-8%のSrO、および0-14%のBaOを有するアルミノホウケ イ酸ガラスを含むことを特徴とする請求の範囲第36項記載の方法。 42.前記溶融工程における前記ガラスが、アルカリ金属酸化物を実質的に含まず 、630℃よりも高い歪み点、および0℃-300℃の温度範囲に亘る32-46×10-7/ ℃の間の線熱膨張係数を有することを特徴とする請求の範囲第41項記載の方法 。 43.約1500℃より高い融点を有し、Sb2O3、CeO2、SnO2、Fe2O3、ハ ロゲン化物含有化合物、およびそれらの混合物からなる群より選択される少な くとも1つの清澄剤を含み、少なくとも0.3モルパーセントのAs2O3および 約 0.5未満のβ−OHを有し、酸化物基準のモルパーセントで表して、60-73%の SiO2、8-14%のAl2O3、5-17%のB2O3、0-5%のTiO2、0-5%のTa 2O5、0-5%のMgO、1-13%のCaO、0-8%のSrO、および0-14%のBa Oから実質的になることを特徴とするケイ酸塩ガラスシート。 44.前記β−OHが0.4未満であることを特徴とする請求の範囲第43項記載のガ ラス。 45.前記β−OHが0.35未満であることを特徴とする請求の範囲第43項記載のガ ラス。 46.前記ガラスが0.1モルパーセント未満のAs2O3を含むことを特徴とする請 求の範囲第43項記載のガラス。 47.前記ガラスが実質的にAs2O3を含まないことを特徴とする請求の範囲第43 項記載のガラス。 48.前記ガラスが下方延伸方法による形成に適した特性を有することを特徴とす る請求の範囲第43項記載のガラス。 49.前記ガラスの液相線粘度が約600,000ポアズより大きいことを特徴とする請 求の範囲第43項記載のガラス。 50.前記ガラスが、アルカリ金属酸化物を実質的に含まず、630℃より高い歪み 点、0℃-300℃に亘る32-46×10-7/℃の間の線熱膨張係数、および5重量%の HCl水溶液中への24時間に亘る浸漬後の2mg/cm2未満の損失重量を有す ることを特徴とする請求の範囲第43項記載のガラス。 51.約640℃より高い歪み点を有することを特徴とする請求の範囲第50項記載の ガラス。 52.製造システムの溶融、状態調節、清澄、または形成の部分の最中に白金また はモリブデンの存在下で形成されるケイ酸塩シートガラスであって、Sb2O3 、CeO2、SnO2、Fe2O3、ハロゲン化物含有化合物、およびそれらの混 合物からなる群より選択される少なくとも1つの清澄剤を含み、少なくとも0. 3モルパーセントのAs2O3および約0.5未満のβ−OHを有することを特徴と するガラス。 53.前記バッチ成分および方法の制御変動要因が、前記β−OHが約0.45未満と なるように調節されることを特徴とする請求の範囲第1項記載の方法。 54.前記β−OHが約0.45未満であることを特徴とする請求の範囲第25項記載の 基板。 55.前記溶融および形成工程が、その中に清澄剤を用いることを含むことを特徴 とする請求の範囲第1項記載の方法。 56.前記得られたガラスが、酸化物基準のモルパーセントで表して、60-77%の SiO2、8-14%のAl2O3、および5-17%のB2O3を有するケイ酸塩ガラス からなることを特徴とする請求の範囲第1項記載の方法。
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