JP2001332688A - 電力配線構造及び半導体装置 - Google Patents
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Abstract
を提供する。 【解決手段】相補的に開閉するスイッチング素子4、5
が2個直列に接続された回路で、その両端に電源からの
電力線が接続され、前記2個のスイッチング素子の接続
点から負荷への出力線を引出した回路であって、前記両
端の電力線を高電位側のPと低電位側のNとし、前記出
力線をUとし、前記P、NおよびUをそれぞれ厚さより
も幅が大きい幅広電極で形成し、かつ、相互に絶縁体を
介してPUNの順に厚さ方向に積層して3層幅広電極構
造とした電力配線構造。出力線Uに流れるのと同じ電流
がP電力線またはN電力線のどちらかを出力線Uと反対
方向に流れるため、電流によって発生する磁界を相殺す
ることが出来、それによって配線のインダクタンスを効
果的に低減できる。
Description
グ素子を用いた電力変換装置における低インダクタンス
配線構造に関する。
間隔で対向させて配置し、これらに逆方向の電流を流す
と、発生する磁界が相殺されて減少するので、電極のイ
ンダクタンスを低減できることが一般的に知られてお
り、高電位側のP電力母線と低電位側のN電力母線と
を、上記のような2層の対向電極構造としてインダクタ
ンスを低減する従来技術としては特開平6−38507
号公報に記載されたものがある。
化したインバータモジュール内部でも前記と同様の効果
を期待してPN電力母線を2層の対向電極構造にする場
合があるが、実際の電流の流れ方を観ると、PまたはN
母線に流れる電流は出力線Uを流れて負荷に供給される
ため、必ずしも対向した電極に逆方向の同じ値の電流が
流れるわけではなく、ループを描いて電流が流れること
が判る。例えば図9に示すごときU−V2相のインバー
タモジュール1において、U相とV相のそれぞれの回路
でP母線とN母線とを対向電極として配置した場合、黒
太線で示した経路と大きな矢印で示すようなループの経
路とを介して電流が流れるので、丸で囲んだAとBの部
分(インバータモジュールの外部)では相互に逆方向の
電流が流れて磁界が相殺されるが、インバータモジュー
ル1の内部では発生する磁界が相殺されず、したがって
配線のインダクタンスを低減する効果が十分に得られな
いという問題があった。なお、インバータの素子がスイ
ッチングをするとインダクタンスLの大きさに比例した
サージ電圧V=−L・di/dtを発生するため、配線
のインダクタンスが大きいと、大きなサージ電圧が発生
してスイッチング素子を破損してしまうおそれがある。
このため、スイッチング素子の破損を防止する目的でス
ナバ回路を設けることがあるが、これによれば部品点数
が増加するので、装置の大型化とコストが高くなるとい
う問題が新たに発生する。また、スナバ回路を使用しな
い方法として、スイッチングの速度を遅くすることによ
りサージ電圧の低減が可能であるが、この方法ではスイ
ッチングの高周波化を阻害し、かつ、スイッチング時間
が長くなることにより、スイッチング損失が増加して素
子が発熱し、放熱器が大型化すると共に効率も低下する
という問題が新たに発生する。
決するためになされたものであり、低インダクタンス化
を可能にした電力配線構造を提供することを目的とす
る。また、本発明においては上記の電力配線構造を用い
た半導体装置を提供することも目的としている。
的に開閉するスイッチング素子が2個直列に接続された
回路で、その両端に電源からの電力線が接続され、前記
2個のスイッチング素子の接続点から負荷への出力線を
引出した回路であって、前記両端の電力線を高電位側の
Pと低電位側のNとし、前記出力線をUとし、前記P、
NおよびUをそれぞれ厚さよりも幅が大きい幅広電極で
形成し、かつ、相互に絶縁体を介してPUNの順に厚さ
方向に積層して3層幅広電極構造としている。なお、上
記の相補的に開閉するスイッチング素子が2個直列に接
続された回路とは、例えばインバータ回路、インバータ
回路が2個並列に組み合わされたHブリッジ回路、或い
はインバータ回路が3個並列に組み合わされた3相イン
バータ回路などに相当する。
考えると、出力線Uに流れるのと同じ電流がP電力線ま
たはN電力線のどちらかを出力線Uと反対方向に流れる
ため、電流によって発生する磁界を相殺することが出来
るので、配線のインダクタンスを効果的に低減できる。
においては、上記の3層幅広電極構造を利用し、インバ
ータモジュール内部の配線(ボンディングワイヤ等によ
る配線)も磁界が相殺されるように配置することによ
り、インバータ内部の配線におけるインダクタンスも有
効に低減することが出来るように構成している。
るインダクタンスを効果的に低減できる。そのため、高
速でスイッチングを行っても大きなサージ電圧によって
スイッチング素子を破損してしまうおそれがなくなる。
このためスナバ回路を設ける必要がなく、装置の小型化
と低コスト化が可能である。また、スイッチングの速度
を速くすることが可能なので、スイッチング損失が低減
でき、素子発熱の低減および効率の向上という効果が得
られる。また、インバータモジュール内部の配線におけ
るインダクタンスも有効に低減することが出来る。
であり、(a)は回路図、(b)は電力配線構造の基本
的構成を示す斜視図、(c)は接続部分の構造を示す図
である。
を直列に接続した単相のインバータ回路に本発明を適用
した場合の例である。図1において、1はインバータモ
ジュール、2は負荷、3は電源である。また、4と5は
スイッチング素子であり、6と7は平滑用コンデンサで
ある。なお、ここではスイッチング素子をトランジスタ
で示しているが、トランジスタ以外にサイリスタ等の他
のスイッチング素子を用いてもよい。また、スイッチン
グ素子には還流ダイオードが並列に接続されている。
接続する配線(インダクタンスの記号で示す)は、図1
(b)に示すように、高電位側のP母線と低電位側のN
母線とが、出力線Uを挟んでPUNの順に積層された3
層構造を有する。なお、上記P、NおよびUの各線は、
それぞれ厚さよりも幅が大きい幅広電極で形成されてお
り、かつ、相互に絶縁体(図示省略)を介して厚さ方向
に積層されている。また、接続線の端部は図1(c)に
示すように、出来るだけ端まで3層構造を保ち、末端部
で別れるようになっている。
4と5は逆位相でオン、オフする。例えばスイッチング
素子4がオンの時はスイッチング素子5はオフであり、
このとき図1(a)に黒太線で示す経路(電源3の+端
子→スイッチング素子4→平滑用コンデンサ7→負荷2
→電源3の−端子)を通って電流が流れる。したがって
上記の経路を構成する配線(前記の3層幅広電極)にお
いては、丸で囲んだA、B、C、D、Eの各部分で相互
に逆方向の電流が流れて磁界が相殺される。逆に、スイ
ッチング素子4がオフの時はスイッチング素子5はオン
であり、「電源3の+端子→平滑用コンデンサ6→負荷
2→スイッチング素子5→電源3の−端子」の経路で電
流が流れる。したがってこの場合にも電流経路となる配
線の各部において相互に逆方向の電流が流れて磁界が相
殺される。したがってインダクタンスを大幅に低減する
ことが出来ると共に、電磁波の放射も低減出来る。
モジュールに適用した例を示す図であり、(a)は回路
図、(b)は接続部分の構造を示す図である。図2にお
いて、インバータモジュール1は、トランジスタとダイ
オードの並列回路からなるスイッチング素子2個が1組
となったスイッチングブロック14と、同じ構成のスイ
ッチングブロック15とからなる。また、配線を構成す
る3層幅広電極は、P母線とN母線との間に、U相とV
相の2相の電極がそれぞれの部分に挟まれた構造となっ
ている。このようにU−V2相のインバータモジュール
においても前記図1と同様に、配線の各部分において相
互に逆方向の電流が流れて磁界が相殺されるので、イン
ダクタンスを大幅に低減することが出来る。なお、3相
以上のインバータモジュールにおいても同様である。
により単相インバータを複数個並列接続して多相インバ
ータモジュールを構成する場合について説明をしたが、
スイッチング素子を直接に電気的接続する内部電極にお
いても、各相を接続する電極を前記図1(b)に示すご
とき3層広幅電極構造とすることにより、同様にインダ
クタンスを低減することができると共に、電磁波の放射
も低減出来る。
実施例を示す図であり、(a)は斜視図、(b)は
(a)のA−A断面図、(c)は(a)のB−B断面
図、(d)は(a)のC−C断面図である。図3ではU
−V−W3相インバータの場合における出力線の引き出
し構造を示す。PN電力母線に挟まれた各出力線をV相
を中心に一点に集結し、各出力線をPN母線の間から引
き出した部分からすぐに重ねる構造とする。A−A断面
ではUVWの3相が平面上の並んでいるが、B−B断面
ではU相とW相が屈曲してV相を挟む形となり、C−C
断面ではUVWの3相が重なっている。このような3層
幅広電極の厚さは全体的にほぼ電極板3枚分(正確には
これに薄い絶縁層分が加わる)であり、構造が簡単で、
製造も容易である。なお、UVWの3相が重なる部分は
相互に絶縁されることは当然である。
ら引き出すところで各出力線が単独となるため、出力線
のインダクタンスを低減できない部分が生じる。また、
電流が配線電極の中心を流れると近似して考えると、引
き出し部の出力線のUVW電極の中心は間隔を開けて並
んでいるため、この部分ではPN母線の電流と対向して
流れる電流が存在しないことになり、PN母線のインダ
クタンスも部分的に低減できていない。
図4(a)は斜視図、(b)は(a)のA−A断面図、
(c)は(a)のB−B断面図である。図4の構造で
は、A−A断面に示すように、PN母線に挟まれた位置
で、UVWの各出力線をV相を中心にして一点に集結
し、3枚の出力線を重ねた後にPN母線から引き出す構
造としている。このような構造にすることにより、出力
線が単独になることがないため、出力線のインダクタン
スを確実に低減できる。また、PN母線の間で出力線を
重ねるため、PN母線の電流と出力線の電流が対向して
流れることになり、引き出し部でのPN母線のインダク
タンスも効果的に低減できる。
ついて本発明を適用した場合を説明する。図5はインバ
ータモジュールの一実施例図であり、(a)は斜視図、
(b)は回路図である。この半導体装置は前記図1に示
した単相のインバータ回路に相当する。図5において、
20は絶縁基板、21はスイッチング用のトランジス
タ、22は還流ダイオード、23はトランジスタ21の
ゲートへの信号線を接続するための導電箔であり、これ
らは上アームのスイッチング素子(図1のスイッチング
素子4に相当)を構成している。同様に絶縁基板24、
トランジスタ25、還流ダイオード26は下アームのス
イッチング素子(図1のスイッチング素子5に相当)を
構成している。上記の上アームと下アームのスイッチン
グ素子は、3層幅広電極29の両側に分かれて設置され
る。上記のトランジスタ21、25と還流ダイオード2
2、26は、それぞれ導電箔28等上に設置され、それ
ぞれの下面電極は導電箔に接続されている。そして上記
トランジスタ等の上面電極はボンディングワイヤ30を
介して3層幅広電極29に接続され、また、上記導電箔
もボンディングワイヤ30を介して3層幅広電極29に
接続される。図5においては、上アームの高電位側(上
面電極)がワイヤボンディングを介してP電極に接続さ
れ、上アームの低電位側(下面電極)がU電極に接続さ
れ、下アームの高電位側がU電極に接続され、下アーム
の低電位側がN電極に接続されている。また、図5に示
すように、トランジスタと還流ダイオードとが3層幅広
電極29に沿って平行に並ぶ場合には、絶縁基板上の金
属箔はトランジスタ用と還流ダイオード用とが分離さ
れ、それぞれがワイヤボンディングによって3層幅広電
極29に接続される。また、上アームのトランジスタ2
1と還流ダイオード22は3層幅広電極29を挟んで下
アームの還流ダイオード26とトランジスタ25に対向
している。
よび還流ダイオードに流れる電流は入力電流と出力電流
が対向して逆方向に流れるため、インダクタンスが低減
される。また、上下アームのトランジスタと還流ダイオ
ードが対向して配置されるため、トランジスタがオフす
ると直ちに対向している還流ダイオードに電流が還流す
る。そして配線長が短いためインダクタンスが小さい。
動作時の電流の流れを説明するための図であり、左半分
は回路図、右半分は断面図である。図6において、
(a)は上アームのトランジスタ21がオンの状態、
(b)は上アームのトランジスタ21がオフになって下
アームの還流ダイオード26に電流が還流した状態、
(c)は下アームのトランジスタ25がオンの状態、
(d)は下アームのトランジスタ25がオフになって上
アームの還流ダイオード22に電流が還流した状態を示
す図である。図6に示すように、3層幅広電極29およ
びボンディングワイヤ30を介して流れる電流は、図6
に矢印で示したように、入力方向と出力方向とが全て対
向して流れるので、発生する磁界を有効に相殺すること
ができ、したがってインダクタンスを大幅に低減出来る
と共に電磁波の放射も低減出来る。
ドの他の配置を示す断面図である。まず、図7(a)に
示す配置においては、上下アームのそれぞれにおいて、
3層幅広電極29の近傍に還流ダイオード22、26を
配置し、その外側にトランジスタ21、25を配置して
いる。このように還流ダイオードとトランジスタとが3
層幅広電極29の両側に縦方向(3層幅広電極29に対
して直角方向)に並ぶ場合には、絶縁基板31上の金属
箔32、33はトランジスタと還流ダイオードに供用で
きるため、3層幅広電極29に接続するワイヤボンディ
ングが共通となり、製造が簡易になる。この場合にも上
下アームのトランジスタと還流ダイオードが対向して配
置されるため、図5の場合と同様にインダクタンスが小
さい。
極29を傾けて設置することにより、上アームと下アー
ムの接続位置の高さを同じにしたものである。このよう
に構成することにより、上下アームの配線長を均一にし
てインダクタンスを均一にすることができる。そのた
め、上下アームの間でのサージ電圧が均一になり、電気
特性のバランスが良くなる。なお、図7(b)において
は、トランジスタと還流ダイオードの部分は省略して表
示しているが、この部分は図7(a)のような配置でも
図5のような配置でもよい。
す斜視図であり、3層幅広電極29の片側に並べて配置
した例を示す。図8(a)は前記図5のようにトランジ
スタと還流ダイオードを3層幅広電極29に平行に配置
した例、図8(b)は前記図7(a)のように還流ダイ
オードとトランジスタを3層幅広電極29に対して縦方
向に配置した例を示す。図8に示す構造では、半導体素
子を集約出来るため、製造が容易になる。また、図8
(a)においては図5と同様に、トランジスタの配線が
短いため、インダクタンスが小さくなる。また、図8
(b)においては、図7(a)と同様に基板上の金属箔
やワイヤボンディングが共通となり、製造が簡易にな
る。なお、これまでの実施例において、絶縁基板を上ア
ームと下アームとで別けて表示した場合もあるが、共通
の絶縁基板を用いてもよい。
路図、(b)は電力配線構造の基本的構成を示す斜視
図、(c)は接続部分の構造を示す図。
適用した例を示す図であり、(a)は回路図、(b)は
接続部分の構造を示す図。
り、(a)は斜視図、(b)は(a)のA−A断面図、
(c)は(a)のB−B断面図、(d)は(a)のC−
C断面図。
あり、(a)は斜視図、(b)は(a)のA−A断面
図、(c)は(a)のB−B断面図。
の一実施例図であり、(a)は斜視図、(b)は回路
図。
の流れを説明するための図であり、(a)は上アームの
トランジスタ21がオンの状態、(b)は上アームのト
ランジスタ21がオフになって下アームの還流ダイオー
ド26に電流が還流した状態、(c)は下アームのトラ
ンジスタ25がオンの状態、(d)は下アームのトラン
ジスタ25がオフになって上アームの還流ダイオード2
2に電流が還流した状態を示す図。
す断面図。
チング素子 6、7…平滑用コンデンサ 14、15…スイ
ッチングブロック 20…絶縁基板 21…スイッチ
ング用のトランジスタ 22…還流ダイオード 23…導電箔 24…絶縁基板 25…トランジ
スタ 26…還流ダイオード 27、28…導
電箔 29…3層幅広電極 30…ボンディ
ングワイヤ 31…絶縁基板 32、33…金
属箔
Claims (11)
- 【請求項1】相補的に開閉するスイッチング素子が2個
直列に接続された回路で、その両端に電源からの電力線
が接続され、前記2個のスイッチング素子の接続点から
負荷への出力線を引出した回路であって、 前記両端の電力線を高電位側のPと低電位側のNとし、
前記出力線をUとし、前記P、NおよびUをそれぞれ厚
さよりも幅が大きい幅広電極で形成し、かつ、相互に絶
縁体を介してPUNの順に厚さ方向に積層して3層幅広
電極構造としたことを特徴とする電力配線構造。 - 【請求項2】前記負荷に接続される出力線Uが多相の場
合に、それら多相の出力線が前記P電極と前記N電極に
挟まれた位置で1個所に重ね合わされて引出されること
を特徴とする請求項1に記載の電力配線構造。 - 【請求項3】電力線を高電位側のPと低電位側のNと
し、出力線をUとし、前記P、NおよびUをそれぞれ厚
さよりも幅が大きい幅広電極で形成し、かつ、相互に絶
縁体を介してPUNの順に厚さ方向に積層した3層幅広
電極と、 第1の絶縁基板上に選択的に設けられた第1の導電層
と、 前記第1の導電層上に配置され、前記第1の導電層に下
面電極が電気接続された第1の半導体チップと、 第2の絶縁基板上に選択的に設けられた第2の導電層
と、 前記第2の導電層の上に配置され、前記第2の導電層に
下面電極が電気接続された第2の半導体チップと、 前記3層幅広電極のP電極に前記第1の導電層を電気接
続する手段と、 前記3層幅広電極のU電極に前記第1の半導体チップの
上面電極を電気接続する手段と、 前記3層幅広電極のN電極に前記第2の半導体チップの
上面電極を電気接続する手段と、 前記3層幅広電極のU電極に前記第2の導電層を電気接
続する手段と、を備えた半導体装置。 - 【請求項4】前記3層幅広電極を挟んで、前記第1の絶
縁基板と前記第2の絶縁基板とを配置したことを特徴と
する請求項3に記載の半導体装置。 - 【請求項5】前記3層幅広電極を挟んで、前記第1の絶
縁基板と前記第2の絶縁基板とを配置し、かつ、前記第
1の絶縁基板側への配線と前記第2の絶縁基板側への配
線との接続位置の高さが同じになるように、前記3層幅
広電極を傾けて配置したことを特徴とする請求項3に記
載の半導体装置。 - 【請求項6】前記3層幅広電極の片側に前記第1の絶縁
基板と前記第2の絶縁基板とを前記3層幅広電極と平行
に並べて配置したことを特徴とする請求項3に記載の半
導体装置。 - 【請求項7】前記半導体チップはスイッチング素子と還
流ダイオードからなり、該スイッチング素子と還流ダイ
オードを前記3層幅広電極に対して平行に配置し、か
つ、前記スイッチング素子と還流ダイオードの下面電極
が接続される導電層を別個に分離して設けたことを特徴
とする請求項3乃至請求項6の何れかに記載の半導体装
置。 - 【請求項8】前記半導体チップはスイッチング素子と還
流ダイオードからなり、該スイッチング素子と還流ダイ
オードを前記3層幅広電極に対して縦方向に配置したこ
とを特徴とする請求項3乃至請求項6の何れかに記載の
半導体装置。 - 【請求項9】前記電気接続する手段はボンディングワイ
ヤであることを特徴とする請求項3乃至請求項8の何れ
かに記載の半導体装置。 - 【請求項10】下面電極に接続するボンディングワイヤ
の引出し方向と、半導体チップの上面に接続するボンデ
ィングワイヤの引出し方向とが、同じであることを特徴
とする請求項9に記載の半導体装置。 - 【請求項11】前記第1の絶縁基板と前記第2の絶縁基
板が共通の一つの基板からなることを特徴とする請求項
3乃至請求項10の何れかに記載の半導体装置。
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