JP2001330706A - 減反射材およびその用途 - Google Patents

減反射材およびその用途

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JP2001330706A
JP2001330706A JP2000147863A JP2000147863A JP2001330706A JP 2001330706 A JP2001330706 A JP 2001330706A JP 2000147863 A JP2000147863 A JP 2000147863A JP 2000147863 A JP2000147863 A JP 2000147863A JP 2001330706 A JP2001330706 A JP 2001330706A
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meth
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reflection
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Application number
JP2000147863A
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English (en)
Inventor
Takayuki Nojima
孝之 野島
Yoshihiro Morimoto
佳寛 森本
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Original Assignee
NOF Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】反射光及び減反射材自身の着色が少なく、かつ
高い硬度を併せ持つ減反射材を提供する。 【解決手段】透明基材の表面に1層の密着層を設け、そ
の上に最外層となる低屈折率層を備えてなる減反射材に
おいて、透明基材と密着層との屈折率差が0.04以下
である減反射材。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は反射光及び減反射材
自身の着色が少なく、かつ高い硬度を併せ持つ減反射
材、およびそれを用いた電子画像表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】透明基板の最外層に、基板よりも低屈折
率の物質からなる低屈折率層を可視光波長の1/4の膜
厚(約100nm)で形成すると、干渉効果により表面
反射が低減し、透過率が向上することが知られており、
電気製品や光学製品、建材等の透明基板部分における表
面反射の低減が必要とされる分野において、減反射材と
して応用されている。
【0003】減反射層の形成方法としては、フッ化マグ
ネシウム等を蒸着、スパッタリングするいわゆるドライ
コーティング法(特開昭63−261646号公報)、
および材料を溶液や分散液など液状で基材に塗布し、乾
燥させ、必要に応じて硬化させるウェットコーティング
法(特開平7−48543号公報、特開平9−3140
38号公報)の二方法が知られている。これらのうちド
ライコーティング法は高真空の大型設備が必要で、生産
性が低いなどの問題があった。一方、ウェットコーティ
ング法は設備投資が少なく、また生産性および大面積化
への対応の点で優れている。
【0004】ウェットコーティング法では透明基材に直
接低屈折率層をコーティングした単層減反射材、および
透明基材に基材から順にハードコート層、高屈折率層、
低屈折率層をコーティングした3層減反射材が一般的に
知られている。しかし単層減反射材では鉛筆硬度、耐擦
傷性などの表面強度が十分でないといった問題があっ
た。また高屈折率層と低屈折率層を組み合わせた減反射
材では、反射光及び減反射材自身の着色が強くなるとい
う問題があった。これは、屈折率差の大きな層を組み合
わせた場合、最小反射率波長付近の反射率は大きく低下
するが、それ以外の波長領域では、基材と同じか、もし
くはそれ以上の反射率となり、反射率のスペクトルがい
わゆる“V字型”になるためにおこる現象である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第1の目的
は、反射光及び減反射材自身の着色が少なく、かつ高い
硬度を併せ持つ減反射材を提供することにある。本発明
の第2の目的は、前記の減反射材の用途を提供すること
にある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
に鑑み鋭意検討した結果、透明基材との屈折率差の小さ
い密着層と特定の低屈折率層を組み合わせることで、反
射光及び減反射材自身の着色が少なく、かつ高い硬度を
合わせ持つ減反射材が作成できることを見いだし、本発
明を完成するに至った。すなわち、本発明は次の(1)
〜(9)である。
【0007】(1)透明基材の表面に1層の密着層を設
け、その上に最外層となる低屈折率層を備えてなる減反
射材において、透明基材と密着層の屈折率差が0.04
以下である減反射材。
【0008】(2)可視光領域における最大反射率と最
小反射率との差が1.0%以下である前記(1)に記載
の減反射材。
【0009】(3)低屈折率層の屈折率が1.30〜
1.48であり、かつ直下の密着層の屈折率より0.0
1以上低い前記の(1)または前記の(2)に記載の減
反射材。
【0010】(4)透明基材がハードコート性若しくは
防眩性を合わせ持つ前記の(1)〜(3)に記載の減反
射材。
【0011】(5)密着層が多官能アクリレートを含む
紫外線硬化組成物を重合硬化してなる前記(1)〜
(4)のいずれか1つに記載の減反射材。
【0012】(6)低屈折率層が含フッ素多官能アクリ
レートを含む紫外線硬化組成物を重合硬化してなる前記
(1)〜(5)のいずれか1つに記載の減反射材。
【0013】(7)低屈折率層の含フッ素多官能アクリ
レートが下記の式[1]
【0014】
【化3】
【0015】[式中X1及びX2は、同一若しくは異なる
基であって、水素原子又はメチル基を示し、Y1は、
(i)水酸基を0〜4個有し、2個〜24個のフッ素原
子を有する炭素数1〜14のフルオロアルキレン基、
(ii)フッ素原子を4個以上有する炭素数3〜14のフ
ルオロシクロアルキレン基、(iii)−C(Y2)HCH
2−基(但しY2は、フッ素原子を3個以上有する炭素数
1〜14のフルオロアルキル基、フッ素原子を4個以上
有する炭素数3〜14のフルオロシクロアルキル基を示
す。)、若しくは、(iv)下記の式[2]
【0016】
【化4】
【0017】(ここでY3、Y4は、どちらか一方が水素
原子、かつ他方はフッ素原子3個〜24個を有する炭素
数1〜14のフルオロアルキル基、Z1は水素原子又は
炭素数1〜3のアルキル基、Z2は水素原子又は(メ
タ)アクリロイル基を示す。)で表される基であり、
m、nは1または2の数である。]で表わされる2官能
ないし4官能の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エス
テルである前記(6)に記載の減反射材。
【0018】(8)透明基材の裏面に接着層を設けてな
る前記(1)〜(7)のいずれか1つに記載の減反射
材。
【0019】(9)前記(1)から(8)のいずれか1
つに記載の減反射材を用いた電子画像表示装置。
【0020】
【発明の実施形態】本発明において、密着層とは、低屈
折率層と前記の透明基材との間に、硬度の向上の付与を
目的として設ける層である。この層を設けることで、透
明基材と低屈折率層との密着性が向上し、密着層を設け
ず低屈折率層を基材に直接塗工した減反射材と比較し
て、耐擦傷性、耐摩耗性を著しく向上させることができ
る。
【0021】密着層と透明基材との屈折率差は0.04
以下、さらに好ましくは0.02以下であることが望ま
しい。密着層と透明基材の屈折率差が0.04を越える
場合は、密着層と基材との間の光の干渉効果が強くな
り、反射光及び減反射材自身に着色が認められるため好
ましくない。
【0022】本発明の減反射材において可視光領域にお
ける最大反射率と最小反射率との差(以下,単に反射率
差とする)が1.0%以下、さらに好ましくは0.5%以
下が望ましい。可視光領域とは380ないし780nm
の波長領域を意味する。たとえば、ヒトの視感度に減反
射効果を合わせて、最小反射率波長を550nmに設定
した場合、550nmにおける反射率と380nmおよ
び780nmにおける反射率の差が1.0%未満であれ
ば、反射光および減反射材自身の着色がほとんど感じら
れない。反射率差が1.0%を超えると反射光および減
反射材自身の着色が感じられるようになる。
【0023】密着層は無機材料、有機材料、もしくはこ
れらの混合物を用いることができる。用いられる有機材
料としては、例えば多官能もしくは単官能の(メタ)ア
クリル酸エステル、テトラエトキシシラン等の珪素化合
物等の硬化物が挙げられる。生産性および硬度の両立の
観点より、紫外線硬化性多官能アクリレート単量体組成
物の重合硬化物であることが特に好ましい。
【0024】紫外線硬化性多官能アクリレート単量体組
成物としては特に限定されるものでなく、例えば公知の
紫外線硬化性多官能アクリレート単量体を一種類以上混
合したもの、もしくは公知の紫外線硬化性ハードコート
材をそのまま、もしくはその他の成分を添加して用いる
ことができる。紫外線硬化性多官能アクリレート単量体
としては、特に限定されるものではないが、例えばジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,
6−ビス(3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプ
ロピルオキシ)ヘキサン等の多官能アルコール誘導体や
ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリウレタン
アクリレートなどが挙げられる。
【0025】密着層には紫外線硬化性多官能アクリレー
ト単量体以外に本発明の効果を損なわない範囲におい
て、その他の成分を含んでも構わない。その他の成分と
は特に限定されるものではなく、例えば、無機または有
機充填剤、無機または有機微粒子、無機または有機顔
料、重合体、および重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止
剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸収剤、レベリ
ング剤などの添加剤などが挙げられる。またウェットコ
ーティング法において成膜後乾燥させる限りは、任意の
量の溶媒を添加することができる。
【0026】密着層の厚みは0.05〜10μm、好ま
しくは0.08〜4μmが望ましい。厚みが0.05μ
m未満になると十分な硬度を得ることが難しく、10μ
mを超えると、耐屈曲性が低下する傾向がある。
【0027】前記密着層の形成方法は特に限定されず、
有機材料を用いた場合には、ロールコートやダイコート
等、一般的なウェットコート法により形成することがで
きる。形成した層は必要に応じて加熱や紫外線、電子線
などの活性エネルギー線照射により硬化反応を行うこと
ができる。
【0028】本発明に用いる透明基材の材質としては特
に限定されるものではないが、例えばガラス、ポリエチ
レンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(P
C)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)共重合体、
トリアセチルセルロース(TAC)、ポリオレフィン
(PO)、ポリアミド(PA)、ポリ塩化ビニル(PV
C)等を好ましく挙げることができる。ここでいう透明
とは光線透過率で30%以上を示し、より好ましくは5
0%以上、更に好ましくは80%以上である。
【0029】透明基材の形状としては特に限定されるも
のではないが、例えば板状もしくはフィルム状のもの等
が挙げられる。生産性、運搬性の点からフィルム状のも
のが好ましく、その厚みとしては10〜500μmのも
のが透明性、作業性の点より好ましい。
【0030】前記透明基材には、ハードコート処理や防
眩処理を施してあるものを用いても良い。さらに、ニュ
ートンリング防止、帯電防止、特定波長域の光の遮断、
密着性の向上、色調補正等の機能を付与させるための処
理を施してあるものを用いてもよい。
【0031】本発明において、低屈折率層は従来公知の
ものでもよく、層の形成方法も限定されない。例えばド
ライコーティング法、ウェットコーティング法等の方法
をとることができる。生産性、コストの面より、特にウ
ェットコート法が好ましい。ウェットコーティングの方
法としては公知のもので良く、例えばロールコート法、
スピンコート法、ディップコート法などが代表的なもの
として挙げられる。ロールコート法等、連続的に形成で
きる方法が生産性の点より好ましい。
【0032】低屈折率層は密着層上に形成し、直下の密
着層と比較して屈折率が相対的に0.01以上低いこと
が好ましい。屈折率差が0.01未満、もしくは直下の
層以上であると減反射効果が低下する傾向にある。また
屈折率が直下の密着層と比較して好ましくは0.03以
上、更に好ましくは0.05以上低くすることにより優
れた減反射効果を得ることができる。
【0033】低屈折率層の屈折率は、好ましくは1.3
0〜1.48の範囲内、さらに好ましくは1.30〜
1.45の範囲内である。1.48を超える場合はウェ
ットコーティングでは十分な減反射効果を得ることが難
しく、また1.30未満の場合は層を形成するのは現実
的に困難となる傾向にある。
【0034】本発明の低屈折率層の厚みは基材の種類、
形状、目的とする光の波長、および層の構成によって異
なるが、一層あたり可視光波長と同じ厚みもしくはそれ
以下の厚みが好ましい。例えばヒトの視感度に減反射効
果をあわせる場合、層の厚みは、125/(低屈折率層
の屈折率)≦低屈折率層の厚さ(nm)≦165/(低
屈折率層の屈折率)として通常設計される。
【0035】低屈折率層の材料としては酸化珪素、フッ
化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム、フ
ッ化マグネシウム等の無機物や含フッ素有機化合物を単
独または混合物として用いることができる。また非フッ
素系単量体や重合体をバインダーとして用いることがで
きる。
【0036】含フッ素有機化合物は特に限定されるもの
ではないが、例えば単官能もしくは多官能の含フッ素
(メタ)アクリル酸エステル、含フッ素イタコン酸エス
テル、含フッ素マレイン酸エステル、含フッ素珪素化合
物等の単量体の重合体等が挙げられる。特に反応性の観
点より含フッ素(メタ)アクリル酸エステルが好まし
い。これら含フッ素有機化合物を硬化させることによ
り、低屈折率かつ高硬度の層を形成することができる。
ここで(メタ)アクリルは、アクリルおよび/またはメ
タクリルを意味する。
【0037】前記含フッ素(メタ)アクリル酸エステル
は、好ましくは、下記の式[1]
【0038】
【化5】
【0039】で表される2官能ないし4官能の含フッ素
多官能(メタ)アクリル酸エステルである。ここで、X
1及びX2は、同一若しくは異なる基であって、水素原子
又はメチル基を示し、Y1は、(i)水酸基を0〜4個有
し、2個〜24個のフッ素原子を有する炭素数1〜14
のフルオロアルキレン基、(ii)フッ素原子を4個以上
有する炭素数3〜14のフルオロシクロアルキレン基、
(iii)−C(Y2)HCH2−基(但しYは、フッ素
原子を3個以上有する炭素数1〜14のフルオロアルキ
ル基、フッ素原子を4個以上有する炭素数3〜14のフ
ルオロシクロアルキル基を示す。)、若しくは、(iv)
下記の式[2]
【0040】
【化6】
【0041】(ここでY3、Y4は、どちらか一方が水素
原子、かつ他方はフッ素原子3個〜24個を有する炭素
数1〜14のフルオロアルキル基、Z1は水素原子又は
炭素数1〜3のアルキル基、Z2は水素原子又は(メ
タ)アクリロイル基を示す。)で表される基であり、
m、nは1または2の数である。
【0042】式[1]、[2]において、Y1、Y2、Y
3及びY4の炭素数が15以上の場合には製造が困難であ
る。
【0043】多官能含フッ素(メタ)アクリル酸エステ
ルの中で、2官能の含フッ素(メタ)アクリル酸エステ
ルとしては、例えば、1,2−ビス{(メタ)アクリロ
イルオキシ}−4,4,4−トリフルオロブタン、1,
2−ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}−4,4,
5,5,5−ペンタフルオロペンタン、1,2−ビス
{(メタ)アクリロイルオキシ}−4,4,5,5,
6,6,6−ヘプタフルオロヘキサン、1,2−ビス
{(メタ)アクリロイルオキシ}−4,4,5,5,
6,6,7,7,7−ノナフルオロヘプタン、1,2−
ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}−4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,8−ウンデカフルオロオ
クタン、1,2−ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}
−4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,
9−トリデカフルオロノナン、1,2−ビス{(メタ)
アクリロイルオキシ}−4,4,5,5,6,6,7,
7,8,8,9,9,10,10,10−ペンタデカフ
ルオロデカン、1,2−ビス{(メタ)アクリロイルオ
キシ}−5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,1
0,10,10−トリデカフルオロデカン、1,2−ビ
ス{(メタ)アクリロイルオキシ}−4,4,5,5,
6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,
11,11−ヘプタデカフルオロウンデカン、1,2−
ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}−4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,1
1,11,12,12,12−ノナデカフルオロドデカ
ン、1,2−ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}−
5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,1
0,11,11,11−ヘプタデカフルオロドデカン、
【0044】1,2−ビス{(メタ)アクリロイルオキ
シ}−4−トリフルオロメチル−5,5,5−トリフル
オロペンタン、1,2−ビス{(メタ)アクリロイルオ
キシ}−5−トリフルオロメチル−6,6,6−トリフ
ルオロヘキサン、1,2−ビス{(メタ)アクリロイル
オキシ}−3−メチル−4,4,5,5,5−ペンタフ
ルオロペンタン、1,2−ビス{(メタ)アクリロイル
オキシ}−3−メチル−4,4,5,5,6,6,6−
ヘキサフルオロヘキサン、1,2−ビス{(メタ)アク
リロイルオキシ}−4−(ペルフルオロシクロヘキシ
ル)ブタン、1,4−ビス{(メタ)アクリロイルオキ
シ}−2,2,3,3−テトラフルオロブタン、1,5
−ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}−2,2,3,
3,4,4−ヘキサフルオロペンタン、1,6−ビス
{(メタ)アクリロイルオキシ}−2,2,3,3,
4,4,5,5−オクタフルオロヘキサン、1,7−ビ
ス(メタ)アクリロイルオキシ−2,2,3,3,4,
4,5,5,6,6−デカフルオロヘプタン、1,8−
ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}−2,2,3,
3,4,4,5,5,6,6,7,7−ドデカフルオロ
オクタン、1,9−ビス{(メタ)アクリロイルオキ
シ}−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,
7,8,8−テトラフルオロノナン、1,10−ビス
{(メタ)アクリロイルオキシ}−2,2,3,3,
4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9−ヘ
キサデカフルオロデカン、1,11−ビス{(メタ)ア
クリロイルオキシ}−2,2,3,3,4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,9,9、10,10−オ
クタデカフルオロウンデカン、1,12−ビス{(メ
タ)アクリロイルオキシ}−2,2,3,3,4,4,
5,5,6,6,7,7,8,8,9,9、10,1
0,11,11−エイコサフルオロドデカン、1,8−
ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}−2,7−ジヒド
ロキシ−4,4,5,5−テトラフルオロオクタン、
1,9−ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}−2,8
−ジヒドロキシ−4,4,5,5,6,6−ヘキサフル
オロノナン、1,10−ビス{(メタ)アクリロイルオ
キシ}−2,9−ジヒドロキシ−4,4,5,5,6,
6,7,7−オクタフルオロデカン、1,11−ビス
{(メタ)アクリロイルオキシ}−2,10−ジヒドロ
キシ−4,4,5,5,6,6,7,7,8,8−デカ
フルオロウンデカン、1,12−ビス{(メタ)アクリ
ロイルオキシ}−2,11−ジヒドロキシ−4,4,
5,5,6,6,7,7,8,8,9,9−ドデカフル
オロドデカン、2,2−ビス{(メタ)アクリロイルオ
キシメチル}プロピオン酸−2−ヒドロキシ−4,4,
5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,1
0,11,11,11−ヘプタデカフルオロウンデシル
等の含フッ素ジ(メタ)アクリル酸エステルを好ましく
挙げることができる。これらの含フッ素ジ(メタ)アク
リル酸エステルは、使用に際しては単独もしくは混合物
として用いることができる。
【0045】さらに、前記の2官能以外の含フッ素多官
能(メタ)アクリル酸エステルとしては、3官能および
4官能の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステルが
挙げられる。3官能の含フッ素多官能(メタ)アクリル
酸エステルの具体例としては、例えば、1,2,8−ト
リス((メタ)アクリロイルオキシ}−7−ヒドロキシ
−4,4,5,5−テトラフルオロオクタン、1,2,
9−トリス{(メタ)アクリロイルオキシ}−8−ヒド
ロキシ−4,4,5,5,6,6−ヘキサフルオロノナ
ン、1,2,10−トリス{(メタ)アクリロイルオキ
シ}−9−ヒドロキシ−4,4,5,5,6,6,7,
7−オクタフルオロデカン、1,2,11−トリス
{(メタ)アクリロイルオキシ}−10−ヒドロキシ−
4,4,5,5,6,6,7,7,8,8−デカフルオ
ロノナン、1,2,12−トリス{(メタ)アクリロイ
ルオキシ}−11−ヒドロキシ−4,4,5,5,6,
6,7,7,8,8,9,9−ドデカフルオロドデカ
ン、2,2−ビス{(メタ)アクリロイルオキシメチ
ル}プロピオン酸−2−(メタ)アクリロイルオキシ−
4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,1
0,10,11,11,11−ヘプタデカフルオロウン
デシル、2,2−ビス{(メタ)アクロイルオキシメチ
ル}プロピオン酸−3−ペルフルオロブチル−2−(メ
タ)アクリロイルプロピル、2,2−ビス{(メタ)ア
クロイルオキシメチル}プロピオン酸−3−ペルフルオ
ロオクチル−2−(メタ)アクリロイルプロピル、2,
2−ビス{(メタ)アクリロイルオキシメチル}プロピ
オン酸−3−ペルフルオロシクロペンチル−2−(メ
タ)アクロイルオキシプロピル、2,2−ビス{(メ
タ)アクロイルオキシメチル}プロピオン酸−3−ペル
フルオロシクロブチルメチル−2−(メタ)アクロイル
オキシプロピル、2,2−ビス{(メタ)アクロイルオ
キシメチル}プロピオン酸−3−ペルフルオロシクロヘ
キシルメチル−2−(メタ)アクロイルオキシプロピ
ル、
【0046】さらに、2,2−ビス{(メタ)アクリロ
イルオキシメチル}プロピオン酸−2−ペルフルオロブ
チル−{1−(メタ)アクロイルオキシメチル}エチ
ル、2,2−ビス{(メタ)アクリロイルオキシメチ
ル}プロピオン酸−2−ペルフルオロヘキシル−{1−
(メタ)アクロイルオキシメチル}エチル、2,2−ビ
ス{(メタ)アクリロイルオキシメチル}プロピオン酸
−2−ペルフルオロオクチル−{1−(メタ)アクロイ
ルオキシメチル}エチル、2,2−ビス{(メタ)アク
リロイルオキシメチル}プロピオン酸−2−ペルフルオ
ロシクロペンチルメチル−{1−(メタ)アクロイルオ
キシメチル}エチル、2,2−ビス{(メタ)アクリロ
イルオキシメチル}プロピオン酸−2−ペルフルオロシ
クロヘキシルメチル−{1−(メタ)アクロイルオキシ
メチル}エチル、2,2−ビス{(メタ)アクリロイル
オキシメチル}プロピオン酸−2−ペルフルオロシクロ
ブチルメチル−{1−(メタ)アクロイルオキシメチ
ル}エチル等が挙げられる。
【0047】また、4官能の含フッ素多官能(メタ)ア
クリル酸エステルの具体的な例としては、例えば、1,
2,7,8−テトラキス{(メタ)アクリロイルオキ
シ}−4,4,5,5−テトラフルオロオクタン、1,
2,8,9−テトラキス{(メタ)アクリロイルオキ
シ}−4,4,5,5,6,6−ヘキサフルオロノナ
ン、1,2,9,10−テトラキス{(メタ)アクリロ
イルオキシ}−4,4,5,5,6,6,7,7−オク
タフルオロデカン、1,2,10,11−テトラキス
{(メタ)アクリロイルオキシ}−4,4,5,5,
6,6,7,7,8,8−デカフルオロウンデカン、
1,2,11,12−テトラキス{(メタ)アクロリイ
ルオキシ}−4,4,5,5,6,6,7,7,8,
8,9,9−ドデカフルオロドデカン等を好ましく挙げ
ることができる。使用に際しては、前記の含フッ素多官
能(メタ)アクリル酸エステルは、単独若しくは混合物
として用いることができる。これらの中でも、1,2−
ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}−4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,1
0−ペンタデカフルオロデカン、1,2−ビス{(メ
タ)アクリロイルオキシ}−4,4,5,5,6,6,
7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,1
1−ヘプタデカフルオロウンデカン、1,2−ビス
{(メタ)アクリロイルオキシ}−4,4,5,5,
6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,
11,12,12,12−ノナデカフルオロドデカン、
1,6−ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}−2,
2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロヘキサ
ン、1,10−ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}−
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,
8,8,9,9−ヘキサデカフルオロデカン、1,11
−ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}−2,2,3,
3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,
9,10,10−オクタデカフルオロウンデカン、1,
12−ビス{(メタ)アクリロイルオキシ}−2,2,
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,
9,9,10,10,11,11-エイコサフルオロド
デカン、2,2−ビス{(メタ)アクリロイルオキシメ
チル}プロピオン酸−2−(メタ)アクリロイルオキシ
−4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,
10,10,11,11,11−ヘプタデカフルオロウ
ンデシル、1,2,9,10−テトラキス{(メタ)ア
クリロイルオキシ}−4,4,5,5,6,6,7,7
−オクタフルオロデカン、1,2,11,12−テトラ
キス{(メタ)アクロリイルオキシ}−4,4,5,
5,6,6,7,7,8,8,9,9−ドデカフルオロ
ドデカン等がより好ましく挙げられる。
【0048】前記の含フッ素重合体としては前記の単官
能含フッ素単量体の単独重合体、共重合体、もしくはフ
ッ素を含まない単量体との共重合体等の直鎖状重合体、
鎖中に炭素環や複素環を含む重合体、環状重合体、櫛型
重合体などが挙げられる。
【0049】前記の非フッ素系単量体としては、従来公
知のものを用いることができる。例えば単官能もしくは
多官能の(メタ)アクリル酸エステルやテトラエトキシ
シラン等の珪素化合物等が挙げられる。
【0050】また低屈折率層には前記の化合物以外に本
発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を
含んでも構わない。その他の成分とは特に限定されるも
のではなく、例えば、無機または有機微粒子、無機また
は有機顔料、重合体、および重合開始剤、重合禁止剤、
酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸収
剤、レベリング剤などの添加剤などが挙げられる。また
ウェットコーティング法において成膜後乾燥させる限り
は、任意の量の溶媒を添加することができる。
【0051】低屈折率層はウェットコーティングにより
成膜した後、必要に応じて熱や紫外線、電子線などの活
性エネルギー線の照射や加熱により硬化反応を行って層
を形成することができる。また、活性エネルギー線によ
る硬化反応は窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下
にて行うことが好ましい。
【0052】前記の減反射材は減反射効果、高い光線透
過率を必要とする用途に用いることができる。特に電子
画像表示装置の表面反射を抑える目的で用いることがで
きる。これらの用途に用いる場合には減反射材の低屈折
率層を形成していない面にあらかじめ接着層を設け、対
象物に貼り合せて用いることができる。接着層に用いら
れる材料としては特に限定されるものではないが、例え
ば、アクリル系粘着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型
接着剤等を挙げることができる。また、この接着層には
特定波長域の光の遮断、コントラスト向上、色調補正等
の機能を一種類以上付与することができる。
【0053】前記の電子画像表示装置としては、例え
ば、ブラウン管、プラズマパネルディスプレイ(PD
P)、液晶表示装置等を挙げることができる。該表面に
直接、もしくは前面に配置する透明材料に減反射材の低
屈折率層を形成していない面が接するように接着層を介
して密着させ用いることができる。
【0054】
【発明の効果】本発明の減反射材は、透明基材との屈折
率差が0.04以下である密着層を設けることで、高い
硬度と反射光及び減反射材自身の着色の少ない外観を兼
ね備えた減反射材である。また本発明の電子画像表示装
置では減反射による鮮明な画像が得られる。本発明の減
反射材は、PDP(プラズマディスプレイ)や平面CR
T、液晶表示画面に代表される平面電子ディスプレイの
表面あるいは額縁や美術館等の展示カバー用途等の減反
射材として好適である。
【0055】
【実施例】以下、実施例に基づき更に詳細に説明する。
なお、硬化物の屈折率は以下のように測定した。 (1)厚さ2mmのアクリル板(商品名「デラグラス
A」、旭化成工業株式会社製)上に、バーコーターを用
いて、それぞれの塗液を乾燥膜厚が約3μmになるよう
に塗布した。 (2)溶媒乾燥後、紫外線照射装置(アイグラフィック
社製)により120W高圧水銀灯を用いて、窒素雰囲気
下で400mJの紫外線を照射し硬化した。 (3)硬化後、アッベ屈折率計(エルマ株式会社製)を
用いて屈折率を測定した。
【0056】製造例1 密着層用塗液(A−1)の調製 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート70重量
部、1,6−ビス(3−アクリロイルオキシ−2−ヒド
ロキシプロピルオキシ)ヘキサン30重量部、光重合開
始剤(商品名「IRGACURE184」、チバ・スペ
シャリティ・ケミカルズ株式会社製)5重量部、イソプ
ロパノール1900重量部を混合し、密着層用塗液(A
-1)を調製した。硬化物の屈折率は1.51であっ
た。
【0057】製造例2 密着層用塗液(A−2)の調製 市販の紫外線硬化ハードコート剤(商品名「デソライト
Z7521」、JSR株式会社製)100重量部、メタ
ノール900重量部を混合し、密着層用塗液(A−2)
を調製した。硬化物の屈折率は1.49であった。
【0058】製造例3 密着層用塗液(A−3)の調製 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート70重量
部、テトラメチロールメタントリアクリレート20重量
部、1,6−ビス(3−アクリロイルオキシ−2−ヒド
ロキシプロピルオキシ)ヘキサン10重量部、平均粒径
が0.07μmの酸化インジウム錫微粒子200重量
部、光重合開始剤(商品名「IRGACURE90
7」、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社製)
5重量部、イソプロパノール1900重量部を混合し密
着層用塗液(A−3)を調製した。硬化物の屈折率は
1.59であった。
【0059】製造例4 低屈折率層用塗液(L−1)の
調製 1,10−ビス(アクリロイルオキシ)−2,2,3,
3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9
−オクタデカフルオロデカン80重量部、テトラメチロ
ールメタンテトラアクリレート20重量部、光重合開始
剤(商品名「KAYACURE BMS」、日本化薬株
式会社製)5重量部、ブチルアルコール1900重量部
を混合し低屈折率層用塗液(L−1)を調製した。溶媒
乾燥後の硬化物の屈折率は1.42であった。
【0060】製造例5 低屈折率層用塗液(L−2)の
調整 1,2,9,10−テトラアクリロイルオキシ−4,
4,5,5,6,6,7,7,-オクタフルオロデカン
60重量部、シリカ微粒子分散液(商品名「XBA−S
T」、日産化学株式会社製)100重量部、2,2−ビ
ス(アクリロイルオキシメチル)プロピオン酸−2−ヒ
ドロキシ−4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,
9,9,10,10,11,11,11−ヘプタデカフ
ルオロウンデシル10重量部、ブチルアルコール183
0重量部、光重合開始剤(商品名「KAYACURE
BMS」、日本化薬株式会社製)5重量部を混合して低
屈折率層用塗液(L−2)を調製した。溶媒乾燥後の硬
化物の屈折率は1.48であった。
【0061】実施例1 予めハードコート処理された帝人株式会社製PETフィ
ルム(屈折率1.53)上に、ディップコーター(杉山
元理化学機器株式会社製)を用いて、製造例1で調製し
た密着層用塗液(A−1、屈折率1.51)を乾燥膜厚
がおよそ0.1μmになるようにディップコートした。
次いで紫外線照射装置(アイグラフィック社製)で12
0W高圧水銀灯を用いて400mJの紫外線を照射し硬
化させ、密着層処理HC−PETフィルムを作製した。
次いでその上に、ディップコーター(杉山元理化学機器
株式会社製)を用いて、製造例4にて調製した低屈折率
層用塗液(L−1、屈折率1.42)を、乾燥膜厚がお
よそ0.1μmになるようにディップコートした。その
後紫外線照射装置を用いて、窒素雰囲気下で400mJ
の紫外線を照射し硬化させ減反射材を作製した。基材の
反射率及び得られた減反射材の分光反射率、反射率差、
外観、密着性及び耐擦傷性を以下の方法により評価し
た。 (1)分光反射率;基材及び減反射材の裏面をサンドペ
ーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを紫外可
視分光光度計(商品名「U−best 50」、日本分
光株式会社製)により、5°、−5°正反射率を測定
し、550nmにおける減反射フィルム及び基材の反射
率を測定した。なお、スペクトルにハードコートの干渉
が見られる場合は上端と下端の中心値を読み取った。 (2)反射率差;最小反射率波長(550nm)におけ
る分光反射率と、波長380nmあるいは780nmの
分光反射率との差のうち大きいほうの値を示した。 (3)外観;目視により反射光及び減反射材自身の着色
を評価し、○:着色がほとんどない、△:着色が感じら
れる、×:着色が強い、として示した。 (4)密着性;碁盤目剥離試験をJIS K5400に
従って行った。 (5)耐擦傷性;#0000スチールウールを用いて1
00g/cmの荷重をかけて10往復摩擦したときの
塗布面の傷の数を目視でカウントした。(A:傷なし、
B:1〜10本の傷、C:11〜20本の傷、D:21
〜30本の傷、E:31本以上の傷) 以上の結果を表1に示した。
【0062】実施例2 あらかじめハードコート処理された大日本印刷株式会社
製TACフィルム(屈折率1.51)上に、ディップコ
ーター(杉山元理化学機器株式会社製)を用いて、製造
例2で調製した密着層用塗液(A−2、屈折率1.4
9)を乾燥膜厚がおよそ0.1μmになるようにディッ
プコートした。次いで紫外線照射装置(アイグラフィッ
ク社製)で120W高圧水銀灯を用いて400mJの紫
外線を照射し硬化させ、密着層処理HC−TACフィル
ムを作製した。次いでその上に、ディップコーター(杉
山元理化学機器株式会社製)を用いて、製造例4にて調
製した低屈折率層用塗液(L−1、屈折率1.42)
を、乾燥膜厚がおよそ0.1μmになるようにディップ
コートした。その後紫外線照射装置を用いて、窒素雰囲
気下で400mJの紫外線を照射し硬化させ減反射材を
作製した。基材の反射率及び得られた減反射材の分光反
射率、反射率差、外観、密着性及び耐擦傷性を表2に示
した。
【0063】実施例3 あらかじめ防眩ハードコート処理された株式会社きもと
製PETフィルム(屈折率1.52)上に、ディップコ
ーター(杉山元理化学機器株式会社製)を用いて、製造
例1で調製した密着層用塗液(A−1、屈折率1.5
1)を乾燥膜厚がおよそ0.1μmになるようにディッ
プコートした。次いで紫外線照射装置(アイグラフィッ
ク社製)で120W高圧水銀灯を用いて400mJの紫
外線を照射し硬化させ、密着層処理防眩HC−PETフ
ィルムを作製した。次いでその上に、ディップコーター
(杉山元理化学機器株式会社製)を用いて、製造例4に
て調製した低屈折率層用塗液(L−1、屈折率1.4
2)を、乾燥膜厚がおよそ0.1μmになるようにディ
ップコートした。その後紫外線照射装置を用いて、窒素
雰囲気下で400mJの紫外線を照射し硬化させ減反射
材を作製した。基材の反射率および得られた減反射材の
分光反射率、反射率差、外観、密着性及び耐擦傷性を表
3に示した。
【0064】実施例4 予め防眩ハードコート処理された大日本印刷株式会社製
TACフィルム(屈折率1.50)上に、ディップコー
ター(杉山元理化学機器株式会社製)を用いて、製造例
1で調製した密着層用塗液(A−1、屈折率1.51)
を乾燥膜厚がおよそ0.1μmになるようにディップコ
ートした。次いで紫外線照射装置(アイグラフィック社
製)で120W高圧水銀灯を用いて400mJの紫外線
を照射し硬化させ、密着層処理防眩HC−TACフィル
ムを作製した。次いでその上に、ディップコーター(杉
山元理化学機器株式会社製)を用いて、製造例4にて調
製した低屈折率層用塗液(L−1、屈折率1.42)
を、乾燥膜厚がおよそ0.1μmになるようにディップ
コートした。その後紫外線照射装置を用いて、窒素雰囲
気下で400mJの紫外線を照射し硬化させ減反射材を
作製した。基材の反射率および得られた減反射材の分光
反射率、反射率差、外観、密着性及び耐擦傷性を表4に
示した。
【0065】実施例5 東洋紡績株式会社製PETフィルム(屈折率1.60)
上に、ディップコーター(杉山元理化学機器株式会社
製)を用いて、製造例3で調製した密着層用塗液(A−
3、屈折率1.59)を乾燥膜厚がおよそ0.1μmに
なるようにディップコートした。次いで紫外線照射装置
(アイグラフィック社製)で120W高圧水銀灯を用い
て400mJの紫外線を照射し硬化させ、密着層処理P
ETフィルムを作製した。次いでその上に、ディップコ
ーター(杉山元理化学機器株式会社製)を用いて、製造
例5にて調製した低屈折率層用塗液(L−2、屈折率
1.48)を、乾燥膜厚がおよそ0.1μmになるよう
にディップコートした。その後紫外線照射装置を用い
て、窒素雰囲気下で400mJの紫外線を照射し硬化さ
せ減反射材を作製した。基材の反射率および得られた減
反射材の分光反射率、反射率差、外観、密着性及び耐擦
傷性を表5に示した。
【0066】実施例6 富士写真フィルム株式会社製TACフィルム(屈折率
1.48)上に、ディップコーター(杉山元理化学機器
株式会社製)を用いて、製造例2で調製した密着層用塗
液(A−2、屈折率1.49)を乾燥膜厚がおよそ0.
1μmになるようにディップコートした。次いで紫外線
照射装置(アイグラフィック社製)で120W高圧水銀
灯を用いて400mJの紫外線を照射し硬化させ、密着
層処理TACフィルムを作製した。次いでその上に、デ
ィップコーター(杉山元理化学機器株式会社製)を用い
て、製造例5にて調製した低屈折率層用塗液(L−2、
屈折率1.48)を、乾燥膜厚がおよそ0.1μmにな
るようにディップコートした。その後紫外線照射装置を
用いて、窒素雰囲気下で400mJの紫外線を照射し硬
化させ減反射材を作製した。基材の反射率および得られ
た減反射材の分光反射率、反射率差、外観、密着性及び
耐擦傷性を表6に示した。
【0067】比較例1 密着層用塗液を使用しない以外は実施例1と同様にして
密着層をもたない減反射材を作成した。基材の反射率及
び得られた減反射材の分光反射率、反射率差、外観、密
着性及び耐擦傷性を表1に示した。
【0068】比較例2 密着層用塗液に製造例3で作成した塗液(A−3)を用
いた以外は実施例1と同様にして減反射材を作成した。
基材の反射率及び得られた減反射材の分光反射率、反射
率差、外観、密着性及び耐擦傷性を表1に示した。
【0069】比較例3 密着層用塗液を使用しない以外は実施例2と同様にして
密着層をもたない減反射材を作成した。基材の反射率及
び得られた減反射材の分光反射率、反射率差、外観、密
着性及び耐擦傷性を表2に示した。
【0070】比較例4 密着層用塗液に製造例3で作成した塗液(A−3)を用
いた以外は実施例2と同様にして減反射材を作成した。
基材の反射率及び得られた減反射材の分光反射率、反射
率差、外観、密着性及び耐擦傷性を表2に示した。
【0071】比較例5 密着層用塗液を使用しない以外は実施例3と同様にして
密着層をもたない減反射材を作成した。基材の反射率及
び得られた減反射材の分光反射率、反射率差、外観、密
着性及び耐擦傷性を表3に示した。
【0072】比較例6 密着層用塗液に製造例3で作成した塗液(A−3)を用
いた以外は実施例3と同様にして減反射材を作成した。
基材の反射率及び得られた減反射材の分光反射率、反射
率差、外観、密着性及び耐擦傷性を表3に示した。
【0073】比較例7 密着層用塗液を使用しない以外は実施例4と同様にして
密着層をもたない減反射材を作成した。基材の反射率及
び得られた減反射材の分光反射率、反射率差、外観、密
着性及び耐擦傷性を表4に示した。
【0074】比較例8 密着層用塗液に製造例3で作成した塗液(A−3)を用
いた以外は実施例4と同様にして減反射材を作成した。
基材の反射率及び得られた減反射材の分光反射率、外
観、密着性及び耐擦傷性を表4に示した。
【0075】比較例9 密着層用塗液を使用しない以外は実施例5と同様にして
密着層をもたない減反射材を作成した。基材の反射率及
び得られた減反射材の分光反射率、反射率差、外観、密
着性及び耐擦傷性を表5に示した。
【0076】比較例10 密着層用塗液に製造例1で作成した塗液(A−1)を用
いた以外は実施例5と同様にして減反射材を作成した。
基材の反射率及び得られた減反射材の分光反射率、外
観、密着性及び耐擦傷性を表5に示した。
【0077】比較例11 密着層用塗液を使用しない以外は実施例6と同様にして
密着層をもたない減反射材を作成した。基材の反射率及
び得られた減反射材の分光反射率、反射率差、外観、密
着性及び耐擦傷性を表6に示した。
【0078】比較例12 密着層用塗液に製造例3で作成した塗液(A−3)を用
いた以外は実施例5と同様にして減反射材を作成した。
基材の反射率及び得られた減反射材の分光反射率、外
観、密着性及び耐擦傷性を表6に示した。
【0079】
【表1】
【0080】実施例1では、透明基材と密着層との屈折
率差が0.02であるので、最小反射率波長である55
0nmと380nmの反射率差も0.3%と小さく、基
材に対して反射率が低下し、かつ反射光及び減反射材自
身に着色がほとんど感じられない。また、密着層がある
ため十分な硬度が得られている。これに対し、比較例1
では、密着層が無いため硬度が弱く、比較例2では、密
着層があるため、表面強度は出ているものの、透明基材
と密着層との屈折率差が0.06と大きく、550nm
と380nmの反射率差も2.2%と大きいため、反射
光及び減反射材自身にはっきりと着色が認められる。
【0081】
【表2】
【0082】実施例2では、透明基材と密着層との屈折
率差が0.02であるので、最小反射率波長である55
0nmと380nmの反射率差も0.2%と小さく、基
材に対して反射率が低下し、かつ反射光及び減反射材自
身に着色がほとんど感じられない。また、密着層がある
ため十分な硬度が得られている。これに対し、比較例3
では、密着層が無いため硬度が弱く、比較例4では、密
着層があるため、表面強度は出ているものの、透明基材
と密着層との屈折率差が0.08と大きく、550nm
と380nmの反射率差も2.6%と大きいため、反射
光及び減反射材自身にはっきりと着色が認められる。
【0083】
【表3】
【0084】実施例3では、透明基材と密着層との屈折
率差が0.01であるので、最小反射率波長である55
0nmと380nmの反射率差も0.4%と小さく、基
材に対して反射率が低下し、かつ反射光及び減反射材自
身に着色がほとんど感じられない。また、密着層がある
ため十分な硬度が得られている。これに対し、比較例5
では、密着層が無いため硬度が弱く、比較例6では、密
着層があるため、表面強度は出ているものの、透明基材
と密着層との屈折率差が0.07と大きく、550nm
と380nmの反射率差も2.5%と大きいため、反射
光及び減反射材自身にはっきりと着色が認められる。
【0085】
【表4】
【0086】実施例4では、透明基材と密着層との屈折
率差が0.01であるので、最小反射率波長である55
0nmと380nmの反射率差も0.3%と小さく、基
材に対して反射率が低下し、かつ反射光及び減反射材自
身に着色がほとんど感じられない。また、密着層がある
ため十分な硬度が得られている。これに対し、比較例7
では、密着層が無いため硬度が弱く、比較例8では、密
着層があるため、表面強度は出ているものの、透明基材
と密着層との屈折率差が0.09と大きく、550nm
と380nmの反射率差も2.7%と大きいため、反射
光及び減反射材自身にはっきりと着色が認められる。
【0087】
【表5】
【0088】実施例5では、透明基材と密着層との屈折
率差が0.01であるので、最小反射率波長である55
0nmと380nmの反射率差も0.5%と小さく、基
材に対して反射率が低下し、かつ反射光及び減反射材自
身に着色がほとんど感じられない。また、密着層がある
ため十分な硬度が得られている。これに対し、比較例9
では、密着層が無いため硬度が弱く、比較例10では、
密着層があるため、表面強度は出ているものの、透明基
材と密着層との屈折率差が0.09と大きく、かつ基材
よりも屈折率の小さい層を2層連続で塗工しているため
に、減反射材として機能していない。
【0089】
【表6】
【0090】実施例6では、透明基材と密着層との屈折
率差が0.01であるので、最小反射率波長である55
0nmと380nmの反射率差も0.2%と小さく、基
材に対して反射率が低下し、かつ反射光及び減反射材自
身に着色がほとんど感じられない。また、密着層がある
ため十分な硬度が得られている。これに対し、比較例1
1では、密着層が無いため硬度が弱く、また低屈層の屈
折率が基材と同じであるため、減反射材として機能して
いない。比較例12では、密着層があるため、表面強度
は出ているものの、透明基材と密着層との屈折率差が
0.11と大きく、550nmと380nmの反射率差
も3.0%と大きいため、反射光及び減反射材自身には
っきりと着色が認められる。
【図面の簡単な説明】
【図1】は、基材、実施例1と比較例2の波長380n
m〜780nmの反射率を示すグラフである。
【図2】は、基材、実施例2と比較例4の波長380n
m〜780nmの反射率を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2K009 AA04 AA15 BB14 BB24 CC24 CC26 DD02 DD05 4F100 AK17 AK25B AK25C AK42A AR00D AT00A BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C BA10D EJ54B JB14B JK12A JL11B JL11D JN01A JN06 JN18C JN30A YY00 5C058 AA01 AA03 AA11 AB06 BA35 DA01 5G435 AA01 DD11 FF01 HH01 KK07

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明基材の表面に1層の密着層を設け、そ
    の上に最外層となる低屈折率層を備えてなる減反射材に
    おいて、透明基材と密着層との屈折率差が0.04以下
    である減反射材。
  2. 【請求項2】可視光領域における最大反射率と最小反射
    率との差が1.0%以下である請求項1に記載の減反射
    材。
  3. 【請求項3】低屈折率層の屈折率が1.30〜1.48
    であり、かつ直下の密着層の屈折率より0.01以上低
    い請求項1または請求項2に記載の減反射材。
  4. 【請求項4】透明基材がハードコート性若しくは防眩性
    を合わせ持つ請求項1ないし請求項3のいずれか1項に
    記載の減反射材。
  5. 【請求項5】密着層が多官能アクリレートを含む紫外線
    硬化組成物を重合硬化してなる請求項1ないし請求項4
    のいずれか1項に記載の減反射材。
  6. 【請求項6】低屈折率層が含フッ素多官能アクリレート
    を含む紫外線硬化組成物を重合硬化してなる請求項1な
    いし請求項5のいずれか1項に記載の減反射材。
  7. 【請求項7】低屈折率層の含フッ素多官能アクリレート
    が下記の式[1] 【化1】 [式中X1及びX2は、同一若しくは異なる基であって、
    水素原子又はメチル基を示し、Y1は、(i)水酸基を0
    〜4個有し、2個〜24個のフッ素原子を有する炭素数
    1〜14のフルオロアルキレン基、(ii)フッ素原子を
    4個以上有する炭素数3〜14のフルオロシクロアルキ
    レン基、(iii)−C(Y2)HCH2−基(但しY2は、
    フッ素原子を3個以上有する炭素数1〜14のフルオロ
    アルキル基、フッ素原子を4個以上有する炭素数3〜1
    4のフルオロシクロアルキル基を示す。)、若しくは、
    (iv)下記の式[2] 【化2】 (ここでY3、Y4は、どちらか一方が水素原子、かつ他
    方はフッ素原子3個〜24個を有する炭素数1〜14の
    フルオロアルキル基、Z1は水素原子又は炭素数1〜3
    のアルキル基、Z2は水素原子又は(メタ)アクリロイ
    ル基を示す。)で表される基であり、m、nは1または
    2の数である。]で表わされる2官能ないし4官能の含
    フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステルである請求項
    6に記載の減反射材。
  8. 【請求項8】透明基材の裏面に接着層を設けてなる請求
    項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の減反射材。
  9. 【請求項9】請求項1ないし請求項8のいずれか1項に
    記載の減反射材を用いた電子画像表示装置。
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