JPH10182745A - 含フッ素単量体組成物及び減反射フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】低屈折率と優れた表面硬度を満足しうる低屈折
率材料、及び減反射フィルム並びにこれらの原材料とし
て利用できる含フッ素単量体組成物を提供すること。 【解決手段】式（１）の含フッ素多官能（メタ）アクリ
ル酸エステルを５〜１００重量％含有する単量体組成
物、それを用いた低屈折材料及び現反射フィルム。 【化１】 (Ｘ：Ｆが３個以上のＣ１〜１４のフルオロアルキル
基，Ｆが４個以上のＣ３〜１４のフルオロシクロアルキ
ル基；Ｙ¹，Ｙ²，Ｙ³：Ｈ、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基で、且つＹ¹，Ｙ²，Ｙ³のうちの少なくとも２
個は、同一又は異なる基で、アクリロイル基又はメタク
リロイル基；Ｚ：Ｈ，Ｃ１〜３のアルキル基。ｎ，ｍ；
０又は１、且つｎ＋ｍ＝１。)

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高い表面硬度と低
屈折率とを有し、各種基材表面等に使用可能な低屈折率
材料の原材料として利用できる単量体組成物、該単量体
組成物を重合硬化してなる低屈折率材料、及び該低屈折
率材料を設けた減反射フィルムに関する。

【０００２】

【従来技術】フッ素原子を有する化合物は低屈折率を示
すため反射防止膜や光ファイバーのクラッド材料等への
使用が可能である。いずれも屈折率の低下に伴い性能は
向上する。例えば含フッ素(メタ)アクリル酸エステルの
重合体、他モノマーとの共重合体、テトラフルオロエチ
レン重合体、フッ化ビニリデンとテトラフルオロエチレ
ンとの共重合体又はフッ化ビニリデンとヘキサフルオロ
プロピレンとの共重合体等の光ファイバーへの応用が提
案されている(特開昭５９−８４２０３号公報、特開昭
５９−８４２０４号公報、特開昭５９−９８１１６号公
報、特開昭５９−１４７０１１号公報、特開昭５９−２
０４００２号公報)。最近ではアクリル酸含フッ素アル
キルエステル重合体、メタクリル酸含フッ素アルキルエ
ステル重合体、又は商品名「サイトップ」(旭硝子株式
会社製)、商品名「テフロンＡＦ」(アメリカ・デュポン
社製)等の非結晶性ペルフルオロ樹脂等の溶媒可溶性の
低屈折率含フッ素重合体の減反射フィルムへの応用が試
みられている(特開昭６４−１６８７３号公報、特開平
１−１４９８０８号公報、特開平６−１１５０２３号公
報)。しかし、これらの含フッ素樹脂はいずれも非架橋
性樹脂であり硬化後の表面硬度が低く、耐摩耗性に劣
り、密着力も不十分であるという欠点がある。

【０００３】表面硬度を向上させるために含フッ素単官
能(メタ)アクリル酸エステル又は含フッ素二官能(メタ)
アクリル酸エステルと、非含フッ素多官能(メタ)アクリ
ル酸エステルとの適当な配合から得られる架橋重合体が
提案されている(特開昭５８−１０５９４３号公報、特
開昭６２−１９９６４３号公報、特開昭６２−２５００
４７号公報)。これらの架橋重合体は、含フッ素(メタ)
アクリル酸エステル中のフッ素含量や非含フッ素多官能
(メタ)アクリル酸エステルとの配合比を調整すること
で、ある程度の範囲内で低屈折率と表面硬度とを調節し
うる。しかし、含フッ素単官能(メタ)アクリル酸エステ
ルと多官能(メタ)アクリル酸エステルとは相溶性が悪く
任意の割合では相溶しない。そのため十分な低屈折率を
達成できない。一方、含フッ素二官能(メタ)アクリル酸
エステルと多官能(メタ)アクリル酸エステルとは任意の
割合で相溶する。しかし屈折率を下げるために架橋重合
体中のフッ素原子含量を増やすと架橋密度が低下してし
まう。そのため低屈折率と表面硬度とを満足に両立する
ことはできず、光ファイバー及び減反射フィルムへ表面
硬度を付与することは困難である。更に密着力にも問題
がある。

【０００４】密着力の向上、並びに他の含フッ素(メタ)
アクリル酸エステルの原材料としての使用を目的とし
て、含フッ素ヒドロキシ(メタ)アクリル酸エステルが提
案されている(特開平４−３２１６６０号公報、特開平
４−３５６４４３号公報、特開平４−３５６４４４号公
報)。しかし、これらは単官能(メタ)アクリル酸エステ
ルであるので、硬化後の表面硬度が低く、耐摩耗性に劣
るという欠点がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低屈
折率と優れた表面硬度を満足しうる低屈折率材料、及び
減反射フィルム並びにこれらの原材料として利用できる
含フッ素単量体組成物を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式（１）で表わされる、含フッ素多官能（メタ）アク
リル酸エステルを５〜１００重量％含有する単量体組成
物が提供される。

【０００７】

【化２】

【０００８】（式中Ｘは、フッ素原子を３個以上有する
炭素数１〜１４のフルオロアルキル基又はフッ素原子を
４個以上有する炭素数３〜１４のフルオロシクロアルキ
ル基を示し、Ｙ¹、Ｙ²及びＹ³は、水素原子、アクリロ
イル基又はメタクリロイル基を示し、且つＹ¹、Ｙ²及び
Ｙ³のうちの少なくとも２個は、同一又は異なる基であ
って、アクリロイル基又はメタクリロイル基を示し、Ｚ
は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｎ及
びｍは０又は１を示し、且つｎ＋ｍ＝１である。)また
本発明によれば、上記単量体組成物に無機化合物微粒子
を含有する単量体組成物が提供される。また本発明によ
れば、前記単量体組成物を重合硬化させてなる、屈折率
１．４９以下の低屈折率材料が提供される。更に本発明
によれば、透明基板と、前記低屈折率材料の層とを備え
た減反射フィルムが提供される。更にまた本発明によれ
ば、透明基板と、前記低屈折率材料の層との間に少なく
とも１層以上の材料層を備えた減反射フィルムが提供さ
れる。

【０００９】

【発明の開示】本発明の単量体組成物は、前記一般式
（１）で表わされる含フッ素多官能（メタ）アクリル酸
エステルを５〜１００重量％含有する組成物であって、
重合硬化させた際には、三次元網目構造を呈し、耐擦傷
性、密着性、耐摩耗性、耐熱性、耐候性等に優れた硬化
被膜を得ることができる。

【００１０】本発明の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸
エステルは、前記式(１)で表すことができる。式(１)に
おいてｎ＝１で且つｍ＝０の場合は下記式(1a)で表すこ
とができ、ｎ＝０で且つｍ＝１の場合は下記式(1b)で表
すことができる。

【００１１】

【化３】

【００１２】具体的には、前記式(1a)において、Ｙ¹、
Ｙ²及びＹ³のうち２個がアクリロイル基又はメタクリロ
イル基を、残る１個が水素原子を示す、(メタ)アクリロ
イル基と水酸基とを有する含フッ素二官能(メタ)アクリ
ル酸エステル(以下ジエステルＡと称する)；前記式(1b)
において、Ｙ¹、Ｙ²及びＹ³のうち２個がアクリロイル
基又はメタクリロイル基を、残る１個が水素原子を示
す、(メタ)アクリロイル基と水酸基とを有する含フッ素
二官能(メタ)アクリル酸エステル(以下ジエステルＢと
称する)；前記式(1a)において、Ｙ¹、Ｙ²及びＹ³が同一
又は異なる基であり、アクリロイル基又はメタクリロイ
ル基を表す、含フッ素三官能(メタ)アクリル酸エステル
(以下トリエステルＡと称する)；前記式(1b)において、
Ｙ¹、Ｙ²及びＹ³が同一又は異なる基であり、アクリロ
イル基又はメタクリロイル基を表す、含フッ素三官能
(メタ)アクリル酸エステル(以下トリエステルＢと称す
る)である。式(１)において、Ｘの炭素数が１２を超え
ると製造が困難である。

【００１３】ジエステルＡとしては、３−ペルフルオロ
ヘキシル−２−ヒドロキシプロピル＝２，２−ビス((メ
タ)アクリロイルオキシメチル)プロピオナート、３−ペ
ルフルオロヘキシル−２−((メタ)アクリロイルオキシ)
プロピル＝２−((メタ)アクリロイルオキシメチル)−２
−(ヒドロキシメチル)プロピオナート、３−ペルフルオ
ロオクチル−２−ヒドロキシプロピル＝２，２−ビス
((メタ)アクリロイルオキシメチル)プロピオナート、又
は３−ペルフルオロオクチル−２−((メタ)アクリロイ
ルオキシ)プロピル＝２−((メタ)アクリロイルオキシメ
チル)−２−(ヒドロキシメチル)プロピオナート等が好
ましく挙げられる。

【００１４】ジエステルＢとしては、２−ペルフルオロ
ヘキシル−(１−ヒドロキシメチル)エチル＝２，２−ビ
ス((メタ)アクリロイルオキシメチル)プロピオナート、
２−ペルフルオロヘキシル−１−((メタ)アクリロイル
オキシメチル)エチル＝２−((メタ)アクリロイルオキシ
メチル)−２−(ヒドロキシメチル)プロピオナート、２
−ペルフルオロオクチル−(１−ヒドロキシメチル)エチ
ル＝２，２−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)プ
ロピオナート、又は２−ペルフルオロオクチル−１−
((メタ)アクリロイルオキシメチル)エチル＝２−((メ
タ)アクリロイルオキシメチル)−２−(ヒドロキシメチ
ル)プロピオナート等が好ましく挙げられる。

【００１５】トリエステルＡとしては、３−ペルフルオ
ロブチル−２−(メタ)アクリロイルオキシプロピル＝
２，２−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)プロピ
オナート、３−ペルフルオロヘキシル−２−(メタ)アク
リロイルオキシプロピル＝２，２−ビス((メタ)アクリ
ロイルオキシメチル)プロピオナート、３−ペルフルオ
ロオクチル−２−(メタ)アクリロイルオキシプロピル＝
２，２−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)プロピ
オナート、３−ペルフルオロシクロペンチルメチル−２
−(メタ)アクリロイルオキシプロピル＝２，２−ビス
((メタ)アクリロイルオキシメチル)プロピオナート、３
−ペルフルオロシクロヘキシルメチル−２−(メタ)アク
リロイルオキシプロピル＝２，２−ビス((メタ)アクリ
ロイルオキシメチル)プロピオナート、又は３−ペルフ
ルオロシクロヘプチルメチル−２−(メタ)アクリロイル
オキシプロピル＝２，２−ビス((メタ)アクリロイルオ
キシメチル)プロピオナート等が好ましく挙げられる。

【００１６】トリエステルＢとしては、２−ペルフルオ
ロブチル−(１−(メタ)アクリロイルオキシメチル)エチ
ル＝２，２−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)プ
ロピオナート、２−ペルフルオロヘキシル−(１−(メ
タ)アクリロイルオキシメチル)エチル＝２，２−ビス
((メタ)アクリロイルオキシメチル)プロピオナート、２
−ペルフルオロオクチル−(１−(メタ)アクリロイルオ
キシメチル)エチル＝２，２−ビス((メタ)アクリロイル
オキシメチル)プロピオナート、２−ペルフルオロシク
ロペンチルメチル−(１−(メタ)アクリロイルオキシメ
チル)エチル＝２，２−ビス((メタ)アクリロイルオキシ
メチル)プロピオナート、２−ペルフルオロシクロヘキ
シルメチル−(１−(メタ)アクリロイルオキシメチル)エ
チル＝２，２−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)
プロピオナート、又は２−ペルフルオロシクロヘプチル
メチル−(１−(メタ)アクリロイルオキシメチル)エチル
＝２，２−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)プロ
ピオナート等が好ましく挙げられる。

【００１７】これらジエステルＡ、ジエステルＢ、トリ
エステルＡ及びトリエステルＢは、低屈折率樹脂等の原
材料として使用する際には単独若しくは混合物として用
いることができる(以下、ジエステルＡ及びジエステル
Ｂの混合物を「ジエステル混合物」と称し、トリエステ
ルＡ及びトリエステルＢの混合物を「トリエステル混合
物」と称し、ジエステルとトリエステルの混合物、ジエ
ステル混合物又はトリエステル混合物を総称して「エス
テル混合物」と称する場合がある)。

【００１８】ジエステルＡ及びＢ、トリエステルＡ及び
Ｂを製造するには、例えばジエステル混合物、トリエス
テル混合物を得る方法等により得ることができる。更
に、得られたエステル混合物から適当な方法によりジエ
ステルＡ及びＢと、トリエステルＡ及びＢとを分離する
ことができる。前記エステル混合物の製造法としては、
以下に述べる２種類の製造法等を挙げることができる。

【００１９】ジエステル混合物及びトリエステル混合物
の第一の製造法は、(a)まず２つのヒドロキシメチル基
を有するカルボン酸と相当する含フッ素エポキシドと
を、触媒の存在下、通常の開環反応により反応させて、
２，２−ビス（ヒドロキシメチル）カルボン酸ヒドロキ
シフルオロアルキルの混合物を生成させ、(b)次いでこ
の混合物と(メタ)アクリル酸クロリドとをさらにエステ
ル化反応させる２工程の方法が挙げられる。この際（メ
タ）アクリル酸クロリドの当量を調整することでジエス
テル混合物又はトリエステル混合物のいずれかを主成分
として得ることができる。前記ジエステル混合物の第二
の製造法は、(c)まず２つのヒドロキシメチル基を有す
るカルボン酸から特開昭６３−９９０３８号公報記載の
方法等により、即ち前記カルボン酸に、（メタ）アクリ
ル酸、（メタ）アクリル酸クロリド、又は（メタ）アク
リル酸エステルを必要に応じ適当な触媒の存在下で反応
させる方法等により、２，２−ビス（（メタ）アクリロ
イルオキシメチル）カルボン酸を生成させ、(d)次い
で、このカルボン酸と相当するエポキシドとを触媒の存
在下、通常の開環反応により反応させる２工程の方法が
挙げられる。前記トリエステル混合物の第二の製造法
は、前記(c)工程、(d)工程で得られたジエステル混合物
と（メタ）アクリル酸クロリドとをさらにエステル化反
応させる３工程の方法が挙げられる。いずれの製造法に
よってもいくつかの構造異性体の混合物が得られるが、
実使用に際しては混合物のまま使用しても差し支えな
い。

【００２０】本発明の組成物は、前記含フッ素多官能
（メタ）アクリル酸エステル、若しくは該含フッ素多官
能（メタ）アクリル酸エステルと無機化合物微粒子とを
含有する。含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル
は、前記式（１）で表わされる化合物であり、具体的に
は前述のジエステルＡ、ジエステルＢ、トリエステル
Ａ、トリエステルＢ及びこれらの混合物からなる群より
選択される含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル
（以下、総称して多官能エステルＡと称すことがある）
が挙げられる。混合物として用いる場合には、前記多官
能エステルＡの製造法において途中で得られる各種エス
テル混合物をそのまま用いることができる。

【００２１】多官能エステルＡの含有割合は、組成物全
量に対して５〜１００重量％、好ましくは１０〜１００
重量％である。一方、無機化合物微粒子の含有割合は、
組成物全量に対して９０重量％未満が好ましい。無機化
合物微粒子を配合する場合の下限値は特に限定されない
が、５重量％が望ましい。この組成物は、重合硬化させ
た際に、架橋して三次元網目構造を呈し、耐擦傷性、密
着性、耐摩耗性、耐熱性及び耐候性等に優れた硬化被膜
等とすることができる。

【００２２】無機化合物微粒子としては特に限定されな
いが、屈折率が１．５以下の化合物が好ましい。具体的
にはフッ化マグネシウム(屈折率１．３８)、酸化珪素
(屈折率１．４６)、フッ化アルミニウム(屈折率１．３
３〜１．３９)、フッ化カルシウム(屈折率１．４４)、
フッ化リチウム(屈折率１．３６〜１．３７)、フッ化ナ
トリウム(屈折率１．３２〜１．３４)、フッ化トリウム
(屈折率１．４５〜１．５０)等の微粒子が望ましい。微
粒子の粒径については、低屈折率材料の透明性を確保す
るために可視光の波長に比べて充分に小さいことが望ま
しい。具体的には１００ｎｍ以下、特に５０ｎｍ以下が
好ましい。

【００２３】無機化合物微粒子を使用する際は、組成物
中での分散安定性、低屈折率材料中での密着性等を低下
させないために、予め有機分散媒中に分散した有機ゾル
の形態で使用するのが望ましい。更に、組成物中におい
て、無機化合物微粒子の分散安定性、低屈折率材料中で
の密着性等を向上させるために、予め無機微粒子化合物
の表面を各種カップリング剤等を用いて修飾することが
できる。各種カップリング剤としては、例えば、有機置
換された珪素化合物；アルミニウム、チタニウム、ジル
コニウム、アンチモン又はこれらの混合物等の金属アル
コキシド；有機酸の塩；配位性化合物と結合した配位化
合物等が挙げられる。

【００２４】本発明の組成物には、必要に応じて他の硬
化性材料として通常用いられる熱硬化性単量体、エネル
ギー線硬化性単量体等を、組成物中に９５重量％未満、
特に９０重量％以下配合することができる。熱硬化性単
量体、エネルギー線硬化性単量体としては、重合性不飽
和基を２個以上有する多官能性モノマー、例えば、ジペ
ンタエリスルトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
ジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテト
ラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリ
レート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、
１，１，１−トリス(アクリロイルオキシエトキシエト
キシ)プロパン、２，２−ビス(４−アクリロイルオキシ
エトキシエトキシフェニル)プロパン、２，２−ビス(４
−アクリロイルオキシエトキシエトキシシクロヘキシ
ル)プロパン、ビス(４−アクリロイルオキシエトキシエ
トキシフェニル)メタン、ネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、水添ジシクロペンタジエニルジ(メ
タ)アクリレート、トリス(ヒドロキシエチル)イソシア
ヌレートトリアクリレート、トリス(ヒドロキシエチル)
イソシアヌレートジアクリレート、１，４−ブタンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、１，６−ヘキサンジオール
ジ(メタ)アクリレート、イソボルニルジ(メタ)アクリレ
ート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート又はポ
リテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の
ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート等が好
ましく挙げられ、使用に際しては単独若しくは混合物と
して用いられる。

【００２５】本発明の組成物には、必要に応じて単官能
(メタ)アクリル酸エステルを本発明の所望の効果を損ね
ない範囲で配合できる。単官能(メタ)アクリル酸エステ
ルとしては、単量体組成物の屈折率を低下させる目的か
ら含フッ素単官能(メタ)アクリル酸エステルが特に好ま
しい。例えば、(メタ)アクリル酸−２，２，２−トリフ
ルオロエチル、(メタ)アクリル酸−２，２，３，３，３
−ペンタフルオロプロピル、(メタ)アクリル酸−２，
２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、(メ
タ)アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，５
−ノナフルオロペンチル、(メタ)アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオ
ロヘキシル、(メタ)アクリル酸−２，２，３，３，４，
４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘ
プチル、(メタ)アクリル酸−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフル
オロオクチル、(メタ)アクリル酸−３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオ
ロオクチル、(メタ)アクリル酸−２，２，３，３，４，
４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，
１０，１０−ノナデカフルオロデシル、(メタ)アクリル
酸−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，
８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデ
シル、(メタ)アクリル酸−２−トリフルオロメチル−
３，３，３−トリフルオロプロピル、(メタ)アクリル酸
−３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフルオロ
ブチル、(メタ)アクリル酸−１−メチル−２，２，３，
３，３−ペンタフルオロプロピル又は(メタ)アクリル酸
−１−メチル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフ
ルオロブチル等が好ましく挙げられ、使用に際しては単
独若しくは混合物として用いられる。

【００２６】本発明の組成物には、硬化性材料として更
に必要に応じてジエステル混合物以外の含フッ素二官能
(メタ)アクリル酸エステルを本発明の所望の効果を損ね
ない範囲で配合できる。ジエステル混合物以外の含フッ
素二官能(メタ)アクリル酸エステルとしては、ジ(メタ)
アクリル酸−２，２，２−トリフルオロエチルエチレン
グリコール、ジ(メタ)アクリル酸−２，２，３，３，３
−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ(メ
タ)アクリル酸−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタ
フルオロブチルエチレングリコール、ジ(メタ)アクリル
酸−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオ
ロペンチルエチレングリコール、ジ(メタ)アクリル酸−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデ
カフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ(メタ)アク
リル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，７−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコ
ール、ジ(メタ)アクリル酸−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフル
オロオクチルエチレングリコール、ジ(メタ)アクリル酸
−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロ
デシルエチレングリコール、ジ(メタ)アクリル酸−２，
２，３，３−テトラフルオロブタンジオール、ジ(メタ)
アクリル酸−２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロ
ペンタジオール、ジ(メタ)アクリル酸−２，２，３，
３，４，４，５，５−オクタフルオロヘキサンジオー
ル、ジ(メタ)アクリル酸−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６−デカフルオロヘプタンジオール、ジ
(メタ)アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７−ドデカフルオロオクタンジオール、ジ
(メタ)アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８−テトラデカフルオロノナンジ
オール、ジ(メタ)アクリル酸−２，２，３，３，４，
４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ヘキサ
デカフルオロデカンジオール、ジ(メタ)アクリル酸−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０−オクタデカフルオロウン
デカンジオール又はジ(メタ)アクリル酸−２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，
９，１０，１０，１１，１１−エイコサフルオロドデカ
ンジオール等が好ましく挙げられ、使用に際しては単独
若しくは混合物として用いられる。

【００２７】本発明の組成物に対しては、必要に応じて
塗膜形成能の向上のために、重合体が添加できる。添加
用重合体としては特に限定されないが、例えば、含フッ
素(メタ)アクリル酸エステルの重合体又は含フッ素(メ
タ)アクリル酸エステルと他のモノマーとの共重合体等
が挙げられる。添加用重合体の配合割合は、組成物中の
硬化性材料１００重量部に対して、２５重量部以下、特
に１０重量部以下が望ましい。

【００２８】本発明の低屈折率材料は、前記組成物を重
合硬化した、屈折率１．４９以下、好ましくは１．３５
〜１．４９を示す材料である。前記重合硬化は、例えば
前記組成物に必要に応じて硬化開始剤；イソプロピルア
ルコール又はトルエン等の溶媒等を添加混合した後、通
常行われる塗布方法、例えばロールコート法、グラビア
コート法、ディップコート法、スピンコート法等により
透明基板等の基板に塗布し、乾燥後、加熱硬化、若しく
は紫外線、電子線又は放射線等の活性エネルギー線の照
射等の方法により行うことができる。重合硬化条件は、
組成物中の硬化性材料に応じて適宜選択できる。低屈折
率材料を膜状に形成する場合の膜厚は、目的に応じて適
宜選択できる。

【００２９】硬化開始剤としては、例えば、アゾビスイ
ソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニト
リル又はアゾビスバレロニトリル等のアゾ系のラジカル
重合開始剤；過酸化ベンゾイル、tert−ブチルヒドロパ
ーオキシド、クメンパーオキシド又はジアシルパーオキ
シド等の有機過酸化物系のラジカル重合開始剤；ベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル又はベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾ
イン系化合物；ベンジル、ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン又はミヒラーズケトン等のカルボニル化合物；アゾ
ビスイソブチロニトリル又はアゾジベンゾイル等のアゾ
化合物、若しくはα−ジケトンと三級アミンとの混合物
等の光重合開始剤等が使用できる。硬化開始剤の使用量
は、単量体組成物中の硬化性材料と硬化開始剤との合計
量に対して、０．０１〜１０重量％が好ましい。

【００３０】本発明の減反射フィルムは、透明基板と前
記低屈折率材料の層とを備える。この低屈折率材料の層
は、適切な膜厚であるのが好ましい。適切な膜厚は、減
反射フィルムの反射率の最小値を示す波長が、通常４２
０〜７２０ｎｍ、より好ましくは５２０〜６２０ｎｍと
なるように膜厚を設定するのが望ましい。透明基板とし
ては、透明であれば特に限定されないが、ＰＥＴ(ポリ
エチレンテレフタレート)フィルム、ＴＡＣ(トリアセチ
ルセルロース)フィルム、アクリルフィルム、ポリカー
ボネートフィルム等が用いられる。

【００３１】本発明の減反射フィルムには、前記透明基
盤と前記低屈折率材料の層を設けたものであっても、前
記透明基盤と前記低屈折率材料の層との間に少なくとも
１層以上の材料層を設けたものであってもよい。この材
料層としては、減反射効果を高めるために高屈折率材料
の層を設けることができる。高屈折率材料の層は、屈折
率が１．５５以上が好ましく、その膜厚は５０〜５００
ｎｍであることが好ましい。前記低屈折率材料の層及び
前記高屈折率材料の層は、透明基板面上に１層づつ設け
ても良いが、それぞれ２層以上設けても良い。２層以上
の層を設ける場合、低屈折率材料の層と高屈折率材料の
層とを交互に積層し、最外層に前記低屈折率材料の層を
設けることができる。２層以上の層を設ける場合、前記
低屈折率材料又は前記高屈折率材料のそれぞれの層は、
同一の材料からなるものであっても、異なる材料からな
るものであっても良い。また、前記材料層として、前記
高屈折率材料の層の他に、中屈折率材料（屈折率１．４
９〜１．５５）の１層以上の層を設けることもできる。
本発明の減反射フィルムには、低屈折率材料の層と共
に、中屈折率材料の層及び／又は高屈折率材料の層を設
けることができる。

【００３２】前記低屈折率材料の層を設けるには、前記
含フッ素単量体組成物に必要に応じて硬化開始剤；イソ
プロピルアルコール又はトルエン等の溶媒等を添加混合
した後、通常行われる塗布方法、例えばロールコート
法、グラビアコート法、ディップコート法、スピンコー
ト法等により透明基板等の基材に塗布し、乾燥後、加熱
硬化、若しくは紫外線、電子線又は放射線等の活性エネ
ルギー線の照射等の方法により行うことができる。重合
硬化条件は、組成物中の硬化性材料に応じて適宜選択で
きる。前記高屈折率材料の層を設けるには、前記低屈折
率材料の層を設ける方法に準じた方法、あるいは無機化
合物のスパッタリング法、蒸着法等により行うことがで
きる。

【００３３】本発明の減反射フィルムにおいて、耐擦傷
性を更に向上させるために、ハードコート膜を設けるこ
とができる。ハードコート膜は、前記低屈折率材料及び
前記高屈折率材料の各積層体と、前記透明基板との間に
設けることができる。ハードコート膜としては、特に限
定されず、前記重合性不飽和基を２個以上有する多官能
性モノマー等により得られる、通常のハードコート用樹
脂を用いることができるが、前記透明基板とハードコー
ト膜との屈折率が大きく異なると界面で反射が生じるた
め、両者の屈折率差は極力小さい方が好ましい。ハード
コート膜の膜厚は１〜１０μｍ、特に３〜７μｍが好ま
しい。ハードコート膜の形成方法は特に限定されず、通
常行われる塗布方法、例えばロールコート法、グラビア
コート法、ディップコート法、スピンコート法等により
透明基板等の基材に塗布し、乾燥後、エネルギー線又は
熱等を用いる通常の硬化方法で形成する方法等が用いら
れる。

【００３４】本発明の減反射フィルムにおいて、防眩性
をさらに向上させるために、アンチグレア膜を設けるこ
とができる。アンチグレア膜は、前記低屈折率材料及び
前記高屈折率材料の各積層体と、前記透明基盤との間に
設けることができる。アンチグレア膜としては、特に限
定されないが、前記透明基盤とアンチグレア膜との屈折
率が大きく異なると界面で反射が生じるため、両者の屈
折率差は極力小さい方が好ましい。アンチグレア膜の膜
厚は１〜１０μｍ、特に３〜７μｍが好ましい。アンチ
グレア膜の形成方法は特に限定されず、通常行われる方
法、例えば微粒子を含む樹脂を塗工する方法、あるいは
塗工後にエンボスロール等を用いて表面を凹凸状にする
方法等を用いることができる。

【００３５】

【発明の効果】本発明の組成物は、前記特定の含フッ素
多官能(メタ)アクリル酸エステルを有するので、その重
合硬化物は、低屈折率と(メタ)アクリレートの硬さとの
両方の特徴を合わせ持ち、基材等にコーティングして重
合硬化させることにより膜状に形成でき、本発明の低屈
折率材料等にできる。この低屈折率材料は、低屈折率と
(メタ)アクリレートに基づく固さとの両方の特徴を合わ
せ持ち、低屈折率と高い表面硬度とを示すと共に、水酸
基を有するジエステル混合物の使用により、他の物質へ
の密着力を更に向上させることができる。また本発明の
組成物には前記特定の含フッ素多官能(メタ)アクリル酸
エステルの他に無機化合物微粒子を含有できる。無機化
合物の配合により、得られる低屈折率材料の耐擦傷性を
向上させることができる。本発明の減反射フィルムは、
前記低屈折率材料の層を備えるので、低屈折率、高い表
面硬度及び高い密着力を併せ持ち、各種用途に応用でき
る。即ち、本発明の組成物の使用により、従来のフッ化
マグネシウムの蒸着法に比べて、低コストで大面積化し
た低屈折率材料の層を備えた減反射フィルムを連続的に
効率良く得ることができる。

【００３６】

【実施例】以下実施例によりさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。合成例１ 撹拌機、冷却管、ガス導入管を備えた反応器に３−ペル
フルオロオクチル−１，２−エポキシプロパン４７６ｇ
（１．０ｍｏｌ）、２−ビス（ヒドロキシメチル）プロ
ピオン酸１６１ｇ（１．２ｍｏｌ）、テトラエチルアン
モニウムブロマイド６．４ｇ、イソプロピルアルコール
６００ｍｌを仕込み、油浴中で徐々に加熱して９５〜１
００℃とし、同温度で４時間撹拌した後、室温まで冷却
した。得られた反応液に５リットルの水を加えペースト
状物質を析出させた。析出物を濾過した後１０００ｍｌ
の酢酸エチルに溶解し、１０００ｍｌの水で３回洗浄
し、溶媒を減圧留去して白色結晶を得た。これは式
（２）及び（３）に示す構造を有する化合物の混合物で
あると考えられる。

【００３７】

【化４】

【００３８】撹拌機、温度計、ガス導入管、滴下ロート
を備えた反応器に前記反応で得られた白色結晶、トリエ
チルアミン３０３．６ｇ、及びクロロホルム１０００ｍ
ｌを仕込み、氷冷下でアクリル酸クロリド２７１．５ｇ
（３．０ｍｏｌ）をクロロホルム３００ｍｌに溶解し
て、滴下ロートから反応液の温度が５℃を超えないよう
滴下した。滴下終了後氷冷のまま２時間撹拌した。クロ
ロホルムを減圧留去し、得られた黄色結晶をさらに酢酸
エチル／ｎ−ヘキサン混合溶媒（体積比１：４）を展開
溶媒としてカラムクロマトグラフィにより精製し、溶媒
を減圧留去することで、白色結晶の目的生成物Ｂ（収率
３０％）を得た。生成物Ｂは下記式（４）、（５）、
（６）及び（７）に示す構造を有する化合物の混合物で
あった。

【００３９】

【化５】

【００４０】合成例２ ３−ペルフルオロオクチル−１，２−エポキシプロパン
の代りに、３−ペルフルオロヘキシル−１，２−エポキ
シプロパン３７６．１ｇ（１．０ｍｏｌ）を用いた以外
は合成例１と同様にして、式（８）及び（９）に示す構
造の化合物を経て白色結晶の目的生成物Ｃ１９８ｇ（収
率３２％）を得た。生成物Ｃは式（１０）、（１１）、
（１２）及び（１３）に示す構造を有する化合物の混合
物であった。

【００４１】

【化６】

【００４２】合成例３ 撹拌機、温度計、ガス導入管、滴下ロートを備えた反応
器に、合成例１と同様にして合成した生成物Ｂ全量、ト
エチルアミン４５５．４ｇ、及びクロロホルム１０００
ｍｌを仕込み、氷冷下でアクリル酸クロリド４７９．３
ｇ（４．５ｍｏｌ）をクロロホルム４５０ｍｌに溶解し
て、滴下ロートから反応液の温度が５℃を超えないよう
滴下した。滴下終了後氷冷のまま２時間撹拌した。クロ
ロホルムを減圧留去し、得られた黄色結晶をさらに酢酸
エチル／ｎ−ヘキサン混合溶媒（体積比１：４）を展開
溶媒としてカラムクロマトグラフィにより精製し、溶媒
を減圧留去することで、白色結晶の目的生成物Ｄ２３２
ｇ（収率３０％）を得た。生成物Ｄは下記式（１４）及
び（１５）に示す構造を有する化合物の混合物であっ
た。

【００４３】

【化７】

【００４４】合成例４ 生成物Ｃの代わりに、合成例３で合成した生成物Ｄ全量
を用いた以外は合成例３と同様にして、白色結晶の生成
物Ｅ２１５ｇ（収率３２％）を得た。生成物Ｅは式（１
６）及び（１７）に示す構造を有する化合物の混合物で
あった。

【００４５】

【化８】

【００４６】合成例５ 撹拌機、冷却管及びガス導入管を備えた反応器に、30％
シリカゾル(商品名「ＸＢＡ−ＳＴ」、日産化学社製)５
００重量部、シランカップリング剤として３−アクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン(商品名「ＫＢＭ−510
3」、東芝シリコーン社製)１００重量部、水２０重量部
を仕込み、油浴中で徐々に加熱して、油浴温度１００℃
とし２時間撹拌した後、冷却管を取り外し油浴温度１２
０℃とし更に２時間撹拌し、室温まで冷却して反応液Ｆ
を得た。反応液Ｆ中では、シランカップリング剤がコロ
イダルシリカの表面の一部を修飾したと考えられる。反
応液Ｆの一部をシャーレにとり、１２０℃で２時間乾燥
した前後の重量を精秤することで固形分濃度を測定した
ところ４４．６％であった。

【００４７】製造例１ ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日立化成
社製)４５重量部、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート(商品名「A−400」、新中村化学社製)３０重量部、
硬化開始剤として「イルガキュア184」(商品名、チバガ
イギー社製)４重量部、溶媒としてイソプロピルアルコ
ール２０重量部を混合し、マイクログラビアコーター
(康井精機社製)を用いてPETフィルム上に膜厚が５μｍ
になるように塗布した。紫外線照射器(岩崎電気社製)に
より８００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し硬化を行って
ハードコート膜を形成しハードコート膜形成PETフィル
ム(以下HC−PETと略す)を作製した。

【００４８】製造例２ 製造例１と同様にハードコート膜をTACフィルム上に形
成しハードコート膜形成TACフィルム(以下HC−TACと略
す)を作製した。次に３０％酸化亜鉛微粒子トルエン分
散液(商品名「ZS−300」、住友大阪セメント社製)２４
０重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート
(以下TMPTAと略す)２８重量部、硬化開始剤として「DAR
OCUR1116」(商品名、メルク社製、アセトフェノン系化
合物)(以下単に「DAROCUR1116」と略す)１重量部、溶媒
としてトルエン９００重量部を混合し塗液を調製した。
次いでこの塗液を、マイクログラビアコータを用いてHC
−TACに塗布した。紫外線照射器により１０００ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線を照射し硬化を行って高屈折率材料の層
が形成された高屈折率材料層形成TACフィルム(以下HR−
TAC−Aと略す)を作製した。この際、０°正反射測定装
置を備えた瞬間マルチ測光システム（大塚電子IMUC−70
00）を用いて反射率が最大値を示す波長が５５０〜６０
０ｎｍになるように高屈折率材料の層の膜厚を調整し
た。

【００４９】製造例３ 瞬間マルチ測光システムを用いて反射率が最大値を示す
波長が７５０〜８００ｎｍになるように高屈折率材料の
層の膜厚を調整した以外は、製造例２と同様に高屈折率
材料層形成TACフィルム(以下、HR−TAC−Bと略す)を作
製した。

【００５０】製造例４ HC−TACの代わりにアンチグレア膜形成ＰＥＴフィルム
（以下、ＡＧ−ＰＥＴと略す）を用いた以外は製造例２
と同様に高屈折率材料層及びアンチグレア膜形成ＰＥＴ
フィルム（以下ＨＲ−ＡＧ−ＰＥＴフィルムと略す）を
作成した。

【００５１】製造例５ HC−TACの代わりにアンチグレア膜形成ＴＡＣフィルム
（以下、ＡＧ−ＴＡＣと略す）を用いた以外は製造例２
と同様に高屈折率材料層及びアンチグレア膜形成ＴＡＣ
フィルム（以下ＨＲ−ＡＧ−ＴＡＣフィルムと略す）を
作製した。

【００５２】実施例１−１及び１−２ 合成例１で合成した生成物Ｂ、テトラメチロールメタン
テトラアクリレート（以下TMMTAと略す。）を表１に示
す配合割合で混合し単量体組成物を得た。組成物それぞ
れに溶媒としてトルエン９００重量部を混合し２種類の
塗液を調製した。次いで、マイクログラビアコーターを
用いて製造例１で作製したHC−PET上に各塗液を塗布し
た。電子線照射器（岩崎電気社製）により加速器電圧１
２５ｋＶ、ビーム電流３５ｍＡで吸収線量１５Mradの電
子線を照射し、コーティングされた単量体組成物の硬化
を行って低屈折率材料の層が形成された減反射PETフィ
ルムを作製した。この際、瞬間マルチ測光システムを用
いて反射率が最小値を示す波長が５５０〜６００ｎｍに
なるように低屈折率材料の層の膜厚を調整した。評価試
験として、得られたフィルムについて以下の(ア)分光反
射率、(イ)耐擦傷性及び(ウ)密着性を、また得られた塗
液については以下の(エ)低屈折率材料の屈折率の測定を
行った。

【００５３】(ア)分光反射率 ５°正反射測定装置を備えたＵＶスペクトル(日本分光
社製、商品名「U−best35」)により測定した。但し、塗
布面を測定面とし裏面は反射を遮るためサンドペーパー
で荒らして測定した。結果を図１及び図２に示す。また
最小反射率を表１に示す。(イ)耐擦傷性 番手0000のスチールウール硬度(ＳＷ硬度)を測定するこ
とによって、以下の評価基準によって評価した。結果を
表１に示す。 Ａ：強く擦っても傷が付かない、Ｂ：強く擦ると僅かに
傷が付く、Ｃ：軽く擦ると僅かに傷が付く、Ｄ：軽く擦
っても著しく傷が付く。(ウ)密着性 碁盤目剥離試験をJIS K 5400に従って行った。結果を表
１に示す。(エ)低屈折率材料の屈折率 塗液を、乾燥後の厚さが１００μｍになるようガラス上
に塗布し、電子線照射器により加速電圧１７５ｋＶ、ビ
ーム電流５ｍＡで吸収線量５Mradの電子線を照射、硬化
し、得られた膜をガラスから剥離し、アッベ屈折計(ア
タゴ株式会社製)を用いて屈折率を測定した。結果を表
１に示す。

【００５４】実施例１−３及び１−４ 合成例２で合成した生成物Ｃ、TMMTAを表１に示す配合
割合で混合し単量体組成物を得た。組成物それぞれに溶
媒としてトルエン９００重量部を混合し２種類の塗液を
調製した。次いで、マイクログラビアコーターを用いて
製造例１で作製したHC−PET上に各塗液を塗布した。電
子線照射器(岩崎電気社製)により加速器電圧１２５ｋ
Ｖ、ビーム電流３５ｍＡで吸収線量１５Mradの電子線を
照射し、コーティングされた単量体組成物の硬化を行っ
て低屈折率材料の層が形成された減反射PETフィルムを
作製した。この際、瞬間マルチ測光システムを用いて反
射率が最小値を示す波長が５５０〜６００ｎｍになるよ
うに低屈折率材料の層の膜厚を調整した。得られた塗液
及び減反射フィルムについて、実施例１−１及び１−２
と同様に評価試験の測定を行った。結果を図３、図４及
び表１に示す。

【００５５】実施例１−５及び１−６ 合成例１で合成した生成物Ｂ、TMMTA、１０％フッ化マ
グネシウムゾル（商品名「MFS−10P」、日産化学社製）
（以下「MFS−10P」と略す）及びDAROCUR1116を表１に
示す配合割合で混合し単量体組成物を得た。組成物それ
ぞれに溶媒としてトルエン９００重量部を混合し２種類
の塗液を調製した。次いで、マイクログラビアコーター
を用いて製造例２で作製したHR−TAC−A上に各塗液を塗
布した。紫外線照射器により１０００ｍＪ／ｃｍ²の紫
外線を３回照射し、コーティングされた単量体組成物の
硬化を行って低屈折率材料及び高屈折材料の層が積層さ
れた減反射TACフィルムを作製した。この際、瞬間マル
チ測光システムを用いて反射率が最小値を示す波長が５
５０〜６００ｎｍになるように低屈折率材料の層の膜厚
を調整した。得られた塗液及び減反射フィルムについ
て、実施例１−１及び１−２と同様に評価試験の測定を
行った。結果を図５、図６及び表１に示す。

【００５６】実施例１−７及び１−８ 合成例１で合成した生成物Ｂ、テトラアクリル酸−４，
４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン−
１，２，９，１０−テトラオール（以下Ｆ₈ＤＴＡと略
す）、合成例５で合成した反応液Ｆ及びDAROCUR1116を
表１に示す配合割合で混合し単量体組成物を得た。組成
物それぞれに溶媒としてトルエン９００重量部を混合し
２種類の塗液を調製した。次いで、マイクログラビアコ
ーターを用いて製造例３で作製したHR−TAC−B上に各塗
液を塗布した。紫外線照射器により１０００ｍＪ／ｃｍ
²の紫外線を３回照射し、コーティングされた単量体組
成物の硬化を行って低屈折率材料及び高屈折材料の層が
積層された減反射TACフィルムを作製した。この際、瞬
間マルチ測光システムを用いて反射率が最小値を示す波
長が５５０〜６００ｎｍになるように低屈折率材料の層
の膜厚を調整した。得られた塗液及び減反射フィルムに
ついて実施例１−１及び１−２と同様に評価試験の測定
を行った。結果を図７、図８及び表１に示す。

【００５７】比較例１及び２ 製造例１及び２で作製したHC−PET及びHC−TACの分光反
射率、最小反射率及び耐擦傷性を、実施例１−１及び１
−２と同様に測定した。結果を図９、図１０及び表１に
示す。

【００５８】比較例３ ジアクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，
６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロ
ノニルエチレングリコール（以下F₁₇EDAと略す。）又は
Ｆ₈ＤＴＡとTMMTAとを表１に示す配合割合で混合し、溶
媒としてトルエン９００重量部を混合し塗液を調製し
た。次いでマイクログラビアコーターを用いて製造例１
で作製したHC−PET上に各塗液を塗布した。電子線照射
器(岩崎電気社製)により加速器電圧１２５ｋＶ、ビーム
電流３５ｍＡで吸収線量１５Mradの電子線を照射し、塗
液の硬化を行って低屈折率材料の層が形成された減反射
PETフィルムを作製した。この際、瞬間マルチ測光シス
テムを用いて反射率が最小値を示す波長が５５０〜６０
０ｎｍになるように低屈折率材料の層の膜厚を調整し
た。得られた塗液及び減反射フィルムについて、実施例
１−１及び１−２と同様に評価試験の測定を行った。結
果を図１１、１２及び表１に示す。

【００５９】表１〜３中D.1116は、「DAROCUR1116」商品
名、メルク社製、(１−(４−イソプロピルフェニル)−
２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン)を示
す。

【００６０】

【表１】

【００６１】実施例２−１及び２−２ 合成例３で合成した生成物ＤとＴＭＭＴＡとを表２に示
す配合割合で混合し単量体組成物を得た。組成物それぞ
れにトルエン９００重量部を混合し２種類の塗液を調製
した。次いで、実施例１−１及び１−２と同様に低屈折
率材料の層が形成された減反射PETフィルムを作製し、
前記（ア）分光反射率及び（イ）耐擦傷性試験と、得ら
れた塗液についての（エ）屈折率の測定を行なった。各
評価試験の測定を行った。結果を図１３、１４及び表２
に示す。

【００６２】実施例２−３及び２−４ 合成例４で合成した生成物Ｅ、ＴＭＭＴＡを表２に示す
配合割合で混合し単量体組成物を得た。組成物それぞれ
に溶媒としてトルエン９００重量部を混合し２種類の塗
液を調製した。次いで、実施例１−３及び１−４と同様
に低屈折率材料の層が形成された減反射PETフィルムを
作製し、実施例２−１及び２−２と同様の評価試験の測
定を行った。結果を図１５、１６及び表２に示す。

【００６３】実施例２−５及び２−６ 合成例３で合成した生成物Ｄ、TMMTA、MFS−10P及びDAR
OCUR1116を表２に示す配合割合で混合し単量体組成物を
得た。組成物それぞれに溶媒としてトルエン９００重量
部を混合し２種類の塗液を調製した。次いで、実施例１
−５及び１−６と同様に低屈折率材料及び高屈折材料の
層が積層された減反射TACフィルムを作製し、実施例２
−１及び２−２と同様の評価試験の測定を行った。結果
を図１７、１８及び表２に示す。

【００６４】実施例２−７及び２−８ 合成例３で合成した生成物Ｄ、ＴＭＭＴＡ、合成例５で
合成した反応液Ｆ、及びDAROCUR1116を表２に示す配合
割合で混合し単量体組成物を得た。組成物それぞれに溶
媒としてトルエン９００重量部を混合し２種類の塗液を
調製した。次いで、実施例１−７及び１−８と同様に低
屈折率材料及び高屈折材料の層が積層された減反射TAC
フィルムを作製し、実施例２−１及び２−２と同様の評
価試験の測定を行った。結果を図１９、２０及び表２に
示す。

【００６５】比較例５ ヘプタデカフルオロデシルアクリレート（以下F₁₇Aと略
す。）１００重量部、溶媒としてトルエン９００重量部
を混合し塗液を調製した。次いで、マイクログラビアコ
ーターを用いて製造例１で作製したHC−PET上に、各溶
液を塗布した。電子線照射器(岩崎電気社製)により加速
器電圧１２５ｋＶ、ビーム電流３５ｍＡで吸収線量１５
Mradの電子線を照射し、コーティングされた単量体組成
物の硬化を行って低屈折率材料の層が形成された減反射
PETフィルムを作製した。この際、瞬間マルチ測光シス
テムを用いて反射率が最小値を示す波長が５５０〜６０
０ｎｍになるように低屈折率材料の層の膜厚を調整し
た。得られた塗液及び減反射フィルムについて、実施例
２−１及び２−２と同様な評価試験を行った。結果を図
２１及び表２に示す。

【００６６】比較例６及び７ F₁₇EDA又はTMMTAと、DAROCUR1116とを表２に示す配合割
合で混合しそれぞれに溶媒としてトルエン９００重量部
を混合し２種類の塗液を調製した。次いで実施例１−５
及び１−６と同様に低屈折率材料の層が形成された減反
射ＴＡＣフィルムを作製した。得られた塗液及び減反射
フィルムについて、実施例２−１及び２−２と同様な評
価試験を行った。結果を図２２及び表２に示す。

【００６７】比較例８〜１０ Ｆ₁₇ＡとＴＭＭＴＡとを表２に示す配合割合で混合した
が、いずれも相溶しなかった。

【００６８】

【表２】

【００６９】実施例３−１及び３−２ 合成例１で合成した生成物Ｂと、TMMTAと、DAROCUR1116
とを表３に示す配合割合で混合し単量体組成物を得た。
トルエン９００重量部を混合し塗液を調製した。次い
で、マイクログラビアコーターを用いて製造例４で作製
したHR−AG−PETフィルム上、又は製造例５で作製したH
R−AG−TACフィルム上にそれぞれ塗布した。紫外線照射
器により１０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を３回照射し硬
化を行なって低屈折率材料がコーティングされた減反射
AG−PETフィルムを作製した。この際、瞬間マルチ測光
システムを用いて反射率が最小値を示す波長が５５０〜
６００ｎｍになるように低屈折率材料の膜厚を調整し
た。得られたフィルムについて、前記（ア）分光反射
率、（イ）耐擦傷性及び（ウ）密着性の試験の他に、以
下の（オ）全光線透過率及びヘイズの測定を行なった。
結果を図２３、２４及び表３に示す。 （オ）全光線透過率及びヘイズ 濁度・色差計（日本電飾工業社製、商品名「ND−1001D
P」により測定した。

【００７０】実施例３−３及び３−４ 合成例１で合成した生成物Ｂ、F₈DTA、合成例５で合成
した反応液Ｆ、及びDAROCUR1116を表３に示す配合割合
で混合し単量体組成物を得た。トルエン９００重量部を
混合し塗液を調製した。次いで、マイクログラビアコー
ターを用いて製造例４で作製したHR−AG−PETフィルム
上、又は製造例５で作製したHR−AG−TACフィルム上に
それぞれ塗布した。紫外線照射器により１０００ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線を３回照射し硬化を行なって低屈折率材
料がコーティングされた減反射AG−PETフィルムを作製
した。この際、瞬間マルチ測光システムを用いて反射率
が最小値を示す波長が５５０〜６００ｎｍになるように
低屈折率材料の膜厚を調整した。得られたフィルムにつ
いて、実施例３−１及び３−２と同様に評価試験を行な
った。結果を図２５、２６及び表３に示す。

【００７１】比較例１１及び１２ 製造例４で用いたAG−PETフィルム又は製造例５で用い
たAG−TACフィルムについて、前記（ア）分光反射率、
（イ）耐擦傷性、（オ）全光線透過率及びヘイズの測定
を行なった。結果を図２７、２８及び表３に示す。

【００７２】

【表３】

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１−１の分光反射率の測定結果を示すグ
ラフである。

【図２】実施例１−２の分光反射率の測定結果を示すグ
ラフである。

【図３】実施例１−３の分光反射率の測定結果を示すグ
ラフである。

【図４】実施例１−４の分光反射率の測定結果を示すグ
ラフである。

【図５】実施例１−５の分光反射率の測定結果を示すグ
ラフである。

【図６】実施例１−６の分光反射率の測定結果を示すグ
ラフである。

【図７】実施例１−７の分光反射率の測定結果を示すグ
ラフである。

【図８】実施例１−８の分光反射率の測定結果を示すグ
ラフである。

【図９】比較例１の分光反射率の測定結果を示すグラフ
である。

【図１０】比較例２の分光反射率の測定結果を示すグラ
フである。

【図１１】比較例３の分光反射率の測定結果を示すグラ
フである。

【図１２】比較例４の分光反射率の測定結果を示すグラ
フである。

【図１３】実施例２−１の分光反射率の測定結果を示す
グラフである。

【図１４】実施例２−２の分光反射率の測定結果を示す
グラフである。

【図１５】実施例２−３の分光反射率の測定結果を示す
グラフである。

【図１６】実施例２−４の分光反射率の測定結果を示す
グラフである。

【図１７】実施例２−５の分光反射率の測定結果を示す
グラフである。

【図１８】実施例２−６の分光反射率の測定結果を示す
グラフである。

【図１９】実施例２−７の分光反射率の測定結果を示す
グラフである。

【図２０】実施例２−８の分光反射率の測定結果を示す
グラフである。

【図２１】比較例５の分光反射率の測定結果を示すグラ
フである。

【図２２】比較例６及び７の分光反射率の測定結果を示
すグラフである。

【図２３】実施例３−１の分光反射率の測定結果を示す
グラフである。

【図２４】実施例３−２の分光反射率の測定結果を示す
グラフである。

【図２５】実施例３−３の分光反射率の測定結果を示す
グラフである。

【図２６】実施例３−４の分光反射率の測定結果を示す
グラフである。

【図２７】比較例１１の分光反射率の測定結果を示すグ
ラフである。

【図２８】比較例１２の分光反射率の測定結果を示すグ
ラフである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ (72)発明者 伊藤 哲也 茨城県つくば市春日２−20−３ (72)発明者 後藤 義隆 茨城県筑波郡谷和原村絹の台６−５−７

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１）で表わされる、含フッ
   素多官能（メタ）アクリル酸エステルを５〜１００重量
   ％含有する単量体組成物。 【化１】 (式中Ｘは、フッ素原子を３個以上有する炭素数１〜１
   ４のフルオロアルキル基又はフッ素原子を４個以上有す
   る炭素数３〜１４のフルオロシクロアルキル基を示し、
   Ｙ¹、Ｙ²及びＹ³は、水素原子、アクリロイル基又はメ
   タクリロイル基を示し、且つＹ¹、Ｙ²及びＹ³のうちの
   少なくとも２個は、同一又は異なる基であって、アクリ
   ロイル基又はメタクリロイル基を示し、Ｚは水素原子又
   は炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｎ及びｍは０又は
   １を示し、且つｎ＋ｍ＝１である。)
2. 【請求項２】 無機化合物微粒子を更に含む請求項１に
   記載の単量体組成物。
3. 【請求項３】 請求項１又は２に記載の単量体組成物を
   重合硬化させてなる、屈折率１．４９以下の低屈折率材
   料。
4. 【請求項４】 透明基板と、請求項３に記載の低屈折率
   材料の層とを備えた減反射フィルム。
5. 【請求項５】 透明基板と、請求項３に記載の低屈折率
   材料の層との間に少なくとも１層以上の材料層を備えた
   請求項４に記載の減反射フィルム。