JP2001328069A - 研磨装置のドレッサー洗浄方法及び装置 - Google Patents
研磨装置のドレッサー洗浄方法及び装置Info
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- JP2001328069A JP2001328069A JP2000153399A JP2000153399A JP2001328069A JP 2001328069 A JP2001328069 A JP 2001328069A JP 2000153399 A JP2000153399 A JP 2000153399A JP 2000153399 A JP2000153399 A JP 2000153399A JP 2001328069 A JP2001328069 A JP 2001328069A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ドレッサーのドレッシング面に付着した研磨
面の削りかすや該削りかすによる目詰の除去能力を向上
させ、効率よく目詰まりを除去できる研磨装置のドレッ
サー洗浄方法及び装置を提供する。 【解決手段】 研磨装置の研磨面をドレッシングするド
レッサー６の該研磨面に当接するドレッシング面を洗浄
する研磨装置のドレッサー洗浄装置であって、液を収容
する液槽９を設けると共に、該液槽９の洗浄液中にドレ
ッサー６を浸漬した状態でそのドレッシング面中にキャ
ビテーションを伴う液流を噴射する噴出ノズル１１、又
は液槽９の液に超音波の振動を加える超音波振動装置、
又は液槽の液中に気泡を拡散させ前記ドレッシング面に
当接させる気泡発生装置のいずれか１又は２以上を設け
た。
面の削りかすや該削りかすによる目詰の除去能力を向上
させ、効率よく目詰まりを除去できる研磨装置のドレッ
サー洗浄方法及び装置を提供する。 【解決手段】 研磨装置の研磨面をドレッシングするド
レッサー６の該研磨面に当接するドレッシング面を洗浄
する研磨装置のドレッサー洗浄装置であって、液を収容
する液槽９を設けると共に、該液槽９の洗浄液中にドレ
ッサー６を浸漬した状態でそのドレッシング面中にキャ
ビテーションを伴う液流を噴射する噴出ノズル１１、又
は液槽９の液に超音波の振動を加える超音波振動装置、
又は液槽の液中に気泡を拡散させ前記ドレッシング面に
当接させる気泡発生装置のいずれか１又は２以上を設け
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
基板を研磨する研磨装置の研磨面のドレッシング（目立
て）を行うドレッサーのドレッシング面を洗浄する研磨
装置のドレッサー洗浄方法及び装置に関するものであ
る。
基板を研磨する研磨装置の研磨面のドレッシング（目立
て）を行うドレッサーのドレッシング面を洗浄する研磨
装置のドレッサー洗浄方法及び装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ等の基板を研磨する研磨装
置は、通常スラリーと研磨布（若しくは砥石）を用い、
該研磨布（若しくは砥石）に基板を押付け、研磨布（若
しくは砥石）と基板の相対運動により基板の研磨を行っ
ている。この研磨工程において、研磨布（若しくは砥
石）はスラリーや研磨かすにより溝若しくは微細孔が詰
まったり（目詰まり）、溝の表面形状自体の変化（目潰
れ）、研磨面の形状変化（面ダレ）が生じる。
置は、通常スラリーと研磨布（若しくは砥石）を用い、
該研磨布（若しくは砥石）に基板を押付け、研磨布（若
しくは砥石）と基板の相対運動により基板の研磨を行っ
ている。この研磨工程において、研磨布（若しくは砥
石）はスラリーや研磨かすにより溝若しくは微細孔が詰
まったり（目詰まり）、溝の表面形状自体の変化（目潰
れ）、研磨面の形状変化（面ダレ）が生じる。
【０００３】これにより、研磨装置は研磨時間によって
研磨特性が変化してしまうため、この目詰まり、目潰
れ、面ダレを除去するために、ドレッサー（ダイヤモン
ド砥石、セラミック砥石、ブラシ等を使用することが多
い）を用いて研磨面をドレッシングしている。このドレ
ッシングでは、ドレッサーが研磨面を削るため削りかす
が発生する。また、ドレッサーの研磨面に当接するドレ
ッシング面自体も目詰まりを起こしてしまう。そのた
め、好適なドレッシングを行うためにはドレッサーのド
レッシング面に付着した削りかすによる目詰まりを完全
に除去しなければならない。
研磨特性が変化してしまうため、この目詰まり、目潰
れ、面ダレを除去するために、ドレッサー（ダイヤモン
ド砥石、セラミック砥石、ブラシ等を使用することが多
い）を用いて研磨面をドレッシングしている。このドレ
ッシングでは、ドレッサーが研磨面を削るため削りかす
が発生する。また、ドレッサーの研磨面に当接するドレ
ッシング面自体も目詰まりを起こしてしまう。そのた
め、好適なドレッシングを行うためにはドレッサーのド
レッシング面に付着した削りかすによる目詰まりを完全
に除去しなければならない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の点に鑑
みてなされたもので、ドレッサーのドレッシング面に付
着した研磨面の削りかすや該削りかすによる目詰の除去
能力を向上させ、効率よく目詰まりを除去できる研磨装
置のドレッサー洗浄方法及び装置を提供することを目的
とする。
みてなされたもので、ドレッサーのドレッシング面に付
着した研磨面の削りかすや該削りかすによる目詰の除去
能力を向上させ、効率よく目詰まりを除去できる研磨装
置のドレッサー洗浄方法及び装置を提供することを目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１に記載の発明は、研磨装置の研磨面をドレッシ
ングするドレッサーの該研磨面に当接するドレッシング
面を洗浄する研磨装置のドレッサー洗浄方法であって、
ドレッサーのドレッシング面を液中に浸漬し、もしくは
ドレッシング面を液に接触させ、この状態で該ドレッシ
ング面にキャビテーションを伴う液流を噴射し、又は該
液を超音波振動により加振し、又は該液中に微細な気泡
を発生させドレッシング面に当接させ、又はこれら２以
上を組み合わせて、該ドレッシング面を洗浄することを
特徴とする。
請求項１に記載の発明は、研磨装置の研磨面をドレッシ
ングするドレッサーの該研磨面に当接するドレッシング
面を洗浄する研磨装置のドレッサー洗浄方法であって、
ドレッサーのドレッシング面を液中に浸漬し、もしくは
ドレッシング面を液に接触させ、この状態で該ドレッシ
ング面にキャビテーションを伴う液流を噴射し、又は該
液を超音波振動により加振し、又は該液中に微細な気泡
を発生させドレッシング面に当接させ、又はこれら２以
上を組み合わせて、該ドレッシング面を洗浄することを
特徴とする。
【０００６】上記のようにドレッサーのドレッシング面
にキャビテーションを伴う液流を噴射することにより、
該キャビテーションが破壊するときに発生する衝撃波エ
ネルギーにより、ドレッシング面に付着した削りかすや
該削りかすによる目詰まりを効率よく除去できる。ま
た、液を超音波振動で加振することにより、超音波振動
による液振動がドレッサーのドレッシング面に伝わり、
その振動エネルギーでドレッシング面に付着した削りか
すや該削りかすによる目詰まりを効率よく除去できる。
また、微細な気泡をドレッシング面に当接させることに
より、この気泡が破れるときのエネルギーによりドレッ
シング面に付着した削りかすや該削りかすによる目詰ま
りを効率よく除去できる。また、これらを２以上組合せ
ることにより、その相乗効果により、より効率的にドレ
ッシング面に付着した削りかすや該削りかすによる目詰
まりを除去できる。
にキャビテーションを伴う液流を噴射することにより、
該キャビテーションが破壊するときに発生する衝撃波エ
ネルギーにより、ドレッシング面に付着した削りかすや
該削りかすによる目詰まりを効率よく除去できる。ま
た、液を超音波振動で加振することにより、超音波振動
による液振動がドレッサーのドレッシング面に伝わり、
その振動エネルギーでドレッシング面に付着した削りか
すや該削りかすによる目詰まりを効率よく除去できる。
また、微細な気泡をドレッシング面に当接させることに
より、この気泡が破れるときのエネルギーによりドレッ
シング面に付着した削りかすや該削りかすによる目詰ま
りを効率よく除去できる。また、これらを２以上組合せ
ることにより、その相乗効果により、より効率的にドレ
ッシング面に付着した削りかすや該削りかすによる目詰
まりを除去できる。
【０００７】また、請求項２に記載の発明によれば、研
磨装置の研磨面をドレッシングするドレッサーの該研磨
面に当接するドレッシング面を洗浄する研磨装置のドレ
ッサー洗浄装置であって、液を収容する液槽を設けると
共に、該液槽の液にドレッサーを接触した状態でそのド
レッシング面にキャビテーションを伴う液流を噴射する
液流噴射手段、又は液槽の液に超音波の振動を加える超
音波振動手段、又は液槽の液中に気泡を拡散させドレッ
シング面に当接させる気泡発生手段のいずれか１又は２
以上を設けたことを特徴とする。
磨装置の研磨面をドレッシングするドレッサーの該研磨
面に当接するドレッシング面を洗浄する研磨装置のドレ
ッサー洗浄装置であって、液を収容する液槽を設けると
共に、該液槽の液にドレッサーを接触した状態でそのド
レッシング面にキャビテーションを伴う液流を噴射する
液流噴射手段、又は液槽の液に超音波の振動を加える超
音波振動手段、又は液槽の液中に気泡を拡散させドレッ
シング面に当接させる気泡発生手段のいずれか１又は２
以上を設けたことを特徴とする。
【０００８】上記構成の洗浄装置によれば、上記のよう
に液流噴射手段、又は超音波振動手段、気泡発生手段の
いずれか１又は２以上を設けたので、上記洗浄方法と同
じ作用により、ドレッシング面の削りかすや目詰まりを
効率的に除去することができる。
に液流噴射手段、又は超音波振動手段、気泡発生手段の
いずれか１又は２以上を設けたので、上記洗浄方法と同
じ作用により、ドレッシング面の削りかすや目詰まりを
効率的に除去することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例を図
面に基づいて説明する。図１は本発明に係るドレッサー
洗浄装置を具備する研磨装置の概略構成を示す図であ
る。本研磨装置はターンテーブル１を具備し、該ターン
テーブル１の上面には研磨面を構成する研磨布２が貼り
付けられている。３は半導体ウエハ等の被研磨基板Ｗを
保持するトップリングで、該トップリング３はトップリ
ングヘッド４に回転自在で且つ上下動自在に取付けられ
ている。また、トップリングヘッド４は旋回軸５を介し
て旋回できるようになっており、この旋回によりトップ
リング３をターンテーブル１の上部の研磨位置とターン
テーブル１の外側の待機位置（退避位置）に移動できる
ようになっている。
面に基づいて説明する。図１は本発明に係るドレッサー
洗浄装置を具備する研磨装置の概略構成を示す図であ
る。本研磨装置はターンテーブル１を具備し、該ターン
テーブル１の上面には研磨面を構成する研磨布２が貼り
付けられている。３は半導体ウエハ等の被研磨基板Ｗを
保持するトップリングで、該トップリング３はトップリ
ングヘッド４に回転自在で且つ上下動自在に取付けられ
ている。また、トップリングヘッド４は旋回軸５を介し
て旋回できるようになっており、この旋回によりトップ
リング３をターンテーブル１の上部の研磨位置とターン
テーブル１の外側の待機位置（退避位置）に移動できる
ようになっている。
【００１０】６は研磨布２の研磨面をドレッシングする
ドレッサーであり、該ドレッサー６はドレッサーヘッド
７に回転及び上下動自在に取付けられている。ドレッサ
ーヘッド７は、旋回軸８を介して旋回できるようになっ
ており、この旋回によりドレッサー６をターンテーブル
１の上部のドレッシング位置とターンテーブル１の外側
の待機位置（退避位置）に移動できるようになってい
る。
ドレッサーであり、該ドレッサー６はドレッサーヘッド
７に回転及び上下動自在に取付けられている。ドレッサ
ーヘッド７は、旋回軸８を介して旋回できるようになっ
ており、この旋回によりドレッサー６をターンテーブル
１の上部のドレッシング位置とターンテーブル１の外側
の待機位置（退避位置）に移動できるようになってい
る。
【００１１】上記ドレッサー６の待機位置には、洗浄液
１０（主に純水）を収容する液槽９が配置されており、
ドレッサー６は待機中はそのドレッシング面（ドレッシ
ング中に研磨布２の研磨面に当接する面）を該液槽９の
洗浄液１０中に浸漬している。液槽９の底部にはドレッ
サー６のドレッシング面に向かってキャビテーションを
伴う洗浄液流（主に純水）を噴出する複数の噴出ノズル
１１が配置されている。
１０（主に純水）を収容する液槽９が配置されており、
ドレッサー６は待機中はそのドレッシング面（ドレッシ
ング中に研磨布２の研磨面に当接する面）を該液槽９の
洗浄液１０中に浸漬している。液槽９の底部にはドレッ
サー６のドレッシング面に向かってキャビテーションを
伴う洗浄液流（主に純水）を噴出する複数の噴出ノズル
１１が配置されている。
【００１２】上記構成の研磨装置において、被研磨基板
Ｗをトップリング３で保持し、該被研磨基板Ｗを研磨布
２の研磨面上に所定の圧力で押圧し、図示しない砥液供
給ノズルから該研磨面上に砥液を供給し、ターンテーブ
ル１とトップリング３を回転させることにより、被研磨
基板Ｗと研磨布２の相対運動により、被研磨基板Ｗの表
面を平坦、且つ鏡面に研磨する。この研磨工程におい
て、研磨布２は砥液中のスラリーや研磨かすによりその
溝若しくは微細孔が詰まったり（目詰まり）、溝の表面
形状自体の変化（目潰れ）、研磨面の形状変化（面ダ
レ）が生じる。このため次に、ドレッサーを用いて研磨
面をドレッシングするドレッシング工程を行う。ただ、
ドレッサーのドレッシング面自体も目詰まりを起こして
しまう場合がある。
Ｗをトップリング３で保持し、該被研磨基板Ｗを研磨布
２の研磨面上に所定の圧力で押圧し、図示しない砥液供
給ノズルから該研磨面上に砥液を供給し、ターンテーブ
ル１とトップリング３を回転させることにより、被研磨
基板Ｗと研磨布２の相対運動により、被研磨基板Ｗの表
面を平坦、且つ鏡面に研磨する。この研磨工程におい
て、研磨布２は砥液中のスラリーや研磨かすによりその
溝若しくは微細孔が詰まったり（目詰まり）、溝の表面
形状自体の変化（目潰れ）、研磨面の形状変化（面ダ
レ）が生じる。このため次に、ドレッサーを用いて研磨
面をドレッシングするドレッシング工程を行う。ただ、
ドレッサーのドレッシング面自体も目詰まりを起こして
しまう場合がある。
【００１３】そこでドレッサー６のドレッシング面に付
着した削れかすや目詰まりを除去し、ドレッシング能力
の回復を図る必要がある。ここでは、ドレッサー６がタ
ーンテーブル１の外側に配置された液槽９の洗浄液１０
の中に浸漬され、待機している間に噴出ノズル１１から
ドレッサー６のドレッシング面に向かってキャビテーシ
ョンの伴う洗浄液流を噴出し、該キャビテーションが破
壊するときの衝撃波エネルギーにより、ドレッシング面
の削りかすや該削りかすによる目詰まりを効率よく除去
している。
着した削れかすや目詰まりを除去し、ドレッシング能力
の回復を図る必要がある。ここでは、ドレッサー６がタ
ーンテーブル１の外側に配置された液槽９の洗浄液１０
の中に浸漬され、待機している間に噴出ノズル１１から
ドレッサー６のドレッシング面に向かってキャビテーシ
ョンの伴う洗浄液流を噴出し、該キャビテーションが破
壊するときの衝撃波エネルギーにより、ドレッシング面
の削りかすや該削りかすによる目詰まりを効率よく除去
している。
【００１４】図２は上記噴出ノズル１１の構成例を示す
図である。図示するように、噴出ノズル１１はノズル本
体１１−１を具備し、該ノズル本体１１−１には内孔１
１−２に連続して絞り部１１−３が形成され、絞り部１
１−３の下流側には急拡大部１１−４が形成された構成
である。該噴出ノズル１１は液槽９の底部に突出して配
置されている。
図である。図示するように、噴出ノズル１１はノズル本
体１１−１を具備し、該ノズル本体１１−１には内孔１
１−２に連続して絞り部１１−３が形成され、絞り部１
１−３の下流側には急拡大部１１−４が形成された構成
である。該噴出ノズル１１は液槽９の底部に突出して配
置されている。
【００１５】上記構成の噴出ノズル１１において、該内
孔１１−２に高圧の洗浄液を供給すると、該洗浄液は絞
り部１１−３を通って高速洗浄液噴流Ｊとなって、ドレ
ッサー６のドレッシング面６ａに向かって噴射される。
噴出ノズル１１の外部の洗浄液１０が高速洗浄液噴流Ｊ
の流れに誘起され、洗浄液１０の一部が急拡大部１１−
４に逆流し、循環流Ｓが発生し、この循環流Ｓと高速洗
浄液噴流Ｊの間に極めて複雑で顕著な速度剪断層が生じ
る。
孔１１−２に高圧の洗浄液を供給すると、該洗浄液は絞
り部１１−３を通って高速洗浄液噴流Ｊとなって、ドレ
ッサー６のドレッシング面６ａに向かって噴射される。
噴出ノズル１１の外部の洗浄液１０が高速洗浄液噴流Ｊ
の流れに誘起され、洗浄液１０の一部が急拡大部１１−
４に逆流し、循環流Ｓが発生し、この循環流Ｓと高速洗
浄液噴流Ｊの間に極めて複雑で顕著な速度剪断層が生じ
る。
【００１６】そして、この剪断層内に多数の微細な渦が
発生し、それらの渦の中心に非常に多くのキャビテーシ
ョン核が生成し、高速洗浄液噴流Ｊと共に下流側に流出
して充分に発達したキャビテーション噴流ＣＪとなり、
ドレッサー６のドレッシング面６ａに当接する。そして
キャビテーションの破壊するときの衝撃波エネルギーに
より、ドレッシング面６ａに付着した削りかすや目詰ま
りが除去される。この時、ドレッサー６を低速で回転さ
せることより、ドレッシング面６ａが均一に洗浄され
る。
発生し、それらの渦の中心に非常に多くのキャビテーシ
ョン核が生成し、高速洗浄液噴流Ｊと共に下流側に流出
して充分に発達したキャビテーション噴流ＣＪとなり、
ドレッサー６のドレッシング面６ａに当接する。そして
キャビテーションの破壊するときの衝撃波エネルギーに
より、ドレッシング面６ａに付着した削りかすや目詰ま
りが除去される。この時、ドレッサー６を低速で回転さ
せることより、ドレッシング面６ａが均一に洗浄され
る。
【００１７】なお、上記キャビテーションを伴う液流を
噴出するノズルは、図２に示す構成のものに限定される
ものではなく、キャビテーションを伴う液流を発生する
ものであればよい。
噴出するノズルは、図２に示す構成のものに限定される
ものではなく、キャビテーションを伴う液流を発生する
ものであればよい。
【００１８】図３は液槽の底部に超音波振動装置を配置
した例を示す図である。図示するように、液槽９の底部
に超音波振動装置１２を設け、該液槽９の洗浄液１０の
中にドレッサー６のドレッシング面６ａを浸漬し、この
状態で洗浄液１０に超音波の振動を加える。これによ
り、この超音波振動による洗浄液振動１３がドレッシン
グ面６ａに伝播し、その振動エネルギーによりドレッシ
ング面６ａに付着した削りかすや該削りかすによる目詰
まりが効率よく除去される。この際ドレッサー６を低速
で回転させることにより、ドレッシング面６ａが均一に
洗浄される。
した例を示す図である。図示するように、液槽９の底部
に超音波振動装置１２を設け、該液槽９の洗浄液１０の
中にドレッサー６のドレッシング面６ａを浸漬し、この
状態で洗浄液１０に超音波の振動を加える。これによ
り、この超音波振動による洗浄液振動１３がドレッシン
グ面６ａに伝播し、その振動エネルギーによりドレッシ
ング面６ａに付着した削りかすや該削りかすによる目詰
まりが効率よく除去される。この際ドレッサー６を低速
で回転させることにより、ドレッシング面６ａが均一に
洗浄される。
【００１９】図４は液槽の底部に気泡発生装置を配置し
た例を示す図である。図示するように、液槽９の底部に
空気（Ａｉｒ）や窒素（Ｎ2）ガス等の気泡を発生する
気泡発生装置１４を配置し、該気泡発生装置１４に空気
や窒素ガスを供給することにより、該気泡発生装置１４
から発生した空気や窒素ガスの多数の微細な気泡１５が
洗浄液１０の中に拡散する。そして気泡１５が上昇しド
レッサー６のドレッシング面６ａに当接して破れるとき
のエネルギーによりドレッシング面６ａに付着した削り
かすや該削りかすによる目詰まりが効率よく除去され
る。この際ドレッサー６を回転させることにより、ドレ
ッシング面６ａが均一に洗浄される。
た例を示す図である。図示するように、液槽９の底部に
空気（Ａｉｒ）や窒素（Ｎ2）ガス等の気泡を発生する
気泡発生装置１４を配置し、該気泡発生装置１４に空気
や窒素ガスを供給することにより、該気泡発生装置１４
から発生した空気や窒素ガスの多数の微細な気泡１５が
洗浄液１０の中に拡散する。そして気泡１５が上昇しド
レッサー６のドレッシング面６ａに当接して破れるとき
のエネルギーによりドレッシング面６ａに付着した削り
かすや該削りかすによる目詰まりが効率よく除去され
る。この際ドレッサー６を回転させることにより、ドレ
ッシング面６ａが均一に洗浄される。
【００２０】上記例では、液槽９内にキャビテーション
を伴う液流を噴出する噴出ノズル１１、超音波振動波を
発生する超音波振動装置１２、気泡を発生する気泡発生
装置１４をそれぞれ単独に設けた例を示したが、これら
を２つ以上組み合わせその相乗効果により、ドレッシン
グ面６ａの削りかすや目詰まりを除去する能力を向上さ
せるように構成してもよい。
を伴う液流を噴出する噴出ノズル１１、超音波振動波を
発生する超音波振動装置１２、気泡を発生する気泡発生
装置１４をそれぞれ単独に設けた例を示したが、これら
を２つ以上組み合わせその相乗効果により、ドレッシン
グ面６ａの削りかすや目詰まりを除去する能力を向上さ
せるように構成してもよい。
【００２１】なお、上記実施例では研磨装置として、タ
ーンテーブル１の上面に研磨布２を貼り付けた例を示し
たが、ターンテーブル１の上面に砥石を貼り付けた構成
でもよい。また、研磨面と研磨対象物である基板の相対
運動により基板を研磨する構成の研磨装置であれば、本
発明のドレッサー洗浄方法及び装置は適用できる。
ーンテーブル１の上面に研磨布２を貼り付けた例を示し
たが、ターンテーブル１の上面に砥石を貼り付けた構成
でもよい。また、研磨面と研磨対象物である基板の相対
運動により基板を研磨する構成の研磨装置であれば、本
発明のドレッサー洗浄方法及び装置は適用できる。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、各請求項に記載の
発明によれば下記のような優れた効果が得られる。
発明によれば下記のような優れた効果が得られる。
【００２３】請求項１に記載の発明によれば、ドレッサ
ーのドレッシング面を液に接触させ、この状態で該ドレ
ッシング面にキャビテーションを伴う液体流を噴射、又
該液を超音波振動により加振し、又は該液中に微細な気
泡を発生させドレッシング面に当接させ、又はこれら２
以上を組み合わせて、該ドレッシング面を洗浄するか
ら、キャビテーションが破壊するときに発生する衝撃
波、超音波による液振動エネルギー、微細な気泡がはじ
ける衝撃でドレッシング面に付着した削りかすや削りか
すによる目詰まりを効率よく除去できる。
ーのドレッシング面を液に接触させ、この状態で該ドレ
ッシング面にキャビテーションを伴う液体流を噴射、又
該液を超音波振動により加振し、又は該液中に微細な気
泡を発生させドレッシング面に当接させ、又はこれら２
以上を組み合わせて、該ドレッシング面を洗浄するか
ら、キャビテーションが破壊するときに発生する衝撃
波、超音波による液振動エネルギー、微細な気泡がはじ
ける衝撃でドレッシング面に付着した削りかすや削りか
すによる目詰まりを効率よく除去できる。
【００２４】また、請求項２に記載の発明によれば、液
槽の液にドレッサーを接触した状態でそのドレンシング
面にキャビテーションを伴う液流を噴射する液流噴射手
段、又は液槽の液に超音波の振動を加える超音波振動手
段、又は液槽の液中に気泡を拡散させドレッシング面に
当接させる気泡発生手段のいずれか１又は２以上を設け
たので、請求項１に記載の発明と同様な作用により、ド
レッシング面の削りかすや該削りかすによる目詰まりを
効率的に除去できる。
槽の液にドレッサーを接触した状態でそのドレンシング
面にキャビテーションを伴う液流を噴射する液流噴射手
段、又は液槽の液に超音波の振動を加える超音波振動手
段、又は液槽の液中に気泡を拡散させドレッシング面に
当接させる気泡発生手段のいずれか１又は２以上を設け
たので、請求項１に記載の発明と同様な作用により、ド
レッシング面の削りかすや該削りかすによる目詰まりを
効率的に除去できる。
【図１】本発明に係るドレッサー洗浄装置を具備する研
磨装置の概略構成を示す図である。
磨装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明に係る研磨装置のドレッサー洗浄装置の
構成例を示す図である。
構成例を示す図である。
【図３】本発明に係る研磨装置のドレッサー洗浄装置の
構成例を示す図である。
構成例を示す図である。
【図４】本発明に係る研磨装置のドレッサー洗浄装置の
構成例を示す図である。
構成例を示す図である。
１ ターンテーブル ２ 研磨布 ３ トップリング ４ トップリングヘッド ５ 旋回軸 ６ ドレッサー ７ ドレッサーヘッド ８ 旋回軸 ９ 液槽 １０ 洗浄液 １１ 噴出ノズル １２ 超音波振動装置 １３ 洗浄液振動 １４ 気泡発生装置 １５ 気泡
Claims (2)
- 【請求項１】 研磨装置の研磨面をドレッシングするド
レッサーの該研磨面に当接するドレッシング面を洗浄す
る研磨装置のドレッサー洗浄方法であって、 前記ドレッサーのドレッシング面を液に接触させ、この
状態で該ドレッシング面にキャビテーションを伴う液流
を噴射し、又は該液を超音波振動により加振し、又は該
液中に微細な気泡を発生させドレッシング面に当接さ
せ、又はこれら２以上を組み合わせて、該ドレッシング
面を洗浄することを特徴とする研磨装置のドレッサー洗
浄方法。 - 【請求項２】 研磨装置の研磨面をドレッシングするド
レッサーの該研磨面に当接するドレッシング面を洗浄す
る研磨装置のドレッサー洗浄装置であって、 液を収容する液槽を設けると共に、該液槽の液に前記ド
レッサーを接触した状態でそのドレッシング面にキャビ
テーションを伴う液流を噴射する液流噴射手段、又は液
槽の液に超音波の振動を加える超音波振動手段、又は液
槽の液中に気泡を拡散させ前記ドレッシング面に当接さ
せる気泡発生手段のいずれか１又は２以上を設けたこと
を特徴とする研磨装置のドレッサー洗浄装置。
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|---|---|---|---|
| JP2000153399A JP2001328069A (ja) | 2000-05-24 | 2000-05-24 | 研磨装置のドレッサー洗浄方法及び装置 |
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| JP2000153399A JP2001328069A (ja) | 2000-05-24 | 2000-05-24 | 研磨装置のドレッサー洗浄方法及び装置 |
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|---|---|
| JP2001328069A true JP2001328069A (ja) | 2001-11-27 |
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|---|---|---|---|
| JP2000153399A Pending JP2001328069A (ja) | 2000-05-24 | 2000-05-24 | 研磨装置のドレッサー洗浄方法及び装置 |
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