JP2001215693A - 画像形成材料及びその製造方法 - Google Patents
画像形成材料及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2001215693A JP2001215693A JP2000023902A JP2000023902A JP2001215693A JP 2001215693 A JP2001215693 A JP 2001215693A JP 2000023902 A JP2000023902 A JP 2000023902A JP 2000023902 A JP2000023902 A JP 2000023902A JP 2001215693 A JP2001215693 A JP 2001215693A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- image forming
- image
- compound
- forming layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
ーナー拭き作業による画像部の溶出、剥がれ、更には修
正液使用で生じる消去フリンジ汚れを改善した画像形成
材料及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 支持体上に画像形成層を有し、該画像形
成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤及び下記一般式
(1)で示される繰り返し単位を含む化合物を含有し、
レーザー露光により画像を形成することを特徴とする画
像形成材料。 (式中、Aは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表
し、Xはアルキレンを表し、更にYはカルボキシル基又
はその塩で置換された基、スルホ基又はその塩、ホスホ
ノキシ基、ジアルキルホスホノキシ基、トリアルコキシ
シリル基、アルキルジアルコキシシリル基を表す。)
Description
する、いわゆるポジ型の画像形成層を有する画像形成材
料及びその製造方法に関し、更に詳しくは半導体レーザ
ー等の赤外線による露光で画像形成されるポジ型感光性
平版印刷版等に適した画像形成材料及びその製造方法に
関する。
光性平版印刷版は、一般的にアルミ製の支持体上に、ノ
ボラック樹脂をバインダーとした画像形成層を塗布して
得られている。このような感光性平版印刷版は、印刷作
業時でのクリーナー拭き作業により、次第に画像部の画
像形成層が溶けたり、支持体から剥がれたりする場合が
ある。このような薬品への耐性を上げるため、バインダ
ー樹脂としてアクリル樹脂系樹脂を併用することが知ら
れている。しかし、その方法では耐薬品性の向上が充分
とは言えなかった。また、感光性平版印刷版では、不必
要な画像や削除訂正が必要な画像部が生じることがあっ
て、修正することが必要となる。このような不要な画像
部を除去する修正剤が、特開昭54−89806号や特
公平5−2231号に記載されている。しかし、このよ
うな修正剤を用いても、塗られた修正液の周囲に線状に
インクが付着する部分が生じる、いわゆる消去フリンジ
汚れを完全に抑えることは出来なかった。
性平版印刷版を用いた印刷作業時のクリーナー拭き作業
による画像部の溶出、剥がれ、更には修正液使用で生じ
る消去フリンジ汚れを改善した画像形成材料及びその製
造方法を提供することである。
構成により達成された。
形成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤及び前記一般式
(1)で示される繰り返し単位を含む化合物を含有し、
レーザー露光により画像を形成することを特徴とする画
像形成材料。
形成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤、一般式(1)
のYがカルボキシル基で置換された基、スルホ基、ホス
ホノキシ基から選ばれる一般式(1)で示される繰り返
し単位を含む化合物及び有機アミン化合物、有機アニリ
ン化合物、水酸化アルカリ金属、アルカリ金属塩から選
ばれる化合物を少なくとも1種含有し、レーザー露光に
より画像を形成することを特徴とする画像形成材料。
形成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤及び前記一般式
(2)で示される繰り返し単位を含む化合物を含有し、
レーザー露光により画像を形成することを特徴とする画
像形成材料。
カリ水性現像液への溶解性が変化することを特徴とする
前記1)、2)又は3)に記載の画像形成材料。
を発生する化合物及び酸の存在により分解する化合物を
含有することを特徴とする前記1)、2)又は3)に記
載の画像形成材料。
を発生する化合物及び酸の存在により架橋する化合物を
含有することを特徴とする前記1)、2)又は3)に記
載の画像形成材料。
吸収剤、及び一般式(1)又は(2)から選ばれる繰り
返し単位を含む化合物を添加して得られる塗布液を塗設
することを特徴とする画像形成材料の製造方法。
吸収剤、一般式(1)のYがカルボキシル基で置換され
た基、スルホ基、ホスホノキシ基から選ばれる一般式
(1)で示される繰り返し単位を含む化合物及び有機ア
ミン化合物、有機アニリン化合物、水酸化アルカリ金
属、アルカリ金属塩から選ばれる化合物を少なくとも1
種を添加して得られる塗布液を塗設することを特徴とす
る画像形成材料の製造方法。
(1)において、Yで表されるカルボキシル基又はその
塩で置換された基としては、具体的にはアルコキシ基、
アリーロキシ基が挙げられる。以下に一般式(1)の具
体例を示すが、これらに限定されるものではない。
1〜20mol%含まれていることが好ましく、さらに
好ましくは1〜5mol%である。また画像形成層中に
含まれる一般式(1)の繰り返し単位の含有量は、0.
001〜0.01mmol/gである。一般式(1)の
繰り返し単位に含まれるYとしては、スルホ基が好まし
い。またYが酸基であるとき、塩の形で存在することが
好ましい。これは画像形成層中に、酸分解性又は酸架橋
性等の酸反応性の化合物を含むときに顕著で、好まし
い。
は、具体的にジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、トリオクチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエ
タノールアミン、ジテチルエタノールアミン、トリエチ
ルアミン、エチルヘキシルアミン、プロピルアミン、ブ
チルアミン、メトキシプロピルアミン、ジアミノプロパ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、シクロヘキシルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、ジブチルエタノールアミ
ンが挙げられる。
N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリ
ン、アミノベンゾニトリル、アミノ安息香酸、アニシジ
ン、N−エチルアニリン、ジアミノジフェニルエーテ
ル、N,N−ジメチルトルイジン、トルイジン、ニトロ
アニリン、ニトロトルイジン、フェニレンジアミン、フ
ェネチジン、キシリジン、クレシジンが挙げられる。
ウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムが挙げられ、
アルカリ金属塩としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、クエン酸ナトリウムが挙げられ
る。
1質量%添加されることが好ましい。一般式(2)の具
体例は以下に示される。
る繰り返し単位を含む化合物の比較化合物の例を記す。
口フラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル(PGM)を25ml入れ、さらに窒素雰囲気下にお
いてN−ヒドロキシフェニルアクリルアミド3.5g
(0.023mol)、メタクリル酸メチル3.0g
(0.030mol)、メタクリロニトリル1.51g
(0.023mol)、アゾビスイソブチロニトリル
0.18gを溶解後、撹拌しながら温度を75℃に6時
間保った。その後、ハイドロキノン0.004gを入れ
た後、エバポレーターにて減圧しながら80℃に保っ
た。PGMが蒸留され始めたところで、減圧及び加熱を
やめ、これを化合物R1のPGM溶液とした。
同様の方法で一般式(1)又は(2)で示される繰り返
し単位を含む化合物のR2及びC1〜C22を合成し
た。
下の通りである。 〔F1の合成〕下記のアミノ化合物G1、0.208m
olを180mlの酢酸エチルに溶解し、0.208m
olの炭酸カリウムを溶かした水50mlを加えた。こ
こに、メタクリル酸クロリド0.208molを溶解し
た50mlの酢酸エチルを、25℃で30分かけて滴下
した。一晩放置後、多量の水にて結析、濾過、乾燥する
ことにより目標のF1を得た。
を用いてF2〜F4を合成した。
0nm以上に吸収を持つ赤外線吸収剤、カーボンブラッ
ク、磁性粉等を使用することができる。特に好ましい赤
外線吸収剤は700〜850nmに吸収ピークを有し、
ピークでのモル吸光係数εが105以上の赤外線吸収剤
である。
スクワリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレニウ
ム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系
色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チオピ
リリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アントラ
キノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分子間
CT色素等が挙げられる。
39191号、同64−33547号、特開平1−16
0683号、同1−280750号、同1−29334
2号、同2−2074号、同3−26593号、同3−
30991号、同3−34891号、同3−36093
号、同3−36094号、同3−36095号、同3−
42281号、同3−103476号等に記載の化合物
も挙げられる。
下記一般式(I)又は(II)で表されるシアニン染料が
特に好ましい。
原子又は酸素原子を表し、X1及びX2は各々置換基を有
していてもよいベンゾ縮合環又はナフト縮合環を形成す
るのに必要な非金属原子群を表し、R3及びR4は各々置
換基を表し、R3及びR4のどちらか一方はアニオン性解
離性基を有する。R5、R6、R7及びR8は各々炭素原子
数1〜3のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表
す。Lは炭素原子数5〜13の共役結合の連鎖を表す。
ン色素は、前記一般式(I)又は(II)がカチオンを形
成し、対アニオンを有するものを包含する。この場合、
対アニオンとしては、Cl-、Br-、ClO4 -、B
F4 -、t−ブチルトリフェニルホウ素等のアルキルホウ
素等が挙げられる。
される共役結合の連鎖の炭素原子数(n)は、画像露光
の光源として赤外線を放射するレーザーが使用される場
合、該レーザーの発信波長に合わせて有効な値を選択す
ることが好ましい。例えば、発信波長1060nmのY
AGレーザーを使用する場合は、nは9〜13が好まし
い。また、この共役結合部分は任意の置換基を有するこ
とができ、また、共役結合部分は複数の置換基により環
を形成させてもよい。
表される環及びX2で表される環には任意の置換基を有
することができる。該置換基としてハロゲン原子、炭素
原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコ
キシ基、−SO3M及び−COOM(Mは水素原子又は
アルカリ金属原子)から選ばれる基が好ましい。
好ましくは炭素原子数1〜5のアルキル基若しくは炭素
原子数1〜5のアルコキシ基;−((CH2)n−O−)
k−(CH2)mOR(n及びmは各々1〜3の整数、k
は0又は1、Rは炭素原子数1〜5のアルキル基を表
す。);R3及びR4の一方が−R−SO3Mで他方が−
R−SO3 -(Rは炭素原子数1〜5のアルキル基、Mは
アルカリ金属原子を表す);又はR3及びR4の一方が−
R−COOMで他方が−R−COO-(Rは炭素原子数
1〜5のアルキル基、Mはアルカリ金属原子を表す。)
である。R3及びR4は感度及び現像性の点から、R3及
びR4の一方が−R−SO3 -又は−R−COO-、他方が
−R−SO3M又は−R−COOMであることが好まし
い。
ン色素は、画像露光の光源として半導体レーザーを使用
する場合は750〜900nmにおいて、YAGレーザ
ーを使用する場合は900〜1200nmにおいて吸収
ピークを示し、ε>1×10 5のモル吸光係数を有する
ものが好ましい。
用いられる赤外線吸収剤の代表的具体例を以下に挙げる
が、これらに限定されるものではない。
量%で、好ましくは0.1〜5質量%である。
法によって合成することができるが、下記のような市販
品を用いることもできる。
系);IR002、IR003(アルミニウム系);I
R820(ポリメチン系);IRG022、IRG03
3(ジインモニウム系);CY−2、CY−4、CY−
9、CY−10、CY−20 三井東圧:KIR103、SIR103(フタロシアニ
ン系);KIR101、SIR114(アントラキノン
系);PA1001、PA1005、PA1006、S
IR128(金属錯体系) 大日本インキ化学:Fastogen blue812
0 みどり化学:MIR−101、1011、1021 その他、日本感光色素、住友化学、富士写真フイルム等
の各社からも市販されている。
発生する化合物(以下、酸発生剤という)として、有機
ハロゲン化合物が赤外線露光による画像形成における感
度及び画像形成材料の保存性の面から好ましい。該有機
ハロゲン化合物としては、ハロゲン置換アルキル基を有
するトリアジン類及びハロゲン置換アルキル基を有する
オキサジアゾール類が好ましく、ハロゲン置換アルキル
基を有するs−トリアジン類が特に好ましい。
アゾール類の具体例としては、特開昭54−74728
号、同55−24113号、同55−77742号、同
60−3626号及び同60−138539号等に記載
の2−ハロメチル−1,3,4−オキサジアゾール系化
合物が挙げられる。2−ハロメチル−1,3,4−オキ
サジアゾール系酸発生剤の好ましい化合物例を下記に挙
げる。
トリアジン類としては、下記一般式(III)で表される
化合物が好ましい。
基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基で置換され
ていてもよいフェニルビニレン基又はアリール基(例え
ば、フェニル基、ナフチル基等)若しくはその置換体を
表し、Xはハロゲン原子を表す。一般式(III)で表さ
れるs−トリアジン系酸発生剤の化合物例を次に示す。
化学的性質及び本発明の画像形成材料の画像形成層の組
成あるいは物性によって広範囲に変えることができる
が、画像形成層の固形分の全質量に対して約0.1〜2
0質量%の範囲が適当であり、好ましくは0.2〜10
質量%の範囲である。
る化合物(以下、酸分解化合物という)としては、具体
的には特開昭48−89003号、同51−12071
4号、同53−133429号、同55−12995
号、同55−126236号、同56−17345号に
記載されているC−O−C結合を有する化合物、特開昭
60−37549号、同60−121446号に記載さ
れているSi−O−C結合を有する化合物、特開昭60
−3625号、同60−10247号に記載されている
その他の酸分解化合物。さらにまた特開昭62−222
246号に記載されているSi−N結合を有する化合
物、特開昭62−251743号に記載されている炭酸
エステル、特願昭60−251744号に記載されてい
るオルト炭酸エステル、特開昭62−280841号に
記載されているオルトチタン酸エステル、特開昭62−
280842号に記載されているオルトケイ酸エステ
ル、特開昭63−10153号に記載されているアセタ
ール及びケタール、特開昭62−244038号に記載
されているC−S結合を有する化合物などが挙げられ
る。
9号、同56−17345号、同60−121446
号、同60−37549号、同63−10153号及び
特願昭60−251744号に記載されているC−O−
C結合を有する化合物、Si−O−C結合を有する化合
物、オルト炭酸エステル、アセタール類、ケタール類及
びシリルエーテル類が好ましい。
9号に記載された主鎖中に繰り返しアセタール又はケタ
ール部分を有し、現像液中でのその溶解度が酸の作用に
よって上昇する有機重合化合物、及び特開昭63−10
153号に記載の下記構造単位
好ましい。本発明に用いられる酸分解化合物の具体例と
しては、前記各公報及び明細書に記載された化合物を挙
げることができる。また、該化合物の合成方法は、前記
各公報及び明細書に記載されている。
(CH2CH2O)n−基(nは2〜5の整数を表す)を
有する化合物が、感度及び現像性のバランスの点から好
ましい。また、該化合物のうちエチレンオキシ基の連鎖
数nが3又は4の化合物が特に好ましい。上記−(CH
2CH2O)n−基を有する化合物の具体例としては、ジ
メトキシシクロヘキサン、ベンズアルデヒド及びそれら
の置換誘導体と、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレ
ングリコールのいずれかとの縮合生成物が挙げられる。
て、下記一般式(IV)で表される化合物が感度及び現像
性の点から好ましい。一般式(IV)において、R、R1
及びR2が表すアルキル基は直鎖でも分岐でもよく、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基等が挙
げられ、アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基、tert−ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げら
れ、スルホ基及びカルボキシル基はその塩を包含する。
一般式(IV)で表される化合物のうち、m及びnが1又
は2である化合物が特に好ましい。一般式(IV)で表さ
れる化合物は公知の方法で合成することができる。
は、画像形成層を形成する組成物の全固形分に対し、5
〜70質量%が好ましく、特に好ましくは10〜50質
量%である。酸分解化合物は1種を用いてもよいし、2
種以上を混合して用いてもよい。
物(以下、酸架橋化合物という)としては、官能基とし
てアルコキシメチル基、メチロール基、アセトキシメチ
ル基等を少なくとも2個有するアミノ化合物、例えばヘ
キサメチロールメラミン、メラミン誘導体(ヘキサメト
キシメチル化メラミン(三井サイアナミッド(株)製サ
イメル300シリーズ(1)等))、ベンゾグアナミン
誘導体(メチル/エチル混合アルキル化ベンゾグアナミ
ン樹脂(三井サイアナミッド(株)製サイメル1100
シリーズ(2))等)、グリコールウリル誘導体(テト
ラメチロールグリコールウリル(三井サイアナミッド
(株)製サイメル1100シリーズ(3))等)、ま
た、官能基としてアルコキシメチル基、メチロール基、
アセトキシメチル基等を有する少なくとも2置換の芳香
族化合物、例えば1,3,5−トリアセトキシメチルベ
ンゼン、1,2,4,5−テトラアセトキシメチルベン
ゼン等が挙げられ、これらはPolym.Maste
r.Sci.Eng.,64,241(1991)に記
載の手法により合成することができる。
ル樹脂及びフラン樹脂も使用することができる。さら
に、以下に示す単量体を含む単量体から合成されるアク
リル樹脂を使用することができる。
ロールメタクリルアミド、N,N−ジメチロールアクリ
ルアミド、N,N−ジメチロールメタクリルアミド、N
−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、N−(2
−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド、N,N−ジ
(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、N,N−ジ
(2−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド、N−ヒド
ロキシメチル−N−(2−ヒドロキシエチル)アクリル
アミド、N−ヒドロキシメチル−N−(2−ヒドロキシ
エチル)メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエ
ーテル、ビニルベンジルアルコール、α−メチルビニル
ベンジルアルコール、ビニルベンジルアセテート、α−
メチルビニルベンジルアセテート、ビニルフェネチルア
ルコール、α−メチルビニルフェネチルアルコール、ビ
ニルフェネチルアセテート、α−メチルビニルフェネチ
ルアセテートのいずれかを1〜50モル%、好ましくは
5〜30モル%共重合体させる態様である。
成層を形成する組成物の全固形分に対し、5〜60質量
%が好ましく、特に好ましくは10〜30質量%であ
る。酸架橋化合物は1種を単独で用いてもよいし、2種
以上を混合して用いてもよい。
種々のものを用いることができ、例えばサルチル酸系、
ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアク
リレート系等が挙げられるが、これらの具体的な若干例
を以下に示す。
ト p−オクチルフェニルサリシレート フェニルサリシレート 2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン 2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン 2−ヒドロキシ−4−オクトキベンゾフェノン 2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノン 2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン 2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾ
フェノン 2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェ
ノン 2−(2′−ヒドロキシ−5′−メトキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール 2−(2′−ヒドロキシ−5′−tert−ブチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール 2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−
ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール 2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−
5′−メチルフェニル)−5−ベンゾトリアゾール 2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−
ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール 2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−
アミルフェニル)ベンゾトリアゾール 2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ビス(α,α′
ジメチルベンジルフェニル))−5−クロロベンゾトリ
アゾール これらの紫外線吸収剤のうち好ましいものは、ベンゾフ
ェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート
系のものである。
よいし、2種以上を混合して使用してもよい。紫外線吸
収剤の添加量は、使用するレーザー光源(吸収波長、強
度)を考慮して選択されるが、本発明においては、1m
2当たり0.01〜10gの範囲とすることが好まし
く、特に好ましくは0.1〜5gの範囲である。
形成層に下記一般式(V)〜(VIII)で表される化合物
を含有することができる。
R3は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキル
ヒドロキシ基、アルキルオキシ基を表し、Xはハロゲン
原子、アニオン分子、Yは硫黄原子、酸素原子を表す。
5の直鎖或いは分岐のアルキル基であり、好ましくは炭
素数1〜3である。又、アルコキシ基としてはメトキシ
基、エトキシ基、ブトキシ基が好ましく、アルキルヒド
ロキシ基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエ
チル基が好ましく、アルキルオキシ基としては、メトキ
シメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エ
トキシエチル基が好ましい。Xはハロゲン原子、アニオ
ン分子であり、ハロゲン原子としては塩素、臭素、ヨウ
素が好ましく、又アニオン分子としてはスルホン酸、1
/2ZnCl2等が好ましいが、特に制限はない。
の画像形成層への添加量は、固形分全体に対して0.1
質量以上、10質量%以下が好ましく、より好ましくは
0.5質量以上、5質量%以下である。
化合物の露光波長の吸収極大は、可視画性を有するのに
好ましい波長であればよく、本発明においては赤外露光
系を対象としているのでこの領域の波長を吸収しない波
長であれば制限はない。しかし400〜700nmの波
長に感応することが、本発明の効果を奏する上で非常に
好ましい。
化合物の具体例を挙げるが、本発明では特にこれらに限
定されるものではない。
ック樹脂としては、例えばフェノール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭5
5−57841号に記載されているようなフェノール・
クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、特開昭
55−127553号に記載されているような、p−置
換フェノールとフェノールもしくは、クレゾールとホル
ムアルデヒドとの共重縮合体樹脂等が挙げられる。
アクリル樹脂を含有させることができる。該アクリル樹
脂はアクリル酸、メタクリル酸、又はそれらのエステル
類を構成単位とする重合体であり、好ましくは下記一般
式(IX)で表される単量体単位を有する重合体である。
ノボラック樹脂は画像形成層に対して20〜80質量%
の範囲で含有させることが好ましく、アクリル樹脂は画
像形成層に対して1〜50質量%の範囲で含有させるこ
とが好ましく、5〜30質量%の範囲がより好ましい。
ぞれ、水素原子、メチル基やエチル基等のアルキル基又
はカルボキシル基を表し、好ましくは水素原子である。
R3は水素原子、塩素原子や臭素原子等のハロゲン原子
又はメチル基、エチル基等のアルキル基を表し、好まし
くは水素原子又はメチル基である。R4は水素原子、メ
チル基やエチル基等のアルキル基、フェニル基又はナフ
チル基を表す。
基又はナフチレン基を表し、置換基としてはメチル基や
エチル基等のアルキル基、塩素原子や臭素原子等のハロ
ゲン原子、カルボキシル基、メトキシ基やエトキシ基等
のアルコキシ基、ヒドロキシル基、スルホ基、シアノ
基、ニトロ基、アシル基等が挙げられるが、好ましくは
置換基を有しないか、あるいはメチル基で置換されてい
るものである。
る2価の有機基で、nは0〜5の整数を表し、好ましく
はnが0のときである。
重合体は、さらに具体的に、例えば下記(a)〜(f)
で表すことができる。
ぞれ水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、
m、n、l、k及びsはそれぞれの構造単位のモル%を
表す。
がノボラック樹脂及びノニオン界面活性剤を含有する態
様が挙げられる。ノニオン界面活性剤としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンア
ルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オ
キシエチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、
ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビ
タン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール
脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキ
シエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアミン、アルキルアルカノールアミド、ポリエチレン
グリコール等が挙げられる。ノボラック樹脂は画像形成
層に対して20〜80質量%の範囲で含有させることが
好ましく、ノニオン界面活性剤は画像形成層に対して、
0.01〜10質量%の範囲で含有させることが好まし
く、0.1〜1.0質量%の範囲がより好ましい。
性剤を0.001〜5質量%含有させることができる。
経時による非画像部の汚れ発生防止の点から好ましい。
フッ素系界面活性剤としては、例えば次のような化合物
が挙げられる。
ることもでき、例えばサーフロン「S−381」、「S
−382」、「SC−101」、「SC−102」、
「SC−103」、「SC−104」(いずれも旭硝子
(株)製)、フロラード「FC−430」、「FC−4
31」、「FC−173」(いずれもフロロケミカル−
住友スリーエム(株)製)、エフトップ「EF35
2」、「EF301」、「EF303」(いずれも新秋
田化成(株)製)、シュベゴーフルアー「8035」、
「8036」(いずれもシュベグマン社製)、「BM1
000」、「BM1100」(いずれもビーエム・ヒミ
ー社製)、メガファック「F−171」、「F−17
7」(いずれも大日本インキ化学(株)製)等を挙げる
ことができる。
素含有割合は、0.05〜2%、好ましくは0.1〜1
%である。また、保護層への添加量は0.001〜10
%が好ましい。上記のフッ素系界面活性剤は、1種又は
2種以上を併用することができ、またその他の界面活性
剤と併用することができる。
脂性を向上するために親油性の樹脂を添加することがで
きる。
50−125806号に記載されているような、炭素数
3〜15のアルキル基で置換されたフェノール類とアル
デヒドの縮合物、例えばtブチルフェノールホルムアル
デヒド樹脂などが使用可能である。
成する各成分を溶媒に溶解させて、適当な支持体の表面
に塗布し乾燥することにより画像形成層を設けて製造す
ることができる。
ソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブ、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノイソプロピルエーテル、プロピレングリコール、プ
ロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエ
チルエーテル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチ
ル、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エ
チル、酪酸メチル、酪酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘ
キサノン、ジアセトンアルコール、アセチルアセトン、
γ−ブチロラクトン等が挙げられる。これらの溶媒は、
単独であるいは2種以上を混合して使用することができ
る。
用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例えば回転
塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ
塗布、スプレー塗布、エアースプレー塗布、静電エアー
スプレー塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン
塗布等の方法が用いられる。この際塗布量は用途により
異なるが、例えば、固形分として0.05〜5.0g/
m2の塗布量が好ましい。
常法が適用される。すなわち、線画像、網点画像等を有
する透明原画を通して露光し、次いで水性現像液で現像
処理することにより、原画に対してネガのレリーフ像を
得ることができる。露光に好適な活性光の光源として
は、カーボンアーク灯、水銀灯、キセノンランプ、メタ
ルハライドランプ、ストロボ、レーザー光等が挙げられ
るが、本発明の感光性組成物は、アルゴンイオンレーザ
ー等の可視光レーザーに対して十分な感度を有してお
り、アルゴンイオンレーザー等の可視光レーザーを用
い、デジタル化された情報に基づいて走査露光するのに
好ましく用いられる。
使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ等の光源を、液晶、PLZT等
の光学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像
信号に応じたデジタル露光をすることが可能である。こ
の場合はマスク材料を使用せず、直接書き込みを行うこ
とができる。
り、画像データに応じた走査露光が可能であるため、マ
スク材料を使用せず、直接書き込みを行うのに適してい
る。またレーザーを光源として用いる場合には、露光面
積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画
像形成が可能となる。
光領域に発振波長を有するものであれば一般によく知ら
れている、YAGレーザー及びYAGレーザーの第2次
高調波、ガラスレーザー等の固体レーザー、He−Ne
レーザー、CO2レーザー、Arイオンレーザー、Kr
イオンレーザー、He−Cdレーザー等の気体レーザ
ー、その他の放電励起分子レーザー、エキシマーレーザ
ー、化学レーザー、色素レーザー、半導体レーザー等を
使用することができる。その中でも、YAGレーザーの
第2次高調波、He−Neレーザー、半導体レーザー、
Arイオンレーザーが好ましい。
に低下させることなく焦点において、1/e2直径数μ
m〜数十μmに絞り込み易いものとして、いわゆるシン
グルモードレーザーダイオードを用いることが好まし
い。レーザー以外の光源としては発光ダイオード(LE
D)が挙げられる。複数の発光素子を集積したアレイと
して使用しやすいものは、LEDおよび半導体レーザー
である。
のものが求められるときは、半導体レーザーまたはYA
Gレーザーと非線形光学効果を有する素子を組み合わせ
て、半波長に変換することも可能である。
査、円筒内面走査、平面走査などがある。円筒外面走査
では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させな
がらレーザー露光を行い、ドラムの回転を主走査としレ
ーザー光の移動を副走査とする。円筒内面走査では、ド
ラム内面に記録材料を固定し、レーザービームを内側か
ら照射し、光学系の一部又は全部を回転させることによ
り、円周方向に主走査を行い、光学系の一部又は全部を
ドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向に
副走査を行う。平面走査では、ポリゴンミラーやガルバ
ノミラーとFθレンズ等を組み合わせてレーザー光の主
走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。円筒
外面走査および円筒内面走査の方が光学系の精度を高め
易く、高密度記録には適している。円筒外面走査の場
合、ドラムの回転速度を上げることにより走査速度を上
げることは容易であるが、回転速度の上昇は記録材料に
帯電を生じ易く、これによって埃が吸い寄せられ画像欠
陥が発生する。複数の発行素子を同時に使用する、いわ
ゆるマルチチャンネル露光の場合、円筒外面走査が最も
適している。
れる現像液は、公知のいずれのものであってもよいが、
特定の有機溶媒とアルカリ剤と水とを必須成分として含
有した液を用いることが好ましい。ここに特定の有機溶
媒とは、現像液中に含有させたとき上述の感光性組成物
層の非露光部(非画線部)を溶解または膨潤することが
でき、しかも通常(20℃)において水に対する溶解度
が10質量%以下の有機溶媒をいう。このような有機溶
媒としては上記のような特性を有するものでありさえす
ればよく、以下のもののみに限定されるものではない
が、これらを例示するならば、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレン
グリコールモノブチルアセテート、乳酸ブチル、レプリ
ン酸ブチル等のカルボン酸エステル、エチルブチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチ
レングリコールベンジルエーテル、エチレングリコール
モノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、メチルフ
ェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチルア
ミルアルコール等のアルコール類、キシレン等のアルキ
ル置換芳香族炭化水素、メチレンジクロライド、エチレ
ンジクロライド、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭
化水素などがある。これらの有機溶媒は一種以上用いて
もよい。これらの有機溶媒の中では、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテルとベンジルアルコールが特に有
効である。またこれら有機溶媒の現像液中における含有
量は、おおむね0.001〜20質量%であり、特に
0.01〜10質量%のとき好ましい結果を得る。
しては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第二また
は第三リン酸のナトリウムまたはアンモニウム塩、メタ
ケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カリウム、アンモニア、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロ
パノールアミン、トリイソプロパノールアミン、エチレ
ンアミン、エチレンジアミン等が挙げられる。
リウム、第二リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸カリウム、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンであ
る。アルカリ剤は単独で用いてもよいし、2種以上混合
してもよい。これらアルカリ剤の現像液中における含有
量は通常0.05〜8質量%で、好ましくは0.5〜6
質量%である。
高めるためには、必要に応じて水溶性亜硫酸塩を現像液
中に含有させることが好ましい。このような水溶性亜硫
酸塩としては、亜硫酸のアルカリまたはアルカリ土類金
属塩が好ましく、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリ
ウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシウム等がある。
これらの亜硫酸塩の現像液組成における含有量は通常
0.05〜4質量%で、好ましくは0.1〜1質量%で
ある。
を助けるために一定の可溶化剤を含有させることもでき
る。このような可溶化剤としては、用いる特定の有機溶
媒より水易溶性、低分子アルコール、ケトン類を用いる
のがよい。また、アニオン系界面活性剤、両性界面活性
剤等も用いることができる。このようなアルコール、ケ
トン類としては、例えばメタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケト
ン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、メトキシブタノール、
エトキシブタノール、4−メトキシメチルブタノール、
N−メチルピロリドン等を用いることが好ましい。ま
た、界面活性剤としては、例えばイソプロピルナフタレ
ンスルホン酸ナトリウム、n−ブチルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、N−メチル−N−ペンタデシルアミノ
酢酸ナトリウム、ラウリルサルフェートナトリウム塩等
が好ましい。これらアルコール、ケトン類等の可溶化剤
の使用量について特に制限はないが、一般に現像液全体
に対し約30質量%以下とすることが好ましい。
質1050、調質H16)を、65℃に保たれた5%水
酸化ナトリウム水溶液で、1分間脱脂処理をおこなった
後水洗し、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分
間浸漬し、中和し、更に水洗した。このアルミニウム板
を1.0質量%の硝酸水溶液中において、温度25℃、
電流密度10A/dm2、処理時間60秒の条件で交流
電流により電解粗面化を行なった。
温度60℃、10秒間のデスマット処理を行ない、その
後20%硫酸溶液中で温度20℃、電流密度3A/dm
2、処理時間1分間の条件で陽極酸化処理を行った。そ
の後、80℃に保たれた1%酢酸アンモニウム水溶液中
に30秒間浸漬し、水洗後80℃で3分間乾燥した。更
に、85℃に保たれたカルボキシメチルセルロース(C
MCと以下略す)の水溶液(濃度0.1質量%)に30
秒浸漬した後、80℃で5分間乾燥し、支持体を作製し
た。
8g、メタクレゾール45.84g、パラクレゾール3
0.56g、ホルマリン(37%水溶液)32.1g、
しゅう酸0.16gを仕込み、110℃の油浴で3時間
加熱撹拌し反応させ、生成物を減圧乾燥してノボラック
樹脂を得た。このようにして得られた樹脂の重量平均分
子量は3700だった。
グリコール85g、p−トルエンスルホン酸194mg
およびトルエン200mlを混合し、120℃で撹拌さ
せながら11時間反応させた。反応終了後、反応によっ
て生成したメタノールおよび反応溶剤を除去し、200
mlの水で洗浄後、400mlの1%水酸化ナトリウム
水溶液で洗浄したのち、中性になるまで飽和食塩水で洗
浄した。得られた化合物を無水炭酸カリウムで脱水した
後、減圧蒸留して目的の酸分解化合物を得た。
燥質量が2.0g/m 2になるようにワイヤーバーで塗
布し、95℃雰囲気中90秒間乾燥させ画像形成材料を
得た。
ザー(吸収波長830nm、出力500mW)で画像露
光を行った。レーザー半径はピークにおける強度の1/
e2で13μmであった。また、解像度は走査方向、副
走査方向とも2000dpi(dpiとは、1インチ即
ち2.54cm当たりのドット数を表す)とした。画像
露光後、所定濃度に水で希釈したコニカPS版用現像液
SDR−1(コニカ(株)製)で30℃、30分間浸漬
し現像させた後、水洗し乾燥を行った。
エネルギー(mj/cm2)で評価した。
レートクリーナー(大日精化(株)製)の原液に浸漬さ
せ、水洗し、浸漬前の画像部との比較を目視にて評価を
行った。画像部の侵食が僅かにあり、画像形成層下の支
持体の砂目がやや露出した時間を測定した。
1S(富士フイルム(株)製)にて消去し、水洗した。
その後、版表面に整面液を塗布し、250℃、6分間加
熱後、再び水洗し、現像インキSPO−1(コニカ
(株)製)を版面に盛り付けた。この時の消去液跡の周
囲に、インキの付着した汚れが認められるか確認した。
れが認められる ×:目視で汚れが認められる 実施例2〜22 感光性組成物中の化合物C1をC2〜C22に置き換え
た以外は、実施例1と同様の評価を実施した。
は、実施例1と同様の評価を実施した。
実施例1と同様の評価を実施した。
例1と同様の評価を実施した。
例1〜22、即ち本発明の試料が比較試料より優れてい
ることが分かる。
いた印刷作業時のクリーナー拭き作業による画像部の溶
出、剥がれ、更には修正液使用で生じる消去フリンジ汚
れを改善することができた。
Claims (8)
- 【請求項1】 支持体上に画像形成層を有し、該画像形
成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤及び下記一般式
(1)で示される繰り返し単位を含む化合物を含有し、
レーザー露光により画像を形成することを特徴とする画
像形成材料。 【化1】 (式中、Aは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表
し、Xはアルキレンを表し、更にYはカルボキシル基又
はその塩で置換された基、スルホ基又はその塩、ホスホ
ノキシ基、ジアルキルホスホノキシ基、トリアルコキシ
シリル基、アルキルジアルコキシシリル基を表す。) - 【請求項2】 支持体上に画像形成層を有し、該画像形
成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤、一般式(1)の
Yがカルボキシル基で置換された基、スルホ基、ホスホ
ノキシ基から選ばれる一般式(1)で示される繰り返し
単位を含む化合物及び有機アミン化合物、有機アニリン
化合物、水酸化アルカリ金属、アルカリ金属塩から選ば
れる化合物を少なくとも1種含有し、レーザー露光によ
り画像を形成することを特徴とする画像形成材料。 - 【請求項3】 支持体上に画像形成層を有し、該画像形
成層がノボラック樹脂、赤外線吸収剤及び下記一般式
(2)で示される繰り返し単位を含む化合物を含有し、
レーザー露光により画像を形成することを特徴とする画
像形成材料。 【化2】 (式中、R1〜R5はそれぞれ同一又は異なる基で水素原
子、ハロゲン原子、アルキル、アルコキシ、アルコキシ
カルボニル、アシル、アリーロキシ、アラルキル、ヒド
ロキシル、シアノ、アミド、ニトロ、アミノ基から選ば
れる基である。但し、少なくとも一つはヒドロキシル基
である。) - 【請求項4】 レーザー露光照射により露光部のアルカ
リ水性現像液への溶解性が変化することを特徴とする請
求項1、2又は3に記載の画像形成材料。 - 【請求項5】 画像形成層中に分解することにより酸を
発生する化合物及び酸の存在により分解する化合物を含
有することを特徴とする請求項1、2又は3に記載の画
像形成材料。 - 【請求項6】 画像形成層中に分解することにより酸を
発生する化合物及び酸の存在により架橋する化合物を含
有することを特徴とする請求項1、2又は3に記載の画
像形成材料。 - 【請求項7】 支持体上に、ノボラック樹脂、赤外線吸
収剤、及び一般式(1)又は(2)から選ばれる繰り返
し単位を含む化合物を添加して得られる塗布液を塗設す
ることを特徴とする画像形成材料の製造方法。 - 【請求項8】 支持体上に、ノボラック樹脂、赤外線吸
収剤、一般式(1)のYがカルボキシル基で置換された
基、スルホ基、ホスホノキシ基から選ばれる一般式
(1)で示される繰り返し単位を含む化合物及び有機ア
ミン化合物、有機アニリン化合物、水酸化アルカリ金
属、アルカリ金属塩から選ばれる化合物を少なくとも1
種を添加して得られる塗布液を塗設することを特徴とす
る画像形成材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000023902A JP4092840B2 (ja) | 2000-02-01 | 2000-02-01 | 画像形成材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000023902A JP4092840B2 (ja) | 2000-02-01 | 2000-02-01 | 画像形成材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001215693A true JP2001215693A (ja) | 2001-08-10 |
JP4092840B2 JP4092840B2 (ja) | 2008-05-28 |
Family
ID=18549986
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000023902A Expired - Fee Related JP4092840B2 (ja) | 2000-02-01 | 2000-02-01 | 画像形成材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4092840B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1347014A2 (en) | 2002-03-20 | 2003-09-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Infrared-photosensitive composition |
JP2004287338A (ja) * | 2003-03-25 | 2004-10-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成材料 |
EP1625944A1 (en) | 2004-08-13 | 2006-02-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing lithographic printing plate support |
EP1712368A1 (en) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate |
EP2100677A1 (en) | 2008-03-06 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate obtained thereby and lithographic printing plate support |
EP2204698A1 (en) | 2009-01-06 | 2010-07-07 | FUJIFILM Corporation | Plate surface treatment agent for lithographic princting plate and method for treating lithographic printing plate |
WO2016002702A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタ、近赤外線カットフィルタの製造方法、固体撮像素子、カメラモジュール |
WO2019167967A1 (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-06 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
-
2000
- 2000-02-01 JP JP2000023902A patent/JP4092840B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1347014A2 (en) | 2002-03-20 | 2003-09-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Infrared-photosensitive composition |
JP2004287338A (ja) * | 2003-03-25 | 2004-10-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成材料 |
EP1625944A1 (en) | 2004-08-13 | 2006-02-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing lithographic printing plate support |
EP1712368A1 (en) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate |
EP2100677A1 (en) | 2008-03-06 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate obtained thereby and lithographic printing plate support |
EP2204698A1 (en) | 2009-01-06 | 2010-07-07 | FUJIFILM Corporation | Plate surface treatment agent for lithographic princting plate and method for treating lithographic printing plate |
WO2016002702A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタ、近赤外線カットフィルタの製造方法、固体撮像素子、カメラモジュール |
JPWO2016002702A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2017-04-27 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタ、近赤外線カットフィルタの製造方法、固体撮像素子、カメラモジュール |
WO2019167967A1 (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-06 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4092840B2 (ja) | 2008-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DK1464487T4 (en) | Process for producing a positive photosensitive lithographic printing plate | |
JP3515846B2 (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
US6132935A (en) | Negative-working image recording material | |
US20020114966A1 (en) | Photopolymerizable composition and photopolmerizable lithographic printing plate | |
JPH1195433A (ja) | 感光性組成物及び画像形成材料 | |
JP3644002B2 (ja) | 画像形成材料及び画像形成方法 | |
JPH1165105A (ja) | 画像形成材料及び画像形成方法 | |
JP4092840B2 (ja) | 画像形成材料 | |
US20070172758A1 (en) | Planographic printing plate material and its manufacturing process | |
JPH1195415A (ja) | 画像形成材料および画像形成方法 | |
JP3788036B2 (ja) | 感光性平版印刷版及びその製造方法 | |
JP3899612B2 (ja) | 印刷版 | |
JP4221799B2 (ja) | 画像形成材料とその画像形成方法及び平版印刷版 | |
JPH10282648A (ja) | 平版印刷版材料 | |
JP3949882B2 (ja) | ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版 | |
JP3829413B2 (ja) | 感光性平版印刷版材料 | |
JPH10111564A (ja) | 画像形成材料及び画像形成方法 | |
WO2005101126A1 (ja) | ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版 | |
JP2000275827A (ja) | 感光性組成物、画像形成材料、画像形成方法及び1,2,4−トリアジン化合物 | |
JP2004118228A (ja) | 画像形成方法 | |
JP2006058419A (ja) | 感光性平版印刷版の製造方法及び使用方法 | |
JP3717027B2 (ja) | ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版 | |
JPH10282670A (ja) | 平版印刷版材料 | |
JPH117125A (ja) | 感光性組成物、画像形成材料及びその製造方法 | |
JPH10319591A (ja) | 画像形成材料及び画像形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071109 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071120 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080212 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080225 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110314 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |