JPH1195433A - 感光性組成物及び画像形成材料 - Google Patents

感光性組成物及び画像形成材料

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JPH1195433A
JPH1195433A JP9253553A JP25355397A JPH1195433A JP H1195433 A JPH1195433 A JP H1195433A JP 9253553 A JP9253553 A JP 9253553A JP 25355397 A JP25355397 A JP 25355397A JP H1195433 A JPH1195433 A JP H1195433A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 赤外線による露光で画像形成が可能で、赤外
線に対する感度が高く、かつ良好な現像性及び耐薬品性
を有する、或いは長期の保存後における感度変動のない
生保存性の良好なポジ型或いはネガ型の感光性組成物及
びそれを用いた画像形成材料の提供。 【解決手段】 活性光線の照射により酸を発生し得る化
合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物、赤外
吸収剤及び溶解度パラメーター（ＳＰ値）が１３以上の
不飽和基含有重合性モノマー成分ユニットを含む重合体
を有してなることを特徴とする感光性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、活性光により可溶
化する、いわゆるポジ型の感光性、又は活性光により不
溶化する、いわゆるネガ型の感光性を有する感光性組成
物に関し、更に詳しくは、半導体レーザー等による赤外
線による露光で画像形成が可能な画像形成材料に適した
感光性組成物に関する。又、前記感光性組成物を用いた
画像形成材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、活性光の照射によって可溶化する
ポジ型の感光層として、酸発生剤と酸分解性化合物とを
含有する感光層を有する画像形成材料が知られている。
即ち、米国特許第３，７７９，７７８号明細書には、酸
発生剤と酸で分解する特定の基を有する水不溶性化合物
とを含有する感光性組成物が、特開昭５３−１３３４２
９号には、酸発生剤と主鎖にアセタール又はケタール基
を有する化合物とを含有する感光性組成物が、又特開昭
６０−３７５４９号には、酸発生剤とシリルエーテル基
を有する化合物とを含有する組成物が開示されている。
これらはいずれも紫外線に感度を有し、紫外線による露
光によってアルカリ可溶化して非画像部を形成し、又未
露光部は画像部を形成するというものである。一般的に
は、マスクフィルム等を介してハロゲンランプ、高圧水
銀灯などから照射紫外線により画像露光を行なってお
り、アルゴンレーザー、ヘリウム−カドミウムレーザー
などの短波長レーザーによる露光も可能であるが、装置
が高価で大きいため使用の際は煩わしい場合もあり、又
感光材料の感度の点でも十分満足のいくものばかりでは
なかった。
【０００３】感光層の感度向上、版面の洗浄を目的とす
る各種クリーナーに対する耐性或いはボールペン適性等
のバランス向上を図るために本発明者らは感光層に、特
定の高分子重合体を添加して双極子モーメントをコント
ロールしたポジ型感光材料（特願平９−５３１５号）或
いは芳香族系モノマーを含む重合体とｏ−キノンジアジ
ド化合物とを含有するポジ型感光材料（特願平６−３２
９９８７号）を提案したが、紫外線による画像露光では
依然として上記したようなハード面での問題が残り、安
価で簡易な方法が望まれていた。
【０００４】一方、安価でコンパクトな半導体レーザー
のような赤外線で画像露光が可能な技術として、酸発生
剤、レゾール樹脂、メラミン樹脂、ノボラック樹脂及び
赤外線吸収剤を含有する感光層を有する画像形成材料を
画像露光の後、現像処理前に加熱処理を施すことにより
ネガ型の画像を形成する方法が米国特許第５，３４０，
６９９号明細書に開示され、又上記加熱処理を施さない
場合はポジ型の画像形成材料として使用される技術が開
示されている。しかし、ネガ型の場合は加熱処理が必要
であるために使用者に不便であり、電力消費の負荷も大
きい。又ポジ型の場合は、残留溶剤量が多いために画像
部感光層の一部又は全部が現像液に溶解してしまうなど
の問題があり、画像形成材料の保存性も十分とはいえな
い。
【０００５】具体的には、赤外線吸収剤により画像形成
された感光性平版印刷版は現像液に対するラチチュード
の低下、即ち現像液の濃度によっては画像部に膜ベリと
称する現象（露光部の現像液耐性が低いための現象）が
生じる。又、上記とは別に露光部を印刷時に使用する薬
品に浸した場合も、感光層が薬品に膨潤しやすいことか
ら膜ベリが生じてしまうなど、感光材料の膜強度が低下
してしまうことが従来まで問題であった。更に、長期の
保存後における感度変動も著しく大きく、生保存性の点
でも大きな欠点を有していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであり、その目的は赤外線による露光
で画像形成が可能で、赤外線に対する感度が高く、かつ
良好な現像性及び耐薬品性を有する、或いは長期の保存
後における感度変動のない生保存性の良好なポジ型或い
はネガ型の感光性組成物を提供することである。又、前
記感光性組成物を用いた画像形成材料を提供することで
ある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成により達成された。
【０００８】〈１〉活性光線の照射により酸を発生し得
る化合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物、
赤外吸収剤及び溶解度パラメーター（ＳＰ値）が１３以
上の不飽和基含有重合性モノマー成分ユニットを含む高
分子重合体を有してなることを特徴とする感光性組成
物。
【０００９】〈２〉活性光線の照射により酸を発生し得
る化合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物、
赤外吸収剤及び下記の高分子重合体を有してなることを
特徴とする感光性組成物。
【００１０】高分子重合体：（ａ）双極子モーメントが
３．０Ｄ以上のモノマー単位と、（ｂ）双極子モーメン
トが３．０Ｄ未満のモノマー単位の各々を少なくとも１
種含有し、かつ下記計算式（１）により求められるＹが
１．８〜４．０の範囲である。
【００１１】計算式（１） Ｙ ＝ Σμａ×Ｍａ／１００＋Σμｂ×Ｍｂ／１００ （μａ＝上記（ａ）のモノマー単位の双極子モーメン
ト，μｂ＝上記（ｂ）のモノマー単位の双極子モーメン
ト，Ｍａ＝上記（ａ）のモノマー単位のｍｏｌ％比率，
Ｍｂ＝上記（ｂ）のモノマー単位のｍｏｌ％比率を表
す。） 〈３〉活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸
により分解し得る結合部を有する化合物、赤外吸収剤及
びアミド基を含有する高分子重合体を有してなることを
特徴とする感光性組成物。
【００１２】〈４〉活性光線の照射により酸を発生し得
る化合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物、
赤外吸収剤及び酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）が５以下の高分
子重合体を有してなることを特徴とする感光性組成物。
【００１３】〈５〉活性光線の照射により酸を発生し得
る化合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物、
赤外吸収剤及びアミノ基を含む高分子重合体を有してな
ることを特徴とする感光性組成物。
【００１４】〈６〉上記〈１〉乃至〈５〉の「酸により
分解し得る結合部を有する化合物」の代替として「酸に
より架橋し得る基を有する化合物」に変更した感光性組
成物（繰り返しになるので上記の如く略す）。
【００１５】〈７〉支持体上に、上記〈１〉乃至〈６〉
の何れか１つ記載の感光性組成物を含有する感光層を設
けてなることを特徴とする画像形成材料。
【００１６】好ましい態様として、アミド基を含有する
高分子重合体が更にフェノール性ヒドロキシ基を有して
なること、前記高分子重合体の全量に対するアミド基を
含有するユニットの含有率が５以上５０重量％以下であ
り、かつフェノール性ヒドロキシ基を含有するユニット
の含有率が１０以上８０重量％以下であること、重量平
均分子量（Ｍｗ）が１０4以上１０7以下の高分子重合体
を有してなること、重量平均分子量（Ｍｗ）が１０4以
上５×１０4以下の高分子重合体と、同分子量（Ｍｗ）
が１０5以上１０7以下の高分子重合体とを有してなるこ
と、前記高分子重合体がメタクリルアミド及び以下の化
合物から選ばれる少なくとも１種を有してなること、が
挙げられる。
【００１７】
【化２】
【００１８】式中、Ｒは水素原子、フェニル基又はアル
キル基であり、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なっても
よく、水素原子、アルキル基、スルホアミノ基、ハロゲ
ン原子、アルコキシカルボニル基、カルボニル基、アリ
ール基、アシロキシ基、アラルキル基、アリールオキシ
基、アクリロイル基、アシル基、アミノカルボニル基、
アルコシキ基を表し、Ｘはエーテル基、エステル基、ア
ルキル基、アリール基、アシロキシ基、アミド基、スル
ホアミド基、アミノ基、アルキルエーテル基、アリール
オキシ基を表し、Ａは芳香族を表す。
【００１９】又、前記〈１〉乃至〈５〉の高分子重合体
がアクリル系高分子を含有してなること、前記支持体が
アルミニウム板であることも挙げられる。
【００２０】即ち本発明者らは、赤外線による露光で画
像形成が可能な系において、現像性及び耐薬品性向上、
或いは長期の保存後における感度変動のない、生保存性
の良好な感光性組成物、及びそれを有する画像形成材料
を得るべく鋭意検討した結果、一般的にバインダーと称
される高分子重合体に着目し、該高分子重合体の組成を
特定して含有せしめれば上記目的を達成し得ることを見
出し、本発明に至ったものであり、赤外線による系での
露光で上記の課題を解消し得る性能を有するというもの
である。
【００２１】以下、本発明を詳細に説明する。
【００２２】本発明は感光性組成物、画像形成材料をそ
の要旨とするものであり、以下順に説明する。
【００２３】〔１〕感光性組成物 本発明の感光性組成物はその形態によりポジ型或いはネ
ガ型に大別でき、ポジ型としては上記〈１〉乃至〈５〉
のタイプが挙げられ、又ネガ型としては上記〈１〉乃至
〈５〉の「酸により分解し得る結合部を有する化合物」
の代替として「酸により架橋し得る基を有する化合物」
に変更したタイプが挙げられる。
【００２４】〈１〉本タイプの重合体は、溶解度パラメ
ーター（ＳＰ値）が１３以上の不飽和基含有重合性モノ
マー成分ユニットを含む重合体であり、該重合体として
は、具体的にはスチレン系重合体、ビニル系の共重合体
等が挙げられる。ＳＰ値が１３以上の不飽和基含有重合
性モノマーとしては、例えば無水マレイン酸、３−シア
ノメタクリルアミド、ｐ−アミノスルホニルフェニルメ
タクリルアミド、４−ヒドロキシフェニルメタクリルア
ミド、４−ヒドロキシフェニルアクリルアミド、４′−
アセトアニリドメタクリルアニリド、４′−アミドメタ
クリルアニリド、メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタ
クリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシメチル）メタクリ
ルアミド等が挙げられ、これらからなる共重合体成分を
重合体中に１重量％以上含有していれば如何なる成分と
の組み合わせでも良く、好ましくは共重合した樹脂の溶
解度パラメータが１０以上となればよい。ＳＰ値が１３
以上の不飽和基含有重合性モノマーを有することによ
り、耐溶剤性の向上が図れるという利点がある。上記重
合体の分子量は５×１０3〜８×１０4の範囲が好まし
く、特に好ましくは５×１０3〜５×１０4がよい。ＳＰ
値が１３以上の不飽和基含有重合性モノマーを含む樹脂
は感光性組成物中に５〜８０重量％含有されるのが好ま
しく、更に好ましくは１０〜６０重量％である。
【００２５】モノマーの溶解度パラメーターは、「ポリ
マーハンドブック」：Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ
等の文献、或いはＦｅｄｏｒｓ、ｓｍａｌｌによる計算
法により計算したものを参照すればよい。
【００２６】〈２〉本タイプの重合体は、下記（ａ）単
位と（ｂ）単位を含有し、更に前記計算式（１）を満た
す化合物である。
【００２７】 （ａ）：双極子モーメントが３．０Ｄ以上の単位 （ｂ）：双極子モーメントが３．０Ｄ未満の単位 上記の各単位の具体例を以下に挙げる。
【００２８】単位（ａ）：例えば、シアノ基を有するよ
うなアクリロニトリル、３−シアノフェニルメタクリル
アミド、４−シアノフェニルメタクリレート、（メタ）
アクリルアミド、４′−アミドメタクリルアニリド等を
挙げることができる。
【００２９】単位（ｂ）：例えば次のような化合物が挙
げられる。ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキ
シル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メ
タ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレー
ト、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキ
シジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノ
キシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、
フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレ
ート、フェノキシ化リン酸（メタ）アクリレート、フタ
ル酸（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシフェニルメ
タクリルアミド等の環状構造を有する化合物。（メタ）
アクリル酸、イタコン酸等のカルボキシル基を有する化
合物。ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートハーフ
エステル等の２塩基酸無水物。その他、（メタ）アクリ
ル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アク
リル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）
アクリル酸イソブチル、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレー
ト、オクタデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メ
タ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、
ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシドデ
シル（メタ）アクリレート、スチレン、α−メチルスチ
レン、ダイアセトンアクリルアミド、（メタ）アクリル
酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチ
ル、（メタ）アクリル酸ブトキシエチル等を挙げること
ができる。
【００３０】本タイプは、以上で挙げた単位（ａ）及び
単位（ｂ）をそれぞれ１種以上含有し、更に上記計算式
（１）を満たす、即ちＹが１．８〜４．０の範囲である
ことを必須とする。そのような条件を満足するものとし
て、具体的にはスチレン系重合体、ビニル系の共重合体
が好ましく、ビニル系共重合体が更に好ましい。
【００３１】上記重合体の分子量は５×１０3〜８×１
０4の範囲が好ましく、特に好ましくは５×１０3〜５×
１０4がよい。本タイプの重合体は感光性組成物中に５
〜８０重量％含有されるのが好ましく、更に好ましくは
１０〜６０重量％である。
【００３２】双極子モーメントの測定方法としては誘電
率による方法、分子線法による方法をもあるが、本発明
で使用した測定方法は、マイクロ波分光による測定方法
である。この方法は、マイクロ波吸収スペクトルのＳｔ
ａｒｋ効果による***の広がりから双極子モーメントを
求める方法である。
【００３３】〈３〉本タイプの高分子重合体はアミド基
を含有するものであり、該アミド基を含有する高分子重
合体はその種類は任意であるがアミド基を含有するもの
であれば制限無く使用出来、例えばアミド基含有モノマ
ー即ちアミド基含有のポリアミド、同ポリエーテル、同
ポリエステル、同ポリカーボネート、同ポリスチレン、
同ポリウレタン、同ポリビニルクロライド及びそのコポ
リマー、同ポリビニルブチラール樹脂、同ポリビニルホ
ルマール樹脂、同シェラック、同エポキシ樹脂、同フェ
ノール樹脂、同アクリル樹脂、同水不溶性分散樹脂（特
願平７−８９９３号記載）等が挙げられる。本発明では
アミド基含有のスチレン系重合体、同ビニル系の共重合
体が好ましく、特にビニル系共重合体が好ましい。アミ
ド基含有モノマーの具体例としては、例えばメタクリル
アミド化合物、具体的には３−シアノメタクリルアミ
ド、モルホリンエチルメタクリルアミド、４−メトキシ
フェニルメタクリルアミド、４−メチルカルボニルフェ
ニルメタクリルアミド、ｐ−アミノスルホニルフェニル
メタクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アク
リルアミド、４′−アセトアニリドメタクリルアニリ
ド、４′−アミドメタクリルアニリド、メタクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トル
エンスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエン
スルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−メチロールメタク
リルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシメチル）アクリルア
ミド、Ｎ−（２−ヒドロキシメチル）メタクリルアミ
ド、アクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−
ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリル
アミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリ
ルアミド、アクリロイルモルホリン等が挙げられ、これ
らからなる共重合体成分を重合体中に１重量％以上含有
していれば如何なる成分との組み合わせも良く、又好ま
しくは共重合した樹脂の溶解度パラメータが１０以上と
なればよい。
【００３４】本タイプの高分子重合体は更にフェノール
性ヒドロキシ基を有してなることが好ましく、特にフェ
ノール性ヒドロキシ基含有モノマーが好ましい。該モノ
マーとしては、例えば、ｏ−、ｐ−、ｍ−それぞれのヒ
ドロキシスチレン、ｏ−、ｐ−、ｍ−それぞれのヒドロ
キシフェニル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシフ
ェニルマレイミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）ア
クリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタク
リルアミド、ビニルフェノール等が挙げられるが、これ
らに限定されない。
【００３５】又本発明における高分子重合体は、下記の
一般式（ａ）乃至（ｈ）で表される化合物をユニットと
して含有するのが好ましい。
【００３６】
【化３】
【００３７】式中、Ｒは水素原子、フェニル基又はアル
キル基であり、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なっても
よく、水素原子、アルキル基、スルホアミノ基、ハロゲ
ン原子、アルコキシカルボニル基、カルボニル基、アリ
ール基、アシロキシ基、アラルキル基、アリールオキシ
基、アクリロイル基、アシル基、アミノカルボニル基、
アルコシキ基を表し、Ｘはエーテル基、エステル基、ア
ルキル基、アリール基、アシロキシ基、アミド基、スル
ホアミド基、アミノ基、アルキルエーテル基、アリール
オキシ基を表し、Ａは芳香族を表す。
【００３８】一般式（ａ）乃至（ｈ）で表される化合物
を合成するには、メタクリル酸、アクリル酸、グリシジ
ルメタクリレート、グリシジルアクリレート、メタクリ
ルクロライド、アクリルクロライド、メタクリロイルオ
キシエチルイソシアネート、ビニルフェノール、無水マ
レイン酸、マレイン酸、ジメチルメタ−イソプロペニル
ベンジルイソシアネート、クロチルクロライド、ビニル
クロロホルメート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート
等と、フェノール性ヒドロキシ基を含有する化合物、１
級アミノ基を有する化合物等との反応により達成され
る。
【００３９】本タイプの高分子重合体はアミド基含有モ
ノマーのユニットと上記のフェノール性ヒドロキシ基を
有してなる化合物をユニットとして含有するのが好まし
く、この場合該アミド基含有モノマーとしてメタクリル
アミド化合物が好ましく用いられる。本タイプの高分子
重合体における該メタクリルアミド化合物の含有率は５
以上５０重量％以下が好ましく、より好ましくは１０以
上４０重量％以下である。又フェノール性ヒドロキシ基
を有してなる化合物の含有率は１０以上８０重量％以下
が好ましく、より好ましくは２０以上６０重量％以下で
ある。
【００４０】このようにして得られた高分子重合体は他
のビニル系モノマーとの共重合も可能である。
【００４１】本タイプの高分子重合体は、アミド基含有
モノマーとフェノール性ヒドロキシ基含有モノマーの双
方を有する場合、アミド基含有モノマーとしてメタクリ
ルアミド、又フェノール性ヒドロキシ基を有してなる化
合物からはヒドロキシフェニルメタクリルアミド、Ｎ−
ヒドロキシフェニルマレイミド及びビニルフェノールか
ら選ばれる少なくとも１種を有してなることことが好ま
しい。
【００４２】又本タイプの高分子重合体は、重量平均分
子量（Ｍｗ）が１０4以上１０7以下の高分子重合体の範
囲が好ましく、特に１０4以上５×１０4以下の高分子重
合体と、（Ｍｗ）が１０5以上１０7以下の高分子重合体
の分子量分布を、２〜５つ有してなることが好ましく、
より好ましくは分子量分布を２又は３有するのが好まし
い。本タイプの高分子重合体は感光性組成物中に１〜５
０重量％含有されるのが好ましく、より好ましくは５〜
３０重量％である。
【００４３】上記の〈１〉乃至〈３〉で記載した高分子
重合体は、感光性組成物の良好な現像性及び耐薬品性を
達成する上で非常に効果的である。
【００４４】〈４〉本タイプの高分子重合体は、酸価
（ｍｇＫＯＨ／ｇ）が５以下の高分子重合体である。該
高分子重合体としては、その種類は任意であるが、例え
ば酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）が５以下のポリアミド、同ポ
リエーテル、同ポリエステル、同ポリカーボネート、同
ポリスチレン、同ポリウレタン、同ポリビニルクロライ
ド及びそのコポリマー、同ポリビニルブチラール樹脂、
同ポリビニルホルマール樹脂、同シェラック、同エポキ
シ樹脂、同フェノール樹脂、同アクリル樹脂、同水不溶
性分散樹脂（特願平７−８９９３号記載）等が挙げられ
る。本タイプにおいてはビニル系重合体、アクリル樹脂
が好ましい。これと他の樹脂の併用も可能である。酸価
（ｍｇＫＯＨ／ｇ）が５以下の高分子重合体の具体的と
してアクリル系樹脂が挙げられ、例えばアクリル酸、メ
タクリル酸、マレイン酸、イタコン酸等のカルボキシル
基からなるモノマーユニットを制限したものである。酸
価が５以下の高分子重合体を含有することにより感光性
組成物の保存性が格段に向上し、平版印刷版上の感光層
を形成した際の環境保存性、経時保存性に優れるという
効果を奏す。
【００４５】上記重合体の（Ｍｗ）は５×１０3〜８×
１０4の範囲が好ましく、特に好ましくは５×１０3〜５
×１０4がよい。上記酸価が５以下の高分子重合体は感
光性組成物中に５〜８０重量％含有されるのが好まし
く、より好ましくは１０〜６０重量％である。
【００４６】〈５〉本タイプの高分子重合体は、アミノ
基を含む高分子重合体である。該高分子重合体として
は、その種類は任意であるが、例えばアミノ基含有ポリ
アミド、同ポリエーテル、同ポリエステル、同ポリカー
ボネート、同ポリスチレン、同ポリウレタン、同ポリビ
ニルクロライド及びそのコポリマー、同ポリビニルブチ
ラール樹脂、同ポリビニルホルマール樹脂、同シェラッ
ク、同エポキシ樹脂、同フェノール樹脂、同アクリル樹
脂、同上記水不溶性分散樹脂等が挙げられる。本タイプ
においてはビニル系重合体、アクリル樹脂が好ましい。
これらと他の樹脂の併用も可能である。本タイプの高分
子重合体を構成するアミノ基を有するモノマーとして
は、具体的には例えばｍ−アミノスルホニルメタクリレ
ート、ｐ−アミノスルホニルメタクリレート、ｍ−アミ
ノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミノスルホ
ニルフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニル）
アクリルアミド、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレー
ト、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ−ジ
メチルアミノプロピルアクリルアミド等が挙げられる。
【００４７】上記重合体の（Ｍｗ）は５×１０3〜８×
１０4の範囲が好ましく、特に好ましくは５×１０3〜５
×１０4がよい。上記アミノ基を含む高分子重合体は感
光性組成物中に５〜８０重量％含有されるのが好まし
く、より好ましくは１０〜６０重量％である。
【００４８】上記の〈４〉及び〈５〉で記載した高分子
重合体は、感光性組成物の長期の保存後における感度変
動のない良好な生保存性を達成する上で非常に効果的で
ある。
【００４９】上述した〈１〉乃至〈５〉ではポジ型とし
て述べたが、ネガ型〈６〉の各タイプについても同様で
ある。
【００５０】次に、共通の感光性組成物の構成成分につ
いて述べる。
【００５１】（活性光線の照射により酸を発生し得る化
合物）本発明に用いられる活性光線の照射により酸を発
生し得る化合物（以下「光酸発生剤」という）として
は、各種の公知化合物及び混合物が挙げられる。例えば
ジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウム、及びヨー
ドニウムのＢＦ4 -、ＰＦ6 -、ＳｂＦ6 -、ＳｉＦ6 2-、Ｃ
ｌＯ4 -などの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−
ジアジドスルホニルクロリド、及び有機金属／有機ハロ
ゲン化合物も活性光線の照射の際に酸を形成又は分離す
る活性光線感光性成分であり、本発明における光酸発生
剤として使用することができる。原理的には遊離基形成
性の光開始剤として知られるすべての有機ハロゲン化合
物はハロゲン化水素酸を形成する化合物であり、本発明
における光酸発生剤として使用することができる。
【００５２】前記のハロゲン化水素酸を形成する化合物
の例としては米国特許第３，５１５，５５２号、同第
３，５３６，４８９号及び同第３，７７９，７７８号及
び西ドイツ国特許公開公報第２，２４３，６２１号に記
載されているものが挙げられ、又例えば西ドイツ国特許
公開公報第２，６１０，８４２号に記載の光分解により
酸を発生させる化合物も使用することができる。又、特
開昭５０−３６２０９号に記載されているｏ−ナフトキ
ノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドを用いること
ができる。
【００５３】本発明において、有機ハロゲン化合物が赤
外線露光による画像形成での感度、及び画像形成材料と
して用いた際の保存性等の面から光酸発生剤が好まし
い。該有機ハロゲン化合物としては、ハロゲン置換アル
キル基を有するトリアジン類及びハロゲン置換アルキル
基を有するオキサジアゾール類が好ましく、ハロゲン置
換アルキル基を有するｓ−トリアジン類が特に好まし
い。ハロゲン置換アルキル基を有するオキサジアゾール
類の具体例としては、特開昭５４−７４７２８号、特開
昭５５−２４１１３号、特開昭５５−７７７４２号、特
開昭６０−３６２６号及び特開昭６０−１３８５３９号
に記載の２−ハロメチル−１，３，４−オキサジアゾー
ル系化合物が挙げられる。２−ハロメチル−１，３，４
−オキサジアゾール系光酸発生剤の好ましい化合物例を
下記に挙げる。
【００５４】
【化４】
【００５５】上記ハロゲン置換アルキル基を有するｓ−
トリアジン類としては、下記一般式（１）で表される化
合物が好ましい。
【００５６】
【化５】
【００５７】一般式（１）において、Ｒはアルキル基、
ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基で置換されてい
てもよいフェニルビニレン基又はアリール基（例えばフ
ェニル基、ナフチル基等）若しくはその置換体を表し、
Ｘ3はハロゲン原子を表す。一般式（１）で表されるｓ
−トリアジン系光酸発生剤の化合物例を次に示す。
【００５８】
【化６】
【００５９】
【化７】
【００６０】本発明において光酸発生剤の含有量は、そ
の化学的性質及び感光性組成物或いはその物性によって
広範囲に変えることができるが、感光性組成物の乾燥状
態又は画像形成材料とした際の感光層の固形分の全重量
に対して約０．１〜約２０重量％の範囲が適当であり、
好ましくは０．２〜１０重量％の範囲である。
【００６１】（酸により分解し得る結合部を有する化合
物）本発明に用いられる酸により分解し得る結合部を有
する化合物（以下「酸分解化合物」という）としては、
具体的には、特開昭４８−８９００３号、同５１−１２
０７１４号、同５３−１３３４２９号、同５５−１２９
９５号、同５５−１２６２３６号、同５６−１７３４５
号に記載されているＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特
開昭６０−３７５４９号、同６０−１２１４４６号に記
載されているＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭
６０−３６２５号、同６０−１０２４７号各公報に記載
されているその他の酸分解化合物が挙げられ、更に特願
昭６１−１６６８７号に記載されているＳｉ−Ｎ結合を
有する化合物、特願昭６１−９４６０３号に記載されて
いる炭酸エステル、特願昭６０−２５１７４４号に記載
されているオルト炭酸エステル、特願昭６１−１２５４
７３号に記載されているオルトチタン酸エステル、特願
昭６１−１２５４７４号に記載されているオルトケイ酸
エステル、特願昭６１−１５５４８１号に記載されてい
るアセタール及びケタール、特願昭６１−８７７６９号
に記載されているＣ−Ｓ結合を有する化合物などが挙げ
られる。
【００６２】上記のうち前記特開昭５３−１３３４２９
号、同５６−１７３４５号、同６０−１２１４４６号、
同６０−３７５４９号及び特願昭６０−２５１７４４
号、同６１−１５５４８１号に記載されているＣ−Ｏ−
Ｃ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合
物、オルト炭酸エステル、アセタール類、ケタール類及
びシリルエーテル類が好ましい。それらの中でも特開昭
５３−１３３４２９号に記載された主鎖中に繰り返しア
セタール又はケタール部分を有し、現像液中でのその溶
解度が酸の作用によって上昇する有機重合化合物及び特
開昭６３−１０１５３号に記載の下記構造単位
【００６３】
【化８】
【００６４】を有し、酸により分解し得る化合物が特に
好ましい。
【００６５】本発明に用いられる酸分解化合物の具体例
としては前記各公知例に記載された化合物を挙げること
ができる。又、該化合物の合成方法も前記各公知例に記
載されている。
【００６６】本発明において、酸分解化合物として、−
（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−基（ｎは１〜５の整数を表す）を
有する化合物が感度及び現像性のバランスの点から好ま
しい。又、該化合物のうちエチレンオキシ基の連鎖数ｎ
が３又は４の化合物が特に好ましい。上記−（ＣＨ2Ｃ
Ｈ2Ｏ）n−基を有する化合物の具体例としてはジメトキ
シシクロヘキサン、ベンズアルデヒド及びそれらの置換
誘導体と、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、テトラエチレングリコール及びペンタエチレング
リコールの何れかとの縮合生成物が挙げられる。
【００６７】又、本発明において、酸分解化合物とし
て、下記一般式（２）で表される化合物が感度及び現像
性の点から好ましい。
【００６８】
【化９】
【００６９】式中、Ｒ、Ｒ1及びＲ2は各々水素原子、炭
素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアル
コキシ基、スルホ基、カルボキシル基又はヒドロキシル
基を表し、ｐ、ｑ及びｒは各々１〜３の整数を表し、ｍ
及びｎは各々１〜５の整数を表す。Ｒ、Ｒ1及びＲ2が表
すアルキル基は直鎖でも分岐でもよく、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基等が挙げられ、ア
ルコキシ基としては例えばメトキシ基、エトキシ基、プ
ロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｔｅｒｔ
−ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられ、スルホ基及
びカルボキシル基はその塩を包含する。一般式（２）で
表される化合物のうち、ｍ及びｎが１又は２である化合
物が特に好ましい。一般式（２）で表される化合物は公
知の方法で合成することができる。
【００７０】本発明において、酸分解化合物の含有量
は、感光性組成物或いは画像形成材料として用いた際の
感光層を形成する組成物の全固形分に対し、５〜７０重
量％が好ましく、特に好ましくは１０〜５０重量％であ
る。酸分解化合物は１種を用いてもよいし、２種以上を
混合して用いてもよい。
【００７１】（赤外線吸収剤）本発明に用いられる赤外
線吸収剤としては、波長７００ｎｍ以上に吸収を持つ赤
外吸収色素、カーボンブラック、磁性粉等を使用するこ
とができる。特に好ましい赤外線吸収剤は７００〜８５
０ｎｍに吸収ピークを有し、ピークでのモル吸光係数ε
が１０5以上の赤外吸収色素である。
【００７２】上記赤外吸収色素としては、シアニン系色
素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間ＣＴ色素等が挙げられる。上記赤外吸収色素として
は、特開昭６３−１３９１９１号、同６４−３３５４７
号、特開平１−１６０６８３号、同１−２８０７５０
号、同１−２９３３４２号、同２−２０７４号、同３−
２６５９３号、同３−３０９９１号、同３−３４８９１
号、同３−３６０９３号、同３−３６０９４号、同３−
３６０９５号、同３−４２２８１号、同３−１０３４７
６号等に記載の化合物が挙げられる。
【００７３】本発明において、赤外線吸収剤として、下
記一般式（３）又は（４）で表されるシアニン系色素が
特に好ましい。
【００７４】
【化１０】
【００７５】式中、Ｚ1及びＺ2は各々硫黄原子、セレン
原子又は酸素原子を表し、Ｘ1及びＸ2は各々置換基を有
していてもよいベンゾ縮合環又はナフト縮合環を形成す
るのに必要な非金属原子群を表し、Ｒ3及びＲ4は各々置
換基を表し、Ｒ3及びＲ4のどちらか一方はアニオン性解
離性基を有する。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は各々炭素原子
数１〜３のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表
す。Ｌは炭素原子数５〜１３の共役結合の連鎖を表す。
【００７６】一般式（３）又は（４）で表されるシアニ
ン系色素は、一般式（３）又は（４）がカチオンを形成
し、対アニオンを有するものを包含する。この場合、対
アニオンとしては、Ｃｌ-、Ｂｒ-、ＣｌＯ4 -、ＢＦ4 -、
ｔ−ブチルトリフェニルホウ素等のアルキルホウ素等が
挙げられる。
【００７７】一般式（３）及び（４）において、Ｌで表
される共役結合の連鎖の炭素原子数（ｎ）は、画像露光
の光源として赤外線を放射するレーザーが使用される場
合、該レーザーの発信波長に合わせて有効な値を選択す
ることが好ましい。例えば、発信波長１０６０ｎｍのＹ
ＡＧレーザーを使用する場合は、ｎは９〜１３が好まし
い。又、この共役結合部分は任意の置換基を有すること
ができ、又共役結合部分は複数の置換基により環を形成
させてもよい。又、Ｘ1で表される環及びＸ2で表される
環には任意の置換基を有することができる。該置換基と
してハロゲン原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭
素原子数１〜５のアルコキシ基、−ＳＯ3Ｍ及び−ＣＯ
ＯＭ（Ｍは水素原子又はアルカリ金属原子）から選ばれ
る基が好ましい。Ｒ3及びＲ4は各々任意の置換基である
が、好ましくは炭素原子数１〜５のアルキル基若しくは
炭素原子数１〜５のアルコキシ基；−（（ＣＨ2）n−Ｏ
−）k−（ＣＨ2）mＯＲ（ｎ及びｍは各々１〜３の整
数、ｋは０又は１、Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基
を表す。）；Ｒ3及びＲ4の一方が−Ｒ−ＳＯ3Ｍで他方
が−Ｒ−ＳＯ3 -（Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基、
Ｍはアルカリ金属原子を表す）；又はＲ3及びＲ4の一方
が−Ｒ−ＣＯＯＭで他方が−Ｒ−ＣＯＯ-（Ｒは炭素原
子数１〜５のアルキル基、Ｍはアルカリ金属原子を表
す。）である。Ｒ3及びＲ4は、感度及び現像性の点か
ら、Ｒ3及びＲ4の一方が上記−Ｒ−ＳＯ3 -又は−Ｒ−Ｃ
ＯＯ-、他方が上記−Ｒ−ＳＯ3Ｍ又は−Ｒ−ＣＯＯＭで
あることが好ましい。
【００７８】一般式（３）又は（４）で表されるシアニ
ン系色素は、画像露光の光源として半導体レーザーを使
用する場合は７５０〜９００ｎｍ、ＹＡＧレーザーを使
用する場合は９００〜１２００ｎｍにおいて吸収ピーク
を示し、ε＞１×１０5のモル吸光係数を有するものが
好ましい。
【００７９】本発明に好ましく用いられる赤外線吸収剤
の代表的具体例を以下に挙げるが、これらに限定される
ものではない。
【００８０】
【化１１】
【００８１】
【化１２】
【００８２】
【化１３】
【００８３】
【化１４】
【００８４】
【化１５】
【００８５】
【化１６】
【００８６】
【化１７】
【００８７】
【化１８】
【００８８】
【化１９】
【００８９】
【化２０】
【００９０】
【化２１】
【００９１】
【化２２】
【００９２】
【化２３】
【００９３】
【化２４】
【００９４】これらの色素は公知の方法によって合成す
ることができるが、下記のような市販品を用いることも
できる。
【００９５】日本化薬：ＩＲ７５０（アントラキノン
系）；ＩＲ００２，ＩＲ００３（アルミニウム系）；Ｉ
Ｒ８２０（ポリメチン系）；ＩＲＧ０２２，ＩＲＧ０３
３（ジインモニウム系）；ＣＹ−２，ＣＹ−４，ＣＹ−
９，ＣＹ−２０、三井東圧：ＫＩＲ１０３，ＳＩＲ１０
３（フタロシアニン系）；ＫＩＲ１０１，ＳＩＲ１１４
（アントラキノン系）；ＰＡ１００１，ＰＡ１００５，
ＰＡ１００６，ＳＩＲ１２８（金属錯体系）、大日本イ
ンキ化学：Ｆａｓｔｏｇｅｎ ｂｌｕｅ８１２０、みど
り化学：ＭＩＲ−１０１，１０１１，１０２１等。その
他、日本感光色素、住友化学、富士写真フイルム等の各
社からも市販されている。
【００９６】本発明において、赤外線吸収剤の添加量
は、０．５〜１０重量％の範囲が好ましい。該添加量が
１０重量％を越えると非画像部（露光部）の現像性が低
下し、０．５重量％未満では画像部の耐現像性が低下す
る。
【００９７】（酸により架橋する基を有する化合物）タ
イプ〈６〉にて用いられる「酸により架橋する基を有す
る化合物」を説明する。
【００９８】本発明において、酸により架橋する基を有
する化合物としては、酸の存在下でアルカリ可溶性樹脂
と架橋し得る化合物（以下、架橋剤という）、即ち架橋
しアルカリに対する溶解性を低減させ得る架橋剤であ
る。アルカリに対する溶解性を低減させ得る程度として
は、アルカリ可溶性樹脂と架橋することによって該樹脂
が全くのアルカリ不溶性を示す物性に変化すればよく、
具体的には、画像形成材料として用いた際、露光により
前記架橋剤の作用で本来アルカリ可溶性であったものが
現像剤として用いるアルカリ溶液に対して不溶性を示
し、支持体上に残存している状態を表す。前記架橋剤と
しては、官能基としてアルコキシメチル基、メチロール
基、アセトキシメチル基等を少なくとも２個有するアミ
ノ化合物、例えば、メラミン誘導体〔ヘキサメトキシメ
チル化メラミン（三井サイアナミッド（株）製サイメル
３００シリーズ（１）等）〕、ベンゾグアナミン誘導体
〔メチル／エチル混合アルキル化ベンゾグアナミン樹脂
（三井サイアナミッド（株）製サイメル１１００シリー
ズ（２））等〕、グリコールウリル誘導体〔テトラメチ
ロールグリコールウリル（三井サイアナミッド（株）製
サイメル１１００シリーズ（３））等〕、又官能基とし
てアルコキシメチル基、メチロール基、アセトキシメチ
ル基等を有する少なくとも２置換の芳香族化合物、例え
ば、１，３，５−トリアセトキシメチルベンゼン、１，
２，４，５−テトラアセトキシメチルベンゼン等が挙げ
られ、これらはＰｏｌｙｍ．Ｍａｓｔｅｒ．Ｓｃｉ．Ｅ
ｎｇ．，６４，２４１（１９９１）に記載の手法により
合成することができる。
【００９９】架橋剤として、上記に加えてレゾール樹脂
及びフラン樹脂も使用することができる。さらに、以下
に示す単量体を含む単量体から合成されるアクリル樹脂
を使用することができる。
【０１００】Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチ
ロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールメタクリルアミド、Ｎ
−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２
−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、Ｎ−ヒド
ロキシメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリル
アミド、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ
エチル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエ
ーテル、ビニルベンジルアルコール、α−メチルビニル
ベンジルアルコール、ビニルベンジルアセテート、α−
メチルビニルベンジルアセテート、ビニルフェネチルア
ルコール、α−メチルビニルフェネチルアルコール、ビ
ニルフェネチルアセテート、α−メチルビニルフェネチ
ルアセテートのいずれかを１〜５０モル％、好ましくは
５〜３０モル％共重合体させる態様である。
【０１０１】本発明においては、架橋剤として特開平３
−１８５４４９号、同５−２１０２３９号、同７−１４
６５５６号、同７−１０４４７３号、同７−３６１８７
号、同６−２８２０７２号、同６−２６６１０５号、同
６−２１４３９１号、同６−２１４３９２号、同６−１
２３９６８号、同５−２４９６６２号、同６−１９４８
３８号、同５−２３２７０７号、同６−１３８６６０号
各等に記載された化合物を用いることもできる。
【０１０２】感光性組成物に対する添加量は、該組成物
の全固形分に対し５〜６０重量％が好ましく、特に好ま
しくは２０〜４５重量％である。該架橋剤は１種を単独
で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１０３】（結合剤）本発明の感光性組成物において
は、上述した特定の高分子重合体以外に、他の結合剤
（バインダー）を併用することもできる。結合剤として
例えば高分子量結合剤を用いることができる。高分子量
結合剤としては、例えばノボラック樹脂やヒドロキシス
チレン単位を有する重合体や後記する一般式（５）で表
される構造単位を有する重合体、その他公知のアクリル
樹脂等を挙げることができる。
【０１０４】上記ノボラック樹脂としては、例えばフェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂、特開昭５５−５７８４１号に記載されて
いるようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド
共重縮合体樹脂、特開昭５５−１２７５５３号に記載さ
れているような、ｐ−置換フェノールとフェノールもし
くは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合体樹
脂等が挙げられる。
【０１０５】ヒドロキシスチレン単位を有する重合体と
しては、例えば特公昭５２−４１０５０号に記載されて
いるポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレン共重
合体などを挙げることができる。
【０１０６】一般式（５）で表される構造単位を有する
重合体とは、該構造単位のみの繰り返し構造を有する単
独重合体、或いは該構造単位と他のビニル系単量体の不
飽和二重結合を開裂せしめた構造で示される構造単位１
種以上とを組み合わせた共重合体である。
【０１０７】
【化２５】
【０１０８】一般式（５）において、Ｒ1及びＲ2はそれ
ぞれ水素原子、メチル基やエチル基等のアルキル基又は
カルボキシル基を表し、好ましくは水素原子である。Ｒ
3は水素原子、塩素原子や臭素原子等のハロゲン原子又
はメチル基、エチル基等のアルキル基を表し、好ましく
は水素原子又はメチル基である。Ｒ4は水素原子、メチ
ル基やエチル基等のアルキル基、フェニル基又はナフチ
ル基を表す。Ｙは置換基を有するものも含むフェニレン
基又はナフチレン基を表し、置換基としてはメチル基や
エチル基等のアルキル基、塩素原子や臭素原子等のハロ
ゲン原子、カルボキシル基、メトキシ基やエトキシ基等
のアルコキシ基、ヒドロキシル基、スルホ基、シアノ
基、ニトロ基、アシル基等が挙げられるが、好ましくは
置換基を有しないか、或いはメチル基で置換されている
ものである。Ｘは窒素原子と芳香族炭素原子とを連結す
る２価の有機基で、ｎは０〜５の整数を表し、好ましく
はｎが０のときである。
【０１０９】一般式（５）で表される構造単位を有する
重合体は、更に具体的に、例えば下記（ａ）〜（ｆ）で
表すことができる。
【０１１０】
【化２６】
【０１１１】（ａ）〜（ｆ）において、Ｒ1〜Ｒ5は各々
水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、ｍ、
ｎ、ｌ、ｋ及びｓは各々の構造単位のモル％を表す。
【０１１２】又、上記したノボラック樹脂、ヒドロキシ
スチレン単位を有する重合体、一般式（５）で表される
構造単位を有する重合体及びアクリル樹脂を併用するこ
ともできる。
【０１１３】本発明の好ましい態様として、ノボラック
樹脂及びアクリル樹脂を含有する態様が挙げられる。該
アクリル樹脂はアクリル酸、メタクリル酸、又はそれら
のエステル類を構成単位とする重合体であり、好ましく
は前述した一般式（５）で表される単量体単位を有する
重合体である。ノボラック樹脂は感光層に対して２０〜
８０重量％の範囲で含有させることが好ましく、アクリ
ル樹脂は感光層に対して１〜５０重量％の範囲で含有さ
せることが好ましく、５〜３０重量％の範囲がより好ま
しい。
【０１１４】本発明の好ましい態様としてノボラック樹
脂及びノニオン界面活性剤を含有する態様が挙げられ
る。ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリル
エーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン
・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステ
ル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ア
ルキルアルカノールアミド、ポリエチレングリコール等
が挙げられる。ノボラック樹脂は感光性組成物に対して
２０〜８０重量％の範囲で含有させることが好ましく、
ノニオン界面活性剤は感光性組成物に対して０．０１〜
１０重量％の範囲で含有させることが好ましく、０．１
〜１．０重量％の範囲がより好ましい。
【０１１５】本発明においては、フッ素系界面活性剤を
０．００１〜５重量％含有させることが経時による非画
像部の汚れ発生防止の点から好ましい。フッ素系界面活
性剤としては例えば次のような化合物が挙げられる。
【０１１６】
【化２７】
【０１１７】フッ素系界面活性剤としては市販品を用い
ることもでき、例えばサーフロン「Ｓ−３８１」、「Ｓ
−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０２」、
「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（何れも旭硝子
（株）製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「ＦＣ−４
３１」、「ＦＣ−１７３」（何れもフロロケミカル−住
友スリーエム製）、エフトップ「ＥＦ３５２」、「ＥＦ
３０１」、「ＥＦ３０３」（何れも新秋田化成（株）
製）、シュベゴーフルアー「８０３５」、「８０３６」
（何れもシュベグマン社製）、「ＢＭ１０００」、「Ｂ
Ｍ１１００」（いずれもビーエム・ヒミー社製）、メガ
ファック「Ｆ−１７１」、「Ｆ−１７７」（いずれも大
日本インキ化学（株）製）、などを挙げることができ
る。
【０１１８】フッ素系界面活性剤のフッ素含有割合は、
０．０５〜２％、好ましくは０．１〜１％である。上記
のフッ素系界面活性剤は、１種又は２種以上を併用する
ことができ、又その他の界面活性剤と併用することがで
きる。
【０１１９】更に、本発明の感光性組成物には、感脂性
を向上するために親油性の樹脂を添加することができ
る。上記親油性の樹脂としては、例えば、特開昭５０−
１２５８０６号に記載されているような、炭素数３〜１
５のアルキル基で置換されたフェノール類とアルデヒド
の縮合物、例えばｔブチルフェノールホルムアルデヒド
樹脂などが使用可能である。
【０１２０】又、別の結合剤として公知のバインダーを
併用することができる。併用できる高分子重合体とし
て、例えば、ポリアミド、ポリエステル、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリウレタン、
ポリビニルクロライド及びそのコポリマー、ボリビニル
アセタール、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホ
ルマール樹脂、シェラック、エポキシ樹脂、フェノール
樹脂、アクリル樹脂、アルキッド樹脂等が挙げられる。
【０１２１】これらの中で好ましいは高分子重合体は、
請求項に係るモノマーユニットを含むものであるが下記
（１）〜（１７）に記載のモノマーの混合物を共重合し
て得られた共重合高分子重合体も好ましい。
【０１２２】上記モノマー混合物には、上記モノマーと
共重合し得る他のモノマーを混合してもよい。また、高
分子重合体は、上記モノマーの共重合によって得られる
共重合体を、例えば、グリシジルアクリレート、グリシ
ジルメタクリレート等によって修飾したものであっても
よい。
【０１２３】（１）芳香族水酸基を有するモノマー、例
えば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシフェニル
アクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、
ｍ−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
【０１２４】（２）脂肪族水酸基を有するモノマー、例
えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルア
ミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、４−ヒドロキ
シブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリ
レート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、５−ヒ
ドロキシペンチルメタクリレート、６−ヒドロキシヘキ
シルアクリレート、６−ヒドロキシヘキシルメタクリレ
ート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、ヒド
ロキシエチルビニルエーテル等。
【０１２５】（３）アミノスルホニル基を有するモノマ
ー、例えば、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、
ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミ
ノスルホニルフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノ
スルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ア
ミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等。
【０１２６】（４）スルホンアミド基を有するモノマ
ー、例えば、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリル
アミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルア
ミド等。 （５）α，β−不飽和カルボン酸類、例えば、アクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタ
コン酸、無水イタコン酸等。
【０１２７】（６）置換または無置換のアルキルアクリ
レート、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、
アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デ
シル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、ア
クリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ル酸−２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチ
ルアクリレート、グリシジルアクリレート等。
【０１２８】（７）置換または無置換のアルキルメタク
リレート、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノ
ニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、
メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタク
リル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−２−クロロエチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート等。
【０１２９】（８）アクリルアミドもしくはメタクリル
アミド類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリル
アミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェ
ニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミ
ド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−
（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４
−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド等。
【０１３０】（９）フッ化アルキル基を含有するモノマ
ー、例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフ
ルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピル
アクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレー
ト、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフ
ルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチル
メタクリレート、へプタデカフルオロデシルアクリレー
ト、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、Ｎ−ブ
チル−Ｎ−（２−アクリロキシエチル）ヘプタデカフル
オロオクチルスルホンアミド等。
【０１３１】（１０）ビニルエーテル類、例えば、エチ
ルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、
プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オク
チルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等。
【０１３２】（１１）ビニルエステル類、例えば、ビニ
ルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレ
ート、安息香酸ビニル等。
【０１３３】（１２）スチレン類、例えば、スチレン、
メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
【０１３４】（１３）ビニルケトン類、例えば、メチル
ビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケ
トン、フェニルビニルケトン等。
【０１３５】（１４）オレフィン類、例えば、エチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン等。
【０１３６】（１５）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニ
ルカルバゾール、４−ビニルピリジン等。
【０１３７】（１６）シアノ基を有するモノマー、例え
ば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペン
テンニトリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−
シアノエチルアクリレート、ｏ−シアノスチレン、ｍ−
シアノスチレン、ｐ−シアノスチレン等。
【０１３８】（１７）アミノ基を有するモノマー、例え
ば、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジェン
ウレタンアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピ
ルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、
アクリロイルモルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド等。
【０１３９】本発明の感光性組成物には必要に応じて、
更に上記以外の色素、顔料、増感剤、可視画剤、紫外線
吸収剤等を含有させることができる。
【０１４０】（色素）以下に記載する色素は、露光によ
る可視画像（露光可視画像）と現像後の可視画像を得る
ことを目的として使用される。
【０１４１】これら色素としては、フリーラジカルまた
は酸と反応して色調を変化するものが好ましく使用でき
る。ここに「色調が変化する」とは、無色から有色への
色調の変化、有色から無色あるいは異なる有色への色調
の変化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を
形成して色調を変化するものである。
【０１４２】有色から無色へあるいは異なる有色の色調
へ変化する色素の例としては、例えば、ビクトリアピュ
アブルーＢＯＨ〔保土ヶ谷化学社製〕、オイルブルー＃
６０３〔オリエント化学工業社製〕、パテントピュアブ
ルー〔住友三国化学社製〕、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンＢ、ベイシ
ックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、ｍ
−クレゾールパープル、ローダミンＢ、オーラミン、４
−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、シ
アノ−ｐ−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が挙げ
られる。
【０１４３】一方、無色から有色に変化する色素の例と
しては、例えば、ロイコ色素及び、例えば、トリフェニ
ルアミン、ジフェニルアミン、ｏ−クロロアニリン、
１，２，３−トリフェニルグアニジン、ナフチルアミ
ン、ジアミノジフェニルメタン、ｐ，ｐ′−ビス−ジメ
チルアミノジフェニルアミン、１，２−ジアニリノエチ
レン、ｐ，ｐ′，ｐ″−トリス−ジメチルアミノトリフ
ェニルメタン、ｐ，ｐ′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルメチルイミン、ｐ，ｐ′，ｐ″−トリアミノ−ｏ−
メチルトリフェニルメタン、ｐ，ｐ′−ビス−ジメチル
アミノジフェニル−４−アニリノナフチルメタン、ｐ，
ｐ′，ｐ″−トリアミノトリフェニルメタンに代表され
る第１級または第２級アリールアミン系色素が挙げられ
る。
【０１４４】感光性組成物に添加する色素は、感光性組
成物を単に着色するだけの色素であってもよい。このよ
うな目的で使用する色素としては有機系の顔料、例え
ば、フタロシアニン顔料、銅フタロシアニンレーキ青色
顔料、ジオキサジン顔料、スレン系顔料、塩基性染料レ
ーキ顔料を挙げることができるが、好ましくは、フタロ
シアニン顔料、ジオキサジン顔料である。これらの顔料
を用いる場合、系内に均一に分散させるために、分散
剤、例えば、イプシロンカプロラクトン、カチオン性界
面活性剤、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性
剤、ポリウレタン樹脂、ビニール樹脂、不飽和ポリエス
テル等（最新、顔料分散技術〔株式会社 技術情報協会
記載〕）と併用することが好ましい。
【０１４５】上記色素は、感光性成組成物の全固形分中
に通常０．５〜１０重量％含有させ、好ましくは約１〜
７．５重量％含有させる。
【０１４６】（紫外線吸収剤）紫外線吸収剤としては公
知の種々のものを用いることができ、例えばサリチル酸
系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノ
アクリレート系の紫外線吸収剤を挙げることができる。
又、添加量としては感光性組成物の全固形分中０．００
１〜３０重量％が好ましく、より好ましくは、０．０１
〜２０重量％が好ましい。
【０１４７】（塩基性化合物）本発明にはプロトンを捕
捉可能な化合物（以下、塩基性化合物）を用いることも
できる。例えばアミン化合物、シッフ塩基（特に＝ＣＮ
−基を有するもの）、酢酸トリフェニルホスホニウム等
を挙げることができ、具体的には特開平８−１２３０３
０号記載の塩基性窒素含有樹脂、特開平９−５４４３７
号記載の有機塩基性化合物、特開平８−２２１２０号記
載のアミン化合物及び含窒素複素芳香環化合物、特開平
８−２１１５９８号記載のチオスルホネート化合物、特
開平７−２１９２１７号記載の加熱中性化塩基性化合物
（スルホニルヒドラジド化合物）などが挙げられる。な
お加熱中性化塩基性化合物を使用する場合は露光後現像
処理する前に加熱（ポストベイク）することで感度が大
幅に向上する。塩基性化合物は、プロトンを捕捉可能な
化合物であれば上記に示した化合物以外、特に制約無し
に使用することが可能である。これらの塩基性化合物は
単独又は２種以上組み合わせて用いても良い。使用量は
感光層中に０．００１〜１０重量％が好ましく、０．０
１〜５重量％がより好ましい。０．００１％以下では保
存安定性向上、露光後の経時小点再現性低下抑制の効果
がなく、１０重量％以上では感度低下が著しい。
【０１４８】（溶剤）溶剤としては、例えばｎ−プロパ
ノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｓ
ｅｃ−ブタノール、イソブタノール、２−メチル−１−
ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、２−メチル
−２−ブタノール、２−エチル−１−ブタノール、１−
ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、
ｎ−ヘキサノール、２−ヘキサノール、シクロヘキサノ
ール、メチルシクロヘキサノール、１−ヘプタノール、
２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、１−オクタノー
ル、４−メチル−２−ペンタノール、２−ヘキシルアル
コール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，
５−ペンタングリコール、ジメチルトリグリコール、フ
リフリルアルコール、ヘキシレングリコール、ヘキシル
エーテル、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキ
シ−３−メチルブタノール、ブチルフェニルエーテル、
エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプ
ロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエー
テル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ジプロ
ピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレング
リコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブ
チルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、メチルカルビトール、エチルカルビトール、エ
チルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、ト
リエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジアセトンアルコール、アセ
トフェノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノ
ン、アセトニルアセトン、イソホロン、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、炭酸プロピレン、酢酸フェニ
ル、酢酸−ｓｅｃ−ブチル、酢酸シクロヘキシル、シュ
ウ酸ジエチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、γ−
ブチルラクトン、３−メトキシ−１−ブタノール、４−
メトキシ−１−ブタノール、３−エトキシ−１−ブタノ
ール、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、３
−メトキシ−３−エチル−１−ペンタノール、４−エト
キシ−１−ペンタノール、５−メトキシ−１−ヘキサノ
ール、３−ヒドロキシ−２−ブタノン、４−ヒドロキシ
−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ペンタノン、５
−ヒドロキシ−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−３−
ペンタノン、６−ヒドロキシ−２−ペンタノン、４−ヒ
ドロキシ−３−ペンタノン、６−ヒドロキシ−２−ヘキ
サノン、３−メチル−３−ヒドロキシ−２−ペンタノ
ン、メチルセルソルブ（ＭＣ）、エチルセルソルブ（Ｅ
Ｃ）等が挙げられる。
【０１４９】又アリルアルコール、イソプロピルエーテ
ル、ブチルエーテル、アニソール、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、ジエチルカルビトー
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、
アセトン、メチルプロピルケトン、メチルエチルケト
ン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、エチルブチ
ルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、３
−ヒドロキシ−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ブ
タノン、酢酸−２−メトキシエチル、酢酸−２−エトキ
シエチル、酢酸メトキシブチル、プロピオン酸メチル、
プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、酪酸メチ
ル、酪酸エチル、酪酸ブチル、Ｎ−メチル−２−ピロリ
ドン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、ｎ−ペンタ
ン、２−メチルペンタン、３−エチルペンタン、メチル
シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シク
ロヘプタン、ｎ−オクタン、イソオクタン、ノナン、デ
カン、ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレ
ン、ｐ−キシレン、エチルベンゼン、ｏ−ジエチルベン
ゼン、ｍ−ジエチルベンゼン、ｐ−ジエチルベンゼン、
クメン、ｎ−アミルベンゼン、ジメチルジグリコール
（ＤＭＤＧ）、エタノール等が挙げられる。
【０１５０】〔２〕画像形成材料 本発明の画像形成材料は、支持体上に、上記の感光性組
成物を含有する感光層を有してなることを特徴とする。
具体的には、上記の感光性組成物（本発明の条件を満足
する溶剤を含有）の塗布液を適当な支持体の表面に塗布
して感性層を設け、乾燥することで得られる。
【０１５１】支持体としては、アルミニウム、亜鉛、
鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケ
ル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属
板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗
布された紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親
水化処理したプラスチックフィルム等が挙げられる。
【０１５２】本発明を感光性平版印刷版に適用する際、
支持体として砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応
じて封孔処理等の表面処理等が施されているアルミニウ
ム板を用いることが好ましい。これらの処理は公知の方
法を適用できる。
【０１５３】砂目立て処理の方法としては、例えば機械
的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独或いは組合わせて用いることができる。又電解
によりエッチングするには、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸
等の無機の酸を単独乃至２種以上混合した浴を用いて行
われる。砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリ或い
は酸の水溶液によってデスマット処理を行い中和して水
洗する。
【０１５４】陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、ク
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を１種又は２種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
して行われる。形成された陽極酸化皮膜量は１〜５０ｍ
ｇ／ｄｍ2が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍｇ／
ｄｍ2であり、特に好ましくは２５〜４０ｍｇ／ｄｍ2で
ある。陽極酸化皮膜量は、例えばアルミニウム板をリン
酸クロム酸浴液（リン酸８５％液：３５ｍｌ、酸化クロ
ム（IV）：２０ｇを１ｌの水に溶解して作製）に浸漬
し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後の重量変化測
定から求められる。
【０１５５】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。
【０１５６】〔３〕画像形成材料の製造方法 本発明の画像形成材料を製造するには、上記の支持体上
に上記感光性組成物を設けた後、乾燥等の処理を施すこ
とで得られる。
【０１５７】保存安定性向上、露光後の経時小点再現性
低下の抑制には塗布液のｐＨが３．５〜８が好ましく、
より好ましくは４〜６．５である。３．５以下では上記
の効果がなく、又８以上では感度低下が著しい。
【０１５８】測定に際しては、塗布に使用する任意の有
機溶剤、水又は複数の混合溶剤に溶解した感光層塗布液
を固形分１０重量％としたものを調製し、測定装置とし
て東亜電波工業（株）のデジタルｐＨメーターＨＭ−３
０Ｓを用い、測定条件としてｐＨメーターを標準化した
のち、測定すべき塗布液に対し垂直にｐＨメーターの測
定部を下ろし塗布液に２分浸積した際の測定値を塗布液
ｐＨとした。
【０１５９】又、同様の目的で膜面ｐＨ４〜８が好まし
く、より好ましくは膜面ｐＨが５〜７である。
【０１６０】測定に際しては、支持体上に感光層を２ｇ
／ｍ2設置した印刷版を調製し、測定装置として東亜電
波工業（株）デジタルｐＨメーターＨＭ−１８Ｂを用
い、測定条件としてｐＨメーターを標準化したのち、マ
イクロピペットで純水１０μｌを測り取り、測定すべく
得られた印刷版に適下し該水滴に対し垂直にｐＨメータ
ーの測定部を下ろし膜面に設置して２分後の測定値を膜
面ｐＨとした。
【０１６１】塗布方法は従来公知の方法、例えば回転塗
布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可
能である。塗布量は用途により異なるが、例えば、感光
性平版印刷版についていえば固形分として０．５〜５．
０ｇ／ｍ2が好ましい。
【０１６２】本発明の画像形成材料には波長７００ｎｍ
以上の光源を用い画像露光を行うのが好ましい。光源と
しては、半導体レーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＹＡＧ
レーザー、炭酸ガスレーザー等が挙げられる。出力は５
０ｍＷ以上が適当であり、好ましくは１００ｍＷ以上で
ある。
【０１６３】本発明の画像形成材料の現像に用いられる
現像液としては特定の有機溶媒と、アルカリ剤と、水と
を必須成分として含有した液を用いることが好ましい。
ここに特定の有機溶媒とは、現像液中に含有させたとき
上述の感光性組成物層の非露光部（非画線部）を溶解ま
たは膨潤することができ、しかも通常（２０℃）におい
て水に対する溶解度が１０重量％以下の有機溶媒をい
う。このような有機溶媒としては上記のような特性を有
するものでありさえすればよく、以下のもののみに限定
されるものではないが、これらを例示するならば、酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸
ベンジル、エチレングリコールモノブチルアセテート、
乳酸ブチル、レプリン酸ブチル等のカルボン酸エステ
ル、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン類、エチレングリコールモノ
ブチルエーテル、エチレングリコールベンジルエーテ
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ルアルコール、メチルフェニルカルビノール、ｎ−アミ
ルアルコール、メチルアミルアルコール等のアルコール
類、キシレン等のアルキル置換芳香族炭化水素、メチレ
ンジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素などがある。これらの有
機溶媒は一種以上用いてもよい。これらの有機溶媒の中
では、エチレングリコールモノフェニルエーテルとベン
ジルアルコールが特に有効である。またこれら有機溶媒
の現像液中における含有量は、おおむね０．００１〜２
０重量％であり、特に０．０１〜１０重量％のとき好ま
しい結果を得る。
【０１６４】他方、現像液中に含有されるアルカリ剤と
しては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第二また
は第三リン酸のナトリウムまたはアンモニウム塩、メタ
ケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カリウム、アンモニア、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロ
パノールアミン、トリイソプロパノールアミン、エチレ
ンアミン、エチレンジアミン等が挙げられる。
【０１６５】好ましいのはケイ酸カリウム、ケイ酸ナト
リウム、第二リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸カリウム、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンであ
る。アルカリ剤は単独で用いてもよいし、２種以上混合
してもよい。
【０１６６】これらアルカリ剤の現像液中における含有
量は通常０．０５〜８重量％で、好ましくは０．５〜６
重量％である。
【０１６７】また、保存安定性、耐刷性等をより以上に
高めるためには、必要に応じて水溶性亜硫酸塩を現像液
中に含有させることが好ましい。このような水溶性亜硫
酸塩としては、亜硫酸のアルカリまたはアルカリ土類金
属塩が好ましく、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリ
ウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシウム等がある。
これらの亜硫酸塩の現像液組成における含有量は通常
０．０５〜４重量％で、好ましくは０．１〜１重量％で
ある。
【０１６８】また、上述の特定の有機溶媒の水への溶解
を助けるために一定の可溶化剤を含有させることもでき
る。このような可溶化剤としては、用いる特定の有機溶
媒より水易溶性、低分子アルコール、ケトン類を用いる
のがよい。また、アニオン系界面活性剤、両性界面活性
剤等も用いることができる。このようなアルコール、ケ
トン類としては例えばメタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、メトキシブタノール、エト
キシブタノール、４−メトキシメチルブタノール、Ｎ−
メチルピロリドン等を用いることが好ましい。また、界
面活性剤としては例えばイソプロピルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、ｎ−ブチルナフタレンスルホン酸ナト
リウム、Ｎ−メチル−Ｎ−ペンタデシルアミノ酢酸ナト
リウム、ラウリルサルフェートナトリウム塩等が好まし
い。これらアルコール、ケトン類等の可溶化剤の使用量
について特に制限はないが、一般に現像液全体に対し約
３０重量％以下とすることが好ましい。又、特開昭５７
−７４２７号、特公昭５７−７４２７号記載の現像液、
現像補充液の使用も好適である。
【０１６９】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。尚、以下に
表す「部」は「重量部」を表す。
【０１７０】（支持体の作製）厚さ０．３ｍｍのアルミ
ニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃に保た
れた５％水酸化ナトリウム水溶液で１分間脱脂処理を行
った後水洗し、２５℃に保たれた１０％硫酸水溶液中に
１分間浸積して中和し、更に水洗した。このアルミニウ
ム板を１．０重量％の硝酸水溶液中において、温度２５
℃、電流密度１０Ａ／ｄｍ2、処理時間６０秒の条件で
交流電流により電解粗面化を行なった。
【０１７１】次いで、５％水酸化ナトリウム水溶液中で
温度６０℃、１０秒間のデスマット処理を行ない、その
後、２０％硫酸溶液中で温度２０℃、電流密度３Ａ／ｄ
ｍ2、処理時間１分間の条件で陽極酸化処理を行った。
その後、８０℃に保たれた１％酢酸アンモニウム水溶液
中に３０秒間浸積し、水洗後８０℃で３分間乾燥した。
更に、８５℃に保たれたカルボキシメチルセルロース
（ＣＭＣと以下略す）の水溶液（濃度０．１重量％）に
３０秒間浸積した後、８０℃で５分間乾燥し支持体を作
製した。
【０１７２】（酸分解化合物Ａの合成）１．１−ジメト
キシシクロヘキサノン（０．５モル）、フェニルセロソ
ルブ（１．０モル）及びｐ−トルエンスルホン酸８０ｍ
ｇを混合し、攪拌しながら１２０℃で８時間反応した。
反応により生成するメタノール及び反応溶剤は反応終了
後除去した。冷却後、水で洗浄後水酸化ナトリウム溶液
で洗浄し、その後中性になるまで飽和食塩水で洗浄し、
得られた化合物を無水炭酸カリウムで脱水した後濃縮乾
固して、目的の下記酸分解物Ａの白色結晶を得た。
【０１７３】実施例１（タイプ〈１〉） （感光性組成物１の作製 ポジ型）以下に示すような割
合で混合し感光性組成物とした。
【０１７４】 バインダーＡ（フェノールとｍ−，ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒド との共縮合化合物）Ｍｗ＝２５００（フェノール／ｍ−クレゾール／ ｐ−クレゾールのモル比が２０／４８／３２） ６０．７５部 バインダーＢ（表１参照） １５部 酸分解化合物Ａ ２０部 酸発生剤（例示（１）） ３部 シアニン色素（例示ＩＲ−４８） １部 界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５部 溶剤（ＰＧＭ） １０００部
【０１７５】
【化２８】
【０１７６】（画像形成材料の作製）前記作製した支持
体上に、上記組成の感光性組成物１よりなる感光層塗布
液を、乾燥後の膜厚が２．０ｇ／ｍ2になるようにワイ
ヤーバー塗布を行ない９５℃で９０秒間乾燥して画像形
成材料１（感光性平版印刷版）を得た。
【０１７７】 （感光性組成物２の作製 ネガ型） バインダーＡ ５０部 バインダーＢ １０部 酸架橋型樹脂：レゾール樹脂 （昭和高分子社製 ショーノールＣＫＰ−９１８） ３５．７５部 酸発生剤（例示（１）） ３部 シアニン色素（例示ＩＲ−２５） １部 界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５部 溶剤（ＰＧＭ） １０００部
【０１７８】
【表１】
【０１７９】※：重量平均分子量 （画像形成材料の作製）上記の如く得られた支持体上
に、上記組成の感光性組成物２よりなる感光層塗布液を
画像形成材料１同様に処理し画像形成材料２を得た。
【０１８０】得られた画像形成材料１及び２に以下の画
像形成を行った後、評価した。
【０１８１】（画像形成）得られた感光性平版印刷版１
を半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、出力５００ｍｗ）
で画像露光を行なった。レーザー光径はピークにおける
強度の１／ｅ2で１３μｍであった。又、解像度は走査
方向、副走査方向とも２０００ｄｐｉとした。画像露光
後、コニカ平版印刷版用現像液ＳＤＲ−１（コニカ
（株）製）と水との比が１：５となるよう希釈した。そ
の後３０℃に保った現像液に３０秒間浸積して現像を行
なった後、水洗、乾燥を行なった。この際、非画線部
（露光部）を除去し、ポジ型画像を形成する。又感光性
平版印刷版２も同様にして画像露光を行ない、画線部
（未露光部）を除去し、ネガ型画像を形成する。
【０１８２】〈評価〉以下の感度は、上記条件において
露光部が現像されるのに必要な露光エネルギー（ｍｊ／
ｃｍ2）で評価した。
【０１８３】（現像液ラチチュード）画像形成した平版
印刷版を、現像液の希釈条件をＳＤＲ−１：水＝１：
３，１：５（通常条件），１：９とし上記同様な現像条
件で現像し、非画線部の感度及び地汚れを評価した。地
汚れは以下の評価基準により評価した。
【０１８４】 ○・・・非画像部に汚れが生じない △・・・非画像に若干の残膜がある ×・・・非画像部の汚れが目立ち、現像しても除去でき
ない。
【０１８５】（保存性）保存性（感度変動防止、即ち保
存による感度変動）については、露光現像処理する前の
版を５５℃／２０％ＲＨ，高湿下条件で強制劣化４０℃
／８０％ＲＨの条件下で恒温槽（ＴＡＢＩ ＥＳＰＥＣ
ＣＯＲＰ社製）に３日間投入した後上記と同じように
露光、現像を行いその時の非画線部の抜け性により保存
後の現像性の評価とした。
【０１８６】 ○・・・画像部に侵食がない状態で非画線部が抜ける △・・・非画線部にやや感光層が付着 ×・・・非画線部が現像で抜けない部分がある。
【０１８７】（耐薬品性）得られた画像をウルトラプレ
ートクリーナー（大日精化（株）製）の原液にそれぞれ
１５分、６０分、９０分間浸漬させた後、水洗し、浸漬
前の画像部（画線部）との比較を以下の評価基準で目視
にて評価を行った。
【０１８８】 ５：画像部の侵食がない状態 ４：画像部の侵食が部分的に僅かに有る ３：画像部の侵食が僅かに有るが感光層下の支持体の砂
目の露出なし ２：画像部の侵食が有り、感光層下の支持体の砂目がや
や露出状態 １：画像部の侵食が著しく、感光層下の支持体の砂目が
完全に露出の状態。
【０１８９】又、表２のようにバインダーを変えて画像
形成材料３〜１０を作製し、上記と同様にして画像形成
し、評価を行った。得られた結果を以下の表２に示す。
【０１９０】
【表２】
【０１９１】表２の結果から明らかなように、ＳＰ値が
１３以上の不飽和基を含有するモノマー成分ユニットを
含む高分子重合体を有してなるポジ型或いはネガ型の画
像形成材料１〜６は、赤外線による露光で画像形成が可
能であるのみならず赤外線に対する感度が高く、かつ良
好な現像性及び耐薬品性を有することが分かる。
【０１９２】実施例２（タイプ〈２〉） （感光性組成物１の作製 ポジ型）以下に示すような割
合で混合し感光性組成物とした。
【０１９３】 バインダーＡ ６０．７５部 バインダーＦ（表１及び表３参照） １５部 酸分解化合物Ａ ２０部 酸発生剤（例示（１）） ３部 シアニン色素（例示ＩＲ−４８） １部 界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５部 溶剤（ＰＧＭ） １０００部 （画像形成材料の作製）実施例１で作製した支持体上
に、上記組成の感光性組成物１よりなる感光層塗布液
を、乾燥後の膜厚が２．０ｇ／ｍ2になるようにワイヤ
ーバー塗布を行ない９５℃で９０秒間乾燥して画像形成
材料１（感光性平版印刷版）を得た。
【０１９４】 （感光性組成物２の作製 ネガ型） バインダーＡ ５０部 バインダーＦ（表１及び表３参照） １０部 酸架橋型樹脂：レゾール樹脂 ３５．７５部 （昭和高分子社製 ショーノールＣＫＰ−９１８） 酸発生剤（例示（１）） ３部 シアニン色素（例示ＩＲ−２５） １部 界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５部 溶剤（ＰＧＭ） １０００部
【０１９５】
【表３】
【０１９６】（画像形成材料の作製）実施例１で作製し
た支持体上に、上記組成の感光性組成物２よりなる感光
層塗布液を画像形成材料１同様に処理し画像形成材料２
を得た。
【０１９７】又、表４のようにバインダーを変えて画像
形成材料３〜１０を作製し、実施例１同様に画像形成
し、評価を行った。得られた結果を以下の表４に示す。
【０１９８】
【表４】
【０１９９】表４の結果から明らかなように、双極子モ
ーメントを３．０以上と３．０未満のモノマー単位を有
し、かつ計算式（１）により求められるＹが１．８〜
４．０の範囲の高分子重合体を有してなるポジ型或いは
ネガ型の画像形成材料１〜６は、赤外線による露光で画
像形成が可能であるのみならず赤外線に対する感度が高
く、かつ良好な現像性及び耐薬品性を有することが分か
る。
【０２００】実施例３（タイプ〈３〉） （感光性組成物１の作製 ポジ型）以下に示すような割
合で混合し感光性組成物とした。
【０２０１】 バインダーＡ ６０．７５部 バインダーＬ（表１参照） １５部 酸分解化合物Ａ ２０部 酸発生剤（例示（１）） ３部 シアニン色素（例示ＩＲ−４８） １部 界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５部 溶剤（ＰＧＭ） １０００部 （画像形成材料の作製）実施例１で作製した支持体上
に、上記組成の感光性組成物１よりなる感光層塗布液
を、乾燥後の膜厚が２．０ｇ／ｍ2になるようにワイヤ
ーバー塗布を行ない９５℃で９０秒間乾燥して画像形成
材料１（感光性平版印刷版）を得た。
【０２０２】 （感光性組成物２の作製 ネガ型） バインダーＡ ５０部 バインダーＬ（表１参照） １０部 酸架橋型樹脂：レゾール樹脂 ３５．７５部 （昭和高分子社製 ショーノールＣＫＰ−９１８） 酸発生剤（例示（１）） ３部 シアニン色素（例示ＩＲ−２５） １部 界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５部 溶剤（ＰＧＭ） １０００部 （画像形成材料の作製）実施例１で作製した支持体上
に、上記組成の感光性組成物２よりなる感光層塗布液を
画像形成材料１同様に処理し画像形成材料２を得た。
【０２０３】又、表５のようにバインダーを変えて画像
形成材料３〜１４を作製し、実施例１同様に画像形成
し、評価を行った。得られた結果を以下の表５に示す。
【０２０４】
【表５】
【０２０５】表５の結果から明らかなように、アミド基
を含有する高分子重合体を有してなるポジ型或いはネガ
型の画像形成材料１〜１０は、赤外線による露光で画像
形成が可能であるのみならず赤外線に対する感度が高
く、かつ良好な現像性及び耐薬品性を有することが分か
る。
【０２０６】実施例４（タイプ〈４〉） （感光性組成物１の作製 ポジ型）以下に示すような割
合で混合し感光性組成物とした。
【０２０７】 バインダーＡ ６０．７５部 バインダーＫ（表１参照） １５部 酸分解化合物Ａ ２０部 酸発生剤（例示（１）） ３部 シアニン色素（例示ＩＲ−４８） １部 界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５部 溶剤（ＰＧＭ） １０００部 （画像形成材料の作製）実施例１で作製した支持体上
に、上記組成の感光性組成物１よりなる感光層塗布液
を、乾燥後の膜厚が２．０ｇ／ｍ2になるようにワイヤ
ーバー塗布を行ない９５℃で９０秒間乾燥して画像形成
材料１（感光性平版印刷版）を得た。
【０２０８】 （感光性組成物２の作製 ネガ型） バインダーＡ ５０部 バインダーＫ（表１参照） １０部 酸架橋型樹脂：レゾール樹脂 ３５．７５部 （昭和高分子社製 ショーノールＣＫＰ−９１８） 酸発生剤（例示（１）） ３部 シアニン色素（例示ＩＲ−２５） １部 界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５部 溶剤（ＰＧＭ） １０００部 （画像形成材料の作製）実施例１で作製した支持体上
に、上記組成の感光性組成物２よりなる感光層塗布液を
画像形成材料１同様に処理し画像形成材料２を得た。
【０２０９】又、表６のようにバインダーを変えて画像
形成材料３〜６を作製し、実施例１同様に画像形成し、
評価を行った。得られた結果を以下の表６に示す。
【０２１０】
【表６】
【０２１１】表６の結果から明らかなように、酸価が５
以下の高分子重合体を有してなるポジ型或いはネガ型の
画像形成材料１、２は、赤外線による露光で画像形成が
可能であるのみならず優れた保存性（長期保存時の感度
変動防止）を有することが分かる。又赤外線に対する感
度が高く、かつ良好な現像性及び耐薬品性も有すること
が分かる。
【０２１２】実施例５（タイプ〈５〉） （感光性組成物１の作製 ポジ型）以下に示すような割
合で混合し感光性組成物とした。
【０２１３】 バインダーＡ ６０．７５部 バインダーＭ（表１参照） １５部 酸分解化合物Ａ ２０部 酸発生剤（例示（１）） ３部 シアニン色素（例示ＩＲ−４８） １部 界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５部 溶剤（ＰＧＭ） １０００部 （画像形成材料の作製）実施例１で作製した支持体上
に、上記組成の感光性組成物１よりなる感光層塗布液
を、乾燥後の膜厚が２．０ｇ／ｍ2になるようにワイヤ
ーバー塗布を行ない９５℃で９０秒間乾燥して画像形成
材料１（感光性平版印刷版）を得た。
【０２１４】 （感光性組成物２の作製 ネガ型） バインダーＡ ５０部 バインダーＭ（表１参照） １０部 酸架橋型樹脂：レゾール樹脂 ３５．７５部 （昭和高分子社製 ショーノールＣＫＰ−９１８） 酸発生剤（例示（１）） ３部 シアニン色素（例示ＩＲ−２５） １部 界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５部 溶剤（ＰＧＭ） １０００部 （画像形成材料の作製）実施例１で作製した支持体上
に、上記組成の感光性組成物２よりなる感光層塗布液を
画像形成材料１同様に処理し画像形成材料２を得た。
【０２１５】又、表７のようにバインダーを変えて画像
形成材料３〜６を作製し、実施例１同様に画像形成し、
評価を行った。得られた結果を以下の表７に示す。
【０２１６】
【表７】
【０２１７】表７の結果から明らかなように、アミノ基
を含む高分子重合体を有してなるポジ型或いはネガ型の
画像形成材料１、２は、赤外線による露光で画像形成が
可能であるのみならず優れた保存性（長期保存時の感度
変動防止）を有することが分かる。又赤外線に対する感
度が高く、かつ良好な現像性及び耐薬品性も有すること
が分かる。
【０２１８】
【発明の効果】本発明の感光性組成物により、赤外線に
よる露光で画像形成が可能で、赤外線に対する感度が高
く、かつ良好な現像性及び耐薬品性を有する、或いは長
期の保存後における感度変動のない生保存性を有するポ
ジ型或いはネガ型の画像形成材料を提供することができ
るという顕著に優れた効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/033 Ｇ０３Ｆ 7/033 7/038 ５０１ 7/038 ５０１

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 活性光線の照射により酸を発生し得る化
    合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物、赤外
    吸収剤及び溶解度パラメーター（ＳＰ値）が１３以上の
    不飽和基含有重合性モノマー成分ユニットを含む高分子
    重合体を有してなることを特徴とする感光性組成物。
  2. 【請求項２】 活性光線の照射により酸を発生し得る化
    合物、酸により架橋し得る基を有する化合物、赤外吸収
    剤及び溶解度パラメーター（ＳＰ値）が１３以上の不飽
    和基含有重合性モノマー成分ユニットを含む高分子重合
    体を有してなることを特徴とする感光性組成物。
  3. 【請求項３】 活性光線の照射により酸を発生し得る化
    合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物、赤外
    吸収剤及び下記の高分子重合体を有してなることを特徴
    とする感光性組成物。 高分子重合体：（ａ）双極子モーメントが３．０Ｄ以上
    のモノマー単位と、（ｂ）双極子モーメントが３．０Ｄ
    未満のモノマー単位の各々を少なくとも１種含有し、か
    つ下記計算式（１）により求められるＹが１．８〜４．
    ０の範囲である。 計算式（１） Ｙ ＝ Σμａ×Ｍａ／１００＋Σμｂ×Ｍｂ／１００ （μａ＝上記（ａ）のモノマー単位の双極子モーメン
    ト，μｂ＝上記（ｂ）のモノマー単位の双極子モーメン
    ト，Ｍａ＝上記（ａ）のモノマー単位のｍｏｌ％比率，
    Ｍｂ＝上記（ｂ）のモノマー単位のｍｏｌ％比率を表
    す。）
  4. 【請求項４】 活性光線の照射により酸を発生し得る化
    合物、酸により架橋し得る基を有する化合物、赤外吸収
    剤及び下記の高分子重合体を有してなることを特徴とす
    る感光性組成物。 高分子重合体：（ａ）双極子モーメントが３．０Ｄ以上
    のモノマー単位と、（ｂ）双極子モーメントが３．０Ｄ
    未満のモノマー単位の各々を少なくとも１種含有し、か
    つ下記計算式（１）により求められるＹが１．８〜４．
    ０の範囲である。 計算式（１） Ｙ ＝ Σμａ×Ｍａ／１００＋Σμｂ×Ｍｂ／１００ （μａ＝上記（ａ）のモノマー単位の双極子モーメン
    ト，μｂ＝上記（ｂ）のモノマー単位の双極子モーメン
    ト，Ｍａ＝上記（ａ）のモノマー単位のｍｏｌ％比率，
    Ｍｂ＝上記（ｂ）のモノマー単位のｍｏｌ％比率を表
    す。）
  5. 【請求項５】 活性光線の照射により酸を発生し得る化
    合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物、赤外
    吸収剤及びアミド基を含有する高分子重合体を有してな
    ることを特徴とする感光性組成物。
  6. 【請求項６】 前記高分子重合体が更にフェノール性ヒ
    ドロキシ基を有してなることを特徴とする請求項５記載
    の感光性組成物。
  7. 【請求項７】 前記高分子重合体の全量に対するアミド
    基を含有するユニットの含有率が５以上５０重量％以下
    であり、かつフェノール性ヒドロキシ基を含有するユニ
    ットの含有率が１０以上８０重量％以下であることを特
    徴とする請求項６記載の感光性組成物。
  8. 【請求項８】 重量平均分子量（Ｍｗ）が１０4以上１
    ０7以下の高分子重合体を有してなることを特徴とする
    請求項５乃至７の何れか１項記載の感光性組成物。
  9. 【請求項９】 重量平均分子量（Ｍｗ）が１０4以上５
    ×１０4以下の高分子重合体と、同分子量（Ｍｗ）が１
    ０5以上１０7以下の高分子重合体とを有してなることを
    特徴とする請求項５乃至７の何れか１項記載の感光性組
    成物。
  10. 【請求項１０】 前記高分子重合体がメタクリルアミド
    及び以下の一般式（ａ）乃至（ｈ）で表される化合物か
    ら選ばれる少なくとも１種を有してなることを特徴とす
    る請求項５乃至９の何れか１項記載の感光性組成物。 【化１】 〔式中、Ｒは水素原子、フェニル基又はアルキル基であ
    り、Ｒ1、Ｒ2及びＲ３は同一又は異なってもよく、水素
    原子、アルキル基、スルホアミノ基、ハロゲン原子、ア
    ルコキシカルボニル基、カルボニル基、アリール基、ア
    シロキシ基、アラルキル基、アリールオキシ基、アクリ
    ロイル基、アシル基、アミノカルボニル基、アルコキシ
    基を表し、Ｘはエーテル基、エステル基、アルキル基、
    アリール基、アシロキシ基、アミド基、スルホアミド
    基、アミノ基、アルキルエーテル基、アリールオキシ基
    を表し、Ａは芳香族を表す。〕
  11. 【請求項１１】 活性光線の照射により酸を発生し得る
    化合物、酸により架橋し得る基を有する化合物、赤外吸
    収剤及びアミド基を含有する高分子重合体を有してなる
    ことを特徴とする感光性組成物。
  12. 【請求項１２】 前記高分子重合体が更にフェノール性
    ヒドロキシ基を有してなることを特徴とする請求項１１
    記載の感光性組成物。
  13. 【請求項１３】 前記高分子重合体の全量に対するアミ
    ド基を含有するユニットの含有率が５以上５０重量％以
    下であり、かつフェノール性ヒドロキシ基を含有するユ
    ニットの含有率が１０以上８０重量％以下であることを
    特徴とする請求項１２記載の感光性組成物。
  14. 【請求項１４】 重量平均分子量（Ｍｗ）が１０４以上
    １０7以下の高分子重合体を有してなることを特徴とす
    る請求項１１乃至１３の何れか１項記載の感光性組成
    物。
  15. 【請求項１５】 重量平均分子量（Ｍｗ）が１０4以上
    ５×１０4以下の高分子重合体と、同分子量（Ｍｗ）が
    １０5以上１０7以下の高分子重合体とを有してなること
    を特徴とする請求項１１乃至１４の何れか１項記載の感
    光性組成物。
  16. 【請求項１６】 前記高分子重合体がメタクリルアミド
    及び上記の一般式（ａ）乃至（ｈ）で表される化合物か
    ら選ばれる少なくとも１種を有してなることを特徴とす
    る請求項１１乃至１５の何れか１項記載の感光性組成
    物。
  17. 【請求項１７】 活性光線の照射により酸を発生し得る
    化合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物、赤
    外吸収剤及び酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）が５以下の高分子
    重合体を有してなることを特徴とする感光性組成物。
  18. 【請求項１８】 活性光線の照射により酸を発生し得る
    化合物、酸により架橋し得る基を有する化合物、赤外吸
    収剤及び酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）が５以下の高分子重合
    体を有してなることを特徴とする感光性組成物。
  19. 【請求項１９】 活性光線の照射により酸を発生し得る
    化合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物、赤
    外吸収剤及びアミノ基を含む高分子重合体を有してなる
    ことを特徴とする感光性組成物。
  20. 【請求項２０】 活性光線の照射により酸を発生し得る
    化合物、酸により架橋し得る基を有する化合物、赤外吸
    収剤及びアミノ基を含む高分子重合体を有してなること
    を特徴とする感光性組成物。
  21. 【請求項２１】 前記高分子重合体がアクリル系高分子
    を含有してなることを特徴とする請求項１乃至２０の何
    れか１項記載の感光性組成物。
  22. 【請求項２２】 支持体上に、請求項１乃至２１の何れ
    か１項記載の感光性組成物を含有する感光層を設けてな
    ることを特徴とする画像形成材料。
  23. 【請求項２３】 前記支持体がアルミニウム板であるこ
    とを特徴とする請求項２２記載の画像形成材料。
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