JP2001201631A

JP2001201631A - 偏光板用保護フィルム及びそれを用いる偏光板

Info

Publication number: JP2001201631A
Application number: JP2000007674A
Authority: JP
Inventors: Toru Kobayashi; 徹小林; Koichi Nagayasu; 浩一永安; Takashi Murakami; 隆村上
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2000-01-17
Filing date: 2000-01-17
Publication date: 2001-07-27

Abstract

(57)【要約】【課題】優れた帯電防止能を有し、且つ、ＰＶＡ偏光
子膜との接着性が良好な偏光板用保護フィルム及びそれ
を用いることにより、液晶異常表示のない偏光板を提供
する。【解決手段】樹脂フィルム上に、導電性材料を含有す
る導電性層を有する偏光板用保護フィルムにおいて、該
導電性層の表面比抵抗が１０¹¹Ω／ｃｍ（２３℃、５５
％ＲＨ）以下であり、且つ、該導電性層が易接着機能を
有することを特徴とする偏光板用保護フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は偏光板用保護フィル
ム及びそれを用いる偏光板に関する。

【０００２】

【従来の技術】染色一軸延伸されたポリビニルアルコー
ル膜（ＰＶＡ膜）の偏光子に、セルローストリアセテー
トフィルムを保護フィルムとして貼り合わせた偏光板
は、広く液晶表示素子として、パソコンや液晶テレビ、
電卓や電化製品、時計等の表示部、自動車のナビゲータ
ー等の高精細表示体に広く利用されている。

【０００３】最も広く保護フィルムとして使用されてい
るセルローストリアセテートフィルムの場合、予めアル
カリ液で表面のケン化処理を行い、しかる後にポリビニ
ルアルコール系接着剤等で積層し偏光フィルムとしてい
る。しかし、上記アルカリ処理は高濃度アルカリ液を使
用するため、作業安全上又環境保全の上で好ましくな
く、更にアルカリ処理によって、可塑剤のブリードアウ
トや、ヘイズが高くなるなど品質を落とすおそれがあ
る。又、アルカリ処理の前に帯電防止加工や、ハードコ
ート加工更には反射防止加工などの機能性付与の加工を
行うと、アルカリ処理によってその効果が減殺されるた
め、保護フィルムの機能性付与はアルカリ処理後に限定
される等の問題がある。

【０００４】一方、特開平６−９４９１５号、同６−１
１８２３２号、同７−３３３４３６号にはアルカリ処理
を施さなくて良い偏光板用保護フィルムの作製について
記載されている。即ち、偏光子と接着される面にある種
の親水性高分子化合物を含有する層を設ける方法であ
る。しかし、これは表面比抵抗値が高く、偏光板製造工
程において、偏光板用保護フィルムが静電気を帯びやす
くゴミやフィルムの切り粉等が保護フィルム表面に付着
しやすく、偏光子と貼合せた時、異物欠陥として視認性
を損なうことがあった。

【０００５】又、ポリビニルアルコール系接着剤を用い
て偏光子と貼合する際、双方の界面において、微細な泡
が発生したりして貼合面に微細な異物状故障となって現
れることが分かった。これらの欠陥は、視認性を大いに
損なうとともに偏光板製造工程において、著しく収率を
おとすことが判った。これらを改善することが大きな課
題であり、その課題の解決が要望されていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、優れ
た帯電防止能を有し、且つ、ＰＶＡ偏光子膜との接着性
が良好な偏光板用保護フィルム及びそれを用いることに
より、液晶異常表示のない偏光板を提供することであ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は下記
の項目１〜１５によって達成された。

【０００８】１．樹脂フィルム上に、導電性材料を含有
する導電性層を有する偏光板用保護フィルムにおいて、
該導電性層の表面比抵抗が１０¹¹Ω／ｃｍ（２３℃、５
５％ＲＨ）以下であり、且つ、該導電性層が易接着機能
を有することを特徴とする偏光板用保護フィルム。

【０００９】２．導電性層が親水性高分子化合物（ａ）
の少なくとも１種を含有する層（１）、またはゼラチン
またはゼラチン誘導体の少なくとも１種とセルロースエ
ステルを含有する層（２）を有し、且つ、導電性材料が
該層（１）または該層（２）に含有されることを特徴と
する前記１に記載の偏光板用保護フィルム。

【００１０】３．樹脂フィルムの少なくとも片面に下記
一般式〔１〕または〔２〕で表される−ＣＯＯＭ基含有
高分子化合物、親水性高分子化合物（ａ）、ゼラチンま
たはゼラチン誘導体を含有する層を有することを特徴と
する前記１または２に記載の偏光板用保護フィルム。

【００１１】

【化２】

【００１２】式中、Ａはビニル単量体が重合して生成す
る繰り返し単位、Ｂは水素原子、−ＣＯ−ＯＭまたは−
ＣＯ−Ｒを表し、Ｍは水素原子またはカチオンを表し、
ｚ＝０のとき、Ｂは水素原子である。Ｒは−Ｏ−Ｒ′ま
たは−Ｎ（Ｒ′）（Ｒ″）を表し、ここでＲ′はアルキ
ル基、アラルキル基、アリール基、複素環残基または
Ｒ″と共同して複素環を形成するに必要な非金属原子を
表し、Ｒ″は水素原子、低級アルキル基またはＲ′と共
同して複素環を形成するに必要な非金属原子を表し、Ｒ
₁及びＲ₂は各々、水素原子または低級アルキル基を表
し、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−または−Ｏ−ＣＯ−を表し、Ｒ₃
はハロゲン置換アルキル基またはハロゲン置換アルキル
オキシアルキル基を表し、ｍ、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙ及び
ｚは各々、各単量体のモル％を示す値であって、ｍ及び
ｘは各々、０〜６０、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙ及びｚは各
々、０〜１００であり、ｍ＋ｐ＋ｑ＋ｒ＝１００、ｘ＋
ｙ＋ｚ＝１００である。

【００１３】４．親水性高分子化合物（ａ）がポリビニ
ルアルコール誘導体、親水性セルロース誘導体または天
然高分子であることを特徴とする前記２または３に記載
の偏光板用保護フィルム。

【００１４】５．導電性材料がイオン性高分子化合物を
主成分とする前記１から４のいずれか１項に記載の偏光
板用保護フィルム。

【００１５】６．導電性材料がＳｎ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ａ
ｌ、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ及びＶからなる
群から選ばれた元素を主成分として含有し、且つその体
積抵抗率が１０⁷Ω・ｃｍ以下である金属酸化物である
ことを特徴とする前記１〜５のいずれか１項に記載の偏
光板用保護フィルム。

【００１６】７．金属酸化物の一次粒子サイズが０．２
μｍ以下であることを特徴とする前記６に記載の偏光板
用保護フィルム。

【００１７】８．導電性層が平均粒径が５．０μｍ以下
の微粒子を含有していることを特徴とする前記１〜７に
記載の偏光板用保護フィルム。

【００１８】９．樹脂フィルム上に導電性層を有する面
のもう一方の面上に、カール防止層を有し、且つ、該カ
ール防止層が溶剤を含む組成物から成ることを特徴とす
る前記１〜８のいずれか１項に記載の偏光板用保護フィ
ルム。

【００１９】１０．層（１）または層（２）が架橋剤を
含有することを特徴とする前記２〜９のいずれか１項に
記載の偏光板用保護フィルム。

【００２０】１１．樹脂フィルム上に導電性層を有する
面のもう一方の面上に、親水性高分子化合物（ａ）の少
なくとも一種を含有する層またはゼラチンまたはゼラチ
ン誘導体の少なくとも１種とセルロースエステルを含有
する層を有することを特徴とする前記１〜１０のいずれ
か１項に記載の偏光板用保護フィルム。

【００２１】１２．親水性高分子化合物（ａ）がポリビ
ニルアルコール誘導体、親水性セルロース誘導体または
天然高分子であり、且つ、セルロースエステルがセルロ
ーストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロ
ースアセテートプロピオネートまたはセルロースアセテ
ートブチレートである事を特徴とする前記２、３、４ま
たは１１に記載の偏光板用保護フィルム。

【００２２】１３．樹脂フィルムがセルロースエステル
フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステルフ
ィルムまたはポリアクリレートフィルムであり、且つ、
該樹脂フィルムの光線透過率が８５％以上であることを
特徴とする前記１〜１２のいずれか１項に記載の偏光板
用保護フィルム。

【００２３】１４．樹脂フィルムがセルロースエステル
を含むことを特徴とする前記１〜１３のいずれか１項に
記載の偏光板用保護フィルム。

【００２４】１５．前記１〜１４のいずれか１項に記載
の偏光板用保護フィルムを用いたことを特徴とする偏光
板。

【００２５】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
偏光板用保護フィルムにおいては、樹脂フィルム上に、
導電性材料を含有し、表面比抵抗が１０¹¹Ω／ｃｍ以下
（２３℃、５５％ＲＨ）である導電性層を設けて帯電防
止機能を付与し、更に、導電性層に易接着機能を付与し
て、偏光板作製時の偏光子やその他の構成層との接着性
を向上させたので、その結果、貼り合わせ時の静電気に
よるゴミ、フィルムの切り粉等の付着による異物欠陥の
発生が減少し、且つ、偏光板の液晶の異常表示が減少し
た。

【００２６】本発明に係る樹脂フィルムについて説明す
る。本発明に係る樹脂フィルムとしては、例えば、セル
ロースエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、
ポリエステルフィルム及びポリアクリレートフィルム等
が好ましく用いられる。

【００２７】更に、液晶画面の明るさを向上させる等の
観点から、樹脂フィルムの光線透過率が８５％以上であ
ることが好ましい。

【００２８】本発明において、光線透過率の測定は、島
津製作所（株）製ＭＰＳ−２０００を用い、波長５００
ｎｍで測定した。

【００２９】また、成型時に十分な機械的強度を持たせ
る観点から、本発明に係る樹脂フィルムの数平均分子量
は、７００００〜３０００００の範囲が好ましく、更に
好ましくは、８００００〜２０００００である。

【００３０】本発明の偏光板用保護フィルムに係る導電
性層に偏光子及び／または、その他の構成層などに対す
る易接着性機能を付与するためには、例えば、前記導電
性層が親水性高分子化合物（ａ）の少なくとも１種を含
有する層（１）、またはゼラチンまたはゼラチン誘導体
の少なくとも１種とセルロースエステルを含有する層
（２）を有することが好ましく、また、導電性材料は前
記の層（１）または層（２）に含有されることが好まし
い。

【００３１】親水性高分子化合物（ａ）としては好まし
くは、親水性セルロース誘導体（例えば、メチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシセルロ
ース等）、ポリビニルアルコール誘導体（例えば、ポリ
ビニルアルコール、酢酸ビニルービニルアルコール共重
合体、ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、
ポリビニルベンザール等）、天然高分子化合物（例え
ば、ゼラチン、カゼイン、アラビアゴム等）、親水性ポ
リエステル誘導体（例えば、部分的にスルホン化された
ポリエチレンテレフタレート等）、親水性ポリビニル誘
導体（例えば、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリアク
リルアミド、ポリビニルインダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等）が挙げられ、中でも、親水性セルロース誘導
体、ポリビニルアルコール誘導体、天然高分子化合物等
が更に好ましく用いられる。上記の誘導体は、もちろ
ん、単独あるいは２種以上併用して用いることができ
る。

【００３２】セルロースエステルとしては、セルロース
トリアセテート、セルロースジアセテート、セルロース
アセテートプロピオネートまたはセルロースアセテート
ブチレートが好ましく用いられる。

【００３３】また、本発明の偏光板用保護フィルムにお
いては、樹脂フィルムの少なくとも片面に上記記載の一
般式〔１〕または〔２〕で表される−ＣＯＯＭ基含有高
分子化合物、上記記載の親水性高分子化合物（ａ）また
は上記記載のゼラチンまたはゼラチン誘導体の少なくと
も１種を含有する層を有することにより、偏光板用保護
フィルムの偏光子やその他偏光板構成層との接着性を向
上させることが出来る。

【００３４】上記記載の一般式〔１〕及び〔２〕におい
て、Ａで表される繰り返し単位を生成するビニル単量体
としては、例えば、スチレン、ニトロ基、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子、クロロメチル基、低級アルキル基
（低級とは炭素原子数１〜５を表す）等で置換されたス
チレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテ
ル、ビニルクロロエチルエーテル、酢酸ビニル、クロロ
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリル酸、メタク
リル酸またはイタコン酸等の不飽和酸、アクリル酸若し
くはメタクリル酸のアルキルエステル（該アルキル基は
炭素数１〜５の、非置換アルキル基または塩素原子、フ
ェニル基等で置換したアルキル基）、アクリル酸若しく
はメタクリル酸のフェニルエステル（該フェニル基は非
置換フェニル基または塩素原子、フェニル基等で置換し
たフェニル基）、アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、エチレン、アクリルアミド、炭素数１〜５
のアルキル基あるいは塩素、フェニル基等で置換したア
クリルアミド、ビニルアルコール、クリシジルアクリレ
ート、アクロレイン等があり、好ましくはスチレン、置
換基を有するスチレン、酢酸ビニル、ビニルメチルエー
テル、アルキルアクリレート、アクリロニトリル等が挙
げられる。

【００３５】Ｒ′で表されるアルキル基としては、炭素
数１〜２４のものが好ましく、直鎖アルキル基、分岐ア
ルキル基及びシクロアルキル基のいずれでもよく、また
該アルキル基は置換基を有していてもよい。

【００３６】前記の置換基としてはヒドロキシル基、ヒ
ドロキシカルボニル基、−ＣＯＯＭ′（Ｍ′はカチオン
を表す）基等で、特にフッ素原子のようなハロゲン原子
で置換された炭素数２〜１８のハロゲン置換アルキル基
または炭素数２〜１８のハロゲン置換アルキルオキシア
ルキル基が接着性向上の観点から好ましく用いられる。
該ハロゲン置換アルキル基及び該ハロゲン置換アルキル
オキシアルキル基に置換されたハロゲン原子数は望まし
くは１〜３７である。このハロゲン置換アルキル基及び
ハロゲン置換アルキルオキシアルキル基並びに一般式
〔２〕中のＲ₃が表すハロゲン置換アルキル基及びハロ
ゲン置換アルキルオキシアルキル基は、好ましくは下記
一般式〔Ａ〕で示される。

【００３７】

【化３】

【００３８】式中、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉及び
Ｒ₁₀は各々、水素原子またはフッ素原子を表し、ｎは１
〜１２の整数を表し、ｎ２は０または１であり、ｎ２が
０のときにはｎ１は０、ｎ２が１のときにはｎ１は２ま
たは３であって、ｎ３は１〜１７の整数を表す。但し、
ｎ１＋ｎ３は１〜１７である。なお、Ｒ₄が一般式
〔Ａ〕中で２個以上ある場合には、各々が同一でもよ
く、異なっていても良い。同様にＲ₅、Ｒ₆及びＲ₇がそ
れぞれ一般式〔Ａ〕中に複数個あるときには、各々が同
一でもよく、異なっていても良い。

【００３９】前記一般式〔１〕及び一般式〔２〕におい
て、Ｒ′が前述のようなハロゲン置換アルキル基または
ハロゲン置換アルキルオキシアルキル基のときには、好
ましくは前記一般式〔１〕中のＲは−Ｏ−Ｒ′である。

【００４０】Ｒ′が表す複素環またはＲ′とＲ″とで形
成する複素環としては、酸素原子、イオウ原子または窒
素原子を含む飽和または不飽和の複素環が好ましく、例
えばアジリジン、ピロール、ピロリジン、ピラゾール、
イミダゾール、イミダゾリン、トリアゾール、ピペリジ
ン、ピペラジン、オキサジン、モルホリン、チアジン等
の複素環から選択される複素環が挙げられる。

【００４１】Ｍが表すカチオンとしては、例えばアンモ
ニウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リ
チウムイオン等が挙げられる。

【００４２】上記一般式〔１〕または〔２〕で示される
−ＣＯＯＭ基含有高分子化合物は、単独または２種以上
併用して用いてもよく、また、本発明に係る上記一般式
〔１〕または〔２〕で示される−ＣＯＯＭ基含有高分子
化合物の分子量としては、平均分子量約５００〜５０
０，０００（重量平均分子量）程度のものが好ましく用
いられる。

【００４３】以下、一般式〔１〕または〔２〕で示され
る−ＣＯＯＭ基含有高分子化合物の具体例を挙げるが、
本発明はこれらに限定されない。

【００４４】

【化４】

【００４５】

【化５】

【００４６】

【化６】

【００４７】

【化７】

【００４８】

【化８】

【００４９】本発明に係る導電性材料について説明す
る。本発明に係る導電性材料としては、イオン性高分子
化合物、金属酸化物等が好ましく用いられる。

【００５０】イオン性高分子化合物としては、特公昭４
９−２３８２８号、同４９−２３８２７号、同４７−２
８９３７号にみられるようなアニオン性高分子化合物；
特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特
公昭５９−１４７３５号、同５７−１８１７５号、同５
７−１８１７６号、同５７−５６０５９号などにみられ
るような、主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマ
ー；特公昭５３−１３２２３号、同５７−１５３７６
号、特公昭５３−４５２３１号、同５５−１４５７８３
号、同５５−６５９５０号、同５５−６７７４６号、同
５７−１１３４２号、同５７−１９７３５号、特公昭５
８−５６８５８号、特開昭６１−２７８５３、同６２−
９３４６にみられるような、側鎖中にカチオン性解離基
をもつカチオン性ペンダント型ポリマー；等を挙げるこ
とができる。

【００５１】特に好ましいイオン性高分子化合物として
は、次記一般式〔３〕および〔３ａ〕、〔３ｂ〕の構造
のユニットを有するポリマーが挙げられる。

【００５２】

【化９】

【００５３】

【化１０】

【００５４】式中Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆は炭素数１〜４の
置換あるいは未置換のアルキル基を表わし、Ｒ₃とＲ₄及
び／またはＲ₅とＲ₆が結合してピペラジンなどの含窒素
複素環を形成してもよい。Ａ、Ｂ及びＤはそれぞれ炭素
数２〜１０の置換あるいは未置換のアルキレン基、アリ
ーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、
−Ｒ₇ＣＯＲ₈−、−Ｒ₉ＣＯＯＲ₁₀ＯＣＯＲ₁₁−、−Ｒ
₁₂ＯＣＲ₁₃ＣＯＯＲ₁₄−、−Ｒ₁₅−（ＯＲ₁₆）_m−、−
Ｒ₁₇ＣＯＮＨＲ₁₈ＮＨＣＯＲ₁₉−、−Ｒ₂₀ＯＣＯＮＨＲ
₂₁ＮＨＣＯＲ₂₂−または−Ｒ₂₅ＮＨＣＯＮＨＲ₂₄ＮＨＣ
ＯＮＨＲ₂₅−を表す。Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ
₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂ ₂、Ｒ₂₃および
Ｒ₂₅はアルキレン基、Ｒ₁₀、Ｒ₁₃、Ｒ₁₈、Ｒ₂₁およびＲ
₂₄はそれぞれ置換または未置換のアルキレン基、アルケ
ニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基、ア
ルキレンアリーレン基から選ばれる連結基、ｍは１〜４
の正の整数を表し、Ｘ^-はアニオンを表す。

【００５５】ただし、Ａがアルキレン基、ヒドロキシア
ルキレン基あるいは、アリーレンアルキレン基である時
には、Ｂがアルキレン基、ヒドロキシルアルキレン基あ
るいはアリーレンアルキレン基ではないことが好まし
い。

【００５６】Ｅは単なる結合手、−ＮＨＣＯＲ₂₆ＣＯＮ
Ｈ−またはＤから選ばれる基を表わす。Ｒ₂₆は置換ある
いは未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレ
ン基、アリーレンアルキレン基、またはアルキレンアリ
ーレン基を表わす。

【００５７】Ｚ₁、Ｚ₂は−Ｎ＝Ｃ−基は共に５員または
６員環を形成するのに必要な非金属原子群（≡Ｎ＋［Ｘ
−］−なる４級塩の形でＥに連結してもよい）を表わ
す。

【００５８】ｎは５〜３００の整数を表わす。更に本発
明においては、下記一般式〔３〕、〔３ａ〕、〔３ｂ〕
で表わされる構造のユニットを有するイオン性高分子化
合物が好ましく用いられる。以下に、本発明に係るイオ
ン性高分子化合物の具体例を挙げるが本発明はこれらに
限定されない。

【００５９】

【化１１】

【００６０】

【化１２】

【００６１】

【化１３】

【００６２】

【化１４】

【００６３】

【化１５】

【００６４】

【化１６】

【００６５】

【化１７】

【００６６】前記イオン性高分子化合物は、これを単独
で用いてもよいし、あるいは数種類のイオン性高分子化
合物を組み合わせて使用してもよい。本発明に係るイオ
ン性高分子化合物の偏光板用保護フィルム中の含有量
は、０．００５ｇ〜２．０ｇ／ｍ²が好ましく、特に好
ましくは、０．０１ｇ〜１．０ｇ／ｍ²である。

【００６７】金属酸化物としては、導電性を有する金属
酸化物が挙げられる。金属酸化物の例としては、Ｓｎ、
Ｔｉ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ
及びＶを主成分とし、かつその体積抵抗率が１０⁷Ω／
ｃｍ（２５℃、２０％ＲＨ）である金属酸化物から選ば
れる少なくとも１種の、またはこれらの金属の複合酸化
物であり、特にＺｎＯ、ＴｉＯ₂及びＳｎＯ₂が好まし
い。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対して
はＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ₂に対してはＮｂ、Ｔａ
等の添加、又ＳｎＯ₂に対しては、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲ
ン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加
量は０．０１ｍｏｌ％〜２５ｍｏｌ％の範囲が好ましい
が、０．１ｍｏｌ％〜１５ｍｏｌ％の範囲が特に好まし
い。

【００６８】また、これらの導電性を有する金属酸化物
粉体の体積抵抗率としては、１０⁷Ωｃｍが好ましく、
特に好ましくは、１０⁵Ωｃｍ以下であり、１次粒子径
としては、１０ｎｍ〜０．２μｍが好ましく、また、高
次構造の長径が３０ｎｍ〜６μｍである特定の構造を有
する粉体を導電層に体積分率で０．０１％〜２０％以下
含んでいることが好ましい。

【００６９】また、本発明の偏光板用保護フィルムに係
る導電性層が十分な帯電防止効果示し、且つ、充分な易
接着性を保持するためには、親水性高分子化合物
（ａ）、またはゼラチンまたはゼラチン誘導体の少なく
とも１種とセルロースエステルに対する導電性素材の量
は、２０％〜３００％が好ましく、３０％〜２００％が
より好ましい。

【００７０】更に、本発明においては、導電性層中に微
粒子を添加してもよく、例えば、シリカ、コロイダルシ
リカ、アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マ
イカ、炭酸カルシウム等を構成成分として含有する微粒
子をあげることができる。

【００７１】上記記載の微粒子の平均粒径は、０．０１
〜１０μｍが好ましく、より好ましくは０．０１〜５μ
ｍ、塗布剤中の固形分に対して質量比で０．０５〜１０
部が好ましく、特に好ましいのは０．１〜５部である。

【００７２】本発明に係る架橋剤について説明する。架
橋剤としては、金属酸化物、例えば酸化アルミニウム、
ホウ酸、酸化コバルト等が好ましい。また、メタキシレ
ンビニルスルホン酸等のビニルスルホン基を有する化合
物、ビスフェノールグリシジルエーテル等のエポキシ基
を有する化合物、イソシアネート基を有する化合物、ブ
ロックドイソシアネート基を有する化合物、２−メトキ
シ−４，６−ジクロルトリアジン、２−ソディウムオキ
シ−４，６−ジクロルトリアジン等の活性ハロゲン基を
有する化合物、ホルムアルデヒド、グリオキサール等の
アルデヒド基を有する化合物、ムコクロル酸、テトラメ
チレン−１，４−ビス（エチレンウレア）、ヘキサメチ
レン−１，６−ビス（エチレンウレア）等のエチレンイ
ミン基を有する化合物及び活性エステル生成基を有する
化合物から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物
を使用することができ、又２種以上の架橋剤を併用して
も良い。

【００７３】これらのうち、金属酸化物、ビニルスルホ
ン基を有する化合物、エチレンイミン基を有する化合
物、エポキシ基を有する化合物、アルデヒド基を有する
化合物が特に好ましい。

【００７４】本発明において、ビニルスルホン基を有す
る化合物とは、スルホニル基に結合したビニル基あるい
はビニル基を形成しうる基を有する化合物であり、好ま
しくはスルホニル基に結合したビニル基またはビニル基
を形成しうる基を少なくとも２つ有しており、下記一般
式〔４〕で表されるものが好ましい。

【００７５】一般式〔４〕（ＣＨ₂＝ＣＨＳＯ₂）_nＡ式中、Ａはｎ価の連結基であり、例えばアルキレン基、
置換アルキレン基、フェニレン基、置換フェニレン基で
あり、間にアミド連結部分、アミノ連結部分、エーテル
連結部分あるいはチオエーテル連結部分を有していても
良い。置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル
基、ヒドロキシアルキル基、アミノ基、スルホン酸基、
硫酸エステル基等が挙げられる。ｎは１、２、３または
４である。

【００７６】以下にビニルスルホン系架橋剤の代表的具
体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。

【００７７】

【化１８】

【００７８】

【化１９】

【００７９】エチレンイミン基を有する化合物として
は、特に２官能、３官能で分子量が７００以下のものが
好ましく用いられる。以下にエチレンイミン基を有する
架橋剤の具体例を挙げるが本発明はこれらに限定されな
い。

【００８０】

【化２０】

【００８１】

【化２１】

【００８２】エポキシ基を有する化合物としては、特に
エポキシ基を２つ以上有し１つの官能基当たりの分子量
が３００以下のものが好ましい。以下にエポキシ基を有
する架橋剤の具体例を挙げるが本発明はこれらに限定さ
れない。

【００８３】

【化２２】

【００８４】

【化２３】

【００８５】本発明に係る架橋剤の使用量は、適用され
るセルロースエステルフィルムにより異なるが、好まし
くは添加される多糖類の０．１〜１０質量％、好ましく
は１〜８質量％である。

【００８６】本発明に係る樹脂フィルムは、種々の添加
剤を含有しても良く、例えば、可塑剤、酸化防止剤、染
料（着色剤など）等を用いる事が出来る。

【００８７】上記記載の添加剤の樹脂フィルム中の含有
量としては、質量割合で１０〜１０００ｐｐｍが好まし
く、更に好ましくは５０〜５００ｐｐｍである。

【００８８】また、液晶画面表示装置用には、耐熱耐湿
性を付与する可塑剤、酸化防止剤や紫外線防止剤などを
添加することが好ましい。添加剤の添加方法としては、
樹脂フィルムの溶液の調製の際に、前記樹脂フィルムや
溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添
加してもよい。またあらかじめ有機溶剤に溶解したもの
をドープ組成中に添加してもよい。

【００８９】上記記載の酸化防止剤としては、ヒンダー
ドフェノール系の化合物が好ましく用いられ、２，６−
ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル
−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレング
リコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−
ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，
４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキ
シ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−
トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ト
リス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレイト等が挙げられる。特に２，６−ジ
−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−
テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリ
コール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。
また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒド
ラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，
４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン
系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加
量は、樹脂フィルムに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．
０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好まし
い。また、この他、カオリン、タルク、ケイソウ土、石
英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アル
ミナ等の無機微粒子、カルシウム、マグネシウムなどの
アルカリ土類金属の塩などの熱安定剤を加えてもよい。
更に帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤等も加える場合が
ある。

【００９０】上記可塑剤としては、フタル酸系エステ
ル、リン酸系エステル、アルキルフタリルアルキルグリ
コレート、クエン酸系エステル、アジピン酸系エステ
ル、トリメリット酸系エステルなどが好ましく用いられ
る。例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチ
ルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロ
ピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレー
ト、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフ
タリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリ
コレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロ
ピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロ
ピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレー
ト、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリ
ルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレ
ート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフ
タリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチル
グリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、
オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリ
ルエチルグリコレート、メチルフタリルメチルグリコレ
ート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフ
タリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグ
リコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、
トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェー
ト、フェニルジフェニルホスフェート、ジメチルフタレ
ート、ジエチルホスフェート、ジオクチルフタレート、
ジエチルヘキシルフタレート、クエン酸アセチルトリエ
チル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチ
ル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチ
ル、トリアセチン等が挙げられる。これら可塑剤の樹脂
フィルム中の含有量は、質量比で１〜３０％であること
が好ましいが、５〜２０％がより好ましい。また、添加
剤が大気圧下において３５０℃よりも高い融点である可
塑剤の場合、可塑剤同士の相互作用が可塑剤と樹脂フィ
ルムとの相互作用よりも強く働き、樹脂フィルムの非塩
素系有機溶媒に対する溶解性が低減するため、３５０℃
以下の沸点である可塑剤が好ましく用いられる。

【００９１】沸点３５０℃以下の可塑剤としては、エチ
ルフタリルエチルグリコレート、ジメチルフタレート、
ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチル
アジペートなどがある。

【００９２】上記紫外線防止剤しては、波長３７０ｎｍ
以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の
観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ない
ものが好適である。含有量は、樹脂フィルム１ｍ²当た
り、０．２ｇ〜３ｇが好ましいく、更に好ましくは、
０．５ｇ〜２ｇである。

【００９３】本発明に好ましく用いられるこれら紫外線
吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン
系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エ
ステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアク
リレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げら
れる。

【００９４】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は下記一般式〔５〕で示される化合物が好ましく用いら
れる。

【００９５】

【化２４】

【００９６】式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びＲ₅は同一
でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アリールオキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しくは
ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または５〜６員の
複素環基を表し、Ｒ₄とＲ₅は閉環して５〜６員の炭素環
を形成してもよい。

【００９７】以下に本発明に係る紫外線吸収剤の具体例
を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。

【００９８】ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′
−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾールＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，
４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）
−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）フェノール）ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾールまた本発明に係る紫外線吸収剤のひとつであるベンゾフ
ェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式〔６〕で表さ
れる化合物が好ましく用いられる。

【００９９】

【化２５】

【０１００】式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子または
アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、及びフェニ
ル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフ
ェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、
アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキ
ル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基又
は−ＣＯ（ＮＨ）_n-1−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、
アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基
を表す。ｍ及びｎは１または２を表す。

【０１０１】上記において、アルキル基としては例え
ば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪族基を表
し、アルコキシ基としては例えば、炭素数１８までのア
ルコキシ基で、アルケニル基としては例えば、炭素数１
６までのアルケニル基で例えばアリル基、２−ブテニル
基などを表す。又、アルキル基、アルケニル基、フェニ
ル基への置換分としてはハロゲン原子、例えば、塩素原
子、臭素原子、フッ素原子など、ヒドロキシル基、フェ
ニル基（このフェニル基にはアルキル基又はハロゲン原
子などを置換していてもよい）などが挙げられる。

【０１０２】以下に一般式〔２〕で表されるベンゾフェ
ノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されない。

【０１０３】ＵＶ−８：２，４−ジヒドロキシベンゾフ
ェノンＵＶ−９：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノンＵＶ−１０：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スル
ホベンゾフェノンＵＶ−１１：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５
−ベンゾイルフェニルメタン）本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤
は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果
に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフ
ェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少
ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好まし
い。

【０１０４】紫外線吸収剤のフィルム中での分布に関し
ては、乾燥工程や熱処理工程で可塑剤と共に表面に移動
したりすることで、工程を汚染したり再付着等による外
観故障の原因になるので、紫外線吸収剤の含有量はフィ
ルム表面側の濃度がフィルム全体の平均の濃度よりも低
いことが好ましい。

【０１０５】

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらに限定されない。

【０１０６】実施例１《偏光板用保護フィルム試料１の作製》厚さ８０μｍの
セルローストリアセテートフィルム（コニカ株式会社
製、商品名：コニカタックＫＣ８０ＵＶＳＦ（以下ＴＡ
Ｃと略す））の一方の面に下記組成の下層液（１）を２
０ｍｌ／ｍ²、及び下記組成の上層液（１）を２５ｍｌ
／ｍ²をこの順に塗布し、それぞれ１００℃で５分間乾
燥した後、反対面に下記組成のカール防止層用塗布液
（１）をカール度＋１になるような膜厚で塗布乾燥（１
００℃、５分間）し、偏光板用保護フィルム試料１を作
製した。

【０１０７】《下層液（１）の調製》化合物（１４）０．５ｇアセトン４０ｍｌ酢酸エチル５０ｍｌイソプロピルアルコール１０ｍｌ《上層液（１）の調製》ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）（日本合成化学工業（株）製、商品名：ゴーセノールＮＨ−２６）０．１ｇ導電性材料（ＩＰ−１１）０．１５ｇサポニン（メルク（株）製、界面活性剤）０．０３ｇ架橋剤（グリオキサール）０．０２５ｇ純水５５ｍｌメタノール４０ｍｌイソプロピルアルコール５ｍｌ《カール防止層用塗布液（１）の調製》セルロースジアセテート（ダイセル（株）製、商品名：アセテートフレークＬ−５０）０．５ｇ２％アセトン分散微粒子シリカ（超音波分散）（日本アエロジル（株）製、商品名：アエロジル２００）０．２ｇアセトン４０ｍｌ酢酸エチル５５ｍｌイソプロピルアルコール５ｍｌ《偏光板用保護フィルム試料２の作製》実施例１の上層
液（１）を下記組成の上層液（２）に代えた以外は、偏
光板用保護フィルム試料１と同様にして偏光板用保護フ
ィルム試料２を作製した。

【０１０８】《上層液（２）の調製》ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）（日本合成化学工業（株）製、商品名：ゴーセノールＮＨ−２６）０．２ｇ導電性材料（ＩＰ−１５）０．３ｇ架橋剤（グリオキサール）０．０２５ｇサポニン（メルク（株）製、界面活性剤）０．０３ｇ純水５８ｍｌメタノール４０ｍｌジエチレングリコール２ｍｌ《偏光板用保護フィルム試料３の作製》厚さ７５μｍの
ポリエチレンテレフタレートフィルム（ダイヤホイル
（株）製、商品名：ダイヤホイル、以下ＰＥＴと略す）
の一方の面に２０Ｗ／ｍ²・分の条件でコロナ放電処理
を施し、次いで該コロナ放電処理面に下記組成の下層液
（２）を２０ｍｌ／ｍ²、及び上層液（３）を２５ｍｌ
／ｍ²をこの順に塗布し、それぞれ１００℃で５分間乾
燥し、偏光板用保護フィルムである偏光板用保護フィル
ム試料３を作製した。

【０１０９】《下層液（２）の調製》化合物（１４）０．４ｇポリエステル樹脂（東洋紡績（株）製、商品名：バイロン＃２００）０．１ｇアセトン４０ｍｌメチルエチルケトン５０ｍｌジメチルホルムアミド１０ｍｌ《上層液（３）の調製》ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）（日本合成化学工業（株）製、商品名：ゴーセノールＮＨ−２６）０．３ｇ導電性材料（ＩＰ−４）０．２ｇサポニン（メルク（株）製、界面活性剤）０．０３ｇ架橋剤（グリオキサール）０．０３ｇ純水７０ｍｌメタノール３０ｍｌ《偏光板用保護フィルム試料４の作製》厚さ７５μｍの
ポリカーボネートフィルム（ロンザジャパン（株）製、
商品名：光学グレードポリカーボネートフィルム、以下
ＰＣと略す）の一方の面に５０Ｗ／ｍ²・分の条件でコ
ロナ放電処理を施し、次いで該コロナ放電処理面に下記
組成の下層液（３）を２０ｍｌ／ｍ²、及び実施例１使
用と同じ上層液（１）を３０ｍｌ／ｍ²この順に塗布
し、それぞれ１００℃で５分間乾燥し、偏光板用保護フ
ィルム試料４を作製した。

【０１１０】《下層液（３）の調製》化合物（１４）０．５ｇ酢酸エチル４０ｍｌアセトン５０ｍｌジメチルホルムアミド１０ｍｌ《偏光板用保護フィルム試料５の作製》偏光板用保護フ
ィルム試料１の作製において、フィルムを膜厚５０μｍ
のアクリレートフィルム（日本カーバイト（株）製、以
下ＰＭＭＡと略す）に代えた以外は同様にして偏光板用
保護フィルム試料５を作製した。

【０１１１】《偏光板用保護フィルム試料６の作製》偏
光板用保護フィルム試料１の作製に用いた上層液（１）
を下記組成の上層液（４）に代えた以外は、偏光板用保
護フィルム試料１の作製と同様にして偏光板用保護フィ
ルム試料６を作製した。

【０１１２】《上層液（４）の調製》ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）（日本合成化学工業（株）製、商品名：ゴーセノールＮＨ−２６）０．２ｇ導電性材料（ＩＰ−２２）０．３ｇサポニン（メルク（株）製、界面活性剤）０．０３ｇ純水５８ｍｌメタノール４０ｍｌジエチレングリコール２ｍｌ《偏光板用保護フィルム試料７の作製》偏光板用保護フ
ィルム試料１の作製に用いたＴＡＣフィルムを下記の方
法で作製したＴＡＣＦに代え、更に下層液（１）を下記
組成の下層液（４）に代えた以外は偏光板用保護フィル
ム試料１の作製と同様にして偏光板用保護フィルム試料
７を作製した。

【０１１３】《ＴＡＣＦの作製》下記工程により、微粒
子入りＴＡＣフィルム（ＴＡＣＦと略す）を作製した。

【０１１４】（微粒子分散液の調製）エタノール２７Ｌ微粒子（二酸化ケイ素、商品名：アエロジル２００Ｖ、１次粒子径１５ｎｍ、日本アエロジル（株）製）３００ｇ上記材料を攪拌混合し、ＴＫミキサーにて回転数５００
ｒｐｍ、３０分間予備分散した後マントンゴーリン型高
圧分散機にて１９．６１３ＭＰａの圧力で分散して、微
粒子分散液を調製した。

【０１１５】（添加液Ａの調製）上記微粒子分散液２２部綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート（酢化度６１．０％）１２部２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール（紫外線吸収剤）２６部メチレンクロライド２９部上記添加液Ａについて、遠心式粒度分布測定器（ＣＡＰ
Ａ５００、堀場製作所（株）製）で測定したところ、微
粒子（二酸化ケイ素）の平均粒径は１．２μｍであっ
た。

【０１１６】（ドープ組成物Ａの調製）綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート（酢化度６１．０％）８５部木材パルプから合成されたセルローストリアセテート（酢化度６１．０％）１５部エチルフタリルエチルグリコレート（可塑剤）４部メチレンクロライド４７５部エタノール５０部上記記載の化合物を密閉容器に投入し、７０℃まで加熱
し、攪拌しながらセルローストリアセテート（ＴＡＣ）
を完全に溶解しドープ組成物Ａを得た。溶解に要した時
間は４時間であった。ドープ組成物Ａをろ過した後、セ
ルローストリアセテートに対する微粒子の含有率が０．
０５質量％となるようにドープ組成物Ａと添加液Ａとを
インラインミキサーで混合した後、ベルト流延装置を用
い、ドープ温度３５℃で３０℃のステンレスベルト支持
体上に均一に流延した。剥離可能な範囲まで乾燥させた
後、ステンレスベルト支持体上からドープを剥離した。
この時のドープの残留溶媒量は２５％であった。ドープ
流延から剥離までに要した時間は３分であった。

【０１１７】本発明に係るドープの残留溶媒量は下記式
で定義される。残留溶媒量＝（ドープの加熱処理前質量−ドープの加熱
処理後の質量）／（ドープの加熱処理後質量）×１００
％尚、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃
で１時間の加熱処理を行うことを表す。

【０１１８】ステンレスベルト支持体から、ドープ膜を
剥離した後、幅保持しながら多数のロールで搬送しなが
ら第１ゾーン５０℃、第２ゾーン９０℃、第３ゾーン１
２０℃の乾燥ゾーンを通し、更に１３０℃の乾燥加熱ゾ
ーンで乾燥を終了させ、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高
さ４μｍのナーリング加工を施して膜厚４０μｍのセル
ローストリアセテートフィルム試料１を作製した。フィ
ルム幅は１３００ｍｍ、巻き取り長さは３０００ｍとな
るように調整した。巻き取り張力は初期張力１９６Ｎ／
１３００ｍｍ、最終張力９８Ｎ／１３００ｍｍとした。

【０１１９】《下層液（４）の調製》ゼラチン１ｇセルロースジアセテート（ＤＡＣ、ダイセル（株）製、商品名：アセテートフレークＬ−５０）０．７ｇ架橋剤（グリオキサール）０．０１ｇ氷酢酸２ｍｌ純水３ｍｌメタノール２７ｍｌアセトン６８ｍｌ《偏光板用保護フィルム試料８の作製》下記組成の下層
液（５）及び偏光板用保護フィルム試料６の作製で使用
したと同じ上層液（４）に代えた以外は、偏光板用保護
フィルム試料３の作製と同様にして偏光板用保護フィル
ム試料８を作製した。

【０１２０】《導電性微粒子分散組成物の調製》導電性ＳｎＯ₂アンチモン複合微粒子（三菱マテリアル（株）製、１次粒子０．０１５ｎｍ）２００ｇニトロセルロース５ｇメチルエチルケトン１５０ｇ上記組成物をサンドミルを用いて２時間分散した。

【０１２１】上記のようにして調製した導電性微粒子分
散組成物を用いて下記組成の下層液（５）を調製した。

【０１２２】《下層液（５）》化合物（１４）０．４ｇポリエステル樹脂（東洋紡績（株）製、商品名：バイロン＃２００）０．２ｇ導電性微粒子分散組成物０．６ｇ架橋剤（グリオキサール）０．０８ｇアセトン６５ｍｌメタノール２５ｍｌメチルセロソルブ１０ｍｌ《偏光板用保護フィルム試料９の作製》偏光板用保護フ
ィルム試料４の作製に用いた下層液（３）を下記組成の
下層液（６）に変え、上層液を下記組成の上層液（５）
に代えた以外は、偏光板用保護フィルム試料４の作製と
同様にして偏光板用保護フィルム試料９を作製した。

【０１２３】《下層液（６）の調製》化合物（１４）０．４ｇ導電性材料（ＩＰ−１１）０．２ｇ２％アセトン分散微粒子シリカ（超音波分散（日本アエロジル（株）製、商品名：アエロジル２００））０．２ｇサポニン（メルク（株）製、界面活性剤）０．０３ｇ架橋剤（グリオキサール）０．０５ｇ純水５５ｍｌメタノール４０ｍｌイソプロピルアルコール５ｍｌ《上層液（５）の調製》ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）（日本合成化学工業（株）製、商品名：ゴーセノールＮＨ−２６）０．３ｇサポニン（メルク（株）製、界面活性剤）０．０３ｇ架橋剤（グリオキサール）０．０２５ｇ純水５５ｍｌメタノール４０ｍｌイソプロピルアルコール５ｍｌ《偏光板用保護フィルム試料１０の作製》偏光板用保護
フィルム試料５の作製に用いた下層液を下記組成の下層
液（７）に変え、上層液を偏光板用保護フィルム試料９
の作製に用いた上層液（５）に代えた以外は、偏光板用
保護フィルム試料５の作製と同様にして偏光板用保護フ
ィルム試料１０を作製した。

【０１２４】《下層液（７）の調製》化合物（１４）０．５ｇエマルジョン型アクリル樹脂（日本カーバイト工業（株）製、商品名：ニカゾールＡ−０８）０．２ｇ導電性材料（ＩＰ−１５）０．３ｇ架橋剤（グリオキサール）０．０５ｇアセトン４０ｍｌ酢酸エチル２０ｍｌメタノール３０ｍｌ純水１０ｍｌ《偏光板用保護フィルム試料１１の作製》偏光板用保護
フィルム試料１の作製に用いた上層液を下記組成の上層
液（６）に代えた以外は、偏光板用保護フィルム試料１
の作製と同様にして偏光板用保護フィルム試料１１を作
製した。

【０１２５】《上層液（６）の調製》ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート（信越化学工業（株）製、商品名：ＨＰ−５５）０．５ｇ導電性材料（ＩＰ−２２）０．２ｇサポニン（メルク（株）製、界面活性剤）０．０３ｇ架橋剤（グリオキサール）０．０３ｇアセトン３０ｍｌメタノール６０ｍｌイソプロピルアルコール１０ｍｌ《偏光板用保護フィルム試料１２の作製》偏光板用保護
フィルム試料１の作製において、カール防止層用塗布液
を塗布する代わりに下記組成の紫外線硬化性樹脂を含む
組成物を乾燥膜厚４μｍに成るように塗布し、８０℃で
５分間乾燥した後６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯下１０ｃｍ
の距離から４秒間硬化させ、ハードコート硬化塗布層を
設けた以外は偏光板用保護フィルム試料１の作製と同様
にして偏光板用保護フィルム試料１２を作製した。

【０１２６】《紫外線硬化性樹脂組成物（Ａ）の調製》ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体６０ｇジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体２０ｇジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分２０ｇジエトキシベンゾフェノンＵＶ開始剤３ｇシリコーン系界面活性剤１ｇメチルエチルケトン７５ｇメチルプロピレングリコール７５ｇ偏光板用保護フィルム試料１２の硬化塗布層の鉛筆硬度
を測定したら３Ｈの硬度を示し、耐擦傷性効果を示し
た。

【０１２７】《偏光板用保護フィルム試料１３の作製》
偏光板用保護フィルム試料１の作製において、カール防
止層用塗布液を塗布する代わりに下記の帯電防止層塗布
液組成物（１）を２０μｍ／ｍ²となるように塗布し、
８０℃で５分間乾燥して帯電防止層（１）を設け、更に
前記帯電防止層（１）の上に偏光板用保護フィルム試料
１２の作製に用いた紫外線硬化性樹脂組成物（Ａ）を偏
光板用保護フィルム試料１２の作製時と同様にして硬化
皮膜とした以外は偏光板用保護フィルム試料１の作製と
同様にして偏光板用保護フィルム試料１３を作製した。

【０１２８】《帯電防止層塗布液組成物（１）の調製》導電性材料（ＩＰ−２０、５％メタノール分散液、平均粒径０．２μｍ）１０ｍｌポリメチルメタアクリレート樹脂（三菱レイヨン株式会社製、商品名：ダイヤナールＢＲ−１０８）０．５ｇメチルプロピレングリコール６５ｍｌメチルエチルケトン２０ｍｌ乳酸エチル５ｍｌ《偏光板用保護フィルム試料１４の作製》偏光板用保護
フィルム試料１２の作製と同様に紫外線硬化ハードコー
ト層を設け、更にその上に下記組成の反射防止層を設け
た以外は偏光板用保護フィルム試料１２の作製と同様に
して、偏光板用保護フィルム試料１４を作製した。

【０１２９】ハードコート層の上に下記の中屈折率層用
組成物Ａを塗布し、８０℃ ２０分間乾燥させた。次い
で、３ｋＷの高圧水銀灯を２５ｃｍの距離から１０秒間
照射し硬化させ、中屈折率層を設けた。尚、中屈折率層
の厚さは８０ｎｍで、屈折率は１．６６であった。尚、
本発明においては、屈折率の測定は、自動複屈折計ＫＯ
ＢＲＡ−２１ＤＨ（ＫＳシステムズ（株）製）を用いて
２３℃、５５％ＲＨの環境下において、波長が５９０ｎ
ｍの光を照射することにより測定した。

【０１３０】《中屈折率層用組成物Ａ》チタニウムテトラ−ｎ−ブトキシド３０ｇジエトキシベンゾフエノン（紫外線開始剤）０．１ｇ γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン５ｇシクロヘキサノン１４００ｇイソプロピルアルコール３５００ｇ次に、中屈折率層上に下記組成の高屈折率層用組成物Ｂ
を塗布し、８０℃、５分間乾燥させた。次いで、３ｋＷ
の高圧水銀灯を２５ｃｍの距離から１０秒間照射し硬化
させ、高屈折率層を設けた。尚、高屈折率層の厚さは８
５ｎｍで、屈折率は１．９０であった。

【０１３１】《高屈折率層用組成物Ｂ》チタニウムテトラ−ｎ−ブトキシド７５ｇテトラエトキシシラン８．３ｇ界面活性剤（大日本インキ（株）社製のＦ−１７７）１ｇシクロヘキサノン２５００ｇトルエン５７００ｇこの後、高屈折率層の上に下記組成のフッ素含有モノマ
ー組成物を塗布し、８０℃、５分間乾燥させた。次い
で、３ｋＷの高圧水銀灯を２５ｃｍの距離から１０秒間
照射し硬化させ、低屈折率層を設けた。尚、低屈折率層
の厚さは９０ｎｍで、屈折率は１．３７であった。

【０１３２】《フッ素含有モノマー組成物（低屈折率層用組成物Ｃ）》メタアクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，６−オクタフルオロヘキシル４５ｇジアクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコール４５ｇジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（光重合性モノマー）１０ｇ界面活性剤（大日本インキ（株）社製のＦ−１７７）１ｇシクロヘキサノン３５００ｇイソプロピルアルコール７７００ｇ上記のようにして、ＴＡＣ−紫外線硬化ハードコート層
−中屈折率層−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板
用保護フィルム試料１４を作製した。得られた偏光板用
保護フィルム試料１４の反射率を測定したところ、反射
率は０．１％であり、大きな反射防止効果が認められ
た。

【０１３３】《偏光板用保護フィルム試料１５の作製》
偏光板用保護フィルム試料１３の作製に用いた紫外線硬
化性樹脂を含む組成物を下記組成物に代えた以外は偏光
板用保護フィルム試料１３の作製と同様にして偏光板用
保護フィルム試料１５を作製した。

【０１３４】《紫外線硬化性樹脂組成物（Ｂ）の調製》ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体５０ｇジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体２０ｇジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分２０ｇ１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル１０ｇジエトキシベンゾフエノン（ＵＶ重合開始剤）３ｇ芳香族スルホニウム塩系ＵＶ開始剤０．５ｇシリコーン系界面活性剤１ｇシリカ微粒子（平均粒径４．５μｍ）２ｇ疎水性シリカ微粒子（平均粒径０．０１μｍ）２ｇメチルエチルケトン５０ｇ酢酸エチル５０ｇイソプロピルアルコール５０ｇ上記記載の組成物を高速攪拌機（ＴＫホモミキサー、特
殊機化工業８（株）製）で攪拌し、その後、衝突型分散
機（マントンゴーリー、ゴーリン（株）製）で分散し
た。得られた偏光板用保護フィルム試料１５のヘーズ値
を測定したら８％を示し、蛍光灯の映り込みのない防眩
効果が認められた。本発明において、防眩効果とは、層
の表面に凹凸を有する構造をもたせることにより、層表
面において光を散乱させる事を意味している。

【０１３５】《偏光板用保護フィルム試料１６の作製》
偏光板用保護フィルム試料１の作製に用いた上層液
（１）から導電性材料（ＩＰ−１１）の代わりに、導電
性材料（ＩＰ−２０）を用いた以外は偏光板用保護フィ
ルム試料１の作製と同様にして偏光板用保護フィルム試
料１６を作製した。

【０１３６】《偏光板用保護フィルム試料１７（比較試
料）の作製》偏光板用保護フィルム試料１の作製に用い
た上層液（１）から導電性材料（ＩＰ−１１）を除いた
以外は偏光板用保護フィルム試料１の作製と同様にして
偏光板用保護フィルム試料１７を作製した。

【０１３７】《偏光板用保護フィルム試料１８（比較試
料）の作製》偏光板用保護フィルム試料３の作製に用い
た上層液（３）から導電性材料（ＩＰ−４）を除いた以
外は偏光板用保護フィルム試料３の作製と同様にして偏
光板用保護フィルム試料１８を作製した。

【０１３８】《偏光板用保護フィルム試料１９（比較試
料）の作製》偏光板用保護フィルム試料４の作製に用い
た上層液（１）を偏光板用保護フィルム試料９の作製に
用いた上層液（５）に代えた以外は偏光板用保護フィル
ム試料４の作製と同様にして偏光板用保護フィルム試料
１９を作製した。

【０１３９】《偏光板用保護フィルム試料２０（比較試
料）の作製》偏光板用保護フィルム試料５の作製に用い
た上層液（１）から導電性材料（ＩＰ−１１）を除いた
以外は偏光板用保護フィルム試料５の作製と同様にして
偏光板用保護フィルム試料２０を作製した。

【０１４０】《偏光板用保護フィルム試料２１（比較試
料）の作製》偏光板用保護フィルム試料１の作製に用い
た上層液（１）からポリビニルアルコールを除いた以外
は偏光板用保護フィルム試料１の作製と同様にして偏光
板用保護フィルム試料２１を作製した。

【０１４１】《偏光板用保護フィルム試料２２（比較試
料）の作製》偏光板用保護フィルム試料２の作製に用い
た上層液（２）からポリビニルアルコールを除いた以外
は偏光板用保護フィルム試料２の作製と同様にして偏光
板用保護フィルム試料２２を作製した。

【０１４２】《偏光板用保護フィルム試料２３（比較試
料）の作製》偏光板用保護フィルム試料３の作製に用い
た上層液（３）からポリビニルアルコールを除いた以外
は偏光板用保護フィルム試料３の作製と同様にして偏光
板用保護フィルム試料２３を作製した。

【０１４３】《偏光板用保護フィルム試料２４（比較試
料）の作製》偏光板用保護フィルム試料６の作製に用い
た上層液（４）からポリビニルアルコールを除いた以外
は偏光板用保護フィルム試料６の作製と同様にして偏光
板用保護フィルム試料２４を作製した。

【０１４４】《偏光板用保護フィルム試料２５（比較試
料）の作製》ＴＡＣフィルムを８質量％の水酸化ナトリ
ウム水溶液中６０℃で２分間浸漬した後２分間流水で水
洗し、乾燥してケン化処理済み偏光板用保護フィルム試
料２５を作製した。

【０１４５】《偏光板用保護フィルム試料２６（比較試
料）の作製》偏光板用保護フィルム試料５の作製に用い
た上層液（１）からポリビニルアルコールを除いた以外
は偏光板用保護フィルム試料５の作製と同様にして偏光
板用保護フィルム試料２６を作製した。

【０１４６】《偏光板用保護フィルム試料２７（比較試
料）の作製》偏光板用保護フィルム試料７の作製に用い
た上層液（１）から導電性材料（ＩＰ−１１）を除いた
以外は偏光板用保護フィルム試料７の作製と同様にして
偏光板用保護フィルム試料２７を作製した。

【０１４７】上記記載のようにして得られた偏光板用保
護フィルム試料の各々について下記に記載の評価方法に
より、各種特性を評価した。

【０１４８】《偏光板用保護フィルムと偏光子との接着
性（初期接着、加工性、耐久性）》下記の工程で、偏光
子と保護フィルムとを張り合わせて偏光板を作製した。

【０１４９】（１）１８ｃｍ×５ｃｍサイズの保護フィ
ルム試料を塗工面を上にしてガラス板上に配置する。

【０１５０】（２）保護フィルム試料と同サイズの１軸
延伸されたポリビニルアルコール染色フィルムからなる
偏光子を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤
槽中に１〜２秒間浸漬（偏光子の両面を）する。

【０１５１】（３）上記の偏光子に付着した過剰の接着
剤を軽く取り除き、上記の保護フィルム試料上にのせ
て、さらに上記と同一の試料フィルムの塗工面と接着剤
とが接するように次の保護フィルム試料を積層し配置す
る。

【０１５２】（４）ハンドローラで上記で積層された偏
光子と保護フィルムとの積層物の端部から過剰の接着剤
及び気泡を取り除き貼り合わせる。ハンドローラの圧力
は約０．２〜０．３ＭＰａ、ローラスピードは約２ｍ／
分とした。

【０１５３】（５）８０℃の乾燥器中に、試料を２分間
放置する。このようにして作製した偏光フィルムについ
て、偏光子と偏光板保護フィルムとの接着性（初期接着
性、加工性、耐久性）を下記により評価した。

【０１５４】偏光子と保護フィルムとを貼り合わせた
後、手で剥離性を測定し材料破壊の発生の程度で下記の
３段階に評価した。

【０１５５】《接着性：初期接着》偏光板用保護フィル
ムと偏光子を貼り合わせた後、手で剥離性を測定し材料
破壊の発生の程度で下記の３段階の評価を行った。

【０１５６】 ○：材料破壊が起こるほど、偏光板用保護フィルムと偏
光子との接着性良好 △：一部材料破壊が起こるが、偏光板用保護フィルムと
偏光子間で剥がれる面積が大きい ×：偏光板用保護フィルムと偏光子間で剥がれる《接着性：加工性》片刃を用いて断裁して接着面の浮き
の程度で下記の３段階の評価を行った。

【０１５７】 ○：接着面の浮きがまったくない △：わずかに接着面の浮きが起こる ×：接着面の浮きが起こる《接着性：耐久性能》条件（Ａ）７５℃、相対湿度９０
％の条件下、及び、条件（Ｂ）９０℃、相対湿度１０％
以下の条件下に、各々、偏光板を５００時間放置し、外
観変化を観察し、端部からの剥離の幅を測定した。評価
のランクは下記のとおりである。

【０１５８】 ○：０．５ｍｍ以内 △：０．６〜１．５ｍｍ ×：１．６ｍｍ以上偏光板用保護フィルム試料の静電気特性、次いで、偏光
板用保護フィルム試料と偏光子とを貼りあわせて作製し
た偏光板の特性を下記のように評価した。

【０１５９】《表面比抵抗》偏光板用保護フィルム試料
１〜２７の各々をを２３℃、５５％ＲＨの条件にて２４
時間調湿し、川口電機株式会社製テラオームメーターモ
デルＶＥ−３０を用いて測定した。測定に用いた電極
は、２本の電極（試料と接触する部分が１ｃｍ×５ｃ
ｍ）を間隔を１ｃｍで平行に配置し、該電極に試料を接
触させて測定し、測定値を５倍にした値を表面比抵抗値
Ω／ｃｍ²とした。尚、本発明において、表面比抵抗と
は導電性層表面の値を表す。

【０１６０】《プロテクトフィルム剥離後の帯電量測
定、ゴミ付着テスト、液晶の異常表示テスト》偏光子の
両面に各々、偏光板用保護フィルム試料１〜２７の易接
着機能を有する導電性層を有する側の面を貼りあわせて
作製した偏光板において、一方の面に、ポリエチレン／
エチレン／酢酸ビニル共重合体二層押出成形フィルムか
らなる表面保護フィルム（プロテクトフィルムとも呼
ぶ）を貼り付け、もう一方の面には、厚さ２０μｍのア
クリル系粘着層を付設して、その表面をシリコーン系剥
離剤で処理したポリエステルフィルムからなるセパレー
トフィルムで被覆保護した。

【０１６１】得られた試料について、下記のように、帯
電量、ゴミ付着テスト、液晶の異常表示テストを行っ
た。

【０１６２】《プロテクトフィルム剥離後の帯電量測
定》上記記載の各々の試料のプロテクトフィルムを急速
に剥がし、剥離の際に偏光板の樹脂フィルム表面に発生
した帯電量を帯電式電位測定器（商品名：ＫＳ−４７１
型、春日電気社製）を用い、２５℃、２０％ＲＨの条件
のもとで測定した。

【０１６３】《液晶の異常表示テスト》上記記載の各々
の試料を液晶パネルに組み込んで印画像を作製し、次い
で、プロテクトフィルムを剥離除去した後の液晶の異常
表示（画像や文字のぼけ）を目視で観測した。上記記載
のプロクテト剥離後の帯電量が大きいと液晶の異常表示
が多い。

【０１６４】《ゴミ付着量》上記記載の各々の試料のセ
パレートフィルムを急速に剥離除去した後の偏光板のア
クリル系粘着層表面のゴミの付着量を下記のようにラン
ク評価した。

【０１６５】乾燥したタバコの灰をガラスシャーレに入
れ、タバコの灰に上記のアクリル系粘着層表面を１０秒
間、高さ１ｃｍまで近づけ、ゴミの付着を観察した。

【０１６６】 ○・・・ゴミ付着は全く見られなかった △・・・ゴミ付着は少し認められた ×・・・ゴミ付着が著しく認められたまた、上記で得られた本発明の偏光板用保護フィルム試
料１〜１６、比較の偏光板用保護フィルム試料１７〜２
７を各々、用いて偏光板を作製し、偏光板作製の収率を
下記のようにして求めた。

【０１６７】《偏光板の収率》偏光板作製時において、
使用した偏光板保護フィルムの面積（長さ×幅）に対し
て、不良個所のない偏光板の面積の比を百分率で表す。
本発明において不良個所がないとは、上記記載のゴミの
付着や液晶の異常表示のない偏光板を表す。

【０１６８】得られた結果を表１、表２、表３に示す。

【０１６９】

【表１】

【０１７０】

【表２】

【０１７１】

【表３】

【０１７２】表１、表２、表３から本発明の偏光板用保
護フィルム試料は、偏光子との接着性（初期接着性、加
工性、耐久性）が極めて良好であり、且つ、液晶パネル
に偏光板を組み込み、プロテクトフィルムを剥離除去し
た後の帯電量が少ないので液晶の異常表示（画像や文字
などがぼけることを意味する）が全くなく、不良個所の
ない偏光板が高収率で得られることがわかる。

【０１７３】

【発明の効果】本発明により、優れた帯電防止能を有
し、且つ、ＰＶＡ偏光子膜との接着性が良好な偏光板用
保護フィルム及びそれを用いることにより、液晶異常表
示のない偏光板を提供することが出来た。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H049 BA02 BB22 BB33 BB67 2H091 FA08X FA08Z FB02 FD06 GA16 GA17 LA07 LA30 4F100 AA17B AA17C AA18B AA18H AA19B AA19H AA20B AA20H AA21B AA21H AA25B AA25H AA28B AA28H AJ01B AJ06A AJ06B AJ06C AJ06D AJ08B AJ08D AK01A AK01B AK01D AK21B AK24B AK25A AK41A AK45A AR00B BA02 BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C BA10D BA13 CA02B CA02C DE01B GB90 JB05B JB05D JG01B JG01C JG04B JL11B JN01A YY00A YY00B

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】樹脂フィルム上に、導電性材料を含有す
る導電性層を有する偏光板用保護フィルムにおいて、該
導電性層の表面比抵抗が１０¹¹Ω／ｃｍ（２３℃、５５
％ＲＨ）以下であり、且つ、該導電性層が易接着機能を
有することを特徴とする偏光板用保護フィルム。
【請求項２】導電性層が親水性高分子化合物（ａ）の
少なくとも１種を含有する層（１）、またはゼラチンま
たはゼラチン誘導体の少なくとも１種とセルロースエス
テルを含有する層（２）を有し、且つ、導電性材料が該
層（１）または該層（２）に含有されることを特徴とす
る請求項１に記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項３】樹脂フィルムの少なくとも片面に下記一
般式〔１〕または〔２〕で表される−ＣＯＯＭ基含有高
分子化合物、親水性高分子化合物（ａ）、ゼラチンまた
はゼラチン誘導体を含有する層を有することを特徴とす
る請求項１または２に記載の偏光板用保護フィルム。【化１】〔式中、Ａはビニル単量体が重合して生成する繰り返し
単位、Ｂは水素原子、−ＣＯ−ＯＭまたは−ＣＯ−Ｒを
表し、Ｍは水素原子またはカチオンを表し、ｚ＝０のと
き、Ｂは水素原子である。Ｒは−Ｏ−Ｒ′または−Ｎ
（Ｒ′）（Ｒ″）を表し、ここでＲ′はアルキル基、ア
ラルキル基、アリール基、複素環残基またはＲ″と共同
して複素環を形成するに必要な非金属原子を表し、Ｒ″
は水素原子、低級アルキル基またはＲ′と共同して複素
環を形成するに必要な非金属原子を表し、Ｒ₁及びＲ₂は
各々、水素原子または低級アルキル基を表し、Ｘは−Ｃ
Ｏ−Ｏ−または−Ｏ−ＣＯ−を表し、Ｒ₃はハロゲン置
換アルキル基またはハロゲン置換アルキルオキシアルキ
ル基を表し、ｍ、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙ及びｚは各々、各
単量体のモル％を示す値であって、ｍ及びｘは各々、０
〜６０、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙ及びｚは各々、０〜１００
であり、ｍ＋ｐ＋ｑ＋ｒ＝１００、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００
である。〕
【請求項４】親水性高分子化合物（ａ）がポリビニル
アルコール誘導体、親水性セルロース誘導体または天然
高分子であることを特徴とする請求項２または３に記載
の偏光板用保護フィルム。
【請求項５】導電性材料がイオン性高分子化合物を主
成分とする請求項１から４のいずれか１項に記載の偏光
板用保護フィルム。
【請求項６】導電性材料がＳｎ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ａｌ、
Ｚｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ及びＶからなる群か
ら選ばれた元素を主成分として含有し、且つその体積抵
抗率が１０⁷Ω・ｃｍ以下である金属酸化物であること
を特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の偏光
板用保護フィルム。
【請求項７】金属酸化物の一次粒子サイズが０．２μ
ｍ以下であることを特徴とする請求項６に記載の偏光板
用保護フィルム。
【請求項８】導電性層が平均粒径が５．０μｍ以下の
微粒子を含有していることを特徴とする請求項１〜７に
記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項９】樹脂フィルム上に導電性層を有する面の
もう一方の面上に、カール防止層を有し、且つ、該カー
ル防止層が溶剤を含む組成物から成ることを特徴とする
請求項１〜８のいずれか１項に記載の偏光板用保護フィ
ルム。
【請求項１０】層（１）または層（２）が架橋剤を含
有することを特徴とする請求項２〜９のいずれか１項に
記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１１】樹脂フィルム上に導電性層を有する面
のもう一方の面上に、親水性高分子化合物（ａ）の少な
くとも一種を含有する層またはゼラチンまたはゼラチン
誘導体の少なくとも１種とセルロースエステルを含有す
る層を有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれ
か１項に記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１２】親水性高分子化合物（ａ）がポリビニ
ルアルコール誘導体、親水性セルロース誘導体または天
然高分子であり、且つ、セルロースエステルがセルロー
ストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロー
スアセテートプロピオネートまたはセルロースアセテー
トブチレートである事を特徴とする請求項２、３、４ま
たは１１に記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１３】樹脂フィルムがセルロースエステルフ
ィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステルフィ
ルムまたはポリアクリレートフィルムであり、且つ、該
樹脂フィルムの光線透過率が８５％以上であることを特
徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の偏光板
用保護フィルム。
【請求項１４】樹脂フィルムがセルロースエステルを
含むことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に
記載の偏光板用保護フィルム。
【請求項１５】請求項１〜１４のいずれか１項に記載
の偏光板用保護フィルムを用いたことを特徴とする偏光
板。