JP2002343137A

JP2002343137A - 樹脂フィルム及び、前記樹脂フィルムを用いた偏光板

Info

Publication number: JP2002343137A
Application number: JP2001147731A
Authority: JP
Inventors: Toru Kobayashi; 徹小林; Takashi Murakami; 隆村上
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2001-05-17
Filing date: 2001-05-17
Publication date: 2002-11-29

Abstract

(57)【要約】【課題】ゴミの付着量、カール度、泡、異物故障等が
少なく、プロテクトフィルムを剥離除去した後の帯電量
が少ないので液晶の異常表示が皆無であり、且つ、偏光
子との密着性が良好な樹脂フィルム及びそれを用いた偏
光板を提供する。【解決手段】一方の面上に反射防止層を有し、もう一
方の面上に導電性材料を含有する導電性層を有し、且
つ、該導電性層の表面比抵抗が１０¹¹Ω／□（２５℃、
５５％ＲＨ）以下であることを特徴とする樹脂フィル
ム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は樹脂フィルム及び前
記樹脂フィルムを用いた偏光板に関する。

【０００２】

【従来の技術】染色一軸延伸されたポリビニルアルコー
ル膜（ＰＶＡ膜）の偏光子に、セルローストリアセテー
トフィルムを保護フィルムとして貼り合わせた偏光板
は、広く液晶表示素子として、パソコンや液晶テレビ、
電卓や電化製品、時計等の表示部、自動車のナビゲータ
ー等の高精細表示体に広く利用されている。

【０００３】最も広く保護フィルムとして使用されてい
るセルローストリアセテートフィルムの場合、予めアル
カリ液で表面のケン化処理を行い、しかる後にポリビニ
ルアルコール系接着剤等で積層し偏光フィルムとしてい
る。しかし、上記アルカリ処理は高濃度アルカリ液を使
用するため、作業安全上また環境保全の上で好ましくな
く、更にアルカリ処理によって、可塑剤のブリードアウ
トや、ヘイズが高くなるなど品質を落とすおそれがあ
る。また、アルカリ処理の前に帯電防止加工や、ハード
コート加工更には反射防止加工などの機能性付与の加工
を行うと、アルカリ処理によってその効果が減殺される
ため、保護フィルムの機能性付与はアルカリ処理後に限
定される等の問題がある。

【０００４】一方、特開平６−９４９１５号、同６−１
１８２３２号、同７−３３３４３６号にはアルカリ処理
を施さなくて良い偏光板用保護フィルムの作製について
記載されている。即ち、偏光子と接着される面にある種
の親水性高分子化合物を含有する層を設ける方法であ
る。しかし、これは表面比抵抗値が高く、偏光板製造工
程において、偏光板用保護フィルムが静電気を帯びやす
くゴミやフィルムの切り粉等が保護フィルム表面に付着
しやすく、偏光子と貼合せた時、異物欠陥として視認性
を損なうことがあった。

【０００５】また、ポリビニルアルコール系接着剤を用
いて偏光子と貼合する際、双方の界面において、微細な
泡が発生したりして貼合面に微細な異物状故障となって
現れることが分かった。これらの欠陥は、視認性を大い
に損なうとともに偏光板製造工程において、著しく収率
をおとすことが判った。これらを改善することが大きな
課題であり、その課題の解決が要望されていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ゴミ
の付着量、カール度、泡、異物故障等が少なく、液晶の
異常表示が皆無であり、且つ、偏光子との密着性が良好
な樹脂フィルム、その製造方法、及びそれを用いた偏光
板を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は下記
の項目１〜１７により達成された。

【０００８】１．一方の面上に反射防止層を有し、もう
一方の面上に導電性材料を含有する導電性層を有し、且
つ、該導電性層の表面比抵抗値が１０¹¹Ω／□（２５
℃、５５％ＲＨ）以下であることを特徴とする樹脂フィ
ルム。

【０００９】２．導電性材料がイオン性高分子化合物を
主成分として含有することを特徴とする前記１に記載の
樹脂フィルム。

【００１０】３．イオン性高分子化合物が分子架橋を有
する４級アンモニウムカチオンポリマーであることを特
徴とする前記２に記載の樹脂フィルム。

【００１１】４．４級アンモニウムカチオンポリマーが
塩素イオンを含まないことを特徴とする前記３に記載の
樹脂フィルム。

【００１２】５．導電性材料が、該導電性材料を構成す
る元素組成として、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓ
ｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ及びＶからなる群から選択さ
れる少なくとも一つの元素を主成分として含有し、且
つ、前記導電性材料の体積抵抗率が１０⁷Ω・ｃｍ（２
５℃、５５％ＲＨ）以下であることを特徴とする前記１
に記載の樹脂フィルム。

【００１３】６．導電性層がセルロースエステル系樹脂
またはアクリル系樹脂を含有することを特徴とする前記
１〜５のいずれか１項に記載の樹脂フィルム。

【００１４】７．導電性層がセルロースエステル系樹脂
を含有する層を有することを特徴とする前記１〜６のい
ずれか１項に記載の樹脂フィルム。

【００１５】８．平均粒径０．０１μｍ以上１０μｍ以
下の微粒子を含有することを特徴とする前記１〜７のい
ずれか１項に記載の樹脂フィルム。

【００１６】９．カール度（２３℃、５５％ＲＨ）を−
１０以上１０以下に調整することを特徴とする前記１〜
８のいずれか１項に記載の樹脂フィルム。

【００１７】１０．導電性層が、親水性高分子化合物
（ａ）を含有する層（１）または、ゼラチンもしくはゼ
ラチン誘導体の少なくとも１種とセルロースエステルと
を含有する層（２）を有することを特徴とする前記１〜
９のいずれか１項に記載の樹脂フィルム。

【００１８】１１．導電性層が、前記一般式〔１〕また
は〔２〕で表される−ＣＯＯＭ基を有する高分子化合物
を含有することを特徴とする前記１〜９のいずれか１項
に記載の樹脂フィルム。

【００１９】１２．親水性高分子化合物（ａ）がポリビ
ニルアルコール誘導体、親水性セルロース誘導体または
天然高分子であることを特徴とする前記１０または１１
に記載の樹脂フィルム。

【００２０】１３．樹脂フィルムがセルロースエステル
を含むことを特徴とする前記１〜１２のいずれか１項に
記載の樹脂フィルム。

【００２１】１４．前記１〜１３のいずれか１項に記載
の樹脂フィルムを用いたことを特徴とする偏光板。

【００２２】１５．前記１〜１３のいずれか１項に記載
の樹脂フィルムを鹸化処理後、偏光子と貼合して作製さ
れたことを特徴とする偏光板。

【００２３】１６．樹脂フィルムの導電性層を設けた側
と偏光子とを貼合して作製されたことを特徴とする前記
１４または１５に記載の偏光板。

【００２４】１７．偏光子がポリビニルアルコール系樹
脂を有することを特徴とする前記１６に記載の偏光板。

【００２５】以下、本発明を詳細に説明する。従来公知
の偏光板作製に用いられる樹脂フィルム上には、種々の
反射防止層が塗設されているが、前記の反射防止層（Ａ
Ｒ層ともいう）はトータル膜厚が１μｍ以下と極めて薄
膜であり、塗布タイプの反射防止層は、塗布工程におい
て、多数の搬送ロールと密着剥離を繰り返すうちに樹脂
フィルムに静電気が蓄積されて（帯電し）、面上にゴミ
等異物が付着し、異物部分の塗布膜がピンホールとなっ
たり、欠落したりして品質を損なってしまう。また、帯
電により、面上で塗布液が乱れを起こし、塗布ムラ故障
となって現れることから、生産収率を損ないやすく、ま
た、使用用途からデイスプレイの最表面に適用されるた
め、これらの故障は目立ちやすく、視認性を損ないやす
いなどの問題点があった。

【００２６】そこで、ゴミの付着、異物故障が少なく、
偏光子との密着性が向上し、且つ、剥離耐電量が少ない
ので液晶の異常表示も少ない偏光板を本発明者等は種々
検討した結果、一方の面上に反射防止層を有し、もう一
方の面上に導電性材料を含有する導電性層を有し、且
つ、該導電性層の表面比抵抗値または前記導電性層を有
する側の樹脂フィルムの最表面層の表面比抵抗値が１０
¹¹Ω／□（２５℃、５５％ＲＨ）以下である樹脂フィル
ムを開発し、前記樹脂フィルムを用いた偏光板を用いる
と上記記載の種々の問題点が解決できること、更に、一
方の面に導電性層を設け、もう一方の面に反射防止層を
設ける為、連続塗布による生産性の向上という利点があ
ることが判った。

【００２７】本発明に係る樹脂フィルムについて説明す
る。本発明に係る樹脂フィルムとしては、例えば、セル
ロースエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、
ポリエステルフィルム及びポリアクリレートフィルム等
が好ましく用いられる。

【００２８】更に、液晶画面の明るさを向上させる等の
観点から、樹脂フィルムの光線透過率が８５％以上であ
ることが好ましい。

【００２９】本発明において、光線透過率の測定は、島
津製作所（株）製ＭＰＳ−２０００を用い、波長５００
ｎｍで測定した。

【００３０】また、成型時に十分な機械的強度を持たせ
る観点から、本発明に係る樹脂フィルムの製膜に用いら
れる樹脂の数平均分子量は、７００００〜３０００００
の範囲が好ましく、更に好ましくは、８００００〜２０
００００である。

【００３１】本発明に係る導電性層について説明する。
本発明に記載の効果を得る観点から、本発明に係る導電
性層の表面比抵抗は１０¹¹Ω／□（２５℃、５５％Ｒ
Ｈ）以下に調整されることが好ましく、更に好ましく
は、１０¹⁰Ω／□（２５℃、５５％ＲＨ）以下であり、
特に好ましくは、１０⁹Ω／□（２５℃、５５％ＲＨ）
以下である。

【００３２】ここで、表面比抵抗値の測定の詳細は実施
例に記載するが、試料を２５℃、５５％ＲＨの条件にて
２４時間調湿し、川口電機株式会社製テラオームメータ
ーモデルＶＥ−３０を用いて測定した。

【００３３】また、本発明に係る導電性層上に更にその
他の層が設けられた場合、または、導電性層上にカール
防止等の処理が行われた場合には、表面比抵抗値の測定
は、導電性層が設けられている側の最表面層における表
面比抵抗値を実質的に導電性層の表面比抵抗値として定
義する。

【００３４】本発明に係る導電性層の表面比抵抗値を上
記記載の範囲に調整するためには、下記に示すような導
電性材料が好ましく用いられる。

【００３５】ここで、本発明に係る導電性材料について
説明する。本発明に係る導電性材料としては、イオン性
高分子化合物、金属酸化物等が好ましく用いられる。

【００３６】イオン性高分子化合物としては、特公昭４
９−２３８２８号、同４９−２３８２７号、同４７−２
８９３７号にみられるようなアニオン性高分子化合物；
特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特
公昭５９−１４７３５号、同５７−１８１７５号、同５
７−１８１７６号、同５７−５６０５９号などにみられ
るような、主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマ
ー；特公昭５３−１３２２３号、同５７−１５３７６
号、特公昭５３−４５２３１号、同５５−１４５７８３
号、同５５−６５９５０号、同５５−６７７４６号、同
５７−１１３４２号、同５７−１９７３５号、特公昭５
８−５６８５８号、特開昭６１−２７８５３、同６２−
９３４６にみられるような、側鎖中にカチオン性解離基
をもつカチオン性ペンダント型ポリマー；等を挙げるこ
とができる。

【００３７】特に好ましいイオン性高分子化合物として
は、次記一般式〔３〕および〔３ａ〕、〔３ｂ〕の構造
のユニットを有するポリマーが挙げられる。

【００３８】

【化２】

【００３９】

【化３】

【００４０】式中Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆は炭素数１〜４の
置換あるいは未置換のアルキル基を表わし、Ｒ₃とＲ₄及
び／またはＲ₅とＲ₆が結合してピペラジンなどの含窒素
複素環を形成してもよい。Ａ、Ｂ及びＤはそれぞれ炭素
数２〜１０の置換あるいは未置換のアルキレン基、アリ
ーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、
−Ｒ₇ＣＯＲ₈−、−Ｒ₉ＣＯＯＲ₁₀ＯＣＯＲ₁₁−、−Ｒ
₁₂ＯＣＲ₁₃ＣＯＯＲ₁₄−、−Ｒ₁₅−（ＯＲ₁₆）_m−、−
Ｒ₁₇ＣＯＮＨＲ₁₈ＮＨＣＯＲ₁₉−、−Ｒ₂₀ＯＣＯＮＨＲ
₂₁ＮＨＣＯＲ₂₂−または−Ｒ₂₅ＮＨＣＯＮＨＲ₂₄ＮＨＣ
ＯＮＨＲ₂₅−を表す。Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ
₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂ ₂、Ｒ₂₃および
Ｒ₂₅はアルキレン基、Ｒ₁₀、Ｒ₁₃、Ｒ₁₈、Ｒ₂₁およびＲ
₂₄はそれぞれ置換または未置換のアルキレン基、アルケ
ニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基、ア
ルキレンアリーレン基から選ばれる連結基、ｍは１〜４
の正の整数を表し、Ｘ^-はアニオンを表す。

【００４１】ただし、Ａがアルキレン基、ヒドロキシア
ルキレン基あるいは、アリーレンアルキレン基である時
には、Ｂがアルキレン基、ヒドロキシルアルキレン基あ
るいはアリーレンアルキレン基ではないことが好まし
い。

【００４２】Ｅは単なる結合手、−ＮＨＣＯＲ₂₆ＣＯＮ
Ｈ−またはＤから選ばれる基を表わす。Ｒ₂₆は置換ある
いは未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレ
ン基、アリーレンアルキレン基、またはアルキレンアリ
ーレン基を表わす。

【００４３】Ｚ₁、Ｚ₂は−Ｎ＝Ｃ−基は共に５員または
６員環を形成するのに必要な非金属原子群（≡Ｎ
⁺［Ｘ^-］−なる４級塩の形でＥに連結してもよい）を表
わす。

【００４４】ｎは５〜３００の整数を表わす。中でも、
分子架橋を有する４級アンモニウムカチオンポリマーが
特に好ましく、ダイオキシンの発生防止等環境安全性の
観点から、塩素イオンを含まず、且つ、分子架橋を有す
る４級アンモニウムカチオンポリマーが特に好ましく用
いられる。

【００４５】以下に、本発明に係るイオン性高分子化合
物の具体例を挙げるが本発明はこれらに限定されない。

【００４６】

【化４】

【００４７】

【化５】

【００４８】

【化６】

【００４９】

【化７】

【００５０】

【化８】

【００５１】

【化９】

【００５２】

【化１０】

【００５３】本発明に係るイオン性高分子化合物は、こ
れを単独で用いてもよいし、あるいは数種類のイオン性
高分子化合物を組み合わせて使用してもよい。本発明に
係るイオン性高分子化合物の樹脂フィルム中の含有量
は、０．００５ｇ〜２．０ｇ／ｍ²が好ましく、特に好
ましくは、０．０１ｇ〜１．０ｇ／ｍ²である。

【００５４】また、導電性材料を構成する元素組成とし
て、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂ
ａ、Ｍｏ、Ｗ及びＶからなる群から選択される少なくと
も一つの元素を主成分として含有し、且つ、体積抵抗率
が１０⁷Ω・ｃｍ以下であるような導電性材料が好まし
く用いられる。

【００５５】前記導電性材料としては、上記の元素を有
する金属酸化物、複合酸化物等が挙げられる。

【００５６】金属酸化物の例としては、特にＺｎＯ、Ｔ
ｉＯ₂及びＳｎＯ₂が好ましい。異種原子を含む例として
は、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、Ｔｉ
Ｏ₂に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加、またＳｎＯ₂に対し
ては、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的であ
る。これら異種原子の添加量は０．０１ｍｏｌ％〜２５
ｍｏｌ％の範囲が好ましいが、０．１ｍｏｌ％〜１５ｍ
ｏｌ％の範囲が特に好ましい。

【００５７】また、これらの導電性を有する金属酸化物
粉体の体積抵抗率としては、１０⁷Ωｃｍ以下が好まし
く、特に好ましくは、１０⁵Ωｃｍ以下であり、１次粒
子径としては、１０ｎｍ〜０．２μｍが好ましく、ま
た、高次構造の長径が３０ｎｍ〜６μｍである特定の構
造を有する粉体を導電層に体積分率で０．０１％〜２０
％以下含んでいることが好ましい。

【００５８】また、本発明の樹脂フィルムに係る導電性
層が十分な帯電防止効果を示し、且つ、充分な易接着性
を保持するためには、親水性高分子化合物（ａ）、ゼラ
チンまたはゼラチン誘導体の少なくとも１種とセルロー
スエステルに対する導電性素材の量は、２０％〜３００
％が好ましく、３０％〜２００％がより好ましい。

【００５９】更に、本発明においては、導電性層中に微
粒子を添加してもよく、例えば、シリカ、コロイダルシ
リカ、アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マ
イカ、炭酸カルシウム等を構成成分として含有する微粒
子をあげることができる。

【００６０】上記記載の微粒子の平均粒径は、０．０１
μｍ〜１０μｍが好ましく、より好ましくは０．０１μ
ｍ〜５μｍ、また添加量は、塗布剤中の固形分に対して
質量比で０．０５部〜１０部が好ましく、特に好ましい
のは０．１部〜５部である。

【００６１】また、上記記載の導電性材料を用いて、導
電性層の表面比抵抗値を本発明の数値範囲に調整する一
手段として、セルロースエステル系樹脂フィルム、アク
リル系樹脂が好ましく用いられる。

【００６２】セルロースエステル系樹脂としては、例え
ばセルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
アセテートブチレート、セルロースアセテートフタレー
ト、またはセルロースナイトレート等のセルロース誘導
体が挙げられる。

【００６３】また、アクリル系樹脂としては、例えば、
アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン
（株）製）、ハイパールＭ−４００３、Ｍ−４００５、
Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０００、Ｍ−５０
０１、Ｍ−４５０１（根上工業株式会社製）、ダイヤナ
ールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−５３、ＢＲ−６
０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７
７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８
３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−９
０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１００、ＢＲ−１
０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０６、Ｂ
Ｒ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１
３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ
−１１８等（三菱レーヨン（株）製）のアクリル及びメ
タクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリ
マー並びにコポリマーなどが好ましく用いられる。

【００６４】本発明に係る導電性層に偏光子及び／また
は、その他の構成層などに対する易接着性機能を付与す
るためには、例えば、導電性層が親水性高分子化合物
（ａ）の少なくとも１種を含有する層（１）、またはゼ
ラチンまたはゼラチン誘導体の少なくとも１種とセルロ
ースエステルを含有する層（２）を有することが好まし
く、また、導電性材料は前記の層（１）または層（２）
に含有されることが好ましい。

【００６５】本発明に係る親水性高分子化合物（ａ）と
しては好ましくは、親水性セルロース誘導体（例えば、
メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシセルロース等）、ポリビニルアルコール誘導体
（例えば、ポリビニルアルコール、酢酸ビニルービニル
アルコール共重合体、ポリビニルアセタール、ポリビニ
ルホルマール、ポリビニルベンザール等）、天然高分子
化合物（例えば、ゼラチン、カゼイン、アラビアゴム
等）、親水性ポリエステル誘導体（例えば、部分的にス
ルホン化されたポリエチレンテレフタレート等）、親水
性ポリビニル誘導体（例えば、ポリ−Ｎ−ビニルピロリ
ドン、ポリアクリルアミド、ポリビニルインダゾール、
ポリビニルピラゾール等）等が挙げられるが、中でも、
親水性セルロース誘導体、ポリビニルアルコール誘導
体、天然高分子化合物等が更に好ましく用いられる。上
記の誘導体は、もちろん、単独あるいは２種以上併用し
て用いることができる。

【００６６】セルロースエステルとしては、セルロース
トリアセテート、セルロースジアセテート、セルロース
アセテートプロピオネートまたはセルロースアセテート
ブチレートが好ましく用いられる。

【００６７】また、本発明に係る導電性層は、偏光板作
製時において、種々の材料（例えば、偏光子等）やその
他の偏光板構成層と易接着する機能を有するか、若しく
は、易接着層を更に有することが好ましいが、前記易接
着機能を持たせる手段としては、上記記載の一般式
〔１〕または〔２〕で表される−ＣＯＯＭ基含有高分子
化合物、上記記載の親水性高分子化合物（ａ）またはゼ
ラチンまたはゼラチン誘導体の少なくとも１種を含有さ
せることが好ましい手段として挙げられる。

【００６８】上記記載の一般式〔１〕及び〔２〕におい
て、Ａで表される繰り返し単位を生成するビニル単量体
としては、例えば、スチレン、ニトロ基、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子、クロロメチル基、低級アルキル基
（低級とは炭素原子数１〜５を表す）等で置換されたス
チレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテ
ル、ビニルクロロエチルエーテル、酢酸ビニル、クロロ
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリル酸、メタク
リル酸またはイタコン酸等の不飽和酸、アクリル酸若し
くはメタクリル酸のアルキルエステル（該アルキル基は
炭素数１〜５の、非置換アルキル基または塩素原子、フ
ェニル基等で置換したアルキル基）、アクリル酸若しく
はメタクリル酸のフェニルエステル（該フェニル基は非
置換フェニル基または塩素原子、フェニル基等で置換し
たフェニル基）、アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、エチレン、アクリルアミド、炭素数１〜５
のアルキル基あるいは塩素、フェニル基等で置換したア
クリルアミド、ビニルアルコール、クリシジルアクリレ
ート、アクロレイン等があり、好ましくはスチレン、置
換基を有するスチレン、酢酸ビニル、ビニルメチルエー
テル、アルキルアクリレート、アクリロニトリル等が挙
げられる。

【００６９】Ｒ′で表されるアルキル基としては、炭素
数１〜２４のものが好ましく、直鎖アルキル基、分岐ア
ルキル基及びシクロアルキル基のいずれでもよく、また
該アルキル基は置換基を有していてもよい。

【００７０】前記の置換基としてはヒドロキシル基、ヒ
ドロキシカルボニル基、−ＣＯＯＭ′（Ｍ′はカチオン
を表す）基等で、特にフッ素原子のようなハロゲン原子
で置換された炭素数２〜１８のハロゲン置換アルキル基
または炭素数２〜１８のハロゲン置換アルキルオキシア
ルキル基が接着性向上の観点から好ましく用いられる。
該ハロゲン置換アルキル基及び該ハロゲン置換アルキル
オキシアルキル基に置換されたハロゲン原子数は望まし
くは１〜３７である。このハロゲン置換アルキル基及び
ハロゲン置換アルキルオキシアルキル基並びに一般式
〔２〕中のＲ₃が表すハロゲン置換アルキル基及びハロ
ゲン置換アルキルオキシアルキル基は、好ましくは下記
一般式〔Ａ〕で示される。

【００７１】

【化１１】

【００７２】式中、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉及び
Ｒ₁₀は各々、水素原子またはフッ素原子を表し、ｎは１
〜１２の整数を表し、ｎ２は０または１であり、ｎ２が
０のときにはｎ１は０、ｎ２が１のときにはｎ１は２ま
たは３であって、ｎ３は１〜１７の整数を表す。但し、
ｎ１＋ｎ３は１〜１７である。なお、Ｒ₄が一般式
〔Ａ〕中で２個以上ある場合には、各々が同一でもよ
く、異なっていても良い。同様にＲ₅、Ｒ₆及びＲ₇がそ
れぞれ一般式〔Ａ〕中に複数個あるときには、各々が同
一でもよく、異なっていても良い。

【００７３】前記一般式〔１〕及び一般式〔２〕におい
て、Ｒ′が前述のようなハロゲン置換アルキル基または
ハロゲン置換アルキルオキシアルキル基のときには、好
ましくは前記一般式〔１〕中のＲは−Ｏ−Ｒ′である。

【００７４】Ｒ′が表す複素環またはＲ′とＲ″とで形
成する複素環としては、酸素原子、イオウ原子または窒
素原子を含む飽和または不飽和の複素環が好ましく、例
えばアジリジン、ピロール、ピロリジン、ピラゾール、
イミダゾール、イミダゾリン、トリアゾール、ピペリジ
ン、ピペラジン、オキサジン、モルホリン、チアジン等
の複素環から選択される複素環が挙げられる。

【００７５】Ｍが表すカチオンとしては、例えばアンモ
ニウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リ
チウムイオン等が挙げられる。

【００７６】上記一般式〔１〕または〔２〕で示される
−ＣＯＯＭ基含有高分子化合物は、単独または２種以上
併用して用いてもよく、また、本発明に係る上記一般式
〔１〕または〔２〕で示される−ＣＯＯＭ基含有高分子
化合物の分子量としては、平均分子量約５００〜５０
０，０００（重量平均分子量）程度のものが好ましく用
いられる。

【００７７】以下、一般式〔１〕または〔２〕で示され
る−ＣＯＯＭ基含有高分子化合物の具体例を挙げるが、
本発明はこれらに限定されない。

【００７８】

【化１２】

【００７９】

【化１３】

【００８０】

【化１４】

【００８１】

【化１５】

【００８２】

【化１６】

【００８３】また、本発明に好ましく用いられる易接着
層の例としては、−ＣＯＯＭ（Ｍは水素原子またはカチ
オンを表す）基を有する高分子化合物を含有する層を含
むものであり、更に好ましい態様は樹脂フィルム側の導
電性層が塗設されている側に、−ＣＯＯＭ基を有する高
分子化合物を含有する層を設け、それに隣接させて偏光
膜側に親水性高分子化合物を主たる成分として含む層を
設けたものである。ここでいう−ＣＯＯＭ基を有する高
分子化合物としては例えば、上記記載の一般式〔１〕ま
たは〔２〕で表される−ＣＯＯＭ基含有高分子化合物、
−ＣＯＯＭ基を有するスチレン−マレイン酸共重合体や
−ＣＯＯＭ基を有する酢酸ビニル−マレイン酸共重合
体、酢酸ビニル−マレイン酸−無水マレイン酸共重合体
などであり、特に−ＣＯＯＭ基を有する酢酸ビニル−マ
レイン酸共重合体が好ましい。

【００８４】このような高分子化合物を単独でまたは２
種以上併用して用い、好ましい重量平均分子量としては
５００〜５００，０００程度のものであると良い。−Ｃ
ＯＯＭ基を有する高分子化合物の特に好ましい例は特開
平６−０９４９１５号、同７−３３３４３６号記載のも
のが好ましく用いられる。

【００８５】本発明の樹脂フィルムにはブロッキング防
止加工も適用することができ、樹脂フィルムの取扱易さ
を付与するのに役立つ。

【００８６】これらの易接着層には接着の際の密着性を
よくし貼合後に欠陥が生じないようにするために粗面化
するのが効果がある。また、本発明の樹脂フィルムにお
いて反射防止層或いは防眩層の更に上に保護膜フィルム
を貼りつける場合等には、最表層が粗面化されているこ
とが好ましい。この為に、最表層には平均粒径が１．０
μｍ以下の微粒子が添加されていることが好ましい。用
いられる微粒子としては前記防眩層において挙げられた
無機有機の微粒子が使用できる。このものの中より、
１．０μｍ以下の粒子を選択して用いればよい。これら
の微粒子としては、好ましくはシリカなどの酸化珪素、
例えば富士シリシア化学（株）製のサイリシアや日本シ
リカ（株）製のＮｉｐｓｉｌＥなどがある。

【００８７】本発明に係る反射防止層について説明す
る。本発明に係る反射防止層の構成としては、単層、多
層等各種知られているが、多層のものとしては高屈折率
層、低屈折率層を交互に積層した構成が好ましく用いら
れる。

【００８８】構成の例としては、例えば、樹脂フィルム
上に高屈折率層／低屈折率層の２層構成のものや、屈折
率の異なる３層を、中屈折率層（樹脂フィルム或いはハ
ードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈
折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層さ
れているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層す
るものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、
コストや生産性などから、ハードコート層を有する樹脂
フィルム上に、高屈折率層／中屈折率層／低屈折率層の
順に塗布することが好ましい構成である。

【００８９】樹脂フィルム面に（中屈折層を設ける場合
もある）高屈折率層、空気に向かって低屈折率層を順に
積層し、高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚光の波長
に対しある値に設定することにより光学干渉層を作り、
反射防止積層体としたものが反射防止層としては特に好
ましく、屈折率と膜厚は分光反射率の測定より計算して
算出し得る。

【００９０】屈折率の高低はそこに含まれる金属或いは
化合物によってほぼ決まり、例えばＴｉは高く、Ｓｉは
低く、Ｆを含有する化合物は更に低く、このような組み
合わせによって屈折率が設定される。

【００９１】樹脂フィルム上に多層の反射防止層を逐次
積層して反射防止層を作製するには、反射防止層のうち
少なくとも１層を、高屈折率層としてはチタン、ジルコ
ニウム等の金属アルコキシド及びその加水分解物から選
ばれる化合物、活性エネルギー線反応性化合物及び有機
溶媒を含有する組成物を塗布し、活性エネルギー線を照
射して形成された高屈折率層と、この上に（中屈折層を
設ける場合もある）、低屈折物質及び有機溶媒を含有す
る低屈折率層組成物を塗布し低屈折率塗膜とした後に、
活性エネルギーを付与して低屈折率層を形成し反射防止
層を形成する。

【００９２】本発明に用いられる高屈折率層は、樹脂フ
ィルム上の多層ある反射防止層のうち少なくとも１層
を、活性エネルギー線反応性基を有しない金属アルコキ
シド及びその加水分解物から選ばれる少なくとも一つ、
後述する一般式（II）で表される活性エネルギー線反応
性の金属アルコキシド化合物やその他の活性エネルギー
線反応性化合物を含有しており、高屈折率組成物を樹脂
フィルム上に塗設後、塗膜に活性エネルギー線を照射し
て任意の屈折率の高屈折率層を形成するものである。

【００９３】高屈折率層に使用される金属アルコキシド
及びその部分加水分解物から選ばれる少なくとも一つの
化合物、及び後述する一般式（II）の活性エネルギー線
反応性の金属アルコキシド化合物の何れの金属は同様な
ものであり、金属としてはＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎ
ｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、
Ｓｂ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｔａ、Ｔｌ、Ｗ、Ｃｅ及びＮｄを挙
げることが出来る。後述する一般式（II）の活性エネル
ギー線反応性の金属アルコキシド化合物の何れの金属化
合物は、特に紫外線照射により、これらを含有する層の
屈折率を変化させるのに役立つ。好ましい金属として
は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓ
ｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｌ、Ｗ及びＣｅであり、特に屈折率
を変化させ易い好ましい金属としてはＴｉ、Ｚｒ、Ｔ
ｌ、Ｉｎ（Ｉｎ−Ｓｎ錯体として）、Ｓｒ（Ｓｒ−Ｔｉ
Ｏ₂錯体として）である。

【００９４】屈折率を変化させるのに必要な活性エネル
ギー線量、特に紫外線照射量は、後述の紫外線反応性化
合物を反応硬化させる照射量と同程度でよい。また、活
性エネルギーとしてプラズマ照射、熱処理等によっても
可能である。

【００９５】活性エネルギー線反応性基を有しない金属
アルコキシドとしては、炭素原子数１〜１０のものがよ
いが、好ましくは炭素原子数１〜４である。また金属ア
ルコキシドの加水分解物はアルコキシド基が加水分解を
受けて−金属原子−酸素原子−金属原子−のように反応
し、架橋構造を作り、硬化した層を形成する。

【００９６】活性エネルギー線反応性基を有しない金属
アルコキシドの例として；Ａｌのアルコキシドとして
は、Ａｌ（Ｏ−ＣＨ₃）₃、Ａｌ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ａｌ
（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₃、Ａｌ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₃；Ｓｉ
の例としては、Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₄、Ｓｉ（ＯＣ
₂Ｈ₅）₄、Ｓｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｓｉ（Ｏ−ｔ−Ｃ
₄Ｈ₉）₄；Ｔｉの例としては、Ｔｉ（ＯＣＨ₃）₄、Ｔｉ
（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−
ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄、Ｔｉ（Ｏ−
ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₄の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ
₃Ｈ₇）₄の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄の２
〜１０量体、Ｖの例としては、ＶＯ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃；Ｚ
ｎの例としては、Ｚｎ（ＯＣ₂Ｈ₅）₂；Ｙの例としては
Ｙ（ＯＣ₄Ｈ₉）₃；Ｚｒの例としては、Ｚｒ（ＯＣＨ₃）
₄、Ｚｒ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）４、Ｚ
ｒ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｚｒ（Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉）₄、Ｚ
ｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉） ₄の２〜１０量体；Ｉｎの例とし
ては、Ｉｎ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₃；Ｓｎの例としては、
Ｓｎ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄、Ｔａの例としてはＴａ（Ｏ
ＣＨ₃）₅、Ｔａ（Ｏ−ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₅、Ｔａ（Ｏ−ｉ−
Ｃ₃Ｈ₇）₅、Ｔａ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₅；Ｗの例として
は、Ｗ（ＯＣ₂Ｈ₅）₆；Ｃｅの例としては、Ｃｅ（ＯＣ₃
Ｈ₇）₃等が挙げられる。これらを単独でまたは２種以上
組み合わせて用いることが出来る。中でも、Ｔｉ（Ｏ−
ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｔｉ（Ｏ−
ｎ−Ｃ ₄Ｈ₉）₄、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）₄の２〜１０量
体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄の２〜１０量体；Ｚｒ
（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄；Ｓｉ
（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｓｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₄が特に好まし
い。

【００９７】上記金属アルコキシドを加水分解（部分ま
たは完全加水分解）させて使用してもよく、酸性触媒ま
たは塩基性触媒の存在下に例えば上記の金属アルコキシ
ドを有機溶媒中で加水分解することによって得られる。
この酸性触媒としては、例えば硝酸、塩酸等の鉱酸やシ
ュウ酸、酢酸等の有機酸がよく、また塩基性触媒として
は、例えばアンモニア等が挙げられる。

【００９８】上記金属アルコキシド化合物を含む層は、
金属アルコキシド自身が自己縮合して架橋し網状結合す
るものである。その反応を促進するために触媒や硬化剤
を使用することが出来、それらには金属キレート化合
物、有機カルボン酸塩等の有機金属化合物や、アミノ基
を有する有機ケイ素化合物、光酸発生剤等がある。これ
らの触媒または硬化剤の中で特に好ましいのは、アルミ
キレート化合物と光による酸発生剤（光酸発生剤）であ
り、アルミキレート化合物の例としてはエチルアセトア
セテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウ
ムトリスエチルアセトアセテート、アルキルアセトアセ
テートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウム
モノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテー
ト、アルミニウムトリスアセチルアセトネート等であ
り、他の光酸発生剤の例としてはベンジルトリフェニル
ホスホニウムヘキサフルオロホスフェートやその他のホ
スホニウム塩やトリフェニルホスホニウムヘキサフルオ
ロホスフェートの塩等を挙げることが出来る。

【００９９】使用する活性エネルギー線反応性基を有し
ない金属アルコキシド及び／またはその加水分解物を含
む塗布組成物には、塗布液の保存安定化のためにβ−ジ
ケトンと反応させてキレート化合物を添加することによ
り安定な塗布組成物とすることが出来る。このβ−ジケ
トンの具体例として、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エ
チル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プ
ロピル、アセチルアセトン等を挙げることが出来るが、
特に安定性の面から好ましいのは、アセト酢酸エチルで
ある。β−ジケトンは、上記金属アルコキシドまたはそ
の加水分解物に対してモル比として０．５〜２の範囲で
用いられるが、より好ましい範囲は０．８〜１．２であ
る。

【０１００】高屈折率層に好ましく使用される、後述す
る一般式（II）の活性エネルギー線反応性の金属アルコ
キシドの化合物以外のその他の活性エネルギー線反応性
化合物は、重合可能なビニル基、アリル基、アクリロイ
ル基、メタクリロイル基、イソプロペニル基、エポキシ
基等の重合性基を二つ以上有するもので、活性エネルギ
ー線照射により架橋構造または網目構造を形成するもの
が好ましい。これらの活性基のうちアクリロイル基、メ
タクリロイル基またはエポキシ基が重合速度、反応性の
点から好ましく、多官能モノマーまたはオリゴマーがよ
り好ましい。

【０１０１】アクリル基またはメタクリル基を有する上
記活性エネルギー線硬化性樹脂としては、紫外線硬化型
アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルア
クリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート
系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂等
を挙げることが出来る。

【０１０２】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物
に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタ
クリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表
示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水
酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させるこ
とによって容易に得ることが出来る（例えば、特開昭５
９−１５１１１０号）。

【０１０３】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシ
ル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジル
アクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応さ
せることによって容易に得ることが出来る（例えば、特
開昭５９−１５１１１２号）。

【０１０４】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリ
ル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノ
マーを反応させて得られる。

【０１０５】紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹
脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性
ジペンタエリスリトールペンタエリスリトール等を挙げ
ることが出来る。

【０１０６】上記活性エネルギー線反応性化合物を光重
合或いは光架橋反応を開始させるには上記活性エネルギ
ー線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が
長かったり重合開始が遅かったりするため、光増感剤や
光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早
めることが出来る。これらの光増感剤や光開始剤は公知
のものを使用し得る。具体的には、アセトフェノン、ベ
ンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケ
トン、α−アミロキシムエステル、テトラメチルウラム
モノサルファイド、チオキサントン等及びこれらの誘導
体を挙げることが出来る。

【０１０７】また、エポキシアクリレート基を有する活
性エネルギー線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等
の増感剤を用いることが出来る。光反応を開始するには
この活性エネルギー線反応性化合物に用いられる光反応
開始剤または光増感剤の量は紫外線反応性化合物の１０
０質量部に対して０．１〜１５質量部で十分であり、好
ましくは１〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線
領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好まし
い。

【０１０８】活性エネルギー線反応性エポキシ樹脂も好
ましく用いられる。活性エネルギー線反応性エポキシ樹
脂としては、芳香族エポキシ化合物（多価フェノールの
ポリグリシジルエーテル）、例えば、水素添加ビスフェ
ノールＡまたはビスフェノールＡとエピクロルヒドリン
との反応物のグリシジルエーテル、エポキシノボラック
樹脂、脂肪族エポキシ樹脂としては、脂肪族多価アルコ
ールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリ
シジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジル
エステル、グリシジルアクリレートやグリシジルメタク
リレートのホモポリマー、コポリマーなどがあり、その
代表例としては、エチレングリコールジグリシジルエー
テル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジ
エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレング
リコールグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオール
ジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグ
リシジルエーテル、ノナプロピレングリコールジグリシ
ジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエ
ーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ジグリセ
ロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールテトラ
グリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリ
シジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジル
エーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエー
テル、ソルビトールのポリグリシジルエーテル、脂環式
エポキシ化合物、例えば、３，４−エポキシシクロヘキ
シルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル
−５，５−スピロ−３′，４′−エポキシ）シクロヘキ
サン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシク
ロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセン
ジオキサイド、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシ
クロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−
６−メチルシクロヘキシル−３′，４′−エポキシ−６
−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビ
ス（３，４−エポキシシクロヘキサン）ジシクロペンタ
ジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，
４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレ
ンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレ
ート）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、トリス
（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジグリシ
ジルエーテル、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシ
アヌレートのトリグリシジルエーテル、ポリグリシジル
アクリレート、ポリグリシジルメタクリレート、グリシ
ジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートと他
のモノマーとの共重合物、ポリ−２−グリシジルオキシ
エチルアクリレート、ポリ−２−グリシジルオキシエチ
ルメタクリレート、２−グリシジルオキシエチルアクリ
レート、２−グリシジルオキシエチルアクリレートまた
は２−グリシジルオキシエチルメタクリレートと他のモ
ノマーとの共重合物、ビス−２，２−ヒドロキシシクロ
ヘキシルプロパンジグリシジルエーテル等を挙げること
が出来、単独または２種以上組み合わせた付加重合物を
挙げることが出来る。本発明はこれらの化合物に限定せ
ず、これらから類推される化合物も含むものである。

【０１０９】活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹
脂は、エポキシ基を分子内に２つ以上有するもの以外
に、モノエポキサイドも所望の性能に応じて配合して使
用することが出来る。

【０１１０】活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹
脂はラジカル重合によるのではなく、カチオン重合によ
り重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカル
重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ま
しい活性エネルギー線反応性樹脂である。

【０１１１】エチルスルホン酸銀、ポリ硼素酸銀等も好
ましく用いることが出来る。有用な活性エネルギー線反
応性エポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチ
オン重合を開始させる物質を放出する化合物を光重合開
始剤または光増感剤により重合する。照射によりカチオ
ン重合させるルイス酸を放出するオニウム塩での複塩の
一群が特に好ましい。

【０１１２】以下、本発明に用いられるオニウム塩とし
ては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。

【０１１３】一般式（Ｉ）〔（Ｒ₁）_a（Ｒ₂）_b（Ｒ₃）_c（Ｒ₄）_dＺ〕^+w〔Ｍｅ
Ｘ_v〕^-w 式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔ
ｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、
Ｂｒ、Ｃｌ）、またはＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ₁、
Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は同一であっても異なっていてもよい有
機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数
であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅは
ハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属
（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、
Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓ
ｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであ
り、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖ
はハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
ｖから中心原子Ｍｅの価数を減じたものがｗとなる。

【０１１４】上記一般式（Ｉ）で表される化合物の陰イ
オン〔ＭｅＸ_v〕^-wの具体例としては、テトラフルオロ
ボレート（ＢＦ₄ ^-）、テトラフルオロホスフェート（Ｐ
Ｆ₄ ^-）、テトラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ₄ ^-）、
テトラフルオロアルセネート（ＡｓＦ₄ ^-）、ヘキサクロ
ロアンチモネート（ＳｂＣｌ₄ ^-）等を挙げることが出来
る。更に陰イオン〔ＭｅＸ_v〕^-wには（ＯＨ^-）の陰イオ
ンも用いることが出来る。また、その他の陰イオンとし
ては過塩素酸イオン（ＣｌＯ₄ ^-）、トリフルオロメチル
亜硫酸イオン（ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-）、フルオロスルホン酸イ
オン（ＦＳＯ₃ ^-）、トルエンスルホン酸イオン、トリニ
トロベンゼン酸陰イオン等を挙げることが出来る。

【０１１５】このようなオニウム塩の中でも特に芳香族
オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが特
に有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同
５０−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、
特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、
同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記
載のVIＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８
号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号
等に記載のオキソスルホニウム塩、特公昭４９−１７０
４０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第
４，１３９，６５５号等に記載のチオピリリウム塩等が
好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性ケイ素化
合物系重合開始剤等を挙げることが出来る。上記カチオ
ン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロ
ピルエーテル、チオキサントンなどの光増感剤を併用す
ることが出来る。

【０１１６】活性エネルギー線硬化樹脂組成物におい
て、重合開始剤は、一般的には活性エネルギー線硬化性
エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質量部に対して好
ましくは０．１〜１５質量部、より好ましくは１〜１０
質量部の範囲で添加される。またエポキシ樹脂を上記ウ
レタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート
型樹脂等とも併用することも出来、この場合、活性エネ
ルギー線ラジカル重合開始剤と活性エネルギー線カチオ
ン重合開始剤を併用することが好ましい。

【０１１７】活性エネルギー線硬化樹脂含有層には、公
知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂或いはゼラチンなどの
親水性樹脂等のバインダーを上記活性エネルギー線硬化
樹脂に混合して使用することが出来る。これら樹脂には
その分子中に極性基を持っていることが好ましく、極性
基としては、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ₂、−ＮＲ
₃Ｘ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ₃Ｍ₂、−ＯＰＯ₃
Ｍ（ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金属またはアンモ
ニウム基を、Ｘはアミン塩を形成する酸を、Ｒは水素原
子、アルキル基を表す）等を挙げることが出来る。

【０１１８】次に、一般式（II）で表される活性エネル
ギー線反応性の金属アルコキシド化合物について説明す
る。

【０１１９】一般式（II）Ｍ（Ｒ₁）_m（Ｒ₂）_n（ＯＲ₃）_p 式中、Ｏは酸素原子、Ｒ₁は活性エネルギー線反応性基
で、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、アクリロ
イル基、メタクリロイル基、エポキシ基を有する基を表
し、Ｒ₂は炭素原子数１〜４の脂肪族炭化水素基を表
し、Ｒ₃は炭素原子数１〜４の脂肪族炭化水素基または
水素原子を表し、ｍ＋ｎ＋ｐ＝ｑで、ｑは金属の原子価
で、ｑ−１≧ｍ≧１、ｑ−１≧ｐ≧１、ｑ−１≧ｎ≧０
であり、ｍ、ｎ及びｐは正の整数を表す。

【０１２０】一般式（II）の活性エネルギー線反応性の
金属アルコキシド化合物のＲ₁は活性エネルギー線反応
性基で不飽和二重結合性の官能基を有しており、上記の
うちアクリロイル基、メタクリロイル基またはエポキシ
基が反応性の速さから好ましい。また反応する際、酸素
の影響を受けないエポキシ基が特に好ましい。Ｒ₃Ｏの
アルコキシ基は、前述の活性エネルギー線反応性基を有
しない金属アルコキシドと同様に加水分解を受けながら
金属酸化物へと連鎖的に反応する。

【０１２１】この活性エネルギー線反応性の金属アルコ
キシド化合物は上記活性エネルギー線反応性基を有しな
い金属アルコキシド化合物とともに加水分解を受けなが
ら相互に反応し、金属酸化物マトリックスの中に組み込
まれ、結合し架橋する。

【０１２２】一方、活性エネルギー線反応性の金属アル
コキシド化合物の活性エネルギー線反応性基とこれ以外
の活性エネルギー線反応性化合物も、活性エネルギー線
により重合し、相互に架橋結合を形成する。

【０１２３】これら両方の架橋結合が相乗効果となって
これらを含有する層は非常に高い硬度を持つようにな
る。これらの架橋構造は、無機酸化物と有機ポリマーが
結合し合ったハイブリッドの状態になっていると考えら
れる。このようなハイブリッドの状態は金属酸化物と有
機物が混在する状態とは異なり、一体化しているため硬
度が高く、相分離が起きにくい。従って、均質な塗膜が
出来やすく、硬度が不足したり、白濁したり、透過率が
低下するなどの問題を有さない。

【０１２４】活性エネルギー線反応性基は金属に直接結
合していてもよく、酸素原子を介して結合していてもよ
く、またオキシアルキル基を介していてもよい。

【０１２５】この活性エネルギー線反応性の金属アルコ
キシドの具体的例として、ビニルトリメトキシチタン、
ビニルトリ（β−メトキシ−エトキシ）チタン、ジビニ
ロキジメトキシチタン、グリシジルオキシエチルトリエ
トキシチタン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリ−
ｎ−プロピルチタン、γ−メタクリロイルオキシ−ｎ−
プロピルトリ−ｎ−プロピルチタン、ジ（γ−アクリロ
イルオキシ−ｎ−プロピル）ジ−ｎ−プロピルチタン、
アクリロイルオキシジメトキシエチルチタン、ビニルト
リメトキシジルコン、ジビニロキジメトキシジルコン、
アクリロイルオキシエチルトリエトキシジルコン、γ−
アクリロイルオキシ−ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロピル
ジルコン、γ−メタクリロイルオキシ−ｎ−プロピルト
リ−ｎ−プロピルジルコン、ジ（γ−アクリロイルオキ
シ−ｎ−プロピル）ジ−ｎ−プロピルジルコン、アクリ
ロイルオキシジメトキシエチルジルコン、ビニルジメト
キシタリウム、ビニルジ（β−メトキシ−エトキシ）タ
リウム、ジビニロキシメトキシタリウム、アクリロイル
オキシエチルジエトキシタリウム、γ−アクリロイルオ
キシ−ｎ−プロピルジ−ｎ−プロピルタリウム、γ−メ
タクリロイルオキシ−ｎ−プロピルジ−ｎ−プロピルタ
リウム、ジ（γ−アクリロイルオキシ−ｎ−プロピル）
−ｎ−プロピルタリウム、アクリロイルオキシメトキシ
エチルタリウム、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リ（β−メトキシ−エトキシ）シラン、ジビニロキジメ
トキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）−エチルトリアルコキシシラン、アクリロイルオキ
シエチルトリエトキシシラン、グリシジルオキシエチル
トリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシ−ｎ−プ
ロピルトリ−ｎ−プロピルシラン、γ−メタクリロイル
オキシ−ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロピルシラン、ジ
（γ−アクリロイルオキシ−ｎ−プロピル）ジ−ｎ−プ
ロピルシラン、アクリロイルオキシジメトキシエチルシ
ラン等を挙げることが出来る。

【０１２６】高屈折率層に使用する前記一般式（II）の
活性エネルギー線反応性の金属アルコキシド化合物と、
好ましく使用される該一般式（II）を除く活性エネルギ
ー線反応性化合物の反応基に対する活性エネルギー線に
よる光重合の挙動はほとんど変わりなく、前述の一般式
（II）を除く活性エネルギー線反応性化合物の光増感剤
や光開始剤などは同様なものが用いられる。

【０１２７】活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ
線等で、化合物を活性させるエネルギー源であれば制限
なく使用出来るが、紫外線、電子線が好ましく、特に取
り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点
で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させ
る紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれ
ば何れでも使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メ
タルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが
出来る。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマ
レーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等
も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプに
よって異なるが、照射光量は５０ｍＪ／ｍ²以上、好ま
しくは１００ｍＪ／ｃｍ²以上、更に４００ｍＪ／ｃｍ²
以上が好ましい。紫外線は多層の反射防止層を１層ずつ
照射してもよいし、積層後照射してもよい。生産性の点
から、多層を積層後、紫外線を照射することが好まし
い。またこの際には酸素濃度が０．５％以下の条件で行
うのが効率的であり、硬化速度の点で好ましい。

【０１２８】また、電子線も同様に使用出来る。電子線
としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、
共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロ
ン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５
０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶ
のエネルギーを有する電子線を挙げることが出来る。

【０１２９】本発明の樹脂フィルムには、プラズマ処理
も行うことができる。プラズマ処理を連続的に行うもの
が好ましく、これらの装置の例としては例えば、特願平
１１−１４３２０６号に記載のものが挙げられる。プラ
ズマ処理の時間等は条件により異なるので一概にはいえ
ないが、プラズマ処理の条件にはプラズマ処理ガス条件
（ガス種、ガス濃度、ガス封入条件、圧力等）、電界強
度、放電条件等がある。これらは適宜コントロールする
ことができる。

【０１３０】一般的に処理用ガスとしては、水素、酸
素、窒素、二酸化炭素、フッ素含有化合物ガス等の反応
性ガスが効果的である。

【０１３１】またプラズマ発生法では、真空プラズマ放
電処理に於いては、その雰囲気を６．６〜２．７×１０
³Ｐａの範囲に保つように、上記反応ガスを導入する必
要がある。処理速度を増加させる為には、対向電極にな
るべく高圧側で高出力条件を採用するのが好ましいが、
電界強度を上げ過ぎると基材にダメージを与えることに
なる場合がある。

【０１３２】大気圧近傍でプラズマ放電を行う場合に
は、ヘリウムやアルゴン等の不活性ガスが必要であり、
上記反応ガスとの割合も６０％以上と不活性ガスの割合
を多くしないと電極間に安定な放電が発生しない。ここ
でも反応ガスの割合をなるべく多くし、高出力条件を採
用するのが処理速度を増加させる為には好ましいが同様
に電界強度を上げ過ぎると基材にダメージを与えること
になる。

【０１３３】しかしながら、大気圧近傍でも対向電極間
にパルス化された電界を印加しプラズマを発生させる場
合には、上記不活性ガスは必ずしも必要なく、反応ガス
濃度を増加させ、反応速度のアップが可能である。

【０１３４】パルス電圧波形は特に限定されず、例えば
特開平１０−１３０８５１号の図１（ａ）〜（ｄ）に記
載されたパルス波形であってもよい。しかしながら、パ
ルスの立ち上がり時間及び立ち下がり時間が短いほどプ
ラズマ発生の際のガスの電離が効率よく行われる。特
に、パルスの立ち上がり時間及び立ち下がり時間が４０
ｎｓ〜１００μｓであることが好ましい。４０ｎｓ未満
では現実的でなく、１００μｓを超えると放電状態がア
ークに移行しやすく不安定なものとなる。より好ましく
は５０ｎｓ〜５μｓである。尚、ここでいう「立ち上が
り時間」とは電圧変化が連続して正である時間、「立ち
下がり時間」とは電圧変化が連続して負である時間を指
すものとする。更に、パルス波形、立ち上がり時間、周
波数の異なるパルスを用いて変調を行ってもよい。この
ような変調は高速連続表面処理を行うのに適している。

【０１３５】パルス電界の周波数は、１ｋＨｚ〜１００
ｋＨｚであることが好ましい。１ｋＨｚ未満であると処
理に時間がかかりすぎ、１００ｋＨｚを超えるとアーク
放電が発生しやすくなる。また、一つのパルス電界が印
加される時間は、１〜１０００μｓであることが好まし
い。１μｓ未満であると放電が不安定なものとなり、１
０００μｓを超えるとアーク放電に移行しやすくなる。
より好ましくは、３〜２００μｓである。ここで「一つ
のパルス電界が印加される時間」とは、ＯＮ、ＯＦＦの
繰り返しからなるパルス電界における、一つのパルスの
連続するＯＮ時間を言う。

【０１３６】対向電極に印加する電圧の大きさは適宜決
められるが、電極に印加した際に電界強度が１〜１００
ｋＶ／ｃｍとなる範囲にすることが好ましい。また、直
流が重畳されたパルス電界を印加してもよい。

【０１３７】本発明においては、表面処理に供されるシ
ート状基材は、対向電極間の空間を連続的に走行させる
ように処理容器内に導入され、排出される。上記シート
状基材の導入及び排出は、公知の方法により行うことが
できる。

【０１３８】最表層としての低屈折率層には該層の屈折
率を低下させる為に下記のフッ素原子或いは珪素原子を
含有する低屈折率物質が含有されている。

【０１３９】低屈折率物質としては、フッ素含有樹脂、
シリケートオリゴマーから形成される化合物、及びＳｉ
Ｏ₂ゾルと反応性有機ケイ素化合物から形成される化合
物から選ばれる少なくとも１つの化合物が挙げられ、特
に特開平７−１２６５５２号、同７−１８８５８２号、
同８−４８９３５号、同８−１００１３６号、同９−２
２０７９１号、同９−２７２１６９号等に記載されてい
る化合物が好ましく用いられる。

【０１４０】本発明に好ましく使用し得るフッ素含有樹
脂としては、フッ素含有不飽和エチレン性単量体成分を
主として含有する重合物及びフッ素含有エポキシ化合物
を挙げることが出来る。

【０１４１】フッ素含有不飽和エチレン性単量体として
は、含フッ素アルケン、含フッ素アクリル酸エステル、
含フッ素メタクリル酸エステル、含フッ素ビニルエステ
ル、含フッ素ビニルエーテル等を挙げることが出来、例
えば、テトラフルオロエチレン、トリフルオロエチレ
ン、トリフルオロクロロエチレン、フッ化ビニリデン、
フッ化ビニル、トリフルオロプロピレン、ヘプタフルオ
ロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレン、２−ブロモ
−３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−
３，３−ジフルオロエチレン、３，３，４，４，５，
５，６，６，６−ノナフルオロ−１−ヘキセン、３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ト
リデカフルオロ−１−オクテン、４−エトキシ−１，
１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オン、ペンタ
デカフルオロオクチルアクリレート、テトラフルオロ−
３−（ヘプタフルオロプロポキシ）プロピルアクリレー
ト、テトラフルオロ−３−（ペンタフルオロエトキシ）
プロピルアクリレート、テトラフルオロ−３−トリフル
オロメトキシプロピルアクリレート、ウンデカフルオロ
ヘキシルアクリレート、ノナフルオロペンチルアクリレ
ート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ペンタフ
ルオロピロピルアクリレート、２−ヘプタフルオロブト
キシエチルアクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘ
キサフルオロブトキシアクリレート、トリフルオロエチ
ルアクリレート、２−（１，１，２，２−テトラフルオ
ロエトキシ）エチルアクリレート、トリフルオロイソプ
ロピルメタクリレート、（２，２，２−トリフルオロ−
１−メチル）エチルメタクリレート、２−トリフルオロ
エトキシエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタ
クリレート、２−トリフルオロメチル−３，３，３−ト
リフルオロプロピルアクリレート、３−トリフルオロメ
チル−４，４，４−トリフルオロブチルアクリレート、
１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロ
ピルアクリレート、１−メチル−２，２，３，３，４，
４，４−ヘプタウルオロブチルアクリレート、２，２，
２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，
３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、１，
１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルアク
リレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルア
クリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリ
レート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロ
ブチルアクリレート、２，２，３，３，４，４，５，
５，５−ノナフルオロペンチルアクリレート、２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオ
ロヘキシルアクリレート、２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチ
ルアクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオク
チルアクリレート、３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルアクリ
レート、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカ
フルオロデシルアクリレート、３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１
０−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、１，１，
１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルアクリレ
ート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリ
レート、２，２，３，３，４，４，４−ヘキサフルオロ
ブチルアクリレート（以上のアクリレートはメタクリレ
ート或いはα−フルオロアクリレートであってもよ
い）、ビニルトリフルオロアセテート、ビニル−２，
２，２−トリフルオロプロピオネート、ビニル−３，
３，３，２，２−ヘプタブチレート、２，２，２−トリ
フルオロエチルビニルエーテル、１−（トリフルオロメ
チル）エテニルアセテート、アリルトリフルオロアセテ
ート、アリル−１，１，２，２−テトラフルオロエチル
エーテル、アリル−１，２，３，３，３−ヘキサフルオ
ロプロピルエーテル、エチル−４，４，４−トリフルオ
ロクロトネート、イソプロピル−２，２，２−トリフル
オロエチルフマレート、イソプロピル−２，２，２，
３，３，３−ペンタフルオロプロピルフマレート、イソ
プロピル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオ
ロブチルフマレート、イソプロピル−２，２，３，３，
４，４，５，５，５−ノナプロピルペンチルフマレー
ト、イソプロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルフマレート、イ
ソプロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，
６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルフマレー
ト、イソプロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオク
チルフマレート、イソプロピル−３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオ
クチルフマレート、イソプロピル−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１
０，１０，１０−ノナデカフルオロデシルフマレート、
イソプロピル−３，３，４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフ
ルオロデシルフマレート、イソプロピル−２−トリフル
オロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルフマレ
ート、イソプロピル−３−トリフルオロメチル−４，
４，４−トリフルオロブチルフマレート、イソプロピル
−１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプ
ロピルフマレート、イソプロピル−１−メチル−２，
２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロオクチルフマ
レート、ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，３−ペン
チルフルオロプロピルヘマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−
２，２，３，３，４，４，４−ヘプタジュルオロブチル
フマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，
４，５，５，５−ノナフルオロペンチルフマレート、ｔ
ｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルフマレート、ｔ
ｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルフマレ
ート、ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフル
オロオクチルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデ
カフルオロオクチルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロ
デシルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１
０，１０−ヘプタデカフルオロデシルフマレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチル−２−トリフルオロメチル−３，３，３−
トリフルオロプロピルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−
３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフルオロブ
チルフマレート、ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−２，
２，３，３，３−ペンチルフルオロプロピルフマレー
ト、ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−２，２，３，３，
４，４，４−ヘプタフルオロブチルフマレート等の含フ
ッ素不飽和エチレン性単量体を挙げることが出来るが、
これらに限定されない。また、共重合相手の単量体はフ
ッ素を含有しても、含有していなくとも何れでもよい。

【０１４２】上記フッ素含有単量体と共重合し得る単量
体としては、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、
酢酸ビニル、ビニルエチルエーテル、ビニルエチルケト
ン、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチ
ルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、
メチル−α−フルオロアクリレート、エチル−α−フル
オロアクリレート、プロピル−α−フルオロアクリレー
ト、ブチル−α−フルオロアクリレート、シクロヘキシ
ル−α−フルオロアクリレート、ヘキシル−α−フルオ
ロアクリレート、ベンジル−α−フルオロアクリレー
ト、アクリル酸、メタクリル酸、α−フルオロアクリル
酸、スチレン、スチレンスルホン酸等を共重合させても
よいが、これらに限定されない。

【０１４３】上記フッ素含有エチレン性不飽和単量体の
単独の樹脂の屈折率は、ほぼ１．３３〜１．４２の範囲
にあり、また共重合し得るフッ素を含有しない単量体の
単独樹脂リマーの屈折率は、１．４４以上で、これらを
任意の割合で共重合して目的の屈折率のフッ素含有樹脂
として用いることが出来、また、本発明のフッ素含有樹
脂とフッ素を含まない樹脂とを任意の割合で混合して目
的の屈折率のものとして使用してもよいが、本発明の低
屈折率物質のフッ素含有量は、５０質量％以上であるこ
とが好ましく、ものによって異なるが、特に好ましくは
６０〜９０質量％である。フッ素含有重合体の場合は、
フッ素含有率がこのような範囲にあると有機溶媒に対し
て良好な溶解性を有することで加工し易いばかりでな
く、樹脂フィルムや層に対する接着性が優れ、高い透明
性と低い屈折率の層を得ることが出来る。

【０１４４】使用する含フッ素のアルケン、アクリレー
ト、ビニルエステル或いはビニルエーテル等を重合させ
る重合開始剤は、通常のラジカル重合開始剤を用いるこ
とが出来る。重合開始剤の具体的な例として、アゾビス
イソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニ
トリル、アゾビスバレロニトリル等のアゾ系ラジカル重
合開始剤、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルヒドロパーオ
キサイド、クメンパーオキサイド、ジアシルパーオキサ
イド等の有機過酸化物系ラジカル重合開始剤、過硫酸ア
ンモニウム、過硫酸カリウム等の無機系ラジカル重合開
始剤、過酸化水素−硫酸第１鉄アンモニウム、過硫酸ア
ンモニウム−メタ亜硫酸ナトリウム等のレドックス系重
合開始剤等の各種ラジカル重合開始剤等を挙げることが
出来、これらを用いて溶液重合、塊状重合、乳化重合、
懸濁重合または放射線重合等の公知のラジカル重合をす
ることが出来る。この際、反応温度は１０〜１００℃、
反応時間は１〜１００時間であることが好ましい。この
ようにして得られるフッ素含有樹脂の数平均分子量は１
０００〜３０００００であることが望ましい。

【０１４５】フッ素含有樹脂としてのフッ素含有エポキ
シ樹脂は、例えば下記のようなエポキシ化合物を常法で
反応させることによって得ることが出来る。

【０１４６】フッ素含有エポキシ化合物としては、２−
フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグリシジルエ
ーテルとして例えば、４，４，４−トリフルオロ−１，
２−ブタンジオールジグリシジルエーテル、４，４，
５，５，５−ペンタフルオロ−１，２−ペンタンジオー
ルジグリシジルエーテル、４，４，５，５，６，６，６
−ヘキサフルオロ−１，２−ヘキサンジオールジグリシ
ジルエーテル、４，４，５，５，６，６，７，７，７−
ノナフルオロ−１，２−ヘプタンジオールジグリシジル
エーテル、４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
８−ウンデカフルオロ−１，２−オクタンジオールジグ
リシジルエーテル、４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，９−トリデカフルオロ−１，２−ノナ
ンジオールジグリシジルエーテル、５，５，６，６，
７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−トリデカ
フルオロ−１，２−デカンジオールジグリシジルエーテ
ル、４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，
９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘププタデカフル
オロ−１，２−ウンデカンジオールジグリシジルエーテ
ル、４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，
９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１２−ノナ
デカフルオロ−１，２−ドデカジオールジグリシジルエ
ーテル、４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１１，１２，１２，１３，１３，
１３−エイコサフルオロ−１，２−トリデカンジオール
ジグリシジルエーテル、４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，
１２，１３，１３，１４，１４，１４−トリコサフルオ
ロ−１，２−テトラデカンジオールジグリシジルエーテ
ル、５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，
１０，１１，１１，１２，１２，１２−ヘプタデカフル
オロ−１，２−テトラデカンジオールジグリシジルエー
テル、４−トリフルオロメチル−５，５，５−トリフル
オロ−１，２−ヘプタンジオールジグリシジルエーテ
ル、５−トリフルオロメチル−６，６，６−トリフルオ
ロ−１，２−オクタンジオールジグリシジルエーテル、
６−トリフルオロメチル−４，４，５，５，６，６，
７，７，７−オクチルフルオロ−１，２−ノナンジオー
ルジグリシジルエーテル、８−トリフルオロメチル−
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９
−ドデカフルオロ−１，２−ノナンジオールジグリシジ
ルエーテル、１０−トリフルオロメチル−４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１
１，１１，１１−ヘキサデカフルオロ−１，２−ドデカ
ンジオールジグリシジルエーテル、１２−トリフルオロ
メチル−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，
１３，１３−エイコサフルオロ−１，２−テトラデカン
ジオールジグリシジルエーテル、３−ペルフルオロシク
ロペンチル−１，２−プロパンジオールジグリシジルエ
ーテル、３−ペルフルオロシクロヘキシル−１，２−プ
ロパンジオールジグリシジルエーテル、ペルフルオロシ
クロヘプチル−１，２−プロパンジオールジグリシジル
エーテル、ペルフルオロシクロオクチル−１，２−プロ
パンジオールジグリシジルエーテル；含フッ素アルカン
末端ジオールグリシジルエーテルとしては例えば、２，
２，３，３−テトラフルオロ−１，４−ブタンジオール
ジグリシジルエーテル、２，２，３，３，４，４，５，
５−オクタフルオロ−１，６−ヘキサンジオールジグリ
シジルエーテル等を挙げることが出来るが、これらに限
定されない。これらの他にフッ素を含有しないエポキシ
化合物を屈折率があまり上がらない程度に少量使用して
もよい。ここで使用するフッ素含有エポキシ化合物の構
造には制限ないが、屈折率を高めるようなベンゼン核を
有するエポキシ化合物や脂環式のエポキシ化合物の使用
は少ない方がよい。

【０１４７】別の好ましい低屈折率物質は、シリケート
オリゴマーから形成される化合物である。

【０１４８】シリケートオリゴマーから形成される化合
物に使用するシリケートオリゴマーとしては、例えばテ
トラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプ
ロピオキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラア
ルコキシシラン、テトラ−２，２，２−トリフルオロエ
トキシシラン、テトラ−２−フルオロエトキシシラン、
テトラ−２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロピ
オキシシラン、テトラ−１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロ−２−プロピオキシシラン、テトラ−２，
２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロピオキシシ
ラン、テトラ−１，３−ジフルオロ−２−プロピオキシ
シラン、テトラ−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタ
フルオロ−１−ブトキシシラン、テトラ−２，２，３，
４，４，４−ヘキサフルオロ−１−ブトキシシラン、テ
トラシクロヘキシルオキシシランまたはテトラフェノキ
シシラン等を挙げることが出来、これらを加水分解する
ことによりシリケートオリゴマーが得られる。

【０１４９】上記の如くテトラアルコキシシランに触
媒、水を添加して得られる加水分解物に溶媒を配合し、
次いで硬化触媒と水を添加する等の方法により硬化した
加水分解物が得られる。かかる溶媒としては、メタノー
ル、エタノールを１種または２種使用するのが安価であ
ること、及び得られる皮膜の特性が優れ硬度が良好であ
ることから好ましい。イソプロパノール、ｎ−ブタノー
ル、イソブタノール、オクタノール等も用いることが出
来るが、得られた皮膜の硬度が低くなる傾向にある。溶
媒量は部分加水分解物１００質量部に対して５０〜４０
０質量部、好ましくは１００〜２５０質量部である。

【０１５０】硬化触媒としては、酸、アルカリ、有機金
属、金属アルコキシド等を挙げることが出来るが、酸、
特に酢酸、マレイン酸、シュウ酸、フマル酸等が好まし
く用いられる。添加量は部分加水分解物１００質量部に
対して１〜１０質量部、好ましくは１〜５質量部がよ
い。また、水添加量については部分加水分解物が理論上
１００％加水分解し得る量以上の量であればよく、１０
０〜３００％相当量、好ましくは１００〜２００％相当
量を添加するのがよい。更に、本発明では、かかる熟成
工程により、テトラアルコキシシランの加水分解、縮合
による架橋が充分に進み、得られた皮膜の特性が優れた
ものとなる。熟成は、オリゴマー液を放置すればよく、
放置する時間は、上述の架橋が所望の膜特性を得るのに
充分な程度進行するのに必要な時間であり、具体的には
用いる触媒の種類にもよるが、塩酸では室温で１時間以
上、マレイン酸では数時間以上、特に好ましくは８時間
〜１週間程度で充分であり、通常３日前後である。熟成
を要する時間はまた周囲の温度にも影響を与え、極寒地
では２０℃付近まで加熱する手段をとった方がよいこと
もある。一般に高温では熟成が早く進むが１００℃以上
に加熱するとゲル化が起こるので、せいぜい５０〜６０
℃までの加熱が適切である。また、これらのシリケート
オリゴマーについては、上記の他に、例えばエポキシ
基、アミノ基、イソシアネート基、カルボキシル基等の
官能基を有する有機化合物（モノマー、オリゴマー、ポ
リマー）等により変性した変性物であっても差し支えな
く、単独または上記シリケートオリゴマーと併用するこ
とも可能である。

【０１５１】このようにして、下記一般式（III）で示
されるシリケートオリゴマーが得られるが、シリケート
オリゴマー中のＳｉＯ₂含有量は１〜１００％、好まし
くは１０〜９９％であることが望まれる。このようなＳ
ｉＯ₂含有量が１％未満では耐久性の向上が見られなく
なり、本発明の効果を発揮しない。

【０１５２】

【化１７】

【０１５３】Ｒは水素または炭素数１〜４のアルキル
基、炭素数３〜６のフッ素含有シクロアルキル基、また
はフェニル基を表し、それぞれのＲは同一の基でも異な
った基であってもよい。ｇは１〜２０の整数である。

【０１５４】これらのシリケートオリゴマーからケイ素
層を形成させる方法については特に制限されないが、例
えばシリケートオリゴマーを樹脂フィルムの光学性能を
阻害しない溶媒、例えばアルコール（メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール等）、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、酢酸セロソルブ、メチルグリコールアセテート、メ
トキシブチルアセテート、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチレンクロラ
イド、トルエン、キシレン、ミネラムスピリット、クレ
ゾール、キシレノール、フフラール等で、これらでシリ
ケートオリゴマーを希釈し、バーコーター、ロールコー
ター、グラビアコーター、リバースコーター、リップコ
ーター等、公知の装置により基材に塗設、加熱処理すれ
ばよい。

【０１５５】更に別の好ましい低屈折率物質は、ＳｉＯ
₂ゾルと反応性有機ケイ素化合物から形成される化合物
であって、ＳｉＯ₂ゾルと反応性有機ケイ素化合物とを
含むゾル液を用い、ＳｉＯ₂ゲル膜として低屈折率層が
形成されるものである。ＳｉＯ₂ゾルは、ケイ素アルコ
キシドを塗布に適した有機溶媒に溶解し、一定量の水を
添加して加水分解を行って調製される。ＳｉＯ₂ゾルの
形成に使用するケイ素アルコキシドの好ましい例を下記
一般式（IV）に示す。

【０１５６】一般式（IV）（Ｒ′）_rＳｉ（ＯＲ″）_s 式中Ｒ′、Ｒ″は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表
し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。ｒ＋
ｓは４であり、ｒ及びｓはそれぞれ整数である。具体的
には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、
テトライソプロピオキシシラン、テトラ−ｎ−プロピオ
キシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔ−ブトキシシラン、
テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタイソプロピ
オキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロピオキシシラ
ン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ
−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔ−ブトキ
シシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、メチルトリプロピオキシシラン、メチルト
リブトキシシラン、ジメチルジメキメトキシシラン、ジ
メチルジエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジ
メチルエトキシシラン、ジメチルプロピオキシシラン、
ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メ
チルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等
が挙げられる。

【０１５７】上記アルキルケイ素アルコキシドまたはケ
イ素アルコキシドを適当な溶媒中に溶解することにより
ＳｉＯ₂ゾルとすることが出来る。使用する溶媒として
は、例えばメチルエチルケトン、イソプロピルアルコー
ル、メタノール、エタノール、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチル、等のアルコール、ケト
ン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トルエン、キシ
レン、等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混合物が挙
げられる。アルキルケイ素アルコキシドまたはケイ素ア
ルコキシドを、それらが１００％加水分解及び縮合した
として生じるＳｉＯ ₂換算で、濃度を０．１質量％以
上、好ましくは０．１〜１０質量％になるように上記溶
媒中に溶解する。ＳｉＯ₂ゾルの濃度が０．１質量％未
満であると形成されるゾル膜が所望の特性が充分に発揮
出来ず、一方、１０質量％を超えると透明均質膜の形成
が困難となる。また、本発明においては、以上の固形分
以内であるならば、有機物や無機物バインダーを併用す
ることも可能である。

【０１５８】この溶液に加水分解に必要な量以上の水を
加え、１５〜３５℃、好ましくは２２〜２８℃の温度
で、０．５〜１０時間、好ましくは２〜５時間攪拌を行
う。上記加水分解においては、触媒を用いることが好ま
しく、これらの触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸または
酢酸等の酸が好ましい。これらの酸を約０．００１〜４
０．０ｍｏｌ／ｌ、好ましくは０．００５〜１０．０ｍ
ｏｌ／ｌ程度の水溶液として加え、該水溶液中の水分を
加水分解用の水分とすることが出来る。

【０１５９】本発明においては、上記ＳｉＯ₂ゾルに有
機反応性ケイ素化合物またはその部分加水分解物を添加
して得られる化合物を低屈折率物質として用いるもので
あるが、ＳｉＯ₂ゾルだけ塗布した場合には、非常に膜
が弱く、ひび割れし易く、ＳｉＯ₂皮膜を固定するもの
が必要である。本発明においては、反応性有機ケイ素化
合物を併用することによって、ＳｉＯ₂とも架橋によっ
て結合され強い膜を形成し、得られたＳｉＯ₂ゾルは、
無色透明な液体であり、ポットライフが約１ヶ月の安定
な溶液である。ＳｉＯ₂ゾルは基材に対して濡れ性がよ
く、塗布性に優れている。

【０１６０】反応性有機ケイ素化合物は、前記の反応性
有機ケイ素化合物の他に、熱または電離放射線によって
反応架橋する複数の基（活性エネルギー線反応性基）、
例えば重合性二重結合基、を有する分子量３０００以下
の有機反応性化合物が好ましいものである。このような
反応性有機ケイ素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシ
ラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官
能ポリシロキサン、両末端ビニル官能ポリシロキサン、
或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシ
ラン、またはビニル官能性ポリシロキサン等を挙げるこ
とが出来る。

【０１６１】その他、ビニルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリ（β−メトキシ−エトキシ）シラン、ジビニロキ
ジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）−エチルトリアルコキシシラン、アクリロイルオ
キシエチルトリエトキシシラン、グリシジルオキシエチ
ルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシ−ｎ−
プロピルトリ−ｎ−プロピルシラン、γ−メタクリロイ
ルオキシ−ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロピルシラン、ジ
（γ−アクリロイルオキシ−ｎ−プロピル）ジ−ｎ−プ
ロピルシラン、アクリロイルオキシジメトキシエチルシ
ラン等を挙げることが出来る。

【０１６２】上記の様な反応性有機ケイ素化合物は、Ｓ
ｉＯ₂ゾル（固形分）１００質量部当たり約０．１〜５
０質量部の割合で使用することが出来ることが好まし
い。

【０１６３】上記ゾル溶液には、各種の添加剤を添加す
る事が出来る。添加剤としては、製膜を促進する硬化剤
が用いられ、これらの硬化剤としては、酢酸ナトリウ
ム、酢酸リチウム等の有機酸金属塩の酢酸、ギ酸等の有
機酸溶液が挙げられる。該有機溶媒溶液の濃度は約０．
０１〜０．１質量％程度であり、ゾル溶液に対する添加
量は、ゾル溶液中に存在するＳｉＯ₂ １００質量部に
対して上記有機酸塩として約０．１〜１質量部程度の範
囲が好ましい。

【０１６４】更に、最終的に得られるゲル膜は、反射防
止フィルムの低屈折率層として使用するが、その屈折率
の調整する必要がある場合もある。例えば、屈折率を下
げるためにフッ素系有機ケイ素化合物、屈折率を高める
ために有機ケイ素化合物、屈折率を更に高めるために硼
素系有機化合物を添加することが出来る。具体的には、
テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラ
プロピオキシシラン、テトラブトキシシラン、アルキル
トリアルコキシシラン、コルコート４０（コルコート社
製）、ＭＳ５１（三菱化学社製）、スノーテックス（日
産化学社製）、等の有機ケイ素化合物、ザフロンＦＣ−
１１０、２２０、２５０（東亜合成化学社製）、セクラ
ルコートＡ−４０２Ｂ（セントラル硝子社製）、ヘプタ
デカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフル
オロオクチルトリメトキシシラン、トリフルオロオクチ
ルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメト
キシシラン等のフッ素系化合物、硼酸トリエチル、硼酸
トリメチル、硼酸トリプロピル、硼酸トリブチル等の硼
酸系化合物が挙げられる。これらの添加剤は、ゾルの調
製時に加えてもよいし、ゾルの形成後に加えてもよい。
これらの添加剤を用いることによって、アルキルケイ素
アルコキシドまたはケイ素アルコキシドの加水分解時、
或いはその後にシラノール基と反応して、更に均一に反
応して更に均一で透明なゾル溶液が得られ、且つ形成さ
れるゲル膜の屈折率をある程度の範囲で変化させること
が出来る。

【０１６５】次に、上記フッ素含有樹脂、シリケートオ
リゴマーから形成される化合物、及びＳｉＯ₂ゾルと反
応性有機ケイ素化合物から形成される化合物から選ばれ
る少なくとも一つの低屈折率物質を含有する低屈折率層
（前記高屈折率層の上に設けられている）には前記高屈
折率層のところで挙げられた活性エネルギー線反応性化
合物が添加されていてもよい。そのうち好ましく用いら
れるのはエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物であ
る。

【０１６６】エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物
は、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物で、
前記と同様の活性エネルギー線照射によりカチオン重合
を開始物質として放出することが可能な化合物である。

【０１６７】エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物
としては、（ａ）ビスフェノールＡのグリシジルエーテル（この化
合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールＡとの反応
により得られ、重合度の異なる混合物として得られ
る）；（ｂ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有
する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイ
ド及び／またはプロピレンオキサイドを反応させ末端に
グリシジルエーテル基を有する化合物；（ｃ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジル
エーテル；（ｄ）ノボラック樹脂或いはレゾール樹脂のフェノール
フォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物；（ｅ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス
（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレー
ト、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）ア
ジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシ
ルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル）ピメレート、３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘ
キシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シク
ロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチ
ルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ
−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エ
ポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキ
シレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−
５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘ
キサン−メタ−ジオキサン；（ｆ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグ
リシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグ
リシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサ
ヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート；（ｇ）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エ
チレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレング
リコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコール
ジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリ
シジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレン
グリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジ
オールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオー
ルジグリシジルエーテル；（ｈ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリ
アクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグ
リシジルエステル；（ｉ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、
グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトール
ジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリ
シジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジ
ルエーテル、グルコーズトリグリジルエーテル；（ｊ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグ
リシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素
含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例
と同様のもの；（ｋ）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテ
ルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ
素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの等
を挙げることが出来る。上記エポキシ化合物の分子量
は、平均分子量として２０００以下であり、好ましくは
１０００以下である。

【０１６８】エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物
をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、
活性エネルギー線照射によりカチオン重合開始物質を放
出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照
射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出する
オニウム塩の一群の複塩である。これらについては、前
記一般式（Ｉ）と同様である。

【０１６９】これらの活性エネルギー線反応性化合物は
前記高屈折率層のところで述べられたようなものと同様
の紫外線や、電子線等の活性エネルギー線、またはプラ
ズマ処理、或いは熱エネルギーの付与により同様に硬化
される。

【０１７０】以上のようにして本発明に係る反射防止層
を形成することが出来る。本発明の樹脂フィルムとして
はカール防止加工を施したものが好ましく用いられる。
カールとは、樹脂フィルムの面を内側にして丸まろうと
する現象の事であるが、カール防止加工（樹脂フィルム
の片面に何らかの表面加工を施したり、両面に異なる程
度・種類の表面加工を施す処理である）を施すことによ
って、その面を内側にしてカールしようとするのを防止
する処理を表す。

【０１７１】カール防止層は基材の防眩層または反射防
止層を有する側と反対側に設ける態様或いは、例えば透
明樹脂フィルムの片面に易接着層を塗設し、また逆面に
カール防止加工を塗設するような態様が挙げられる。

【０１７２】カール防止加工を施す為の具体的方法とし
ては、溶剤塗布によるもの、溶剤とセルローストリアセ
テート、セルロースジアセテート（ＤＡＣ）、セルロー
スアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）等の透明樹脂層
を塗設するもの等が挙げられる。溶剤による方法とは、
具体的には偏光板用保護フィルムとして用いるセルロー
スエステルフィルムを溶解させる溶剤または膨潤させる
溶剤を含む組成物を塗布することが好ましい。これらの
カールを防止する機能を有する層の塗布液は従ってケト
ン系、エステル系の有機溶剤を含有するものが好まし
い。好ましいケトン系の有機溶媒の例としてはアセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン、乳酸エチル、アセチルアセトン、ジア
セトンアルコール、イソホロン、エチル−ｎ−ブチルケ
トン、ジイソプロピルケトン、ジエチルケトン、ジ−ｎ
−プロピルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチル−
ｎ−ブチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチ
ル−ｎ−ヘキシルケトン、メチル−ｎ−へプチルケトン
等、好ましいエステル系の有機溶剤の例としては酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチ
ル等が挙げられる。しかしながら、用いる溶剤としては
溶解させる溶剤及び／または膨潤させる溶剤の混合物の
他、更に溶解させない溶剤を含む場合もあり、これらを
透明樹脂フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適
宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。こ
の他にも、クリアハード加工や帯電防止加工を施しても
カール防止機能を発揮する。

【０１７３】本発明の樹脂フィルムにカール防止加工を
施す場合、樹脂フィルム上に導電性層を有する側にカー
ルを防止する機能を有する層を設けることが好ましい。

【０１７４】本発明に記載の効果を好ましく得る観点か
ら、本発明の樹脂フィルムは２３℃、５５％ＲＨにおけ
るカール度が−１０以上＋１０以下であることが好まし
い。

【０１７５】カール度の測定は、以下の方法で行われ
る。樹脂フィルム試料を８０℃、９０％ＲＨ環境下で４
８時間放置後、樹脂フィルムを幅手方向５０ｍｍ、長手
方向２ｍｍに切断する。更に、そのフィルム小片を２３
℃±２℃、５５％ＲＨ環境下で２４時間調湿し、曲率ス
ケールを用いて樹脂フィルムのカール度を測定する。

【０１７６】カール度は１／Ｒで表され、Ｒは曲率半径
で単位はｍを用いる。カール度については、フィルムの
変形が少ないものが好ましく、変形方向は＋方向でも−
方向でもかまわない。また、樹脂フィルムのカール度の
絶対値が１０以下であれば、樹脂フィルムを用いて偏光
板等を作製した場合、高温高湿下（例えば、８０℃、９
０％ＲＨで４８時間放置する）でも反りなどの変形が小
さく使用することができる。

【０１７７】これらのカール防止層その他の層の塗設に
もかかわらず、本発明の樹脂フィルムはヘイズ値が３％
以上であり、かつ、５５０ｎｍにおける透過率が９０％
以上であることが好ましい。

【０１７８】また、樹脂フィルムの最表面層は、偏光子
への貼合や、また、反射防止層面を保護層フィルム面に
貼り付けたりして使用するため、適切な親水性を有して
いることが好ましく、特に最表面層の２３℃、６０％Ｒ
Ｈにおける水の接触角は５０度以下であることが好まし
い。

【０１７９】本発明の樹脂フィルムには防眩層を設ける
こともできる。防眩層は表面に凹凸を有する構造をもた
せることにより、防眩層表面または防眩層内部において
光を散乱させることにより防眩機能発現させる為、微粒
子物質を層中に含有した構成をとっている。

【０１８０】これらの層として好ましい構成は以下に示
される様なものである。これは膜厚０．５〜５．０μｍ
であって、平均粒径０．２５〜１０μｍの１種以上の微
粒子を含む層であり、平均粒径が当該膜厚の１．１から
２倍の酸化珪素粒子と平均粒径０．００５〜０．１μｍ
の酸化珪素微粒子を例えばジアセチルセルロースのよう
なバインダー中に含有する層であって、これによって防
眩機能を発揮することができる。

【０１８１】この「粒子」としては、無機粒子及び有機
粒子が挙げられる。本発明に使用することのできる無機
粒子としては酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウ
ム、酸化亜鉛、酸化錫、炭酸カルシウム、硫酸バリウ
ム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等が挙げられ
る。

【０１８２】有機粒子としては、ポリ（メタ）アクリレ
ート系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、アクリルスチレン系樹脂、ベ
ンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、更にポリオレ
フィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹
脂、ポリイミド系樹脂、ポリ弗化エチレン系樹脂等が使
用できる。

【０１８３】防眩性を達成するには、シリカなどの酸化
珪素が特に好ましく用いられる。ここで好ましく用いら
れる酸化珪素粒子は、合成非晶質シリカの中でも湿式法
によって作られる超微粉含水珪酸が光沢度を下げる効果
が大きく好ましい。湿式法とは珪酸ソーダと鉱酸及び塩
類を水溶液中で反応させる方法で、例えば富士シリシア
化学（株）製のサイリシアや日本シリカ（株）製のＮｉ
ｐｓｉｌＥなどがある。

【０１８４】防眩層は、またバインダーとして活性線硬
化性樹脂を用いるのが好ましく、塗布後活性線照射によ
り前記酸化珪素粒子や酸化珪素微粒子含有活性線硬化性
樹脂層を形成させる。偏光板表面の機械的強度を増すこ
とができるという点においてはバインダーとして活性線
硬化性樹脂を用いた防眩層とするのがより好ましい。

【０１８５】ここで活性線硬化性樹脂とは紫外線や電子
線のような活性線照射により架橋反応などを経て硬化す
る樹脂をいう。

【０１８６】活性線硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹
脂や電子線硬化性樹脂などが代表的具体例として挙げら
れるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化
する樹脂であってもよい。紫外線硬化性樹脂の例として
は紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外
線硬化性アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化性アクリ
ル酸エステル系樹脂、紫外線硬化性メタクリル酸エステ
ル系樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹
脂及び紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂など
が挙げられる。

【０１８７】本発明に用いることのできる紫外線硬化性
ポリオールアクリレート系樹脂としてはトリメチロール
プロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパン
テトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペン
タエリスリトールペンタエリスリトール等の光重合モノ
マーオリゴマーである。これらのポリオールアクリレー
ト系樹脂は高架橋性で硬化性が大きい、硬度が大きい、
硬化収縮が小さい、また低臭気性で低毒性であり安全性
も比較的高いのが特徴である。

【０１８８】上記の紫外線硬化性ポリオールアクリレー
ト系樹脂には、その効果を損なわない範囲で他の紫外線
硬化性樹脂、例えば紫外線硬化性エポキシ系樹脂を含有
して使用してもよい。アクリレート系樹脂は厚膜塗布し
た硬化塗膜は、硬化収縮によりカーリングが強くなり、
取り扱い作業上支障をきたす場合がある。エポキシ系樹
脂はアクリレート系樹脂と比べて一般に硬化収縮が小さ
く硬化塗膜のカーリングも小さい。ここで言う紫外線硬
化性エポキシ系樹脂とはエポキシ基を分子内に２個以上
含む化合物で、カチオン重合開始剤を含有し、紫外線を
照射することにより架橋反応するエポキシ樹脂である。

【０１８９】電子線硬化性樹脂の例としては、好ましく
は、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比
較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッ
ド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、
ポリチオールポリエン樹脂などが挙げられる。中でも、
紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。

【０１９０】活性線硬化性樹脂の硬化は、電子線または
紫外線のような活性線照射によって硬化することができ
る。例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルト
ン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器
型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子
線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好まし
くは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線
等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高
圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアー
ク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等
が利用できる。

【０１９１】膜厚は０．５〜５．０μｍであることが好
ましい。また、このうち特に２．０〜４．０μｍの場合
が好ましい。

【０１９２】これら、反射防止層または防眩層とその基
材の反対側に易接着層を有する樹脂フィルムの各構成層
の硬化に用いられる活性輻射線の代わりに、活性エネル
ギーを与える手段としてプラズマ処理、熱などの方法も
好ましい。プラズマ処理としては前述したような特願平
１１−１４３２０６号に記載の方法が好ましく用いるこ
とが出来る。

【０１９３】また、活性エネルギーを付与する熱処理と
しては、反射防止層または防眩層の塗布乾燥後に熱処理
することも有効である。７０℃以上で３０秒以上１０
分、より好ましくは３０秒以上５分加熱することが好ま
しい。

【０１９４】また、本発明においては従来公知の架橋剤
も硬化剤の１種として用いることができる。

【０１９５】本発明に用いられる架橋剤について説明す
る。架橋剤としては、金属酸化物、例えば酸化アルミニ
ウム、ホウ酸、酸化コバルト等が好ましい。また、メタ
キシレンビニルスルホン酸等のビニルスルホン基を有す
る化合物、ビスフェノールグリシジルエーテル等のエポ
キシ基を有する化合物、イソシアネート基を有する化合
物、ブロックドイソシアネート基を有する化合物、２−
メトキシ−４，６−ジクロルトリアジン、２−ソディウ
ムオキシ−４，６−ジクロルトリアジン等の活性ハロゲ
ン基を有する化合物、ホルムアルデヒド、グリオキサー
ル等のアルデヒド基を有する化合物、ムコクロル酸、テ
トラメチレン−１，４−ビス（エチレンウレア）、ヘキ
サメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア）等のエチ
レンイミン基を有する化合物及び活性エステル生成基を
有する化合物から選ばれる少なくとも１種の基を有する
化合物を使用することができ、また２種以上の架橋剤を
併用しても良い。

【０１９６】これらのうち、金属酸化物、ビニルスルホ
ン基を有する化合物、エチレンイミン基を有する化合
物、エポキシ基を有する化合物、アルデヒド基を有する
化合物が特に好ましい。

【０１９７】本発明において、ビニルスルホン基を有す
る化合物とは、スルホニル基に結合したビニル基あるい
はビニル基を形成しうる基を有する化合物であり、好ま
しくはスルホニル基に結合したビニル基またはビニル基
を形成しうる基を少なくとも２つ有しており、下記一般
式〔４〕で表されるものが好ましい。

【０１９８】一般式〔４〕（ＣＨ₂＝ＣＨＳＯ₂）_nＡ式中、Ａはｎ価の連結基であり、例えばアルキレン基、
置換アルキレン基、フェニレン基、置換フェニレン基で
あり、間にアミド連結部分、アミノ連結部分、エーテル
連結部分あるいはチオエーテル連結部分を有していても
良い。置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル
基、ヒドロキシアルキル基、アミノ基、スルホン酸基、
硫酸エステル基等が挙げられる。ｎは１、２、３または
４である。

【０１９９】以下にビニルスルホン系架橋剤の代表的具
体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。

【０２００】

【化１８】

【０２０１】

【化１９】

【０２０２】エチレンイミン基を有する化合物として
は、特に２官能、３官能で分子量が７００以下のものが
好ましく用いられる。以下にエチレンイミン基を有する
架橋剤の具体例を挙げるが本発明はこれらに限定されな
い。

【０２０３】

【化２０】

【０２０４】

【化２１】

【０２０５】エポキシ基を有する化合物としては、特に
エポキシ基を２つ以上有し１つの官能基当たりの分子量
が３００以下のものが好ましい。以下にエポキシ基を有
する架橋剤の具体例を挙げるが本発明はこれらに限定さ
れない。

【０２０６】

【化２２】

【０２０７】

【化２３】

【０２０８】本発明に係る架橋剤の使用量は、適用され
るセルロースエステルフィルムにより異なるが、好まし
くは添加される多糖類の０．１〜１０質量％、好ましく
は１〜８質量％である。

【０２０９】防眩層を設けることにより、可視光の透過
率が低下しないことが望ましく、ヘイズ値が３％以上で
あることが好ましい。また、その時の透過率は５５０ｎ
ｍにおける透過率で９０％以上であることが好ましい。

【０２１０】防眩層の表面層は、臨界表面張力が２０×
１０^-6Ｎ／ｃｍ以下であることが好ましい。臨界表面張
力が２０×１０^-6Ｎ／ｃｍより大きい場合は、表面層に
付着した汚れが取れにくくなる。含フッ素系のフッ素材
料が汚れ防止の点において好ましい。

【０２１１】含フッ素材料としては、有機溶剤に溶解
し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共重
合体や、フルオロオレフィン／炭化水素オレフィン共重
合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアクリ
レート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシラ
ン、更に、ＴＥＦＲＯＮＡＦ１６００（デュポン社
製、ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社製、
ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社製、
屈折率ｎ＝１．３５）、ＬＲ２０１（日産化学工業
（株）社製、ｎ＝１．３８）等を挙げることができる。
これらは単独でも複数組み合わせて使用することも可能
である。

【０２１２】また、２−（パーフルオロデシル）エチル
メタクリレート、２−（パーフロロ−７−メチルオクチ
ル）エチルメタクリレート、３−（パーフロロ−７−メ
チルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−（パーフロロ−９−メチルデシル）エチルメタ
クリレート、３−（パーフロロ−８−メチルデシル）２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含フッ素メタ
クリレート、３−パーフロロオクチル−２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エ
チルアクリレート、２−（パーフルオロ−９−メチルデ
シル）エチルアクリレート等の含フッ素アクリレート、
３−パーフルオロデシル１，２−エポキシプロパン、３
−（パーフロロ−９−メチルデシル）−１，２−エポキ
シプロパン等のエポキサイド、エポキシアクリレート等
の放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プレ
ポリマー等を挙げることができる。これらは単独もしく
は複数種類混合して使用することも可能である。

【０２１３】このように本発明の樹脂フィルムは必要に
応じて、帯電防止層、クリアハードコート層、防眩層、
反射防止層、易接着層、配向層、液晶層及び下引き層を
塗設することが可能である。特にセルロースエステルフ
ィルムはこれらの各種機能層の塗布性及び接着性に優れ
る。

【０２１４】また、本発明の樹脂フィルムは必要に応じ
て、コロナ放電処理或いはプラズマ放電処理によって、
フィルム表面処理することもできる。

【０２１５】本発明の樹脂フィルムは特に偏光板保護フ
ィルム用として有用である。偏光板保護フィルムとして
用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般
的な方法で作製することができる。得られたセルロース
エステルフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコ
ールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光
子の両面に完全鹸化ポリビニルアルコール水溶液を用い
て貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特
開平６−９４９１５号、同６−１１８２３２号に記載さ
れているような易接着加工を施してもよい。

【０２１６】保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせ
るのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニル
アルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアル
コール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラ
テックス等が挙げられる。

【０２１７】偏光板は偏光子及びその両面を保護する保
護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面
にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルム
を貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレ
ートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏
光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテク
トフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合さ
れ、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられ
る。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着
層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合
する面側に用いられる。

【０２１８】液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に
液晶を含む基板が配置されているが、本発明の樹脂フィ
ルムを適用した偏光板保護フィルムはどの部位に配置し
ても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示
側最表面の偏光板保護フィルムにはクリアハードコート
層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板
保護フィルムをこの部分に用いることが得に好ましい。

【０２１９】本発明に係る樹脂フィルムは、種々の添加
剤を含有しても良く、例えば、可塑剤、酸化防止剤、染
料（着色剤など）等を用いる事が出来る。

【０２２０】上記記載の添加剤の樹脂フィルム中の含有
量としては、質量割合で１０〜１０００ｐｐｍが好まし
く、更に好ましくは５０〜５００ｐｐｍである。

【０２２１】また、液晶画面表示装置用には、耐熱耐湿
性を付与する可塑剤、酸化防止剤や紫外線防止剤などを
添加することが好ましい。添加剤の添加方法としては、
樹脂フィルムの溶液の調製の際に、前記樹脂フィルムや
溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添
加してもよい。またあらかじめ有機溶剤に溶解したもの
をドープ組成中に添加してもよい。

【０２２２】上記記載の酸化防止剤としては、ヒンダー
ドフェノール系の化合物が好ましく用いられ、２，６−
ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル
−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレング
リコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−
ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，
４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキ
シ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−
トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ト
リス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレイト等が挙げられる。特に２，６−ジ
−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−
テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリ
コール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。
また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒド
ラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，
４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン
系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加
量は、樹脂フィルムに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．
０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好まし
い。また、この他、カオリン、タルク、ケイソウ土、石
英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アル
ミナ等の無機微粒子、カルシウム、マグネシウムなどの
アルカリ土類金属の塩などの熱安定剤を加えてもよい。
更に帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤等も加える場合が
ある。

【０２２３】上記可塑剤としては、フタル酸系エステ
ル、リン酸系エステル、アルキルフタリルアルキルグリ
コレート、クエン酸系エステル、アジピン酸系エステ
ル、トリメリット酸系エステルなどが好ましく用いられ
る。例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチ
ルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロ
ピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレー
ト、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフ
タリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリ
コレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロ
ピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロ
ピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレー
ト、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリ
ルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレ
ート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフ
タリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチル
グリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、
オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリ
ルエチルグリコレート、メチルフタリルメチルグリコレ
ート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフ
タリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグ
リコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、
トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェー
ト、フェニルジフェニルホスフェート、ジメチルフタレ
ート、ジエチルホスフェート、ジオクチルフタレート、
ジエチルヘキシルフタレート、クエン酸アセチルトリエ
チル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチ
ル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチ
ル、トリアセチン等が挙げられる。これら可塑剤の樹脂
フィルム中の含有量は、質量比で１〜３０％であること
が好ましいが、５〜２０％がより好ましい。また、添加
剤が大気圧下において３５０℃よりも高い融点である可
塑剤の場合、可塑剤同士の相互作用が可塑剤と樹脂フィ
ルムとの相互作用よりも強く働き、樹脂フィルムの非塩
素系有機溶媒に対する溶解性が低減するため、３５０℃
以下の沸点である可塑剤が好ましく用いられる。

【０２２４】沸点３５０℃以下の可塑剤としては、エチ
ルフタリルエチルグリコレート、ジメチルフタレート、
ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチル
アジペートなどがある。

【０２２５】上記紫外線防止剤しては、波長３７０ｎｍ
以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の
観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ない
ものが好適である。含有量は、樹脂フィルム１ｍ²当た
り、０．２ｇ〜３ｇが好ましいく、更に好ましくは、
０．５ｇ〜２ｇである。

【０２２６】本発明に好ましく用いられるこれら紫外線
吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン
系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エ
ステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアク
リレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げら
れる。

【０２２７】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は下記一般式〔５〕で示される化合物が好ましく用いら
れる。

【０２２８】

【化２４】

【０２２９】式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びＲ₅は同一
でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アリールオキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しくは
ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または５〜６員の
複素環基を表し、Ｒ₄とＲ₅は閉環して５〜６員の炭素環
を形成してもよい。

【０２３０】以下に本発明に係る紫外線吸収剤の具体例
を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。

【０２３１】ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′
−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾールＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，
４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）
−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）フェノール）ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾールまた本発明に係る紫外線吸収剤のひとつであるベンゾフ
ェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式〔６〕で表さ
れる化合物が好ましく用いられる。

【０２３２】

【化２５】

【０２３３】式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子または
アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、及びフェニ
ル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフ
ェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、
アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキ
ル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基ま
たは−ＣＯ（ＮＨ）_n-1−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル
基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフェ
ニル基を表す。ｍ及びｎは１または２を表す。

【０２３４】上記において、アルキル基としては例え
ば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪族基を表
し、アルコキシ基としては例えば、炭素数１８までのア
ルコキシ基で、アルケニル基としては例えば、炭素数１
６までのアルケニル基で例えばアリル基、２−ブテニル
基などを表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェ
ニル基への置換分としてはハロゲン原子、例えば、塩素
原子、臭素原子、フッ素原子など、ヒドロキシル基、フ
ェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲ
ン原子などを置換していてもよい）などが挙げられる。

【０２３５】以下に一般式〔２〕で表されるベンゾフェ
ノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されない。

【０２３６】ＵＶ−８：２，４−ジヒドロキシベンゾフ
ェノンＵＶ−９：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノンＵＶ−１０：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スル
ホベンゾフェノンＵＶ−１１：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５
−ベンゾイルフェニルメタン）本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤
は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果
に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフ
ェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少
ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好まし
い。

【０２３７】紫外線吸収剤のフィルム中での分布に関し
ては、乾燥工程や熱処理工程で可塑剤と共に表面に移動
したりすることで、工程を汚染したり再付着等による外
観故障の原因になるので、紫外線吸収剤の含有量はフィ
ルム表面側の濃度がフィルム全体の平均の濃度よりも低
いことが好ましい。

【０２３８】

【実施例】以下に実施例により本発明の態様を具体的に
説明するが、本発明はこれらに限定されない。

【０２３９】実施例１《樹脂フィルム試料１の作製》〔樹脂フィルム上への導電性層（ＡＮＳ−１）の塗設〕
コニカ（株）製の厚さ８０μｍのセルローストリアセテ
ートフィルム（略称ＴＡＣ、商品名：コニカＴＡＣＫ
Ｃ８ＵＦ）の一方の面上に下記塗布液組成物−１を塗布
量が２０ｍｌ／ｍ²となるように塗布、９０℃、５分間
乾燥し、導電性層（ＡＮＳ−１）を設けた。導電性層
（ＡＮＳ−１）の表面比抵抗値は２３℃、５５％ＲＨ条
件下で９×１０⁹Ω／□であり、綿製手袋で強く擦って
直ちに乾燥したタバコの灰を接触しても全く付着がなく
優れた帯電防止効果が認められた。

【０２４０】（塗布液組成物−１）導電性微粒子分散物（化合物（１），５％メタノール分散液、平均粒径０．２μｍ）１０質量部セルロースジアセテート樹脂（商品名：アセテートフレークスＬ−ＡＣ、ダイセル化学工業（株）製）１．０質量部２％アセトン分散微粒子シリカ（商品名：アエロジル２００Ｖ、日本アエロジル（株）製）０．１質量部メタノール２０質量部アセトン４０質量部酢酸エチル２５質量部イソプロピルアルコール５質量部〔樹脂フィルム上への反射防止層ＡＲ−１（中屈折率層）の塗設〕次に導電性層の反対面に下記塗布液組成物−２を塗布量
が１１ｍｌ／ｃｍ²となるように塗設し、９０℃、５分
間乾燥した後、８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯下１０ｃｍの距
離から４秒間照射して硬化層を設けた。次に前記硬化層
の面上に下記の塗布液組成物−３（反射防止層ＡＲ−１
（中屈折率層）作製用）を押し出しコーターで塗布し、
８０℃、５分間乾燥させた後、３ｋＷの高圧水銀灯を２
５ｃｍの距離から１０秒間照射し硬化させ、反射防止層
（ＡＲ−１：中屈折率層）を設けた。尚、反射防止層の
膜厚は７８ｎｍで、屈折率は１．７０であった。

【０２４１】（塗布液組成物−２）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体６０質量部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体２０質量部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分２０質量部ジエトキシベンゾフエノン（ＵＶ開始剤）２質量部シリコーン系界面活性剤１質量部メチルエチルケトン５０質量部酢酸エチル５０質量部イソプロピルアルコール５０質量部（塗布液組成物−３（中屈折率層作製用））テトラ（ｎ）ブトキシチタン２５０質量部末端反応性ジメチルシリコーンオイル（日本ユニカー（株）製Ｌ−９０００）０．４８質量部アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製ＫＢＥ９０３）２２質量部紫外線硬化性樹脂（ＫＲ−５００：旭電化工業（株）製）２１質量部プロピレングリコールモノメチルエーテル４９００質量部イソプロピルアルコール４８４０質量部〔樹脂フィルム上への反射防止層ＡＲ−２（高屈折率層）の塗設〕次に、前記反射防止層（ＡＲ−１：中屈折率層）の面上
に下記の塗布液組成物−４（高屈折率層用）を押し出し
コーターで塗布し、８０℃、５分間乾燥させた。次い
で、３ｋＷの高圧水銀灯を２５ｃｍの距離から１０秒間
照射し硬化させ、反射防止層ＡＲ−２（高屈折率層）を
設けた。尚、高屈折率層の厚は６６ｎｍで、屈折率は
１．８５であった（塗布液組成物−４（高屈折率層用組成用））テトラ（ｎ）ブトキシチタン３１０質量部末端反応性ジメチルシリコーンオイル（日本ユニカー（株）製Ｌ−９０００）０．４質量部アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製ＫＢＥ９０３）４．８質量部紫外線硬化性樹脂（旭電化工業（株）製：ＫＲ−５００）４．６質量部プロピレングリコールモノメチルエーテル４９００質量部イソプロピルアルコール８９００質量部〔樹脂フィルム上への反射防止層ＡＲ−３（低屈折率層）の塗設〕次に、前記の反射防止層ＡＲ−２（高屈折率層）の面上
に下記塗布液組成物−５（低屈折率層用ＡＲ−３）を押
し出しコーターで塗布し、８０℃、５分間乾燥させた。
次いで、３ｋＷの高圧水銀灯を２５ｃｍの距離から１０
秒間照射し硬化させ、反射防止層ＡＲ−３（低屈折率
層）を設けた。尚、反射防止層（低屈折率層）の膜厚は
９５ｎｍで、屈折率は１．４５であった。

【０２４２】（塗布液組成物−５（低屈折率層組成用））テトラエトキシシラン加水分解物Ａ１０２０質量部末端反応性ジメチルシリコーンオイル（日本ユニカー（株）製Ｌ−９０００）０．４２質量部プロピレングリコールモノメチルエーテル２７００質量部イソプロピルアルコール６３００質量部（テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製方法）テトラエトキシシラン３００ｇにエタノール４５５ｇを
加え混合し、この溶液に１．０質量％のクエン酸水溶液
２９５ｇを添加した後に、室温にて１時間攪拌すること
で、テトラエトキシシラン加水分解物Ａを調製した。

【０２４３】上記のようにして、セルローストリアセテ
ートフィルム（略称ＴＡＣ、商品名：コニカＴＡＣＫ
Ｃ８ＵＦ）の一方の面上に、導電性層（ＡＮＳ−１）を
有し、もう一方の面上に、紫外線硬化層（ＣＨＣ）−反
射防止層ＡＲ−１（中屈折率層）−反射防止層ＡＲ−２
（高屈折率層）−反射防止層ＡＲ−３（低屈折率層）か
らなる反射防止層を塗設した樹脂フィルム試料１を作製
した。

【０２４４】樹脂フィルム試料１の反射防止層の反射率
を測定したところ、反射率は０．１％であり、顕著な反
射防止効果が認められた。

【０２４５】《樹脂フィルム試料２の作製》樹脂フィル
ム試料１の導電性層の作製において、下記塗液組成物−
６を塗布量２２ｍｌ／ｍ²となるように塗布して第１層
を塗設し、更に同じ面上に、下記塗布液組成物−７を塗
布量１６ｍｌ／ｍ²として第２層を塗設した以外は、同
様にして樹脂フィルム試料２を作製した。

【０２４６】（塗布液組成物−６）導電性微粒子分散物（ＩＰ−２４の５％メタノール分散液、平均粒径０．２μｍ）１０質量部セルロースジアセテート樹脂（商品名：アセテートフレークスＬ−ＡＣ、ダイセル化学工業（株）製）０．２質量部メタノール２０質量部アセトン４０質量部酢酸エチル２５質量部イソプロピルアルコール５質量部（塗布液組成物−７）セルロースジアセテート樹脂（商品名：アセテートフレークスＬ−ＡＣ、ダイセル化学工業（株）製）１．０質量部１％アセトン分散微粒子シリカ（商品名：アエロジル２００Ｖ、日本アエロジル（株）製）０．０５質量部メチルエチルケトン４０質量部酢酸エチル３０質量部メチルプロピレングリコール３０質量部〔樹脂フィルム試料３の作製〕樹脂フィルム試料２の導
電性層の作製において、下記塗液組成物−８を塗布量２
２ｍｌ／ｍ²となるように塗布して第１層を塗設した以
外は、同様にして樹脂フィルム試料３を作製した。

【０２４７】（塗布液組成物−８）導電性微粒子分散物（化合物（２）の５％メタノール分散液、平均粒径０．２μｍ）１０質量部セルロースジアセテート樹脂（商品名：アセテートフレークスＬ−ＡＣ、ダイセル化学工業（株）製）０．３質量部メタノール２０質量部アセトン４０質量部酢酸エチル２５質量部イソプロピルアルコール５質量部〔樹脂フィルム試料４の作製〕樹脂フィルム試料２の作
製において、導電性層の第１層目を下記塗布液組成物−
９とし、塗布量１５ｍｌ／ｍ²となるように調整し、更
に同じ面上に第２層目を前記塗布液組成物−７を塗布量
１４ｍｌ／ｍ²となるように塗布した以外は同様にして
樹脂フィルム試料４を作製した。

【０２４８】（塗布液組成物−９）導電性微粒子分散組成物（下記に調製方法を示す）７質量部ニトロセルロース１質量部アセトン５８質量部メタノール３０質量部乳酸エチル５質量部（導電性微粒子分散組成物）導電性ＳｎＯ₂、アンチモン複合微粒子（三菱マテリアル（株）製：一次粒子径０．０１５ｎｍ）２００質量部ニトロセルロース５質量部アセトン１５０質量部上記組成物をサンドミル分散機を用いて２時間分散し、
導電性微粒子分散組成物を調製した。

【０２４９】〔樹脂フィルム試料５の作製〕樹脂フィル
ム試料２の作製において、導電性層の第１層目を下記塗
布液組成物−１０を塗布量２０ｍ／ｍ²となるように塗
布し、更に同じ面上に第２層目を前記塗布液組成物−７
を塗布量１５ｍ／ｍ²となるように塗布した以外は同様
にして樹脂フィルム試料５を作製した。

【０２５０】（塗布液組成物−１０）アルミナソルＡＳ−１００（日産化学工業株式会社製）０．４質量部セルロースジアセテート樹脂（商品名：アセテートフレークスＬ−ＡＣ、ダイセル化学工業（株）製）０．２質量部アセトン５０質量部メタノール４０質量部ジメチルホルムアミド１０質量部〔樹脂フィルム試料６の作製〕樹脂フィルム試料２の作
製において、導電性層の第１層目を下記塗布液組成物−
１１を塗布量２０ｍｌ／ｍ²となるように塗布し、更に
同じ面上に導電性層の第２層目を前記塗布液組成物−７
を塗布量１５ｍ／ｍ²となるように塗布した以外は同様
にして樹脂フィルム試料６を作製した。

【０２５１】（塗布液組成物−１１）アイオネン型ポリマー（ＩＰ−３）０．４質量部アセトン３７．５質量部メタノール６０質量部ジエチレングリコール２．５質量部〔樹脂フィルム試料７の作製〕樹脂フィルム試料２の作
製において、導電性層の第１層目を下記塗布液組成物−
１２を塗布量２０ｍｌ／ｍ²となるように塗布し、更に
同じ面上に第２層目を下記塗布液組成物−１３を塗布量
２５ｍ／ｍ²をこの順に塗布し、それぞれ１００℃で５
分間乾燥して設けた以外は同様にして樹脂フィルム試料
７を作製した。

【０２５２】（塗布液組成物−１２）化合物（１４）０．５質量部アセトン４０質量部酢酸エチル５０質量部イソプロピルアルコール１０質量部（塗布液組成物−１３）ポリビニルアルコール（ＰＶＡ（日本合成化学工業（株）製、商品名：ゴーセノールＮＨ−２６））０．１質量部導電性材料（ＩＰ−１１）０．１５質量部サポニン（メルク（株）製、界面活性剤）０．０３質量部架橋剤（グリオキザール）０．０２５質量部純水５５質量部メタノール４０質量部イソプロピルアルコール５質量部〔樹脂フィルム試料８の作製〕ＴＡＣをコニカ（株）製
の厚さ８０μｍのセルローストリアセテートフィルム
（略称ＴＡＣ、商品名：コニカＴＡＣＫＣ８ＵＸ）を
用いた以外は樹脂フィルム試料７と同様にして樹脂フィ
ルム試料８を作製した。

【０２５３】〔樹脂フィルム試料９の作製〕導電性層の
第１層目を下記塗布液組成物−１４に代え、その塗布量
１６ｍｌ／ｍ²となるように塗布した以外は樹脂フィル
ム試料７と同様にして樹脂フィルム試料９を作製した。

【０２５４】（塗布液組成物−１４）ゼラチン１質量部セルロースジアセテート樹脂（商品名：アセテートフレークスＬ−ＡＣ、ダイセル化学工業（株）製）０．７質量部架橋剤（グリオキザール）０．０１質量部氷酢酸２質量部メタノール２７質量部アセトン６８質量部純水３質量部〔比較の樹脂フィルム試料１０の作製〕導電性層を設け
なかった以外は樹脂フィルム試料１と同様にして比較の
樹脂フィルム試料１０を作製した。

【０２５５】〔比較の樹脂フィルム試料１１の作製〕導
電性材料（ＩＰ−１１）を除いた以外は樹脂フィルム試
料７と同様にして比較の樹脂フィルム試料１１を作製し
た。

【０２５６】〔比較の樹脂フィルム試料１２の作製〕導
電性層を設けなかった以外は樹脂フィルム試料８と同様
にして比較の樹脂フィルム試料１２を作製した。

【０２５７】〔比較の樹脂フィルム試料１３の作製〕導
電性材料（アルミナソルＡＳ−１００）を除いた以外は
樹脂フィルム試料５と同様にして比較の樹脂フィルム試
料１３を作製した。

【０２５８】〔樹脂フィルム試料１４の作製〕導電性層
の第１層目を下記塗布液組成物−１５に代え、その塗布
量２３ｍｌ／ｍ²となるように塗布した以外は樹脂フィ
ルム試料２と同様にして樹脂フィルム試料１４を作製し
た。

【０２５９】（塗布液組成物−１５）導電性微粒子分散物（ＩＰ−２４の５％メタノール分散液、平均粒径０．２μｍ）１０質量部アクリル系樹脂（ダイヤナールＢＲ−１０８：三菱レイヨン（株）製）０．５質量部メチルプロピレングリコール６５質量部メチルエチルケトン２０質量部乳酸エチル５質量部〔樹脂フィルム試料１５の作製〕樹脂フィルム試料２の
ＴＡＣフィルムを下記の方法で作製したＣＡＰフィルム
（セルロースアセテートプロピオネートフィルム）に代
えた以外は、同様にして樹脂フィルム１５を作製した。

【０２６０】（ＣＡＰフィルムの作製）（ドープ液の調製）ＣＡＰ（原料：リンター、アセチル置換度２．００、プロピオニル基置換度０．８０）１６０質量部２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール１．９質量部２％アセトン分散微粒子シリカ（商品名：アエロジル２００Ｖ、日本アエロジル（株）製）０．１質量部メチレンクロライド７７０質量部エタノール６５質量部上記ドープ液を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解し
てセルロースエステルドープを調製し、絶対濾過精度
０．００５ｍｍのろ紙を用い、濾過流量３００ｌ／ｍ²
・時、濾圧は１．０×１０⁶Ｐａでおこなった。

【０２６１】（流延及び乾燥）上記ドープ液をダイを通
して、ステンレスベルトの上に流延し、ステンレスベル
トの温度を２５℃に制御し、ウェブ側からは４５℃の風
を１０ｍ／秒の風速で斜めにあて、ステンレスベルトが
下側になった部分では前半で４０℃の風を１０ｍ／秒で
垂直に当てウェブ中の残留溶媒量２５質量％になるまで
溶媒を蒸発して剥離した。千鳥状に配置したロール乾燥
機で６０℃で乾燥し、続いて特開昭６２−１１５０３５
号公報に記載されているようなテンター乾燥機にウェブ
を導入して幅保持しながら９０℃〜１１０℃で乾燥し
た。

【０２６２】最後に再びロール乾燥機で１１０℃〜１３
０℃で乾燥し、最終的に２０℃に冷却して、巻き取り、
厚さ８０μｍのＣＡＰフィルムを得た。

【０２６３】〔樹脂フィルム試料１６の作製〕樹脂フィ
ルム試料２の作製において、導電性層側の第１層目を下
記塗布液組成物−１６に代え、その塗布量２０ｍｌ／ｍ
²となるように塗布した以外は同様にして樹脂フィルム
試料１６を作製した。

【０２６４】（塗布液組成物−１６）導電性微粒子分散物（ＩＰ−２４の５％メタノール分散液、平均粒径０．２μｍ）１０質量部アクリル系水分散樹脂（ニカゾールＹ−８３０７Ｂ、日本カーバイト（株）製）（３５質量％）０．８質量部純水４０質量部メタノール２０質量部アセトン３０質量部上記記載のようにして得られた樹脂フィルム試料１〜１
６の各々について下記に記載のようにして偏光板１〜１
６を各々、作製した。

【０２６５】《偏光板試料１〜１６の作製》下記の工程
で、偏光子と樹脂フィルム試料１〜１６を各々、張り合
わせて偏光板を作製した。

【０２６６】（１）１８ｃｍ×５ｃｍサイズの樹脂フィ
ルム試料を塗工面を上にしてガラス板上に配置する。

【０２６７】（２）樹脂フィルム試料と同サイズの１軸
延伸されたポリビニルアルコール染色フィルムからなる
偏光子を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤
槽中に１〜２秒間浸漬（偏光子の両面を）する。

【０２６８】（３）上記の偏光子に付着した過剰の接着
剤を軽く取り除き、上記の樹脂フィルム試料上にのせ
て、さらに上記と同一の試料フィルムの塗工面と接着剤
とが接するように次の樹脂フィルム試料を積層し配置す
る。

【０２６９】（４）ハンドローラで上記で積層された偏
光子と保護フィルムとの積層物の端部から過剰の接着剤
及び気泡を取り除き貼り合わせる。ハンドローラの圧力
は約０．２〜０．３ＭＰａ、ローラスピードは約２ｍ／
分とした。

【０２７０】（５）８０℃の乾燥器中に、試料を２分間
放置する。ここで、樹脂フィルム試料１、２、３、４、
５、６、１０、１２、１３、１４、１５、１６について
は、樹脂フィルム試料をアルカリ液で鹸化処理し、親水
性化した後、導電性層の面と偏光子の面とをとＰＶＡ接
着剤を用いて貼合し、偏光板試料１、２、３、４、５、
６、１０、１２、１３、１４、１５、１６を作製し、ま
た、樹脂フィルム試料７、８、９、１１については、導
電性層が易接着性を有するため、鹸化処理はしないで、
導電性層の面と偏光子の面をＰＶＡ接着剤を用いて貼合
し、偏光板試料７、８、９、１１を各々作製した。

【０２７１】得られた偏光板試料１〜１６の各々につい
て下記の評価を行った。《表面比抵抗》偏光板試料１〜１６の各々を２５℃、５
５％ＲＨの条件にて２４時間調湿し、川口電機株式会社
製テラオームメーターモデルＶＥ−３０を用いて測定し
た。測定に用いた電極は、２本の電極（試料と接触する
部分が１ｃｍ×５ｃｍ）を間隔を１ｃｍで平行に配置
し、該電極に試料を接触させて測定し、測定値を５倍に
した値を表面比抵抗値Ω／ｃｍ²とした。尚、本発明に
おいて、表面比抵抗とは導電性層表面の値を表し、導電
性層が複数存在する場合には、最表面の導電性層の測定
値を表面比抵抗値とする。

【０２７２】《カール度評価》偏光板試料を巾手方向３
５ｍｍ、長手方向１ｍｍに裁断した試料を用いた。試料
を２５℃、５５％ＲＨ雰囲気下で３日間放置し、カール
度の測定をＪＩＳ−Ｋ７６１９−１９８８のＡ法に準じ
て行った。

【０２７３】《密着性評価》ＪＩＳＫ５４００に準
拠した碁盤目試験を行った。具体的には塗布面上に１ｍ
ｍ間隔で縦、横に１１本の切れ目をいれ、１ｍｍ角の碁
盤目を１００個つくった。この上にセロハンテープを貼
り付け、９０度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残っ
た碁盤目の数をｍとしｍ／１００として表した。

【０２７４】《反射防止層の異物故障の数》塗膜の目視
検査を行い、直径１００μｍ〜１５０μｍ未満、直径１
５０μｍ以上に見える突起状故障または窪み状故障を各
々、１ｍ²あたりの個数で示した。

【０２７５】また、評価にあたって、直径１００μｍの
異物故障とは塗膜の基準面に対して塗膜表面の厚み変化
率が２μｍ（塗膜の厚み変化）／１００μｍ（基準面上
の距離）以上で塗膜の厚みが０．５μｍ以上変化した突
起状故障及び／または窪み状部分の範囲を略円形として
見たときの直径が１００μｍの故障であり、これは目視
で１００μｍの大きさの異物故障としている。同様に前
記の直径が１５０μｍの故障を１５０μｍの大きさの異
物故障としている。実際の異物故障検査では、前記の１
００μｍの大きさの異物故障と１５０μｍの大きさの異
物故障の見本を用意し、１００μｍの大きさの異物故障
の見本と１５０μｍの大きさの異物故障の見本の中間の
大きさを有する異物故障を直径１００〜１５０μｍの異
物としてカウントした。同様に１５０μｍの大きさの異
物故障の見本に対し、これ以上の大きさの異物故障を１
５０μｍ以上の異物としてカウントした。

【０２７６】また、異物故障の突起状或いは窪み状故障
の断面の様子は光干渉式の表面粗さ計等で観察すること
が出来る。

【０２７７】《貼合面（偏光子と樹脂フィルムの界面）
の泡、異物故障評価》偏光板試料作製時における、偏光
子と樹脂フィルム試料との貼合時の界面の微細な泡、異
物故障を目視で下記のようなランク評価を行った。

【０２７８】○：泡、異物は全く無し △：泡、異物がは少し認められた ×：泡、異物が著しく認められた《プロテクトフィルム剥離後の帯電量測定、ゴミ付着テ
スト、液晶の異常表示テスト》偏光板試料１〜１６の各
々において、一方の面に、ポリエチレン／エチレン／酢
酸ビニル共重合体二層押出成形フィルムからなる表面保
護フィルム（プロテクトフィルムとも呼ぶ）を貼り付
け、もう一方の面には、厚さ２０μｍのアクリル系粘着
層を付設して、その表面をシリコーン系剥離剤で処理し
たポリエステルフィルムからなるセパレートフィルムで
被覆保護した。

【０２７９】得られた試料について、下記のように、帯
電量、ゴミ付着テスト、液晶の異常表示テストを行っ
た。

【０２８０】（プロテクトフィルム剥離後の帯電量測
定）上記記載の各々の試料のプロテクトフィルムを急速
に剥がし、剥離の際に偏光板の樹脂フィルム表面に発生
した帯電量を帯電式電位測定器（商品名：ＫＳ−４７１
型、春日電気社製）を用い、２５℃、５５％ＲＨの条件
のもとで測定した。

【０２８１】（液晶の異常表示テスト）上記記載の各々
の試料を液晶パネルに組み込んで印画像を作製し、次い
で、プロテクトフィルムを剥離除去した後の液晶の異常
表示（画像や文字のぼけ）を目視で観測した。上記記載
のプロクテト剥離後の帯電量が大きいと液晶の異常表示
が多い。

【０２８２】（ゴミ付着量）上記記載の各々の試料のセ
パレートフィルムを急速に剥離除去した後の偏光板のア
クリル系粘着層表面のゴミの付着量を下記のようにラン
ク評価した。

【０２８３】乾燥したタバコの灰をガラスシャーレに入
れ、タバコの灰に上記のアクリル系粘着層表面を１０秒
間、高さ１ｃｍまで近づけ、ゴミの付着を観察した。

【０２８４】 ○・・・ゴミ付着は全く見られなかった △・・・ゴミ付着は少し認められた ×・・・ゴミ付着が著しく認められた得られた結果を表１、表２に示す。

【０２８５】

【表１】

【０２８６】

【表２】

【０２８７】表１、表２から、比較に比べて、本発明の
試料は、ゴミの付着量、カール度、異物故障の数等が各
々、少なく、プロテクトフィルムを剥離除去した後の帯
電量が少ないので液晶の異常表示（画像や文字などがぼ
けることを意味する）が皆無であり、且つ、樹脂フィル
ムと偏光子との密着性が良好であることが明らかであ
る。

【０２８８】

【発明の効果】本発明により、ゴミの付着量、カール
度、泡、異物故障等が少なく、プロテクトフィルムを剥
離除去した後の帯電量が少ないので液晶の異常表示が皆
無であり、且つ、偏光子との密着性が良好な樹脂フィル
ム及びそれを用いた偏光板を提供することが出来た。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｃ０９Ｄ 5/24 ５Ｇ３０７ 5/30 101/08 // Ｃ０９Ｄ 5/24 129/04 101/08 133/00 129/04 189/00 133/00 201/00 189/00 Ｃ０８Ｌ 1:12 201/00 Ｇ０２Ｂ 1/10 ＡＣ０８Ｌ 1:12 ＺＦターム(参考） 2H049 BA02 BB43 BB49 BB62 BB65 2K009 AA02 CC14 CC38 EE03 EE05 4F006 AA02 AB16 AB20 AB24 AB32 BA07 BA14 CA05 4F100 AA20E AH02A AH02B AH02C AH02E AH06A AH06B AH06C AH08B AH08C AJ01D AJ06D AJ06E AK08E AK25E AR00A AR00B AR00C AR00E BA05 BA07 BA10A BA10E CC02B CC02C GB41 JA20E JG01 JG01E JG04E JL04E JN10 JN30A JN30B JN30C YY00E 4J038 BA041 BA191 CC001 CC021 CE021 CF011 CG011 CG081 CG141 CG171 DJ011 GA06 GA08 GA09 GA12 GA13 GA16 KA12 NA01 NA05 NA12 NA20 5G307 GA02 GA05 GC02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一方の面上に反射防止層を有し、もう一
方の面上に導電性材料を含有する導電性層を有し、且
つ、該導電性層の表面比抵抗値が１０¹¹Ω／□（２５
℃、５５％ＲＨ）以下であることを特徴とする樹脂フィ
ルム。
【請求項２】導電性材料がイオン性高分子化合物を主
成分として含有することを特徴とする請求項１に記載の
樹脂フィルム。
【請求項３】イオン性高分子化合物が分子架橋を有す
る４級アンモニウムカチオンポリマーであることを特徴
とする請求項２に記載の樹脂フィルム。
【請求項４】４級アンモニウムカチオンポリマーが塩
素イオンを含まないことを特徴とする請求項３に記載の
樹脂フィルム。
【請求項５】導電性材料が、該導電性材料を構成する
元素組成として、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓ
ｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ及びＶからなる群から選択さ
れる少なくとも一つの元素を主成分として含有し、且
つ、前記導電性材料の体積抵抗率が１０⁷Ω・ｃｍ（２
５℃、５５％ＲＨ）以下であることを特徴とする請求項
１に記載の樹脂フィルム。
【請求項６】導電性層がセルロースエステル系樹脂ま
たはアクリル系樹脂を含有することを特徴とする請求項
１〜５のいずれか１項に記載の樹脂フィルム。
【請求項７】導電性層がセルロースエステル系樹脂を
含有する層を有することを特徴とする請求項１〜６のい
ずれか１項に記載の樹脂フィルム。
【請求項８】平均粒径０．０１μｍ以上１０μｍ以下
の微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜７のい
ずれか１項に記載の樹脂フィルム。
【請求項９】カール度（２３℃、５５％ＲＨ）を−１
０以上１０以下に調整することを特徴とする請求項１〜
８のいずれか１項に記載の樹脂フィルム。
【請求項１０】導電性層が、親水性高分子化合物
（ａ）を含有する層（１）または、ゼラチンもしくはゼ
ラチン誘導体の少なくとも１種とセルロースエステルと
を含有する層（２）を有することを特徴とする請求項１
〜９のいずれか１項に記載の樹脂フィルム。
【請求項１１】導電性層が、下記一般式〔１〕または
〔２〕で表される−ＣＯＯＭ基を有する高分子化合物を
含有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項
に記載の樹脂フィルム。【化１】〔式中、Ａはビニル単量体が重合して生成する繰り返し
単位、Ｂは水素原子、−ＣＯ−ＯＭまたは−ＣＯ−Ｒを
表し、Ｍは水素原子またはカチオンを表し、ｚ＝０のと
き、Ｂは水素原子である。Ｒは−Ｏ−Ｒ′または−Ｎ
（Ｒ′）（Ｒ″）を表し、ここでＲ′はアルキル基、ア
ラルキル基、アリール基、複素環残基またはＲ″と共同
して複素環を形成するに必要な非金属原子を表し、Ｒ″
は水素原子、低級アルキル基またはＲ′と共同して複素
環を形成するに必要な非金属原子を表し、Ｒ₁及びＲ₂は
各々、水素原子または低級アルキル基を表し、Ｘは−Ｃ
Ｏ−Ｏ−または−Ｏ−ＣＯ−を表し、Ｒ₃はハロゲン置
換アルキル基またはハロゲン置換アルキルオキシアルキ
ル基を表し、ｍ、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙ及びｚは各々、各
単量体のモル％を示す値であって、ｍ及びｘは各々、０
〜６０、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙ及びｚは各々、０〜１００
であり、ｍ＋ｐ＋ｑ＋ｒ＝１００、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００
である。〕
【請求項１２】親水性高分子化合物（ａ）がポリビニ
ルアルコール誘導体、親水性セルロース誘導体または天
然高分子であることを特徴とする請求項１０または１１
に記載の樹脂フィルム。
【請求項１３】樹脂フィルムがセルロースエステルを
含むことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に
記載の樹脂フィルム。
【請求項１４】請求項１〜１３のいずれか１項に記載
の樹脂フィルムを用いたことを特徴とする偏光板。
【請求項１５】請求項１〜１３のいずれか１項に記載
の樹脂フィルムを鹸化処理後、偏光子と貼合して作製さ
れたことを特徴とする偏光板。
【請求項１６】樹脂フィルムの導電性層を設けた側と
偏光子とを貼合して作製されたことを特徴とする請求項
１４または１５に記載の偏光板。
【請求項１７】偏光子がポリビニルアルコール系樹脂
を有することを特徴とする請求項１６に記載の偏光板。