JP2001101710A - 積層ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】低複屈折性、耐衝撃性に優れ、反りのない光デ
ィスク等の情報記録媒体用ディスクを提供すること。 【解決手段】ビニル系環状炭化水素重合体で形成され
た、厚さ０．０１〜１．０ｍｍの円板状ディスクを2層
以上積層してなる積層ディスクを用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ビニル系環状炭化
水素重合体を成形して得られる支持ディスクを積層して
得られる積層ディスク及び該積層ディスクを用いた光情
報記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ディスク状情報記録媒体用成形材
料として、ポリカーボネートが知られており、コンパク
トディスクなどに使用されている。一方、高密度、高容
量の記録媒体に適した新しい材料として、例えば、特開
昭６３−４３９１０号公報には、分子鎖中にビニルシク
ロヘキサン成分を３０重量％以上含有する重合体が提案
されている。そして、該成形材料を用いて射出成形によ
り成形したコンパクトディスクが低複屈折性に優れるこ
とが報告されている。

【０００３】しかし、本発明者らの検討によると、この
ビニルシクロヘキサンを含有する重合体は、ポリカーボ
ネート等と比較して、機械強度、耐衝撃性が十分でな
く、高速で回転させた時のディスクの強度に不安があっ
た。そこで、ディスク成形時の射出率を上げることで、
ディスクに配向をかけて機械強度の向上を図る方法が試
みられているが、この方法では複屈折が増大し、強度も
さほど向上しなかった。また、該重合体を用いて成形し
た単板のディスクの片面に記録膜と保護膜を形成したデ
ィスク状記録媒体は、吸湿により反りが生じやすかっ
た。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低複
屈折性、耐衝撃性に優れ、反りのない積層ディスク及び
情報記録媒体を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、ポリスチレンなど
を水素添加して得られるビニル系環状炭化水素重合体か
らなる特定の厚さのディスクを複数枚貼り合わせること
によって、低複屈折で衝撃強度が高く、反りの生じない
積層ディスク及びディスク状記録媒体が得られることを
見出し、本発明を完成するに至ったものである。

【０００６】かくして本発明によれば、ビニル系環状炭
化水素重合体で形成された、厚さ０．０１〜１ｍｍの支
持ディスクを2層以上積層してなる積層ディスクが提供
される。また、本発明によれば、支持ディスク面に記録
層を有するものである上記記載の積層ディスクが提供さ
れる。

【０００７】

【発明の実施の形態】ビニル系環状炭化水素重合体 本発明の積層ディスクを得るために使用するビニル系環
状炭化水素重合体は、下記一般式（１）

【０００８】

【化１】

【０００９】〔式（１）中、Ｘは脂環式炭化水素基であ
り、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に水素原子、鎖状炭化
水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル
基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリ
ル基、及び極性基（ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒド
ロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド
基、又はシリル基）で置換された鎖状炭化水素基であ
る。〕で表されるビニル系環状炭化水素化合物由来の繰
り返し単位（ａ）を、重合体中に含有するものである。

【００１０】式（１）中のＸは脂環式炭化水素基を表
し、それを構成する炭素数は、低複屈折性、機械強度等
の観点から、通常４個〜２０個、好ましくは４個〜１０
個、より好ましくは５個〜７個である。

【００１１】脂環式炭化水素基は、炭素−炭素不飽和結
合を有してもよいが、その含有量は、低複屈折性、耐熱
性、透明性等の観点から、全炭素−炭素結合の２０％以
下、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下で
ある。尚、炭素−炭素不飽和結合の含有量は、^１Ｈ−Ｎ
ＭＲ測定により求めることができる。

【００１２】また、脂環式炭化水素基は、水素原子の一
部が、炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、
ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イ
ミド基、シリル基などの極性基、及び極性基（ハロゲ
ン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、
シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基）で置換
された鎖状炭化水素基などに置換されていてもよく、中
でも炭素原子数１〜６個の鎖状炭化水素基で置換されて
いるものが耐熱性等の点で好ましい。

【００１３】Ｒ１〜Ｒ３は、耐熱性、低複屈折性、機械
強度等の観点から、水素原子又は炭素原子数１〜６個の
鎖状炭化水素基が好ましい。極性基で置換された鎖状炭
化水素基としては、例えば炭素原子数１〜２０、好まし
くは１〜１０、より好ましくは１〜６の置換アルキル基
が挙げられる。鎖状炭化水素基としては、例えば炭素原
子数１〜２０、好ましくは１〜１０、より好ましくは１
〜６のアルキル基；炭素原子数２〜２０、好ましくは２
〜１０、より好ましくは２〜６のアルケニル基が挙げら
れる。

【００１４】該ビニル系環状炭化水素重合体中の上記繰
り返し単位（ａ）の含有量は、耐熱性、低複屈折性、機
械強度の観点から、通常は５０重量％以上、好ましくは
７０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上、最も
好ましくは９０重量％以上である。

【００１５】該重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、Ｇ
ＰＣにより測定されるポリスチレン換算値で、通常１
０，０００〜１，０００，０００、好ましくは５０，０
００〜５００，０００、より好ましくは１００，０００
〜３００，０００の範囲であり、且つ分子量分布は、ゲ
ルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測
定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）と
数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）で通常５以
下、好ましくは３以下、より好ましくは２．５以下、最
も好ましくは２以下である。Ｍｗ／Ｍｎが上記範囲にあ
るとき、重合体の機械強度、耐熱性に特に優れ、重量平
均分子量（Ｍｗ）が上記範囲にあると、重合体の強度特
性と成形性、複屈折がバランスされる。

【００１６】該重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、通
常５０℃〜２５０℃、好ましくは７０℃〜２００℃、よ
り好ましくは９０℃〜１８０℃である。

【００１７】上記ビニル系環状炭化水素重合体は、
（Ａ）芳香族ビニル系重合体の芳香環部分を水素化する
方法、（Ｂ）ビニルシクロアルカンやビニルシクロアル
ケンなどのビニル脂環式炭化水素を重合し、炭素−炭素
不飽和結合が存在する場合にはそれを水素化する方法、
などの方法を用いることにより得ることができる。

【００１８】上記（Ａ）の方法で用いることができる芳
香族ビニル化合物の具体例としては、スチレン、α−メ
チルスチレン、α−エチルスチレン、α−プロピルスチ
レン、α−イソプロピルスチレン、α−ｔ−ブチルスチ
レン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−
メチルスチレン、２，４−ジイソプロピルスチレン、
２，４−ジメチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、
５−ｔ−ブチル−２−メチルスチレン、モノクロロスチ
レン、ジクロロスチレン、モノフルオロスチレン、４−
フェニルスチレンなどのスチレン類が挙げられ、（Ｂ）
の方法で用いることができるビニル系環状炭化水素化合
物の具体例としては、ビニルシクロヘキサン、３−メチ
ルイソプロペニルシクロヘキサンなどのビニルシクロヘ
キサン類；ビニルシクロヘキセン類としては、４−ビニ
ルシクロヘキセン、４−イソプロペニルシクロヘキセ
ン、１−メチル−４−ビニルシクロヘキセン、１−メチ
ル−４−イソプロペニルシクロヘキセン、２−メチル−
４−ビニルシクロヘキセン、２−メチル−４−イソプロ
ペニルシクロヘキセンなどのビニルシクロヘキセン類な
どがそれぞれ挙げられる。

【００１９】また、本発明においては、重合体中５０重
量％未満となる範囲で前述の化合物以外の共重合可能な
単量体を共重合させてもよい。共重合可能な単量体とし
ては、エチレン、プロピレン、イソブテン、２−メチル
−１−ブテン、２−メチル−１−ペンテン、４−メチル
−１−ペンテンなどのα−オレフィン系単量体； シク
ロペンタジエン、１−メチルシクロペンタジエン、２−
メチルシクロペンタジエン、２−エチルシクロペンタジ
エン、５−メチルシクロペンタジエン、５、５−ジメチ
ルシクロペンタジエンなどのシクロペンタジエン系単量
体； シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセ
ン、ジシクロペンタジエンなどの環状オレフィン系単量
体； ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエ
ン、フラン、チオフェン、１，３−シクロヘキセンなど
の共役ジエン系単量体； アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、α−クロロアクリロニトリルなどのニトリ
ル系単量体； メタクリル酸メチルエステル、メタクリ
ル酸エチルエステル、メタクリル酸プロピルエステル、
メタクリル酸ブチルエステル、アクリル酸メチルエステ
ル、アクリル酸エチルエステル、アクリル酸プロピルエ
ステル、アクリル酸ブチルエステル、などの（メタ）ア
クリル酸エステル系単量体； アクリル酸、メタクリル
酸、無水マレイン酸などの不飽和脂肪酸系単量体； フ
ェニルマレイミド； エチレンオキサイド、プロピレン
オキサイド、トリメチレンオキサイド、トリオキサン、
ジオキサン、シクロヘキセンオキサイド、スチレンオキ
サイド、エピクロルヒドリン、テトラヒドロフランなど
の環状エーテル系単量体； メチルビニルエーテル、Ｎ
−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンな
どの複素環含有ビニル化合物系単量体； などが挙げら
れる。

【００２０】上記（Ａ）及び（Ｂ）の方法に用いる芳香
族ビニル系重合体及び／又はビニル脂環構式炭化水素重
合体は、芳香族ビニル化合物及び／又はビニル脂環式炭
化水素化合物を含有する単量体を、公知の方法により重
合して得られるものを用いることができるが、本発明に
おいては、耐熱性、低複屈折性、機械強度等の観点か
ら、芳香族ビニル系化合物及び／又はビニル脂環式炭化
水素化合物を、通常５０重量％以上、好ましくは７０重
量％以上、より好ましくは８０重量％以上含有するもの
を用いるのが好ましい。

【００２１】該重合体は、ラジカル重合触媒、アニオン
重合触媒、アニオンリビング重合触媒、カチオン重合触
媒、カチオンリビング重合触媒などの公知の重合触媒を
用いて重合することにより得られる。重合方法として
は、ラジカル重合の場合には有機過酸化物を用いて公知
の方法で重合でき、カチオン重合の場合にはＢＦ_３、Ｐ
Ｆ_６などを用いて公知の方法で重合できる。また、高分
子量で、分子量分布の小さい重合体を得るにはアニオン
リビング重合で重合するのが好ましく、具体的には、炭
化水素系溶媒中で、有機アルカリ金属を開始剤として重
合することにより容易に得られる。また、該方法で得ら
れた、高分子量で分子量分布の小さい重合体は機械強度
に優れる。

【００２２】重合方法としては、塊状重合、乳化重合、
懸濁重合、溶液重合等が適用できるが、水素化反応を連
続して行うためには溶液重合が好ましい。

【００２３】重合反応後は、スチームストリッピング
法、直接脱溶媒法、アルコール凝固法等の公知の方法で
重合体を回収できる。また、本発明においては、重合時
に水素添加反応に不活性な溶媒を用いた場合は、重合溶
液から重合体を回収せず、そのまま水素添加工程に供す
ることができる。

【００２４】水素添加方法は、格別な制限はなく、常法
に従えばよいが、例えば、有機溶媒中で、ニッケル、コ
バルト、鉄、チタン、ロジウム、パラジウム、白金、ル
テニウム及びレニウムから選ばれる少なくとも１種の金
属を含む水素化触媒を用いて行うと、水素化率が高く、
且つ重合体鎖切断を少なくできる。これらの水素化触媒
の中でも、ニッケル触媒を用いると、Ｍｗ／Ｍｎが小さ
くできて好適である。水素化触媒は、不均一触媒、均一
触媒のいずれでもよい。水素化反応は、温度が通常１０
〜２５０℃、好ましくは５０〜２００℃、より好ましく
は８０〜１８０℃の範囲であり、水素圧力が、通常１〜
３００ｋｇ／ｃｍ^２、好ましくは５〜２５０ｋｇ／ｃｍ
^２、より好ましくは１０〜２００ｋｇ／ｃｍ^２の範囲で
行う。

【００２５】上記方法により得られた重合体水素化物の
水素化率は、通常８０％以上、好ましくは９０％以上、
より好ましくは９５％以上である。

【００２６】以上の方法により得られる、本発明のビニ
ル系環状炭化水素重合体の具体例としては、（Ａ）芳香
族ビニル系重合体の水素添加物、（Ｂ）ビニルシクロア
ルカン重合体もしくはビニルシクロアルケン重合体、及
びその水素化物が挙げられ、ビニルシクロアルケンやビ
ニルシクロアルカンとしては、ビニルシクロヘキセン類
又はビニルシクロヘキサン類が、低複屈折性、機械強度
の観点から好ましい。

【００２７】配合剤 本発明のビニル系環状炭化水素重合体には、所望によ
り、酸化防止剤、紫外線吸収剤等、耐光安定剤、帯電防
止剤、等の各種添加剤を添加しても良い。

【００２８】酸化防止剤としては、フェノール系酸化防
止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤などが挙
げられ、これらの中でもフェノール系酸化防止剤、特に
アルキル置換フェノール系酸化防止剤が好ましい。これ
らの酸化防止剤を配合することにより、透明性、低吸水
性を低下させることなく、成形時の酸化劣化等によるデ
ィスクの着色や強度低下を防止できる。酸化防止剤の配
合量は、本発明の目的を損なわれない範囲で適宜選択さ
れるが、重合体１００重量部に対して通常０．００１〜
５重量部、好ましくは０．０１〜１重量部である。

【００２９】また本発明においては、重合体に、（１）
軟質重合体、（２）アルコール性化合物、（３）有機ま
たは無機フィラーからなる群から選ばれる少なくとも１
種類の配合剤を配合することにより、透明性、低吸水
性、機械的強度などの諸特性を低下させることなく、長
時間の高温高湿度環境下での白濁を防止できる。

【００３０】これらの中でも、（１）軟質重合体、及び
（２）アルコール性化合物が、高温高湿度環境下におけ
る白濁防止性に優れる。

【００３１】（１）軟質重合体 本発明に用いる軟質重合体は、通常３０℃以下のＴｇを
有する重合体であり、Ｔｇが複数存在する場合には、少
なくとも最も低いＴｇが３０℃以下であればよい。

【００３２】これらの軟質重合体の具体例としては、例
えば、液状ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ−１−
ブテン、エチレン・α−オレフィン共重合体、プロピレ
ン・α−オレフィン共重合体、エチレン・プロピレン・
ジエン共重合体（ＥＰＤＭ）、エチレン・プロピレン・
スチレン共重合体などのオレフィン系軟質重合体；ポリ
イソブチレン、イソブチレン・イソプレンゴム、イソブ
チレン・スチレン共重合体などのイソブチレン系軟質重
合体；ポリブタジエン、ポリイソプレン、ブタジエン・
スチレンランダム共重合体、イソプレン・スチレンラン
ダム共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン共重合
体、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合
体、ブタジエン・スチレン・ブロック共重合体、スチレ
ン・ブタジエン・スチレン・ブロック共重合体、イソプ
レン・スチレン・ブロック共重合体、スチレン・イソプ
レン・スチレン・ブロック共重合体などのジエン系軟質
重合体；

【００３３】ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリ
シロキサン、ジヒドロキシポリシロキサン、などのケイ
素含有軟質重合体； ポリブチルアクリレート、ポリブ
チルメタクリレート、ポリヒドロキシエチルメタクリレ
ート、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、ブ
チルアクリレート・スチレン共重合体などのα，β−不
飽和酸からなる軟質重合体； ポリビニルアルコール、
ポリ酢酸ビニル、ポリステアリン酸ビニル、酢酸ビニル
・スチレン共重合体などの不飽和アルコールおよびアミ
ンまたはそのアシル誘導体またはアセタールからなる軟
質重合体； ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオ
キシド、エピクロルヒドリンゴム、などのエポキシ系軟
質軟質重合体；フッ化ビニリデン系ゴム、四フッ化エチ
レン−プロピレンゴム、などのフッ素系軟質重合体；天
然ゴム、ポリペプチド、蛋白質、ポリエステル系熱可塑
性エラストマー、塩化ビニル系熱可塑性エラストマー、
ポリアミド系熱可塑性エラストマーなどのその他の軟質
重合体などが挙げられる。これらの軟質重合体は、架橋
構造を有したものであってもよく、また、変性反応によ
り官能基を導入したものでもよい。

【００３４】上記軟質重合体の中でもジエン系軟質重合
体が好ましく、特に該軟質重合体の炭素−炭素不飽和結
合を水素化した水素化物が、ゴム弾性、機械強度、柔軟
性、分散性の点で優れる。

【００３５】（２）アルコール性化合物 また、アルコール性化合物は、分子内に少なくとも１つ
の非フェノール性水酸基を有する化合物で、好適には、
少なくても１つの水酸基と少なくとも１つのエーテル結
合又はエステル結合を有する。このような化合物の具体
例としては、例えば２価以上の多価アルコール、より好
ましくは３価以上の多価アルコール、さらに好ましくは
３〜８個の水酸基を有する多価アルコールの水酸基の１
つ以上がエーテル化またはエステル化されたアルコール
性エーテル化合物やアルコール性エステル化合物が挙げ
られる。

【００３６】２価以上の多価アルコールとしては、例え
ば、ポリエチレングリコール、グリセロール、トリメチ
ロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセロー
ル、トリグリセロール、ジペンタエリスリトール、１，
６，７−トリヒドロキシ−２，２−ジ（ヒドロキシメチ
ル）−４−オキソヘプタン、ソルビトール、２−メチル
−１，６，７−トリヒドロキシ−２−ヒドロキシメチル
−４−オキソヘプタン、１，５，６−トリヒドロキシ−
３−オキソヘキサンペンタエリスリトール、トリス（２
−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートなどが挙げられ
るが、特に３価以上の多価アルコール、さらには３〜８
個の水酸基を有する多価アルコールが好ましい。またア
ルコール性エステル化合物を得る場合には、α、β−ジ
オールを含むアルコール性エステル化合物が合成可能な
グリセロール、ジグリセロール、トリグリセロールなど
が好ましい。

【００３７】このようなアルコール性化合物として、例
えば、グリセリンモノステアレート、グリセリンモノラ
ウレート、グリセリンモノベヘネート、ジグリセリンモ
ノステアレート、グリセリンジステアレート、グリセリ
ンジラウレート、ペンタエリスリトールモノステアレー
ト、ペンタエリスリトールモノラウレート、ペンタエリ
スリトールモノベヘレート、ペンタエリスリトールジス
テアレート、ペンタエリスリトールジラウレート、ペン
タエリスリトールトリステアレート、ジペンタエリスリ
トールジステアレートなどの多価アルコール性エステル
化物；３−（オクチルオキシ）−１，２−プロパンジオ
ール、３−（デシルオキシ）−１，２−プロパンジオー
ル、３−（ラウリルオキシ）−１，２−プロパンジオー
ル、３−（４−ノニルフェニルオキシ）−１，２−プロ
パンジオール、１，６−ジヒドロオキシ−２，２−ジ
（ヒドロキシメチル）−７−（４−ノニルフェニルオキ
シ）−４−オキソヘプタン、ｐ−ノニルフェニルエーテ
ルとホルムアルデヒドの縮合体とグリシドールの反応に
より得られるアルコール性エーテル化合物、 ｐ−オク
チルフェニルエーテルとホルムアルデヒドの縮合体とグ
リシドールの反応により得られるアルコール性エーテル
化合物、 ｐ−オクチルフェニルエーテルとジシクロペ
ンタジエンの縮合体とグリシドールの反応により得られ
るアルコール性エーテル化合物などが挙げられる。これ
らの多価アルコール性化合物は単独でまたは２種以上を
組み合わせて使用される。これらの多価アルコール性化
合物の分子量は特に限定されないが、通常５００〜２０
００、好ましくは８００〜１５００のものが、透明性の
低下も少ない。

【００３８】（３）有機または無機フィラー 有機フィラーとしては、通常の有機重合体粒子または架
橋有機重合体粒子を用いることができ、例えば、ポリエ
チレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン； ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのハロゲン含有ビ
ニル重合体；ポリアリレート、ポリメタクリレートなど
のα，β‐不飽和酸から誘導された重合体； ポリビニ
ルアルコール、ポリ酢酸ビニルなどの不飽和アルコール
から誘導された重合体； ポリエチレンオキシド、また
はビスグリシジルエーテルからから誘導された重合体；
ポリフェニレンオキシド、 ポリカーボネート、 ポ
リスルフォンなどの芳香族縮合系重合体； ポリウレタ
ン；ポリアミド；ポリエステル；アルデヒド・フェノー
ル系樹脂；天然高分子化合物 などの粒子または架橋粒
子を挙げることができる。

【００３９】無機フィラーとしては、例えば、フッ化リ
チウム、硼砂（硼酸ナトリウム含水塩）などの１族元素
化合物；炭酸マグネシウム、燐酸マグネシウム、炭酸カ
ルシウム、チタン酸ストロンチウム、炭酸バリウムなど
の２族元素化合物； 二酸化チタン（チタニア）、一酸
化チタンなどの４族元素化合物；二酸化モリブデン、三
酸化モリブデンの６族元素化合物；塩化マンガン、酢酸
マンガンなどの７族元素化合物；塩化コバルト、酢酸コ
バルトなどの８〜１０族元素化合物；沃化第一銅などの
１１族元素化合物；酸化亜鉛、酢酸亜鉛などの１２族元
素化合物；酸化アルミニウム（アルミナ）、フッ化アル
ミニウム、アルミノシリケート（珪酸アルミナ、カオリ
ン、カオリナイト）などの１３族元素化合物；酸化珪素
（シリカ、シリカゲル）、石墨、カーボン、グラファイ
ト、ガラスなどの１４族元素化合物；カーナル石、カイ
ナイト、雲母（マイカ、キンウンモ）、バイロース鉱な
どの天然鉱物の粒子が挙げられる。

【００４０】上記（１）〜（３）の化合物の配合量は重
合体１００重量部に対して、通常０．０１〜１０重量
部、好ましくは０．０２〜５重量部、特に好ましくは
０．０５〜２重量部である。配合量が少なすぎる場合に
は高温高湿度環境下における白濁防止効果が得られず、
配合量が多すぎる場合は成形品の耐熱性、透明性が低下
する。

【００４１】積層ディスク （ディスク）本発明の積層ディスクは、上記ビニル系環
状炭化水素重合体を成形して得られるディスクを、２層
以上積層して得ることができる。積層ディスクの貼り合
わせ面には、通常、記録層が形成され、情報記録媒体と
して使用される。

【００４２】上記ディスクは、ビニル系環状炭化水素重
合体を用いて、射出成形法、押出成形法、プレス成形
法、キャスト成形法などの方法により得ることができる
が、複屈折、及び反りが小さく、機械強度に優れるディ
スクを得るためには、射出成形法を用いるのが好まし
い。具体的な射出成形方法としては、上記本発明の成形
材料を、例えば加熱シリンダー等を用いて加熱溶融さ
せ、溶融した成形用材料を金型内に充填させた後に冷却
する方法が挙げられる。使用する金型内面には、スタン
パーが取り付けられ、ピット、グルーブ等が転写され
る。成形条件は、特に限定されないが、成形機のシリン
ダ設定温度を２００〜４００℃、好ましくは２２０〜３
８０℃、最も好ましくは２４０〜３６０℃の範囲、金型
温度を、５０〜１８０℃にするのが好ましい。温度が低
すぎると転写性が低下したり、複屈折が大きくなり、温
度が高すぎると樹脂の分解等によりディスクの強度が低
下する。

【００４３】射出成形の際には、射出率を上げてディス
クの表面層に配向を形成することにより、より機械強度
を向上することができるが、配向を大きくし過ぎると複
屈折が大きくなるため、適当な範囲に射出率を設定する
のが好ましく、具体的には、射出成形機スクリューのＬ
／Ｄ、金型温度、成形品容積、ゲート部の断面積を考慮
に入れながら、成形品の複屈折、初期反り、ウェルドラ
イン、フローマーク、ヒケやバリ等を考慮して設定す
る。射出率（ｃｍ^３／ｓｅｃ）はスクリュー断面積（ｃ
ｍ^２）と射出速度（ｃｍ／ｓｅｃ）の積で求められ、樹
脂流速と比例関係にある。本発明における好適な射出率
は、通常、１０〜１０，０００（ｃｍ^３／ｓｅｃ）、好
ましくは５０〜５，０００（ｃｍ^３／ｓｅｃ）、より好
ましくは１００〜３，０００（ｃｍ^３／ｓｅｃ）であ
る。射出率が小さすぎるとショートショットになった
り、大きすぎると過大な剪断発熱が発生し樹脂が多量に
分解する恐れがある。

【００４４】ディスクの形状は、記録媒体の規格に応じ
て選択され、厚みは通常０．０１〜１ｍｍ、好ましくは
０．３〜０．８ｍｍ、より好ましくは０．４〜０．７ｍ
ｍである。厚みを上記範囲とすることで、複屈折が小さ
くできて好適である。ポリカーボネート製光ディスクの
場合、厚みの薄いディスクを２枚貼り合せると、複屈折
が大きくなる傾向に有るが、本発明の方法によれば、厚
みの薄いディスクの成形でも複屈折の小さいディスクが
容易に得られる。そのため、ＤＶＤなどの薄いディスク
を２枚以上貼り合せて使用する光ディスクに好適であ
る。また、ディスクの直径は通常３０ｍｍ〜３００ｍｍ
である。

【００４５】（記録層）本発明においては、支持ディス
ク面に、記録層を設けることにより情報記録媒体として
使用することができる。記録層は上記方法により得られ
たディスクの表面に、アルミニウムやニッケルなどの金
属反射膜層や、光の反射率を非可逆的または可逆的に局
所的に変化しうるような有機又は無機の層を設けたもの
であり、その厚みは、通常、数百〜数千オングストロ−
ム、厚くても１０，０００オングストロ−ム以下であ
る。

【００４６】ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ等で
は、情報自体は射出成型時の金型のスタンパー部分に刻
んであり、ディスクにそれに対応した微細なグルーブが
形成されているから、このグルーブを含む面の表面にア
ルミニウムまたは金などの反射膜層をスパッタリング法
等で形成すればグルーブと反射膜層とで記録膜層にな
る。

【００４７】追記型のＣＤ−Ｒや、書き換え可能な光磁
気ディスク（ＭＯ）などでは、光の反射率または透過率
を可逆的または非可逆的に変化させる記録膜層と、光を
反射する反射膜層と、これらを保護し、また光学的な歪
みを補正するための薄い無機または有機の保護膜層が形
成される。これらの層はスパッタリング法、気相成長
法、化学薬品のコートによる方法などで、単層または組
み合わせて多層構造に形成することにより情報記録層が
形成される。例えば、光磁気ディスク用途では、光磁気
記録媒体（例えば、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｐｔ−Ｔｂ−Ｆ
ｅ−Ｃｏ等の記録媒体）に；反射層としてアルミニウ
ム、金やその合金類；薄い保護膜層として、ＳｉＮ、Ｓ
ｉＣ等を積層した情報記録層が用いられる。相変化型の
ディスクの場合、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ，Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔ
ｅ，Ｔｅ−Ｇｅ−Ｃｒ，Ｔｅ−Ｇｅ−Ｚｎ等やその合金
類に上記と同様の反射膜層や、薄い保護膜層が積層され
た情報記録層が用いられる。

【００４８】これらの情報記録層の厚みや形成方法は各
ディスク状情報記録媒体の種類によって異なり、公知の
方法で規格に沿って形成される。

【００４９】貼り合わせ面に上記記録層を有する積層デ
ィスクを得る場合には、（１）上記の記録層を有するデ
ィスク（ａ）と、記録層を有しないディスク（ｂ）とを
貼り合わせる方法、（２）ディスク（ａ）同士を貼り合
わせる方法が挙げられるが、（２）の方法によれば、記
録層の面積が２倍以上になって好ましい。

【００５０】ディスクを貼り合わせる方法としては、熱
融着による方法、超音波融着による方法、接着剤による
方法などが挙げられるが、密着性、生産性等の観点か
ら、接着剤による方法が好ましい。使用する接着剤の種
類としては、ホットメルト接着剤、熱硬化型接着剤、放
射線硬化型接着剤、溶媒揮発乾燥型接着剤、嫌気硬化型
接着剤、粘着シート等が挙げられるが、生産性等の観点
から、熱硬化型接着剤又は放射線硬化型接着剤、粘着シ
ートが好ましく、光線透過率等の光学特性の観点から、
放射線硬化型接着剤、粘着シートがより好ましい。な
お、放射線硬化型接着剤としては、電子線照射型接着
剤、紫外線照射型接着剤等が挙げられるが、生産性、設
備等の観点から、紫外線照射型接着剤が好ましい。

【００５１】紫外線照射型接着剤としては、ラジカル重
合紫外線硬化型接着剤、カチオン重合紫外線硬化型接着
剤、ラジカル／カチオン併用重合紫外線硬化型接着剤が
挙げられる。

【００５２】本発明において好適な放射線硬化型接着剤
の具体的な組成としては、アクリレート系モノマーと光
重合開始剤とを含有するラジカル重合紫外線硬化接着剤
が挙げられ、必要に応じてポリマーを添加することもで
きる。使用するアクリレート系モノマーとして好適なも
のの具体例としては、例えば、脂環式アクリレート、鎖
状脂肪族単官能アクリレートなどが挙げられ、これらの
モノマーはオリゴマーを形成していてもよい。脂環式ア
クリレートは、脂環式構造とそれに直接結合したアクリ
レート基から成るアクリレートモノマーおよび／または
そのオリゴマーであり、脂環式構造は置換基を有してい
てもよいが、該置換基は炭素と水素以外の元素を含まな
いものが好ましい。脂環式アクリレートは、脂環式アル
コールと、アクリル酸やメタクリル酸などのエステルで
あり、単官能アクリレートでも、２官能や３官能などの
多官能アクリレートでもよいが、耐熱性、架橋密度の観
点から多官能アクリレートが好ましい。

【００５３】上記脂環式アクリレートの具体例として
は、シクロヘキシルアクリレート、ノルボニルアクリレ
ート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペン
テニルアクリレート、イソボニルアクリレート、ヘキサ
シクロ［６，６，１，１^３．６，１^{１０．１３}，０
^２．７，０^９．１４］ヘプタデシル−４−アクリレー
ト、１２−メチルヘキサシクロ［６，６，１，
１^３．６，１^{１０．１３}，０^２．７，０ ^９．１４］ヘプ
タデシル−４−アクリレート、オクタシクロ［８，８，
０，１^{２ ．９}，１^４．７，１^{１１．１８}，
１^{１３．１６}，０^３．８，０^{１２．１７}］ドコシル−５
−アクリレート、テトラシクロ［４，４，０，
１^２．５，１^７．１０］ドデシル−３−アクリレート−
９−ステアリル−テトラシクロ［４，４，０，
１ ^２．５，１^７．１０］ドデシル−３−アクリレートな
どが挙げられる。脂環式アクリレートオリゴマーは、脂
環式アクリレートモノマーを公知の方法によって予備重
合したものであって、脂環式アクリレートモノマーが２
〜１００程度多量化したものである。

【００５４】上記鎖状脂肪族単官能アクリレートは、脂
肪族鎖部分とアクリレート基からなり、脂肪族鎖部分の
炭素数が５〜１８のものが好ましく、８〜１６のものが
より好ましい。炭素数が小さすぎると接着性に劣り、炭
素数が大きすぎると架橋密度が低下して強度に劣り、粘
度が上がるため取り扱いが困難になる。具体的には、ラ
ウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、オクチ
ルアクリレート、イソオクチルアクリレート、デシルア
クリレート、イソデシルアクリレート等が挙げられる。

【００５５】上記接着剤に添加することができるポリマ
ーは、接着剤の耐熱性、機械的強度を向上させるもので
あれば特に限定されないが、数平均分子量（Ｍｎ）が好
ましくは１００００以上、より好ましくは３００００以
上、特に好ましくは４００００以上であり、好ましくは
４０００００以下、より好ましくは３０００００以下、
特に好ましくは２０００００以下のものである。Ｍｎが
小さすぎると機械的強度にが劣り、高すぎる溶解性等に
劣り製造が困難である。該ポリマーのとしては、例え
ば、スチレン系ブロック共重合体及びそれらの変性物が
挙げられ、具体的には、スチレン・ブタジエン・スチレ
ンブロック共重合体、スチレン・イソプレン・スチレン
・ブロック共重合体、スチレン・イソプレン・ペンタジ
エン・スチレンブロック重合体、及びこれら重合体の水
素化物などが挙げられる。スチレン系ブロック共重合体
変性物としては上記共重合体の、無水ジカルボン酸変性
物、エポキシ変性物、及びハロゲン化物等が挙げられ
る。これらのポリマーは、耐熱性の観点から、ＤＳＣで
測定したガラス転移温度の最高温度が好ましくは５０℃
以上であり、より好ましくは６０℃以上である。

【００５６】上記接着剤に用いる光重合開始剤は特に限
定されず、公知のものでよく、例えば、２，２−ジメト
キシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキ
シアセトフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオ
フェニル）−２−モルホリノ−プロパン−１−オンなど
のアセトフェノン類、ベンジル、メチルオルソベンゾイ
ルベンゾエート、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテルなどのベンゾイン類、ベンジルジメチ
ルケタール類、α−ヒドロキシケトン類などが挙げられ
る。

【００５７】本発明で用いる接着剤組成は（ａ）脂環式
アクリレートおよび／または鎖状脂肪族単官能アクリレ
ート、（ｂ）ポリマー成分、（ｃ）光重合開始剤、とし
たときに、（ａ）成分１００重量部に対し、（ｂ）成分
０．１重量部以上、好ましくは１重量部以上、より好ま
しくは３重量部以上、１００重量部以下、好ましくは５
０重量部以下、より好ましくは３０重量部以下、（ｃ）
成分１重量部以上、好ましくは２重量部以上、より好ま
しくは３重量部以上、３０重量部以下、好ましくは２５
重量部以下である。（ｂ）成分の量が少なすぎると硬化
後の接着剤に可撓性が低くなり、基材と剥離しやすくな
り、高温下での物性が低下しやすいという問題を生じ、
多すぎると粘度が高くなり塗布作業性に劣る。（ｃ）成
分の量が少なすぎると硬化速度が低下し、多すぎると硬
化後の数平均分子量が低下して接着強度が下がる。

【００５８】上記接着剤には、本発明の効果が発揮でき
る限りにおいて、上記モノマー以外のアクリレートモノ
マー、アクリレートオリゴマーなどを配合したり、酸化
防止剤、熱重合禁止剤、硬化促進剤、紫外線吸収剤、帯
電防止剤、レベリング剤、消泡剤、着色剤などの添加剤
や、タルク、シリカなどの無機フィラーなどを配合して
もよい。

【００５９】接着層の形成方法としてはスピンコート
法、グラビアコート法、スプレーコート法、ディッピン
グ法等、種々の公知の方法を用いればよく、またこれら
の方法を組合せてもよいが、生産性、膜厚制御性の観点
からスピンコート法を用いるのが好ましい。この場合の
塗布条件は接着剤の粘度、目的とする塗膜厚さ等を考慮
して適宜決定すればよい。接着剤の硬化の際に、照射す
る紫外線照射強度は、通常、５０ｍＷ／ｃｍ^２以上、紫
外線照射量は、通常、５００〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２と
すればよい。また、光源としては、高圧水銀ランプ、メ
タルハライドランプなどを用いればよい。

【００６０】硬化後の接着層の厚さは、通常１０〜２０
０μｍ、より好ましくは３０〜１００μｍである。接着
層が薄すぎると均一な厚みの接着層を形成するのが困難
となり、耐久性が不十分となってくる。また、厚すぎる
と、硬化収縮によりディスクに反りが発生し易くなる。

【００６１】以上の方法により得られた積層ディスク
は、耐衝撃性、信号読み取り性等の観点から、合計の厚
みが、通常０．６〜２ｍｍで、好ましくは０．６〜１．
５ｍｍ、より好ましくは１．０〜１．３ｍｍの範囲であ
る。

【００６２】本発明においては、積層ディスクの耐衝撃
性をより向上させる目的で、両面若しくは片面にハブを
装着するのが好ましい。ハブは、ディスクの内孔部に取
り付けるものであり、通常、磁性材料を含んでなり、デ
ィスクと、ドライブのターンテーブルとを該磁性材料の
円板で磁気的に固定させる機能を有している。ハブの構
成としては、磁性材料である金属板を加工して円板状な
どの所定の形状としたもの、該金属板を樹脂基板にイン
サート成形等の一体成形したもの、樹脂基板に磁性粉を
分散させ成形したもの等が挙げられる。ハブとディスク
とは、通常、部分的に超音波溶着したり、接着剤を用い
て接着されている。ハブの形状は光ディスクの情報読取
りや、情報書込み機能に支障をおよぼさなければ特に限
定はないが、光ディスクの情報領域を著しく狭めたり、
ドライブ搭載時に光ディスクの回転を偏心させるような
ハブ形状は好ましくない。具体的にはディスク内周部の
情報領域にかからない外径を有する円筒状のものや、デ
ィスク内孔内に挿入される円筒状の凸状部を有する多段
構造の円筒状が好ましく、通常、厚さ０．２〜３ｍｍ、
直径１０〜３０ｍｍ程度である。

【００６３】情報記録媒体 本発明の積層ディスクは、情報記録媒体として使用さ
れ、特に光学的に読みとり可能な情報記録媒体として好
適である。具体的には音楽用ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、レー
ザーディスク、などの微細な凹凸による反射光の変化を
利用し、書き換え不可能なもの、ＣＤ−Ｒ、ＷＯＲＭ
（追記型光ディスク）、ＭＯ（書き変え可能な光ディス
ク；光磁気ディスク）、ＭＤ（ミニディスク）、ＤＶＤ
（デジタルビデオディスク）など、官能性色素や相変化
による反射率の変化を利用し、追記または書き換え可能
なものなどがある。

【００６４】

【実施例】以下に、製造例、実施例及び比較例を挙げ
て、本発明についてより具体的に説明する。これらの例
中の部及び％は、特に断わりのない限り重量基準であ
る。各種の物性の測定は、下記の方法に従って行った。 （１）分子量は、トルエンを溶媒にしてＧＰＣで測定
し、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）を
求めた。 （２）分子量分布は、トルエンを溶媒にしてＧＰＣで測
定し、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）
と数平均分子量（Ｍｎ）を求め、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）を算出
した。 （３）芳香環の水素添加率は、^１Ｈ−ＮＭＲを測定し算
出した。 （４）光ディスクの複屈折値は、直径８５ｍｍの光ディ
スクの中央から２５ｍｍ位置での複屈折値で評価した。
複屈折値は偏光顕微鏡（ニコン社製；５４６ｎｍセナル
モンコンペンセータ）にて測定した。

【００６５】（５）光ディスクの耐衝撃性は、以下の方
法により測定した。 ２００ｍｍ×２００ｍｍ×高さ１００ｍｍの木製台に、
幅７５ｍｍ、深さ５０ｍｍの溝を形成し、直径８５ｍｍ
の光ディスクを、その中心が溝の中心線上に一致するよ
うに配置する。ディスク内孔部分周辺のに重さ３０００
ｇの荷重をかけた後のディスクの変化（クラックの発
生）を観察した。１０枚のディスクで試験を行い、クラ
ック等の発生した枚数を記録した。 （６）光ディスクの反りは、ディックを７０℃、９０％
湿度の環境下に２４時間放置した後の反り角度を測定
し、３ｍｍｒａｄ以下を〔◎〕、３〜５ｍｍｒａｄを
〔○〕、５〜８ｍｍｒａｄ〔△〕、８ｍｍｒａｄ以上を
〔×〕として評価した。

【００６６】（製造例１）（芳香族ビニル系重合体の水
素添加物Ａの製造） 十分に乾燥し窒素置換した、撹拌装置を備えたステンレ
ス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン９６０部、スチレ
ンモノマー２４０部及びジブチルエーテル３．８１部を
仕込み、４０℃で撹拌しながらｎ−ブチルリチウム溶液
（１５％含有ヘキサン溶液）０．６５部を添加して重合
を開始した。同条件下で３時間重合を行った後、イソプ
ロピルアルコール１．２６部を添加して反応を停止させ
た。製造された芳香族ビニル系重合体ａの重量平均分子
量（Ｍｗ）と分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を測定したとこ
ろ、Ｍｗ＝１８０，０００、 Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０４で
あった。

【００６７】次いで、上記芳香族ビニル系重合体ａ含有
の重合溶液１２００部を攪拌装置を備えた耐圧反応容器
に移送し、ニッケル−珪藻土触媒（日揮化学工業社製；
Ｎ１１３， ニッケル担持量４０％）２４部を添加混合
した。仕込み終了後、反応容器内部を水素ガスで置換
し、撹拌しながら１５０℃で、水素を供給して圧力７０
ｋｇ／ｃｍ²に保ち、６時間水素添加反応を行った。水
素添加反応終了後、反応溶液からろ過により水素添加触
媒を除去した。シクロヘキサン１２００部を加えて希釈
した後、クリーン度クラス１０００の環境下で、この濾
液をさらに孔径１μｍのフィルターにて濾過し、異物を
除去した。この濾液を、クリーン度クラス１０００の環
境下で、孔径１μｍのフィルターにて濾過した９０００
部のイソプロパノール中に注ぎ芳香族ビニル系重合体の
水素添加物Ａを析出させた。水素添加物Ａをろ過により
分離後、減圧乾燥器により、１００℃で４８時間乾燥さ
せ芳香族ビニル系重合体水素添加物Ａを回収した。得ら
れた水素添加物Ａの物性はＭｗ＝１５３，０００、Ｍｗ
／Ｍｎ＝１．０９であった。

【００６８】（製造例２）（芳香族ビニル系重合体の水
素添加物Ｂの製造） ジブチルエーテル３．８１部とｎ−ブチルリチウム溶液
の代わりに、アゾビスイソブチロニトリルを０．１部加
え、反応温度を６０℃、反応時間を４８時間とする以外
は製造例１と同様にして芳香族ビニル系重合体を製造し
た。芳香族ビニル系重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）と
分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を測定したところ、Ｍｗ＝１
９５，０００、 Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８０であった。

【００６９】ニッケル−アルミナ触媒に代えてルテニウ
ム−カーボン触媒（エヌ・イー・ケムキャット社製；
ルテニウム担持量５％）を７２部添加混合し、水素添加
反応温度を１７０℃、反応時間を１０時間とする以外は
製造例６と同様にして、芳香族ビニル系重合体水素添加
物Ｂを製造した。得られた水素添加物Ｂの物性はＭｗ＝
７９，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．６５であった。

【００７０】（実施例１）光ディスクの成形 製造例１で製造した芳香族ビニル系重合体の水素添加物
Ａ１００部に軟質重合体（旭化成社製；タフテックＨ１
０５２）０．１部、酸化防止剤（チバガイギー社製；イ
ルガノックス１０１０）０．１部を添加し、２軸混練機
（東芝機械社製；ＴＥＭ−３５Ｂ、スクリュー径３７ｍ
ｍ、Ｌ／Ｄ＝３２、スクリュー回転数１５０ｒｐｍ、樹
脂温度２４０℃、フィードレート１５ｋｇ／時間）で混
練し、ストランド状に押し出した。これを水冷してペレ
タイザーで切断し、ペレット化した。

【００７１】得られたペレットを、空気を流通させた熱
風乾燥器を用いて７０℃で２時間乾燥して水分を除去
し、射出成形機（住友重機械工業社製；ＤＩＳＣ−３）
を用いて、光ディスク用スタンパーを取り付けた金型を
使用し、樹脂温度３３０℃、型温度１００℃、射出率１
２００ｃｍ^３／ｓｅｃに設定して射出成形を行い、厚さ
０．６ｍｍ、８５ｍｍφ、内孔１５ｍｍφの光ディスク
を得た。ディスクの片面には、情報信号用ピットが形成
されていた。

【００７２】反射膜の形成 得られたディスクのピット形成面に、日電アネルバ製Ｉ
ＬＣ−３０００を使用して８０ｎｍのアルミニウム反射
膜の形成を行った。反射膜は最外周部の幅０．２ｍｍ
と、内周部で溝の内側の幅１２ｍｍには設けなかった。積層ディスクの製造 反射膜の形成された上記ディスク２枚を、下記組成の紫
外線（ＵＶ）硬化型接着剤を用い、２５００ｍＪ／ｃｍ
^２のＵＶ照射量で硬化させて貼り合わせて積層型光ディ
スクを製造した。

【００７３】放射線硬化型接着剤組成 ジシクロペンタエニルアクリレート（日立化成製：ＦＡ
５１３Ａ）９０重量部、イソボニルアクリレート（共栄
社化学製：ＩＢ−ＸＡ）１０重量部、スチレン・エチレ
ン・ブタジエン・スチレン・ブロック共重合体ポリマー
（旭化成製：タフテックＨ１０５２）５重量部、光重合
開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカル社製：イルガ
キュアー１８４）８重量部を混合して接着剤（１）を得
た。

【００７４】得られた光ディスクの複屈折値、耐衝撃
性、反り角度を評価した。評価結果を表１に示す。

【００７５】

【表１】

【００７６】（実施例２）光ディスクを成形する際に、
射出率を５００ｃｍ^３／ｓｅｃとする以外は、実施例１
と同様に積層型光ディスクを成形して評価した。結果を
表１に示す。

【００７７】（実施例３）積層型光ディスクの中心部
に、直径２３ｍｍ、厚さ２．５ｍｍで、ドライブ装着用
の中心ホールを有するハブを、超音波融着により装着し
た以外は、実施例２と同様に積層型光ディスクを成形し
て評価した。結果を表１に示す。

【００７８】（実施例４）貼り合わせ用の接着剤を大日
本インキ製、ダイキュアー・クリアー：ＳＤ−６６１
（接着剤２）に変えた以外は、実施例２と同様に積層型
光ディスクを成形して評価した。結果を表１に示す。

【００７９】（実施例５）製造例２で得られた水素添加
物Ｂを使用した以外は、実施例４と同様に積層型光ディ
スクを成形して評価した。結果を表１に示す。

【００８０】（比較例１）実施例１と同様の方法によ
り、厚み０．６ｍｍの光ディスクに変えて、厚み１．２
ｍｍのピットが形成された光ディスクを成形し、同様に
反射膜を形成した。得られたディスクの反射膜の上面
に、紫外線硬化性保護コート剤（ＳＤ−１７：大日本イ
ンキ）をスピンコーターを用いて塗布し、乾燥した。乾
燥後の紫外線硬化性コート剤の膜の厚さは１０μｍであ
った。このディスクに８０ｍＷの高圧水銀ランプによる
紫外線照射（ディスク表面上のピーク照射強度：１５０
ｍＷ／ｃｍ^２、積算光量１５００、照射時間１０秒）を
行い、紫外線硬化性保護コート剤を硬化させ、保護コー
ト層を形成した。以下、実施例１と同様の評価を行っ
た。結果を表１に示す。

【００８１】（比較例２）１．２ｍｍの光ディスクの射
出率を５００ｃｍ^３／ｓｅｃ．に変えた以外は比較例１
と同様に光ディスクを成形して評価した。結果を表１に
示す。

【００８２】（比較例３）ディスクに、実施例３と同様
の方法により同様のハブを装着した以外は、比較例２同
様に評価を行った。結果を表１に記載する。

【００８３】

【発明の効果】本発明によれば、複屈折値が小さく、外
的応力が加わったときなどの耐衝撃性に優れ、ディスク
の反りもない、光ディスクを提供することができる。こ
のようなディスクは、特にデジタルビデオディスク（Ｄ
ＶＤ）などの高密度、高容量の光ディスクに好適であ
る。

フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AB10 AK04G AK04J AK11A AK11B AK12 AK12G AK12J AK25G AK25J AK29G AK29J AL01G AL02G AL05G AL06 AR00C BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10B BA10C BA13 CB02 GB41 JG06C JK10 JL04 JN18 YY00A YY00B 5D029 HA05 HA06 JA01 JA04 JB05 KA13 KB02 KC07 KC10 PA05 RA06 RA24 RA30

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ビニル系環状炭化水素重合体で形成され
   た、厚さ０．０１〜１ｍｍの支持ディスクを２層以上積
   層してなる積層ディスク。
2. 【請求項２】 支持ディスク同士が、接着層を介して積
   層されたものである請求項１記載の積層ディスク。
3. 【請求項３】 ビニル系環状炭化水素重合体が、芳香族
   ビニル系重合体水素化物である請求項１又は２いずれか
   に記載の積層ディスク。
4. 【請求項４】 支持ディスク面に記録層を有するもので
   ある請求項1乃至３いずれかに記載の積層ディスク。
5. 【請求項５】 さらにハブを有する請求項１乃至４いず
   れかに記載の積層ディスク。
6. 【請求項６】 請求項1乃至5いずれかに記載の積層ディ
   スクからなる情報記録媒体。