JP2001091469A - 表面欠陥検査装置 - Google Patents

表面欠陥検査装置

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JP2001091469A JP26667799A JP26667799A JP2001091469A JP 2001091469 A JP2001091469 A JP 2001091469A JP 26667799 A JP26667799 A JP 26667799A JP 26667799 A JP26667799 A JP 26667799A JP 2001091469 A JP2001091469 A JP 2001091469A
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Toshihiko Tanaka
利彦 田中
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、被検査物の撮像に最適な光量によ
り欠陥検査画像を取得することができる表面欠陥検査装
置を提供する。 【解決手段】 ステージ1上の被検査物2の撮像画像上
に選択領域14を指定し、この選択領域14中で最大光
量を検出するとともに、この最大光量から選択領域での
ランプ6の明るさを、第1のカメラ8および第2のカメ
ラ9の撮像に最適な光量に設定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハや液
晶ガラス基板などの被検査物表面の欠陥を検査する表面
欠陥検査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、液晶ガラス基板は、基板上に成
層膜を形成し、その上にフォトレジスト・リソグラフィ
プロセスにより所定のパターンを形成しているが、この
際に、基板表面に塗布されるレジストの膜厚にむらがあ
ったり、塵芥が付着していたりすると、エッチング後の
パターン形成時に線幅不良やパターン内にピンホールな
どの欠陥を生じることがある。
【0003】そこで、従来では、プロセス途中で基板表
面を目視により検査することで、基板表面の欠陥を防止
するようにしていたが、最近になって、例えば、特開平
9−61365号公報に開示されるように画像処理によ
り基板表面を撮像しつつ検査する表面欠陥検査装置が考
えられている。この装置では、基板表面に対して光源か
ら導いたライン状の光を所定角度を持たせて照射し、そ
の正反射像と回折・散乱像を撮像するとともに、これら
像に基づいた画像処理を行うようにしている。ここでの
正反射像は、光源から発せられた光が基板上で正反射し
て撮像面に結像するもので、基板表面の膜厚むらがある
と、干渉縞として第1の撮像素子により観察され、ま
た、回折・散乱像は、基板上に塵芥や傷などがあると、
その部分で光の散乱が生じて上述の正反射像と異なる位
置で結像するもので、このときの散乱光は、第2の撮像
素子により観察されるようになっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
表面欠陥検査装置は、回折・散乱像を撮像する際の光量
が小さいことで、光源の照明用ランプには、強い光量の
ものを使用している。
【0005】このため、被検査物として、半導体ウェハ
のようにパターンやレジストなどの鏡面部分と反射率が
異なる領域が混在するものの表面欠陥を検出するような
場合、被検査物表面からの反射光量は、鏡面部分と反射
光が散乱する領域とでコントラストが大きく異なる。こ
れにより鏡面部分に対して最適な光量が設定されると、
鏡面部分に比べて反射率の低いパターン部分を観測した
い場合、パターン部分が暗くなり、欠陥部を検出できな
いことがある。このため、従来では、反射率の異なる領
域ごとに何回かの試行を繰り返し、観測したい領域での
撮像に最適な光量を設定しなければならず、この光量設
定に多大な手間がかかってしまう。
【0006】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、被検査物の撮像に最適な光量により欠陥検査画像を
取得することができる表面欠陥検査装置を提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
被検査物表面の欠陥を検査する表面欠陥検査装置におい
て、前記被検査物の表面に照明光を照射する照明手段
と、前記被検査物を撮像する撮像手段と、前記撮像手段
で撮像された画像を表示する表示手段と、この表示手段
に表示された画面の任意の範囲を選択範囲として指定す
る入力手段と、前記入力手段により指定された選択範囲
の光量を検出する光量検出手段と、この光量検出手段の
検出光量に基づいて前記撮像手段での撮像時の最適光量
求め調光する調光手段とを具備したことを特徴としてい
る。
【0008】請求項2記載の発明は、請求項1記載の発
明において、前記光量検出手段は、前記撮像手段を兼用
し前記入力手段により指定された選択範囲内の光量を検
出することを特徴としている。
【0009】請求項3記載の発明は、請求項1または2
記載の発明において、前記最適光量は、前記選択範囲内
の最大光量に基づいて前記撮像手段が飽和しない光量で
あることを特徴としている。
【0010】この結果、本発明によれば、被検査物の予
め指定された選択範囲については、最適な光量による欠
陥検査画像を取得することができる。
【0011】また、本発明によれば、選択範囲の光量を
検出する手段に撮像手段を兼用できるので、装置の構成
を簡単にできる。
【0012】さらに、本発明によれば、最適光量を決定
する光量として、選択範囲での最大光量を用いているの
で、前記撮像手段での撮像に最適な光量を確実に得られ
る。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に従い説明する。
【0014】(第1の実施の形態)図1は、本発明が適
用される表面欠陥検査装置の概略構成を示している。図
において、1はステージで、このステージ1上には、液
晶ガラス基板または半導体ウェハ等の被検査物2を載置
している。また、ステージ1には、ステージ駆動部3を
接続している。このステージ駆動部3は、制御部10の
指示によりステージ1を、図示矢印方向に移動可能にす
るものである。
【0015】ステージ1上の被検査物2に対して一定の
角度で光が入射するようにライン照明を形成する、照明
手段として例えばハロゲンランプからなるランプ6を配
置している。このランプ6には、調光手段として照明駆
動電源7が接されており、制御部10の指示によりラン
プ6に印加するランプ電圧を制御して調光するものであ
る。また、図示しないNDフィルタで調光する場合は、
制御部10の指示により透過率の異なる複数のNDフィ
ルタから所望のNDフィルタを選択し、光量を制御する
ことも可能である。
【0016】一方、被検査物2面にランプ6より入射し
た光が正反射して結像する位置に第1のカメラ8を配置
するとともに、同じ光の散乱・回折光が入射する位置に
第2のカメラ9を配置している。
【0017】第1のカメラ8は、ラインセンサカメラか
らなるもので、被検査物2の正反射像を撮像する。ま
た、第2のカメラ9もラインセンサカメラからなってい
て、回折・散乱像を撮像する。これら第1のカメラ8お
よび第2のカメラ9には、画像処理部4を接続してい
る。この画像処理部4は、制御部10の指示により第1
のカメラ8および第2のカメラ9から出力される撮像信
号から、それぞれの撮像画像を生成するものである。
【0018】制御部10には、上述したステージ駆動部
3、照明駆動電源7、画像処理部4の他に、表示装置1
1、記憶装置12および入力部13を接続している。
【0019】表示装置11は、画像処理部4により生成
された撮像画像を表示する。記憶装置12は、画像処理
部4により生成された撮像画像を記憶するものである。
また、入力部13は、表示装置11に表示された撮像画
像中に任意の選択領域を指定するものである。
【0020】制御部10は、装置全体の制御を司るもの
で、照明駆動電源7に対しては撮像画像中で指定された
任意の選択領域内の最大光量を検出し、この検出光量デ
ータから第1のカメラ8および第2のカメラ9での撮像
時の最適光量を演算し、照明駆動電源7によるランプ6
に対するランプ電圧を設定するようにしている。この場
合、ランプ電圧は、例えば、図3または図4に示す光量
(照度)との関係から求められる。
【0021】次に、このように構成した実施の形態の動
作を説明する。
【0022】まず、ステージ1上に被検査物2を載置
し、照明駆動電源7によりランプ6を点灯する。
【0023】次に、ステージ駆動部3によりステージ1
を移動させながら、被検査物2の正反射像を第1のカメ
ラ8により撮像し、この撮像画像2aを表示装置11に
表示させる。この最初の撮像時には、被検査物2の最大
反射率に対して第1のカメラ8が飽和しない光量にラン
プ6を調光する。
【0024】この場合、表示装置11に、図2に示すよ
うな撮像画像2aが表示されたとする。この状態から入
力部13により撮像画像2a中の検査対象となる任意の
選択領域14を指定する。このときの選択領域14の指
定は、同図14aで示す線分、同図14bで示す矩形領
域、同図14cで示す円領域、あるいは同図14dで示
す表示画面上の一ラインであってもよい。
【0025】また、入力部13により、例えば、被検査
物2のエッジ部14e、工程管理ナンバ部14f、ノッ
チ14gなど最適光量の決定に関係ない部分を、事前に
除外する指定禁止領域14hとして指定することも可能
である。
【0026】次に、指定された選択領域に対して最適光
量の設定が行なわれる。この場合、制御部10により図
5に示すフローチャートが実行される。
【0027】まず、ステップ501で、初期設定を行な
う。この初期設定としては、被検査物2面の反射率η、
最適な光学系の種類などの条件である。例えば、被検査
物2の反射率ηを求める方法としては、(1)工場内の
LANを介して被検査物2の品質、工程などの情報とと
もに入手方式と、(2)レシピの設定時、表面処理情報
を作業者が入力する方式と、(3)被検査物2の図示し
ない搬送部などに装着されるセンサにより検出する方式
などが考えられる。
【0028】次に、ステップ502で、初期光量を設定
する。ここでは、ランプ電圧の調整または図示しないN
Dフィルタ(通常は、ランプ6の前面に設けられるが、
カメラ9の前面に設けることも可能である。)の切換え
などにより被検査物2の選択領域14に所定の光量を得
られるようにする。つまり、上記のような手段により基
板の反射率ηおよび光学系の設定により該当する基板を
撮像した場合に撮像センサが飽和しない光量になるよう
にランプ電圧を調整する。ただし、上述した反射率ηお
よび光学系の設定の情報に撮像対象領域の情報が含まれ
ていれば、上述の指定領域に限定して撮像センサが飽和
しない光量に調整できる。また、これらの情報が信頼で
きる光量の情報であれば、下記のステップ503〜50
5は、省略してよい。
【0029】次に、ステップ503で、ステージ駆動部
3によりステージ1を移動させ、入力部13で指定した
選択範囲14を第1のカメラ8により撮像する。
【0030】そして、ステップ504で、第1のカメラ
8の撮像出力から最大光量を検出し、ステップ505
で、最適光量への増分を演算する。この場合、初期設定
された反射率ηに相当する図3に示す光量(照度)とラ
ンプ電圧の関係を用いて、撮像出力の最大光量が光量
(照度)とランプ電圧の関係の比例領域に入るようなラ
ンプ電圧を決定し、これを最適光量の増分として照明駆
動電源7によるランプ6のランプ電圧を調整する。そし
て、ステップ506で、調整されたランプ電圧によるラ
ンプ6の光量を第1のカメラ8および第2のカメラ9で
の撮像時の最適光量として記憶装置12に記憶する。第
2のカメラ9での撮像時の最適光量についても同様にし
て記憶装置12は記憶する。
【0031】なお、ステップ505での最適光量への増
分の決定は、初期光量を設定する図示しない透過率の異
なる複数のNDフィルタを切換えることでも行なうこと
ができる。この場合、NDフィルタDN1、DN2、…
に対応する図4に示す光量(照度)とランプ電圧の関係
を用いて、撮像出力の最大光量が光量(照度)とランプ
電圧の関係の比例領域に入るような透過率の異なるND
フィルタDN1、DN2、…を決定するとともに、これ
らNDフィルタの下でのランプ電圧を決定するようにす
ればよい。
【0032】こうしてランプ6の光量が最適に設定され
た状態で、再びステージ駆動部3によりステージ1の移
動を開始すると、ステージ1の移動とともに、第1のカ
メラ8による被検査物2の正反射像と、第2のカメラ9
による回折・散乱像のそれぞれの撮像が開始され、これ
ら第1のカメラ8および第2のカメラ9からの撮像信号
が画像処理部10に送られ、正反射像および回折・散乱
像として表示装置11に表示され、同時に、記憶装置1
2にも記憶される。
【0033】この場合、第1のカメラ8で撮像された被
検査物2の正反射像より、被検査物2の表面に膜厚むら
が干渉縞として観察され、また、第2のカメラ9で撮像
された回折・散乱像により、被検査物2表面の塵芥や傷
などの部分が光の散乱光として観察される。
【0034】その後、被検査物2の撮像を終了すると、
ランプ6は消灯され、また、ステージ駆動部3によりス
テージ1は、検査開始前の位置まで移動され、ステージ
1上の被検査物2は、未検査のものと交換される。
【0035】従って、このようにすれば、被検査物2の
最も検出したい領域でのランプ6の明るさを第1のカメ
ラ8および第2のカメラ9の撮像に最適な光量に設定で
きるので、精度の高い被検査物2の正反射像および回折
・散乱像を取得することができ、安定した欠陥検査画像
を取得することができる。
【0036】また、選択範囲14の光量を検出するのに
第1のカメラ8および第2のカメラ9を用いるようにし
たので、装置の構成を簡単にでき、価格的にも安価にで
きる。
【0037】さらに、選択範囲14での最適光量を決定
する光量として、選択範囲14中の最大光量を採用して
いるので、第1のカメラ8および第2のカメラ9での撮
像に最適な光量を確実に得られる。
【0038】さらにまた、被検査物2の欠陥検査のため
の画像を取得するのに最適な調光データを記憶装置12
に記憶し、これらのデータを、その後の検査の際に利用
することにより、被検査物2の最適な検査画像を速やか
に取得することもできる。
【0039】なお、上述では、表示装置11に表示され
た撮像画像2a上の選択領域14の最大光量を検出する
のに、第1のカメラ8および第2のカメラ9を用いた
が、ステージ1上方或いは図示しない光量取込み手段と
してセンサを配置し、このセンサにより被検査物2全体
または入力部13により指定された選択領域14の光量
を検出するようにしてもよい。この場合、ダイナミック
レンジの大きなセンサを用いれば、検出された光量から
最適なNDフィルタやランプ電圧を求めることができ
る。
【0040】また、表示装置11に表示された撮像画像
2a中の所望する位置での最大光量を求めるには、例え
ば、図6(a)に示すように撮像画像2a上に表示され
るライン16に沿った光量を同図(b)に示すようなグ
ラフ17により最大光量点17aがダイナミックレンジ
に対しどの程度かを表示させ、この最大光量点17aま
たは任意の点を指示することで、上述したと同様にして
ランプ6の最適光量を設定することができる。この場
合、撮像画像2a上に表示されるライン16を移動ボタ
ン16aの操作により図示矢印方向に移動させること
で、撮像画像2a全面について最大光量点を探し出すこ
ともできる。
【0041】さらに、表示装置11に表示された撮像画
像2aの選択領域の位置や大きさを任意に変更するよう
にもできる。この場合、図7に示すように、表示装置1
1に位置設定ボタン18、ズーム設定ボタン19を設
け、位置設定ボタン18を操作することにより選択領域
20aを20bまで移動できるとともに、ズーム設定ボ
タン19を操作することにより、選択領域21aの大き
さを21bの大きさまで拡大するようなこともできる。
この場合、これら選択領域20a(20b)、21a
(21b)を撮像画像2a上に重ね合わせて表示するこ
とで、これら選択領域20a(20b)、21a(21
b)の位置を容易に特定できる。これら選択領域は、第
1のカメラ8または第2のカメラ9の画像の領域を指定
してもよいし、上述の光量取得センサの位置および検出
範囲を表示装置11に表示された撮像画像2a上に表示
させ、任意に設定できるようにしてもよい。
【0042】上述では、ライン照明に対してラインセン
サカメラによる画像取得について述べたが、被検査物を
一括して照明する照明装置としてエリアセンサカメラを
使用すれば、ステージを移動することなく、同様な動作
を実現できる。また、照明装置、カメラなどは、複数ま
たは単一であってもよい。
【0043】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、被
検査物の撮像に最適な光量により欠陥検査画像を取得す
ることができる表面欠陥検査装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態の概略構成を示す図。
【図2】一実施の形態での選択領域を説明するための
図。
【図3】一実施の形態を説明するための光量(照度)と
ランプ電圧の関係を示す図。
【図4】一実施の形態を説明するための光量(照度)と
ランプ電圧の関係を示す図。
【図5】一実施の形態の動作を説明するための図。
【図6】本発明の他の実施の形態を説明するための図。
【図7】本発明の異なる他の実施の形態を説明するため
の図。
【符号の説明】 1…ステージ 2…被検査物 2a…撮像画像 3…ステージ駆動部 4…画像処理部 6…ランプ 7…照明駆動電源 8…第1のカメラ 9…第2のカメラ 4…画像処理部 10…制御部 11…表示装置 12…記憶装置 13…入力部 14…選択領域 16…ライン 17…グラフ 18…位置設定ボタン 19…ズーム設定ボタン 20a、2ob、21a、21b…選択領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G01B 11/24 K Fターム(参考) 2F065 AA49 BB02 CC19 CC25 CC31 FF42 GG02 GG16 HH12 JJ02 JJ05 JJ08 JJ25 LL24 MM03 NN02 NN18 NN20 PP12 QQ23 QQ24 SS02 SS13 2G051 AA51 AB01 AB07 BB07 BC01 CA03 CA04 CA07 DA05

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被検査物表面の欠陥を検査する表面欠陥
    検査装置において、 前記被検査物の表面に照明光を照射する照明手段と、 前記被検査物を撮像する撮像手段と、 前記撮像手段で撮像された画像を表示する表示手段と、 この表示手段に表示された画面の任意の範囲を選択範囲
    として指定する入力手段と前記入力手段により指定され
    た選択範囲の光量を検出する光量検出手段と、 この光量検出手段の検出光量に基づいて前記撮像手段で
    の撮像時の最適光量を求め調光する調光手段と、 を具備したことを特徴とする表面欠陥検査装置。
  2. 【請求項2】 前記光量検出手段は、前記撮像手段を兼
    用し前記入力手段により指定された選択範囲内の光量を
    検出することを特徴とする請求項1記載の表面欠陥検査
    装置。
  3. 【請求項3】 前記最適光量は、前記選択範囲内の最大
    光量に基づいて前記撮像手段が飽和しない光量であるこ
    とを特徴とする請求項1または2記載の表面欠陥検査装
    置。
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