JP2001087696A - フォトレジスト現像用のノズル座 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ダミーウェーハを使用せず、短時間で充分に
ノズル本体を洗浄できるような、新規なフォトレジスト
現像用のノズル座を提供すること。 【解決手段】 フォトレジスト塗布現像機に適用され、
現像用のノズル本体を静置するために使用されるフォト
レジスト現像用のノズル座であって、フォトレジスト塗
布現像機に取り付けられ、前記ノズル本体１０を静置す
るためのノズル座本体８１と、一端が前記ノズル座本体
８１に連結し、且つ他端が水源に連結してノズル座本体
８１洗浄用の水をノズル座本体８１へ導入するための導
管８２と、一端がノズル座本体８１に連結し、ノズル座
本体８１内の液体を排出するための溢流管８３と、ノズ
ル本体１０を静置するためのノズル座本体８１の表面上
に設置されたＯ型リング８４と、を備えてなるような、
新規なフォトレジスト現像用ノズル座８０を新たに見出
した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトレジスト現
像用のノズル座（nozzle base）に関するもので、特
に、ノズル本体（E square nozzle）上の現像液を、ノ
ズル座上で直接除去できるような、フォトレジスト現像
用のノズル座に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】フォトレジストをコーティングされたウ
ェーハを露光すると、ポジ型レジストは酸（カルボン
酸）になる。現像液はアルカリ溶液であるため、この現
像液を露光後のフォトレジストに吐出すると、酸がアル
カリに中和され、アルカリ溶液の現像液に溶解する。こ
のように、中和反応を利用して余分なフォトレジストを
除去し、パターンを露出させる工程を、現像と呼ぶ。

【０００３】図１は、フォトレジスト現像用ノズルの概
略図である。図中示されるように、ノズル本体１０は細
長い形状を呈しており、縦方向に沿って複数個の噴孔１
００が設けられている。前記ノズル本体１０の一端は、
現像液源（未図示）に連結しており、現像液を前記ノズ
ル本体１０に導入して現像を行うのに使用される（図２
ａ、２ｂ、２ｃを参照）。

【０００４】図２ａ、２ｂ、２ｃに示されるように、ウ
ェーハ３にコートされたフォトレジスト３０を現像する
にあたり、先ず、前記ノズル本体１０を前記ウェーハ３
の上方へ移動させ、前記ノズル本体１０の噴孔１００を
有した面が前記フォトレジスト３０と対面するように
し、同時にまた、前記ウェーハ３を図２ａ、２ｂ、２ｃ
において矢印で記された方向に回転させる。次に、前記
ノズル本体１０の噴孔１００から、現像液２０を前記フ
ォトレジスト３０上に吐出させる。この時、図２ａ、２
ｂ、２ｃに示されるように、前記ウェーハ３は図中の矢
印の方向に回転するため、前記現像液を前記フォトレジ
スト３０全体にコートすることが可能となる。

【０００５】図３は、公知のフォトレジスト塗布現像機
の構造図であり、該現像機は、ノズル本体１０と、ノズ
ル座４０と、移動アーム座５０と、移動アーム６０と、
現像機本体７０とを備えてなる。前記移動アーム６０
は、一端が前記ノズル本体１０と連結し、もう一方の一
端が前記移動アーム座５０上に設置され、且つ駆動装置
（未図示）とつながっている。前記移動アーム６０は、
駆動装置で駆動され、前記移動アーム座５０上を移動で
きるようになる。そして前記移動アーム６０の移動によ
り、前記ノズル本体１０を、前記ノズル座４０と前記現
像機本体７０の上方の間で移動させることができる。

【０００６】前記ノズル座４０は、未使用状態の前記ノ
ズル本体１０を静置するのに使用され、且つ又、前記ノ
ズル本体１０が前記ノズル座４０上に静置されている時
（以下ではこの状態をスタート位置と呼ぶ）、前記ノズ
ル本体１０がダミー分配（dummy dispensing）を行える
ようにするためのものである。したがって、前記ノズル
本体１０は、ウェーハ上での現像液の分配を終えた後、
前記スタート位置に戻り、前記ノズル座４０の上で前記
ダミー分配を行う。しかしながら、現像液が前記ノズル
本体１０と前記ノズル座４０との間に残留する恐れがあ
り、ひいては前記ノズル本体１０上に付着してしまう可
能性もある。すると、次に現像液の分配を行うさいに、
残留した現像液が新しい現像液とともにウェーハ上に分
配され、ウェーハの汚染や瑕疵、及び歩留りの低下や生
産量の打撃などを生じる原因となる。

【０００７】上述した理由からわかるように、前記ノズ
ル本体１０及び前記ノズル座４０を定期的に洗浄し、前
記ノズル本体１０及び前記ノズル座４０上に残留した現
像液を、完全に除去する必要がある。

【０００８】公知の洗浄方法は、前記現像機本体７０に
ダミーウェーハを送りこみ、前記ノズル本体１０を前記
ダミーウェーハ中央の上方（この時、前記ノズル本体と
前記ダミーウェーハとの距離は約１．０ｍｍ±０．２ｍ
ｍ）に移動させた後、前記ダミーウェーハを回転させる
（回転速度は約３０〜５０ｒｐｍ）と同時にその上に洗
浄水を吹きかける、というものである。

【０００９】一般に、１組のノズル本体が上述した洗浄
工程を終了するのに１０〜１５分が必要であり、１台の
フォトレジスト塗布現像機はノズル本体を３組備えてい
る。したがって、一度の洗浄に４５分以上が必要とな
り、これは非常に非効率的である。

【００１０】以上からわかるように、生産量の向上及び
作動時間の短縮を図り、且つ瑕疵の発生率の引き下げ、
歩留りの向上、及びコストの削減を実現するためには、
ノズル本体の洗浄方法を改良する必要がある。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】したがって本発明は、
上述した問題点を解決するため、ノズル本体の洗浄方法
を改良するのに使用できるような、新規なフォトレジス
ト現像用のノズル座を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明が提供する前記新
規なノズル座は、フォトレジスト塗布現像機に適用さ
れ、現像用のノズル本体を静置するために使用されるフ
ォトレジスト現像用のノズル座であって、前記フォトレ
ジスト塗布現像機に取り付けられ、前記ノズル本体を静
置するためのノズル座本体と、一端が前記ノズル座本体
に連結し、且つ他端が水源に連結して前記ノズル本体洗
浄用の水を前記ノズル座本体へ導入するための導管と、
一端が前記ノズル座本体に連結し、前記ノズル座本体内
の液体を排出するための溢流管と、前記ノズル本体を静
置するための前記ノズル座本体の表面上に設置されたＯ
型リングとを備えてなる。また、本発明が提供する前記
新規なノズル座は、前記溢流管の他端に連結した排出槽
と、一端が前記排出槽に連結した排出管と、前記排出管
に設置されたスイッチとをさらに備えてなる。また、本
発明が提供する前記新規なノズル座において、前記水源
には脱イオン水源を用いることができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の上述及びその他の目的、
特徴、及び長所をいっそう明瞭にするため、以下に好ま
しい実施の形態を挙げ、図を参照しつつさらに詳しく説
明する。

【００１４】図４は、本発明による新規なフォトレジス
ト現像用のノズル座の概略図である。図中示されるよう
に、この新規なノズル座は、ノズル座本体８１と、導管
８２と、溢流管８３と、Ｏ型リング８４と、排出槽８５
と、排出管８６と、スイッチ８７とを備えてなる。この
うち、前記ノズル座本体８１及び前記排出槽８５は、公
知のノズル座に基本的な構成であり、前記ノズル座本体
８１はノズル本体を静置するために、前記排出槽８５は
前記ノズル座本体８１から流出する液体を集めるため
に、それぞれ使用される。

【００１５】前記導管８２は、一端が前記ノズル座本体
８１に、他端が未図示の水源にそれぞれ連結しており、
洗浄用の水を前記ノズル座本体に供給するのに使用され
る。前記溢流管８３は、一端が前記ノズル座本体８１
に、他端が前記排出槽８５にそれぞれ連結しており、前
記ノズル座本体８１内の液体を排出するのに使用され
る。前記Ｏ型リング８４は、前記ノズル座本体８１のノ
ズル本体を静置するための表面上に設置され、耐アルカ
リ材料で製作されており、前記ノズル座本体８１内の液
体が、前記ノズル座本体８１とノズル本体との隙間から
流出するのを防ぐために使用される。前記排出管８６
は、一端が前記排出槽８５に連結しており、前記排出槽
８５内に流入した液体を排出するのに使用される。前記
スイッチ８７は、前記排出管８６上に設置されており、
前記排出槽８５から排出される液体流量を制御すること
ができる。また、前記洗浄用の水源には、脱イオン水の
水源を用いることができる。

【００１６】図５は、本発明による新規なフォトレジス
ト現像用のノズル座を応用したフォトレジスト塗布現像
機の構造図である。図中示されるように、前記ノズル座
８０以外のその他の部位は、いずれも図３の装置と同様
であるため、ここでは詳しい説明を省略する。

【００１７】次に、本発明による新規なノズル座を使用
し、ノズル本体を洗浄する方法を説明する。先ず、ノズ
ル本体１０がノズル座８０上に静置されている時、前記
導管８２を使用し、洗浄用の水を前記ノズル座本体８１
に導入する。このように、ノズル本体を直接洗浄水に漬
けることにより、ノズル本体に付着した現像液を洗い流
すことができる。

【００１８】以上に好ましい実施の形態を開示したが、
これらは決して本発明の範囲を限定するものではなく、
当該技術に熟知した者ならば誰でも、本発明の精神と領
域を脱しない範囲内で各種の変動や潤色を加えられるべ
きであって、従って本発明の保護範囲は特許請求の範囲
で指定した内容を基準とする。

【００１９】

【発明の効果】以上からわかるように、本発明によるノ
ズル座を利用してノズル本体を洗浄すると、ダミーウェ
ーハが不要なうえ、洗浄時間を節約することもでき、ひ
いては現像機の作動時間を増やし、コストの大幅な削減
を図ることができる。また、上述した洗浄方法では、前
記スイッチ８７を使用して液体の流速を制御することに
より、ノズル本体を充分に洗浄することができる。この
他、超音波振動洗浄システムを新たに組み込み、超音波
を利用してノズル本体を洗浄することも可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】ノズル本体のうち、噴孔を有した部分の平面図
である。

【図２】現像液をフォトレジスト上に吐出させ現像を行
う際の、各段階における概略図である。

【図３】公知のフォトレジスト塗布現像機の構造図であ
る。

【図４】本発明による新規なフォトレジスト現像用のノ
ズル座の概略図である。

【図５】本発明による新規なフォトレジスト現像用のノ
ズル座を応用したフォトレジスト塗布現像機の構造図で
ある。

【符号の説明】

３ ウェーハ １０ ノズル本体 ２０ 現像液 ３０ フォトレジスト ４０ ノズル座 ５０ 移動アーム座 ６０ 移動アーム ７０ 現像機本体 ８０ ノズル座 ８１ ノズル座本体 ８２ 導管 ８３ 溢流管 ８４ Ｏ型リング ８５ 排出槽 ８６ 排出管 ８７ スイッチ １００ 噴孔

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 599002397 モーゼル バイテリック インコーポレイ テッド 台湾、シンチュウ、サイエンス−ベースド インダストリアルパーク、リシンロード ナンバー 19 (71)出願人 599002401 ジーメンス・アー・ゲー ドイツ連邦共和国、Ｄ−80333、ミュンヘ ン、ヴィッテルスバッハープラッツ ２ (72)発明者 陳 永裕 台湾新竹縣寶山郷雙溪村９鄰三峰路53号８ 樓 Ｆターム(参考） 2H096 AA25 AA27 GA31 HA30 4D073 AA09 CA20 CB03 CB16 CC05 4F041 AA06 BA13 BA60 5F046 LA19

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】フォトレジスト塗布現像機に適用され、現
   像用のノズル本体を静置するために使用されるフォトレ
   ジスト現像用のノズル座であって、 前記フォトレジスト塗布現像機に取り付けられ、前記ノ
   ズル本体を静置するためのノズル座本体と、 一端が前記ノズル座本体に連結し、且つ他端が水源に連
   結して前記ノズル本体洗浄用の水を前記ノズル座本体へ
   導入するための導管と、 一端が前記ノズル座本体に連結し、前記ノズル座本体内
   の液体を排出するための溢流管と、 前記ノズル本体を静置するための前記ノズル座本体の表
   面上に設置されたＯ型リングと、を備えてなることを特
   徴とする、フォトレジスト現像用のノズル座。
2. 【請求項２】前記溢流管の他端に連結した排出槽と、 一端が前記排出槽に連結した排出管と、 前記排出管に設置されたスイッチと、をさらに備えてな
   ることを特徴とする、請求項１に記載のフォトレジスト
   現像用のノズル座。