JP2001085279A - アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 - Google Patents
アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法Info
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- JP2001085279A JP2001085279A JP26142699A JP26142699A JP2001085279A JP 2001085279 A JP2001085279 A JP 2001085279A JP 26142699 A JP26142699 A JP 26142699A JP 26142699 A JP26142699 A JP 26142699A JP 2001085279 A JP2001085279 A JP 2001085279A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高倍率化が可能で、かつ機械的強度に優れた
電解コンデンサ用アルミニウム電極箔のエッチング方法
を提供する。 【解決手段】 エッチング処理を少なくとも２段階に分
けて行うアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方
法において、最初のエッチング処理のエッチング液が、
フッ素イオンを５０〜１０００ｐｐｍ含有することを特
徴としている。
電解コンデンサ用アルミニウム電極箔のエッチング方法
を提供する。 【解決手段】 エッチング処理を少なくとも２段階に分
けて行うアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方
法において、最初のエッチング処理のエッチング液が、
フッ素イオンを５０〜１０００ｐｐｍ含有することを特
徴としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はアルミニウム電解コ
ンデンサ用電極箔の製造方法に関するもので、特に中高
圧用のアルミニウム箔のエッチング技術に関するもので
ある。
ンデンサ用電極箔の製造方法に関するもので、特に中高
圧用のアルミニウム箔のエッチング技術に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】アルミニウム電解コンデンサに用いられ
るアルミニウム箔は、その有効表面積を拡大し、コンデ
ンサの静電容量を上げるために、電解エッチングや化学
エッチング、もしくはそれらの両方が行われている。エ
ッチングによるアルミニウム箔の表面積増大の要求は、
アルミニウムの資源有効利用や製品の更なる小型化を行
っていく上で重要で、ますます要求が大きくなってい
る。電気化学的エッチングは、反応を電気によって高度
に制御しやすいという利点から、エッチング箔の生産に
おいて現在主流に使われている手法で、中高圧エッチン
グは前処理、エッチングピット形成の二段に大別され
る。このうち、エッチングピット形成工程においてはよ
り効率的にピットを形成することを目的として多段に分
割するといった手法も取られることがある。前処理で
は、原箔表層の不純物層の除去を目的としてリン酸、フ
ッ酸、水酸化ナトリウムなどの箔を溶解する作用のある
液が一般的に用いられている。
るアルミニウム箔は、その有効表面積を拡大し、コンデ
ンサの静電容量を上げるために、電解エッチングや化学
エッチング、もしくはそれらの両方が行われている。エ
ッチングによるアルミニウム箔の表面積増大の要求は、
アルミニウムの資源有効利用や製品の更なる小型化を行
っていく上で重要で、ますます要求が大きくなってい
る。電気化学的エッチングは、反応を電気によって高度
に制御しやすいという利点から、エッチング箔の生産に
おいて現在主流に使われている手法で、中高圧エッチン
グは前処理、エッチングピット形成の二段に大別され
る。このうち、エッチングピット形成工程においてはよ
り効率的にピットを形成することを目的として多段に分
割するといった手法も取られることがある。前処理で
は、原箔表層の不純物層の除去を目的としてリン酸、フ
ッ酸、水酸化ナトリウムなどの箔を溶解する作用のある
液が一般的に用いられている。
【０００３】エッチング箔の製造方法は、特開平９−１
８０９６５、特開平９−１８０９６７、特許第２５８３
８０２号などに示されるように、エッチング処理を少な
くとも２段階に分けて行うことにより製造される。エッ
チング工程は、塩酸に硫酸、リン酸、蓚酸のうちから少
なくとも１種以上を混合したエッチング液中にて、電気
的にエッチングして多数のピットを形成することを目的
とする第１のエッチング工程と、同工程で形成されたピ
ットを所定の太さにまで広げることを目的とした第２の
エッチング工程に分けられる。アルミニウムエッチング
箔に形成されるピット数を増大させ、これによる表面積
増大を図るには、各手法が考案されている。例えば、前
処理でアルミニウム箔の表面に各種皮膜を形成し、エッ
チングピット発生過程でのピット発生数を制御する手法
や、ピット形成過程でよりピットが発生するようなエッ
チング条件に変更するなどである。また、アルミニウム
原箔中に表面積拡大に効果のある元素を各種添加する方
法もある。しかしながら、ピット数を増大させ表面積拡
大を図っても、ピットの発生が均一でないため、最終的
にピット部が形成された部分と全くピットが形成されな
い未エッチング部が存在するという問題があった。
８０９６５、特開平９−１８０９６７、特許第２５８３
８０２号などに示されるように、エッチング処理を少な
くとも２段階に分けて行うことにより製造される。エッ
チング工程は、塩酸に硫酸、リン酸、蓚酸のうちから少
なくとも１種以上を混合したエッチング液中にて、電気
的にエッチングして多数のピットを形成することを目的
とする第１のエッチング工程と、同工程で形成されたピ
ットを所定の太さにまで広げることを目的とした第２の
エッチング工程に分けられる。アルミニウムエッチング
箔に形成されるピット数を増大させ、これによる表面積
増大を図るには、各手法が考案されている。例えば、前
処理でアルミニウム箔の表面に各種皮膜を形成し、エッ
チングピット発生過程でのピット発生数を制御する手法
や、ピット形成過程でよりピットが発生するようなエッ
チング条件に変更するなどである。また、アルミニウム
原箔中に表面積拡大に効果のある元素を各種添加する方
法もある。しかしながら、ピット数を増大させ表面積拡
大を図っても、ピットの発生が均一でないため、最終的
にピット部が形成された部分と全くピットが形成されな
い未エッチング部が存在するという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】よって、さらにピット
数の増大を図るためには、後に発生するピットが既に発
生したピット付近に集中して発生することなく、まだピ
ットが形成されていない箔表面の未エッチング部に発生
させることが重要となる。本発明は、この点を改善し、
エッチング後に高密度で未エッチング箇所がないエッチ
ング箔を得ることができるエッチング箔の製造を目的と
したものである。
数の増大を図るためには、後に発生するピットが既に発
生したピット付近に集中して発生することなく、まだピ
ットが形成されていない箔表面の未エッチング部に発生
させることが重要となる。本発明は、この点を改善し、
エッチング後に高密度で未エッチング箇所がないエッチ
ング箔を得ることができるエッチング箔の製造を目的と
したものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するため、エッチング条件を各種検討した結果見いださ
れたものであり、第１のエッチング工程のエッチング液
に添加する添加剤に着目したものである。すなわち、エ
ッチング処理を少なくとも２段階に分けて行うアルミニ
ウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法において、最初
のエッチング処理のエッチング液にフッ素イオンが含有
されていることを特徴とするアルミニウム電解コンデン
サ用電極箔の製造方法である。
するため、エッチング条件を各種検討した結果見いださ
れたものであり、第１のエッチング工程のエッチング液
に添加する添加剤に着目したものである。すなわち、エ
ッチング処理を少なくとも２段階に分けて行うアルミニ
ウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法において、最初
のエッチング処理のエッチング液にフッ素イオンが含有
されていることを特徴とするアルミニウム電解コンデン
サ用電極箔の製造方法である。
【０００６】そして、上記フッ素イオンがフッ酸、フッ
化アルミニウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウムの
うち少なくとも１種で生成され、該フッ素イオン濃度が
５０〜１０００ｐｐｍであることを特徴とするアルミニ
ウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法である。
化アルミニウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウムの
うち少なくとも１種で生成され、該フッ素イオン濃度が
５０〜１０００ｐｐｍであることを特徴とするアルミニ
ウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法である。
【０００７】また、上記エッチング液が、フッ素イオン
と塩酸と、少なくとも硫酸、リン酸、蓚酸のうち１種を
含有してなることを特徴とするアルミニウム電解コンデ
ンサ用電極箔の製造方法である。
と塩酸と、少なくとも硫酸、リン酸、蓚酸のうち１種を
含有してなることを特徴とするアルミニウム電解コンデ
ンサ用電極箔の製造方法である。
【０００８】
【発明の実施の形態】塩素イオンが孔食型の腐食イオン
であるのに対し、フッ素イオンが面腐食型の腐食イオン
であるため、第１のエッチング工程のエッチング液にフ
ッ素イオンを添加することにより、ピットの発生が電極
箔全面に均一に分散して起こり、静電容量を増大させる
ことが可能となる。
であるのに対し、フッ素イオンが面腐食型の腐食イオン
であるため、第１のエッチング工程のエッチング液にフ
ッ素イオンを添加することにより、ピットの発生が電極
箔全面に均一に分散して起こり、静電容量を増大させる
ことが可能となる。
【０００９】
【実施例】アルミニウム純度９９．９９％、厚さ１０４
μm、（１００）表面占有率９８％の高純度アルミニウ
ム箔を３０℃の５％水酸化ナトリウム水溶液で３０秒間
洗浄した。次に第１のエッチングとして表１の組成のエ
ッチング液中で、液温７０℃、電流密度２５０ｍＡ／ｃ
ｍ２、電気量１２Ｃ／ｃｍ２でアルミニウム箔を処理
し、第２のエッチングとして塩酸６．３０ｍｏｌ／Ｌ、
塩化アルミニウム０．７４ｍｏｌ／Ｌ、液温８０℃のエ
ッチング液に８分間浸漬処理した。そして、６０℃の
０．７５ｍｏｌ／Ｌ硝酸アルミニウム水溶液で１分間洗
浄した後、１００ｇ／Ｌのホウ酸水溶液で２５０Ｖの化
成処理を行った。
μm、（１００）表面占有率９８％の高純度アルミニウ
ム箔を３０℃の５％水酸化ナトリウム水溶液で３０秒間
洗浄した。次に第１のエッチングとして表１の組成のエ
ッチング液中で、液温７０℃、電流密度２５０ｍＡ／ｃ
ｍ２、電気量１２Ｃ／ｃｍ２でアルミニウム箔を処理
し、第２のエッチングとして塩酸６．３０ｍｏｌ／Ｌ、
塩化アルミニウム０．７４ｍｏｌ／Ｌ、液温８０℃のエ
ッチング液に８分間浸漬処理した。そして、６０℃の
０．７５ｍｏｌ／Ｌ硝酸アルミニウム水溶液で１分間洗
浄した後、１００ｇ／Ｌのホウ酸水溶液で２５０Ｖの化
成処理を行った。
【００１０】
【表１】
【００１１】化成処理を行った試料を、箔静電容量はＬ
ＣＲメータ−で、箔折曲強度は強度試験器（１．０ｍｍ
Ｒ、５０ｇ荷重、折曲げ角９０度の条件下一往復で１回
とする）で、箔表面ピット数はＳＥＭによる表面観察で
測定し表２の結果を得た。
ＣＲメータ−で、箔折曲強度は強度試験器（１．０ｍｍ
Ｒ、５０ｇ荷重、折曲げ角９０度の条件下一往復で１回
とする）で、箔表面ピット数はＳＥＭによる表面観察で
測定し表２の結果を得た。
【００１２】
【表２】
【００１３】上記のように実施例１〜４は比較例、従来
例より箔表面ピット数が多くなるため箔静電容量が大き
くなり、ピットが分散しているので折曲強度も強い。
例より箔表面ピット数が多くなるため箔静電容量が大き
くなり、ピットが分散しているので折曲強度も強い。
【００１４】エッチング液のフッ素イオン濃度は５０ｐ
ｐｍ未満では効果が少なく、１０００ｐｐｍを超えると
静電容量が低下し問題である。よって、フッ素イオンの
濃度は５０〜１０００ｐｐｍが好ましい。
ｐｍ未満では効果が少なく、１０００ｐｐｍを超えると
静電容量が低下し問題である。よって、フッ素イオンの
濃度は５０〜１０００ｐｐｍが好ましい。
【００１５】第１のエッチング液のインヒビターイオン
には硫酸イオンを使用したが、リン酸イオン、蓚酸イオ
ンでも同様の効果があり、硫酸、リン酸、蓚酸を複数使
用してもよい。
には硫酸イオンを使用したが、リン酸イオン、蓚酸イオ
ンでも同様の効果があり、硫酸、リン酸、蓚酸を複数使
用してもよい。
【００１６】
【発明の効果】上記のように本発明による第１のエッチ
ング工程のエッチング液にフッ素イオンを５０〜１００
０ｐｐｍ添加することにより、箔表面ピット数が増大す
ることで静電容量を高くでき、またピットの発生が分散
するので折曲強度を強くすることができ、製品の小型化
およびアルミニウムの省資源化が可能となり工業的、実
用的価値は大なるものである。
ング工程のエッチング液にフッ素イオンを５０〜１００
０ｐｐｍ添加することにより、箔表面ピット数が増大す
ることで静電容量を高くでき、またピットの発生が分散
するので折曲強度を強くすることができ、製品の小型化
およびアルミニウムの省資源化が可能となり工業的、実
用的価値は大なるものである。
Claims (3)
- 【請求項１】 エッチング処理を少なくとも２段階に分
けて行うアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方
法において、 最初のエッチング処理のエッチング液にフッ素イオンが
含有されていることを特徴とするアルミニウム電解コン
デンサ用電極箔の製造方法。 - 【請求項２】 上記フッ素イオンがフッ酸、フッ化アル
ミニウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウムのうち少
なくとも１種で生成され、該フッ素イオン濃度が５０〜
１０００ｐｐｍであることを特徴とする請求項１記載の
アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法。 - 【請求項３】 上記エッチング液が、フッ素イオンと塩
酸と、少なくとも硫酸、リン酸、蓚酸のうち１種を含有
してなることを特徴とする請求項１または請求項２記載
のアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26142699A JP2001085279A (ja) | 1999-09-16 | 1999-09-16 | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26142699A JP2001085279A (ja) | 1999-09-16 | 1999-09-16 | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001085279A true JP2001085279A (ja) | 2001-03-30 |
Family
ID=17361721
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26142699A Pending JP2001085279A (ja) | 1999-09-16 | 1999-09-16 | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001085279A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010021376A (ja) * | 2008-07-11 | 2010-01-28 | Nichicon Corp | 電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法 |
-
1999
- 1999-09-16 JP JP26142699A patent/JP2001085279A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010021376A (ja) * | 2008-07-11 | 2010-01-28 | Nichicon Corp | 電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060313 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081107 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081201 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090126 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090727 |