JP2001023558A - エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡 - Google Patents

エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡

Info

Publication number
JP2001023558A
JP2001023558A JP11190803A JP19080399A JP2001023558A JP 2001023558 A JP2001023558 A JP 2001023558A JP 11190803 A JP11190803 A JP 11190803A JP 19080399 A JP19080399 A JP 19080399A JP 2001023558 A JP2001023558 A JP 2001023558A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
energy
filter
energy filter
filters
electrons
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11190803A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3757371B2 (ja
Inventor
Michiyoshi Tanaka
通義 田中
Masami Terauchi
正己 寺内
Katsushige Tsuno
勝重 津野
Toshikazu Honda
敏和 本田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP19080399A priority Critical patent/JP3757371B2/ja
Priority to DE60032972T priority patent/DE60032972T2/de
Priority to EP00305561A priority patent/EP1067576B1/en
Priority to US09/610,126 priority patent/US6407384B1/en
Publication of JP2001023558A publication Critical patent/JP2001023558A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3757371B2 publication Critical patent/JP3757371B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/05—Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy or mass

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)
  • Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 Boersch効果による影響を低減出来るエネル
ギーフィルタを提供すること及びそれを用いた電子顕微
鏡を提供すること 【解決手段】 エネルギーフィルタＷは、電子ビームの
中心軌道０に沿って順次配列される初段フィルタ１と２
段目フィルタ２から構成される。初段フィルタ１のフィ
ルタ長Ｌ１は、２段目フィルタ２のフィルタ長Ｌ２より
も大きく選定されている。２つのフィルタ１，２の間の
自由空間３(幅ｄ)内の電子ビーム通路上には、エネルギ
ー選択スリット４が配置される。初段フィルタ１及び２
段目フィルタ２は、直交した電界と磁界を有するウィー
ンフィルタである。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特定のエネルギーを持
った荷電粒子を選択的に通過させるエネルギーフィルタ
及びそれを用いた電子顕微鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】透過型電子顕微鏡においては、試料に電
子ビームを照射し、試料を透過した電子ビームを蛍光板
に拡大投影することにより、蛍光板上に試料の拡大像を
得ている。近時、試料を透過した電子ビームを蛍光板に
拡大投影する電子光学系内にエネルギーフィルタ例えば
オメガフィルタを配置した透過型電子顕微鏡が開発され
ている。このような電子顕微鏡によれば、試料によって
影響を受けた透過電子の内、オメガフィルタを通過し得
た特定エネルギーの透過電子のみに基づく透過電子顕微
鏡像が形成される。
【０００３】このオメガフィルタを備えた電子顕微鏡に
おいて、得られる電子顕微鏡像のエネルギー選択性(エ
ネルギー分解能)を高めるには、試料に照射する電子ビ
ームのエネルギー幅が狭くなければならない。このた
め、この種の電子顕微鏡では、現状で最も狭いエネルギ
ー幅が得られるコールドタイプの電界放射型電子銃(Ｆ
ＥＧ)が採用されている。
【０００４】しかしながら、このタイプのＦＥＧを用い
ても、得られるエネルギー幅は例えば加速電圧２００ｋ
Ｖにおいて０．４ｅＶ程度であり、さらにエネルギー幅
を狭めるのは現状では困難である。一方、より高エネル
ギー分解能を目指す上では、試料に照射される電子ビー
ムのエネルギー幅を０．１〜０．２ｅＶ程度あるいはそ
れ以下に抑えることが望まれている。そこで、最近、電
子銃と試料との間にエネルギーフィルタを設け、電子源
の作るエネルギーの拡がりの中から狭いエネルギー範囲
をスリットにより選択的に取り出し、エネルギー幅の小
さな電子ビームを得て試料に照射することが試みられて
いる。
【０００５】ところが、高分解能電子顕微鏡で必要とさ
れる加速電圧２００ｋＶ(電子のエネルギーは２００ｋ
ｅＶ)以上の高エネルギーにおいて０．１〜０．２ｅＶ
程度のエネルギーを選択できるだけの分解能を持つ実用
的なエネルギーフィルタは、現在のところ存在しない。
そこで、電子ビームが低エネルギーの状態にある位置に
エネルギーフィルタを配置してエネルギー選択を行い、
その後加速して高エネルギーを与える方式が検討されて
いる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このように低エネルギ
ーの電子ビームがエネルギーフィルタを通過する場合、
Boersch効果による影響を配慮しなければならない。こ
のBoersch効果とは、近接して飛行する電子(一般には荷
電粒子)同士のクーロン相互作用によって、各電子の速
度従ってエネルギーが相互に影響を受ける現象をいう。
このBoersch効果は電流密度が高い程、また電子の速度
が遅い程大きくなる。従って、低エネルギーの電子ビー
ムがエネルギーフィルタを通過する場合、特にフィルタ
内の収束点で電子が近接して飛行する時に相互に影響を
与え合い、エネルギーが変化して拡がりを持ってしま
い、エネルギー幅の狭い電子ビームを得ることが困難に
なるという問題がある。
【０００７】本発明は、上述した点に鑑みてなされたも
のであり、Boersch効果による影響を低減出来るエネル
ギーフィルタを提供すること及びそれを用いた電子顕微
鏡を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のエネルギーフィルタは、特定のエネルギー
を持つ荷電粒子のみを通過させるために電場と磁場を組
み合わせたエネルギーフィルタであって、該エネルギー
フイルタ内を進行する荷電粒子が、進行方向に対して直
交するＸ方向について複数回収束されると共に、該方向
と直交するＹ方向について前記Ｘ方向の収束位置と異な
る位置で収束するようにされており、エネルギー選択ス
リットが前記Ｘ方向における２回目以降の収束位置に配
置されることを特徴としている。また、本発明の電子顕
微鏡は、電子銃から発生した電子ビームを、特定のエネ
ルギーを持つ電子のみを通過させるエネルギーフィルタ
を介して試料に入射させるようにした電子顕微鏡におい
て、該エネルギーフィルタは、特定のエネルギーを持つ
電子のみを通過させるために電場と磁場を組み合わせた
エネルギーフィルタであって、該エネルギーフイルタ内
を進行する電子が、進行方向に対して直交するＸ方向に
ついて複数回収束されると共に、該方向と直交するＹ方
向について前記Ｘ方向の収束位置と異なる位置で収束す
るようにされており、エネルギー選択スリットが前記Ｘ
方向における２回目以降の収束位置に配置されることを
特徴としている。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ実施の形
態について説明する。図１は、本発明を実施したエネル
ギーフィルタの一例を示している。図１において、本発
明のエネルギーフィルタＷは、電子ビームの中心軌道０
に沿って順次配列される初段フィルタ１と２段目フィル
タ２から構成される。初段フィルタ１のフィルタ長Ｌ１
は、２段目フィルタ２のフィルタ長Ｌ２よりも大きく選
定されている。２つのフィルタ１，２の間には、自由空
間３(幅ｄ)が存在し、この自由空間３内の電子ビーム通
路上には、エネルギー選択スリット４が配置される。ま
た、エネルギーフィルタＷの入口部分及び出口部分に
は、初段フィルタ１及び２段目フィルタ２から発生する
電磁界と周囲の電子光学要素の発生する電磁界との干渉
を防止するためのシャント部材５，６が設けられてい
る。
【００１０】前記初段フィルタ１及び２段目フィルタ２
は、直交した電界と磁界を有するウィーンフィルタであ
り、例えば図２に示す構造を有している。図２におい
て、ｚは電子ビームの光軸を示し、この光軸を挟むよう
に磁極Ｎ及びＳが対向配置される。さらに、この磁極の
間隙には、対となる電極＋，−が光軸を挟むように対向
配置される。
【００１１】その結果、光軸及びその周囲には、ｙ方向
に磁界、ｘ方向に電界が重畳した場が形成される。その
ため、光軸に沿って入射した電子は、直交した電界と磁
界により受ける力と個々の電子の持つエネルギーとによ
り決まる軌道を進むこととなる。
【００１２】図３は、図１のエネルギーフィルタ内にお
ける電子のＺＸ面内及びＺＹ面内の軌道を示す図であ
る。図３では、円形断面の電子ビームが収束性を持って
初段フィルタ１に入射するものとし、エネルギーフィル
タの通過帯域の中心エネルギー値を持つ電子の軌道が黒
い線で、中心エネルギー値からΔαずれたエネルギー値
を持つ電子の軌道が灰色の線でそれぞれ描かれている。
【００１３】図３より、初段フィルタ１入射時に円形断
面であった電子ビームは、ＺＸ面軌道において、初段フ
ィルタ１の中央部(Ｌ１／２)付近とスリット位置の２つ
の位置で収束し、一方、ＺＹ面軌道においては、初段フ
ィルタの出口付近で一度だけ収束し、２段目フィルタか
ら再び円形断面の状態で出射することが分かる。このよ
うに、Ｘ方向とＹ方向で異なった位置に収束するように
することは、ウィーンフィルタを構成する電界と磁界の
強度を適切に選定することにより実現することができ
る。
【００１４】図４は、スリット面上での電子ビーム形状
を示している。初段フィルタ１入射時に円形断面であっ
た電子ビームは、スリット位置においては、Ｘ方向の幅
が小さくＹ方向の幅が大きい楕円形あるいは線状の断面
となっており、エネルギー値に応じてＸ方向の異なる位
置を通る。従って、Ｙ方向に長くＸ方向に適当な幅を持
つスリットにより、所望のエネルギーを持つ電子のみを
選択的に通過させることが出来る。
【００１５】ところで、このような形でエネルギーフィ
ルタとして機能する実施例装置について、Boersch効果
による影響を考察する。前述のごとく、低エネルギーの
電子ビームがエネルギーフィルタを通過する場合、特に
フィルタ内の収束点で電子が近接して飛行する時に相互
に影響を与え合い、エネルギーが変化して拡がりを持っ
てしまい、エネルギー幅の狭い電子ビームを得ることが
困難となるが、本実施例では、ＺＸ面内で２回、ＺＹ面
内で１回電子ビームが収束するものの、ＺＸ面内の収束
位置とＺＹ面内の収束位置は異なっているので、フィル
タ内でビームが点状に収束することがない。すなわち、
各収束位置におけるビームの断面形状は線状であり、点
状に収束するような場合に比べ、電子の密度は格段に小
さい。従って、Boersch効果による影響を、最小限に抑
えることが出来る。
【００１６】上述した実施例では２つのフィルタを組み
合わせたが、更に多数のフィルタを組み合わせて本発明
のエネルギーフィルタを構成することが出来る。その場
合、スリットは、ＺＸ平面で２回目以降の収束位置に配
置される。スリットをフィルタ内に設置することは困難
なので、フィルタとフィルタの間の自由空間にスリット
を配置することが必要となる。
【００１７】また、上記実施例では、磁界と電界が重畳
されるウィーンフィルタを２段構成で用いたが、磁界と
電界は完全に重畳される必要はなく、一部磁界または電
界が単独で存在するような場を備えたエネルギーフィル
タを複数段用いても、本発明のエネルギーフィルタを構
成することが可能である。
【００１８】図５は、本発明のエネルギーフィルタを組
み込んだ電子顕微鏡の構成を示す。図５(a)は、ＦＥＧ
と加速器の間に本発明のエネルギーフィルタを配置した
例を示している。ＦＥＧ１１から発生した１ｋｅＶ〜数
ｋｅＶ程度の比較的低いエネルギーの電子ビームは、入
射アパーチャ１２、減速部１３、エネルギーフィルタ部
１４、加速部１５、出射アパーチャ１６から成る減速型
エネルギーフィルタ１７に入射する。この減速型エネル
ギーフィルタ１７において、入射電子は減速部で数１０
０ｅＶ程度のエネルギーに減速された後、フィルタ部１
４において所定のエネルギーを持つ電子のみが選択さ
れ、加速部１５によって再び元のエネルギーを持つよう
に加速されて出射アパーチャ１７から出射する。エネル
ギーフィルタ部１４は、図１に示された構造を有してい
る。
【００１９】出射アパーチャ１５から出射した電子ビー
ムは、加速器１８によって所望の高エネルギー(例えば
２００ｋｅＶ程度)まで加速された後、コンデンサレン
ズ群１９及び対物レンズ２０を介して試料２１に照射さ
れる。
【００２０】図５(b)は、加速器の後段に本発明のエネ
ルギーフィルタを配置した例を示している。この例で
は、ＦＥＧ１１から発生した１ｋｅＶ〜数ｋｅＶ程度の
比較的低いエネルギーの電子ビームは、加速器１８によ
って所望の高エネルギー(例えば２００ｋｅＶ程度)まで
加速された後、コンデンサレンズ２２を介して入射アパ
ーチャ１２、減速部１３、エネルギーフィルタ部１４、
加速部１５、出射アパーチャ１６から成る減速型エネル
ギーフィルタ１７に入射する。この減速型エネルギーフ
ィルタ１７において、入射電子は減速部で数１００ｅＶ
程度のエネルギーに減速された後、フィルタ部１４にお
いて所定のエネルギーを持つ電子のみが選択され、加速
部１５によって再び元のエネルギーを持つように加速さ
れて出射アパーチャ１７から出射する。エネルギーフィ
ルタ部１４は、図１に示された構造を有している。
【００２１】出射アパーチャ１５から出射した電子ビー
ムは、コンデンサレンズ群１９及び対物レンズ２０を介
して試料２１に照射される。
【００２２】この実施例では、減速型エネルギーフィル
タ１７の減速部１３及び加速部１４は、高エネルギーの
電子を数１００ｅＶ程度のエネルギーに減速し、更に元
の高エネルギーに加速することが必要なため、本来の加
速器１８と同様多段電極による多段減速、多段加速とす
るのが好ましい。
【００２３】本発明は上記実施形態に限定されるもので
はなく種々の変形が可能である。特に、エネルギーフィ
ルタを設ける位置については上記実施形態に限らず試料
の上流側であれば適宜な位置を選択することができる。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のエネルギ
ーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡は、特定のエネ
ルギーを持つ荷電粒子のみを通過させるために電場と磁
場を組み合わせたエネルギーフィルタであって、該エネ
ルギーフイルタ内を進行する荷電粒子が、進行方向に対
して直交するＸ方向について複数回収束されると共に、
該方向と直交するＹ方向について前記Ｘ方向の収束位置
と異なる位置で収束するようにされており、エネルギー
選択スリットが前記Ｘ方向における２回目以降の収束位
置に配置されることを特徴としているため、Boersch効
果による影響を低減出来るという大きな効果が得られ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を実施したエネルギーフィルタの一例を
示す図である。
【図２】ウィーンフィルタの構造を例示する図である。
【図３】図１のエネルギーフィルタ内における電子のＺ
Ｘ面内及びＺＹ面内の軌道を示す図である。
【図４】スリット面上での電子ビーム形状を示す図であ
る。
【図５】本発明のエネルギーフィルタを組み込んだ電子
顕微鏡の構成を示す図であり、(a)は、ＦＥＧと加速器
の間に本発明のエネルギーフィルタを配置した例を示
し、(b)は、加速器の後段に本発明のエネルギーフィル
タを配置した例を示している。
【符号の説明】
０：電子ビームの中心軌道、１：初段フィルタ１、２：
２段目フィルタ、３：自由空間、４：エネルギー選択ス
リット、５，６：シャント部材、１１：ＦＥＧ、１２：
入射アパーチャ、１３：減速部、１４：エネルギーフィ
ルタ部、１５：加速部、１６：出射アパーチャ、１７：
減速型エネルギーフィルタ１７、１８：加速器、１９：
コンデンサレンズ群、２０：対物レンズ、２１：試料
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 本田 敏和 東京都昭島市武蔵野三丁目１番２号 日本 電子株式会社内 Ｆターム(参考） 5C033 AA02 AA05 BB01 SS01 SS08 5C038 KK13

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】特定のエネルギーを持つ荷電粒子のみを通
    過させるために電場と磁場を組み合わせたエネルギーフ
    ィルタであって、該エネルギーフイルタ内を進行する荷
    電粒子が、進行方向に対して直交するＸ方向について複
    数回収束されると共に、該方向と直交するＹ方向につい
    て前記Ｘ方向の収束位置と異なる位置で収束するように
    されており、エネルギー選択スリットが前記Ｘ方向にお
    ける２回目以降の収束位置に配置されることを特徴とす
    るエネルギーフィルタ。
  2. 【請求項２】前記エネルギーフィルタは間隔を置いて配
    置される２つのエネルギーフィルタから成り、前記エネ
    ルギースリットは該２つのエネルギーフィルタの間に配
    置されることを特徴とする請求項１記載のエネルギーフ
    ィルタ。
  3. 【請求項３】前記２つのエネルギーフィルタはウィーン
    フィルタである請求項１または２記載のエネルギーフィ
    ルタ。
  4. 【請求項４】電子銃から発生した電子ビームを、特定の
    エネルギーを持つ電子のみを通過させるエネルギーフィ
    ルタを介して試料に入射させるようにした電子顕微鏡に
    おいて、該エネルギーフィルタは、特定のエネルギーを
    持つ電子のみを通過させるために電場と磁場を組み合わ
    せたエネルギーフィルタであって、該エネルギーフイル
    タ内を進行する電子が、進行方向に対して直交するＸ方
    向について複数回収束されると共に、該方向と直交する
    Ｙ方向について前記Ｘ方向の収束位置と異なる位置で収
    束するようにされており、エネルギー選択スリットが前
    記Ｘ方向における２回目以降の収束位置に配置されるこ
    とを特徴とする電子顕微鏡。
  5. 【請求項５】前記エネルギーフィルタへの入射電子を減
    速する減速部及び該エネルギーフィルタから出射する電
    子を加速する加速部が設けられていることを特徴とする
    請求項４記載の電子顕微鏡。
  6. 【請求項６】前記エネルギーフィルタは間隔を置いて配
    置される２つのエネルギーフィルタから成り、前記エネ
    ルギースリットは該２つのエネルギーフィルタの間に配
    置されることを特徴とする請求項４または５記載の電子
    顕微鏡。
  7. 【請求項７】前記２つのエネルギーフィルタはウィーン
    フィルタである請求項６記載の電子顕微鏡。
JP19080399A 1999-07-05 1999-07-05 エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡 Expired - Fee Related JP3757371B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19080399A JP3757371B2 (ja) 1999-07-05 1999-07-05 エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡
DE60032972T DE60032972T2 (de) 1999-07-05 2000-07-03 Energiefilter und seine Verwendung in einem Elektronenmikroskop
EP00305561A EP1067576B1 (en) 1999-07-05 2000-07-03 Energy filter and electron microscope using the same
US09/610,126 US6407384B1 (en) 1999-07-05 2000-07-05 Energy filter and electron microscope using same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19080399A JP3757371B2 (ja) 1999-07-05 1999-07-05 エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001023558A true JP2001023558A (ja) 2001-01-26
JP3757371B2 JP3757371B2 (ja) 2006-03-22

Family

ID=16264014

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19080399A Expired - Fee Related JP3757371B2 (ja) 1999-07-05 1999-07-05 エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6407384B1 (ja)
EP (1) EP1067576B1 (ja)
JP (1) JP3757371B2 (ja)
DE (1) DE60032972T2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6960763B2 (en) 2002-12-17 2005-11-01 Jeol Ltd. Energy filter and electron microscope
US8735814B2 (en) 2010-10-15 2014-05-27 Hitachi High-Technologies Corporation Electron beam device

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7205542B1 (en) 2005-11-14 2007-04-17 Kla-Tencor Technologies Corporation Scanning electron microscope with curved axes
RU2362234C1 (ru) 2007-10-03 2009-07-20 Вячеслав Данилович Саченко Корпускулярно-оптическая система формирования изображения (варианты)
US9111715B2 (en) * 2011-11-08 2015-08-18 Fei Company Charged particle energy filter
US9053900B2 (en) 2012-04-03 2015-06-09 Kla-Tencor Corporation Apparatus and methods for high-resolution electron beam imaging
US8859982B2 (en) 2012-09-14 2014-10-14 Kla-Tencor Corporation Dual-lens-gun electron beam apparatus and methods for high-resolution imaging with both high and low beam currents
US9443696B2 (en) * 2014-05-25 2016-09-13 Kla-Tencor Corporation Electron beam imaging with dual Wien-filter monochromator

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7012388A (ja) * 1970-08-21 1972-02-23
GB1387173A (en) * 1971-03-22 1975-03-12 Hitachi Ltd Energy analyzer of the coaxial cylindrical type
NL7404363A (nl) * 1974-04-01 1975-10-03 Philips Nv Elektronenmikroskoop met energieanalysator.
NL7415318A (nl) * 1974-11-25 1976-05-28 Philips Nv Wienfilter.
JPS5830697B2 (ja) * 1977-08-29 1983-06-30 株式会社日立製作所 荷電粒子エネルギ−分析装置
JPS59837A (ja) * 1982-06-23 1984-01-06 Fujitsu Ltd ウイ−ン・フイルタ
DE3841715A1 (de) * 1988-12-10 1990-06-13 Zeiss Carl Fa Abbildender korrektor vom wien-typ fuer elektronenmikroskope
US5097126A (en) * 1990-09-25 1992-03-17 Gatan, Inc. High resolution electron energy loss spectrometer
JPH05290800A (ja) * 1992-04-08 1993-11-05 Jeol Ltd 収差補正機能を備えたエネルギアナライザ
DE69733873T2 (de) * 1996-05-21 2006-04-06 Fei Co., Hillsboro Vorrichtung zur korrektur von linsenfehlern in teilchen-optischer geräte
US6111253A (en) * 1997-09-01 2000-08-29 Jeol Ltd. Transmission electron microscope
AU6358799A (en) * 1999-06-16 2001-01-02 Shimadzu Research Laboratory (Europe) Ltd Electrically-charged particle energy analysers

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6960763B2 (en) 2002-12-17 2005-11-01 Jeol Ltd. Energy filter and electron microscope
US8735814B2 (en) 2010-10-15 2014-05-27 Hitachi High-Technologies Corporation Electron beam device

Also Published As

Publication number Publication date
DE60032972T2 (de) 2007-11-08
DE60032972D1 (de) 2007-03-08
JP3757371B2 (ja) 2006-03-22
US6407384B1 (en) 2002-06-18
EP1067576B1 (en) 2007-01-17
EP1067576A3 (en) 2001-05-16
EP1067576A2 (en) 2001-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2627062B2 (ja) 粒子線装置
US7164139B1 (en) Wien filter with reduced chromatic aberration
JPH06101318B2 (ja) イオンマイクロビ−ム装置
JP2002270397A (ja) ビーム偏向分離用セプタム電磁石、ビーム偏向分離用電磁石、及びビーム偏向方法
JPS5871545A (ja) 可変成形ビ−ム電子光学系
JP4074185B2 (ja) エネルギーフィルタ及び電子顕微鏡
JPH02142045A (ja) 荷電粒子線応用装置
US6495826B2 (en) Monochrometer for electron beam
US6111253A (en) Transmission electron microscope
JP3757371B2 (ja) エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡
JP4343951B2 (ja) 荷電粒子ビーム系用の単段式荷電粒子ビームエネルギー幅低減系
JP3696827B2 (ja) エネルギーフィルタ
JP2000505589A (ja) 質量選別器
JP2001357809A (ja) 電子ビーム用モノクロメータ
JP2003331764A (ja) エネルギーフィルタ
JPH07191169A (ja) イオン偏向磁石及びイオン偏向方法
US3388359A (en) Particle beam focussing magnet with a septum wall
JP3790646B2 (ja) 低エネルギー反射電子顕微鏡
JP3006581B2 (ja) 荷電粒子線応用装置
US5406178A (en) Pulse beam forming method and apparatus
JP2001291486A (ja) エネルギーフィルタを備えた透過型電子顕微鏡
JPH05128985A (ja) マイクロビーム発生装置
JP3139484B2 (ja) 荷電粒子線顕微方法
JP3031378B2 (ja) 荷電粒子線応用装置
JP2001093825A (ja) 荷電ビーム描画装置およびパターン描画方法並びに記録媒体

Legal Events

Date Code Title Description
RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20040210

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040615

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050926

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051005

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051102

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20051214

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20051215

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100113

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110113

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110113

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120113

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130113

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130113

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140113

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees
S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350