JP2000169181A - 記録媒体用高比剛性ガラス及び該ガラスを用いたハ―ドディスク基板 - Google Patents
記録媒体用高比剛性ガラス及び該ガラスを用いたハ―ドディスク基板Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 比剛性及び加工性などに優れたハードディス
ク基板を提供する。特に窒素含有量を好適範囲に制御し
て、比重の増加を抑制しつつ、比剛性の向上を達成す
る。 【解決手段】 Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎまたは、Ｍ−Ａｌ−
Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（ＭはＣａ,Ｍｇ,希土類元素）で表される
オキシナイトライドガラスにおいて、Ｏ、Ｎの非金属成
分については、０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％（Ｏ＋Ｎ=１
００ｅｑ％）と定め、Ｍ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分ついて
は、Ｍ成分が存在しないときは、２０ｅｑ％≦Ａｌ≦３
０ｅｑ％、７０ｅｑ％≦Ｓｉ≦８０ｅｑ％（Ａｌ＋Ｓｉ
=１００ｅｑ％）、Ｍ成分がＣａ,Ｍｇ,希土類元素のと
きは、図１〜３の組成範囲と定める。また５ｅｑ％≦Ｎ
≦２５ｅｑ％のとき、Ｍ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分ついて
は、図４〜８の組成範囲と定める。
ク基板を提供する。特に窒素含有量を好適範囲に制御し
て、比重の増加を抑制しつつ、比剛性の向上を達成す
る。 【解決手段】 Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎまたは、Ｍ−Ａｌ−
Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（ＭはＣａ,Ｍｇ,希土類元素）で表される
オキシナイトライドガラスにおいて、Ｏ、Ｎの非金属成
分については、０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％（Ｏ＋Ｎ=１
００ｅｑ％）と定め、Ｍ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分ついて
は、Ｍ成分が存在しないときは、２０ｅｑ％≦Ａｌ≦３
０ｅｑ％、７０ｅｑ％≦Ｓｉ≦８０ｅｑ％（Ａｌ＋Ｓｉ
=１００ｅｑ％）、Ｍ成分がＣａ,Ｍｇ,希土類元素のと
きは、図１〜３の組成範囲と定める。また５ｅｑ％≦Ｎ
≦２５ｅｑ％のとき、Ｍ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分ついて
は、図４〜８の組成範囲と定める。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク等記
録媒体用のディスク材として好適なガラスと該ガラスを
用いたハードディスク基板に関するものである。
録媒体用のディスク材として好適なガラスと該ガラスを
用いたハードディスク基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置の分野では、記録密度
と転送速度の向上を目指して日進月歩の技術開発がなさ
れている。特に昨今は、転送速度の向上を目指してディ
スクの高速回転化が急務となっており、高速回転中にも
振動しない様な高比剛性ディスク材料が望まれている。
従来から使用されているアルミニウム製ディスク（以下
アルミ基板と言う）の比剛性は、２６．７（ヤング率：
７２ＧＰａ／密度：２．７ｇ／ｃｍ3）であり、１００
００ｒｐｍに及ぶ高速回転中での使用には、その２倍以
上の比剛性が必要と言われている。しかしながら、アル
ミ基板の比剛性を倍増させるためには、セラミックスと
の複合化（ＭＭＣ）等の方法しかなく、コスト面から見
て実用可能性は低い。
と転送速度の向上を目指して日進月歩の技術開発がなさ
れている。特に昨今は、転送速度の向上を目指してディ
スクの高速回転化が急務となっており、高速回転中にも
振動しない様な高比剛性ディスク材料が望まれている。
従来から使用されているアルミニウム製ディスク（以下
アルミ基板と言う）の比剛性は、２６．７（ヤング率：
７２ＧＰａ／密度：２．７ｇ／ｃｍ3）であり、１００
００ｒｐｍに及ぶ高速回転中での使用には、その２倍以
上の比剛性が必要と言われている。しかしながら、アル
ミ基板の比剛性を倍増させるためには、セラミックスと
の複合化（ＭＭＣ）等の方法しかなく、コスト面から見
て実用可能性は低い。
【０００３】一方、２．５インチサイズで使用されてい
るガラス製ディスク（以下ガラス基板）は、高比剛性化
し易いという点で注目を集めている。例えばガラスを適
当な温度で熱処理し、高ヤング率な結晶相を析出させる
ことでガラスセラミックス化し、ヤング率を向上させる
試みが多くなされている。例えば、特開平６−３２９４
４０号公報、特開平８−１１１０２４号公報、特開平８
−２２１７４７号公報には、二酸化リチウム結晶とαク
オーツ結晶を析出させる例が開示されている。また、特
開平９−７７５３１号公報には、尖晶石結晶を析出させ
ることによってヤング率を１０９〜１４４Ｇｐａ、比剛
性を３６〜４７に向上させた例が開示されている。
るガラス製ディスク（以下ガラス基板）は、高比剛性化
し易いという点で注目を集めている。例えばガラスを適
当な温度で熱処理し、高ヤング率な結晶相を析出させる
ことでガラスセラミックス化し、ヤング率を向上させる
試みが多くなされている。例えば、特開平６−３２９４
４０号公報、特開平８−１１１０２４号公報、特開平８
−２２１７４７号公報には、二酸化リチウム結晶とαク
オーツ結晶を析出させる例が開示されている。また、特
開平９−７７５３１号公報には、尖晶石結晶を析出させ
ることによってヤング率を１０９〜１４４Ｇｐａ、比剛
性を３６〜４７に向上させた例が開示されている。
【０００４】しかしながら、ガラスの比剛性自体は結晶
化により上がるものの、硬質結晶相と軟質ガラス相の複
合組織になっているため、ポリシングの際に微細な段差
が生じ、ディスクに必要とされる超鏡面が得られにくい
欠点がある。
化により上がるものの、硬質結晶相と軟質ガラス相の複
合組織になっているため、ポリシングの際に微細な段差
が生じ、ディスクに必要とされる超鏡面が得られにくい
欠点がある。
【０００５】一方、ガラスそのものの比剛性向上策とし
て、ガラスのヤング率を改善する効果の期待される希土
類を添加する方策も知られている。しかしながら、希土
類を添加するとガラスのヤング率が向上すると同時に比
重が増加し、その結果として比剛性は期待通りには向上
しない。
て、ガラスのヤング率を改善する効果の期待される希土
類を添加する方策も知られている。しかしながら、希土
類を添加するとガラスのヤング率が向上すると同時に比
重が増加し、その結果として比剛性は期待通りには向上
しない。
【０００６】そこで、ガラスの比重を著しく増加させる
ことなく、ヤング率を向上させる方策として、ガラス中
の酸素を窒素で置き換えたオキシナイトライドガラスが
あげられる。特開平１０−１３２７号公報は、オキシナ
イトライドガラスをディスク基板として使用する例が開
示されている。当該公開公報発明の実施例で示されてい
るヤング率は、１３９〜１８５Ｇｐａと極めて高く、ま
た比重は２．９〜３．４ｇ／ｃｍ3と比較的低いことか
ら、比剛性は４７〜５５と極めて高い値が得られてい
る。しかしながらそこに開示されている実施例組成を見
ると、窒素量が多く、均質なガラス生成領域外にあり、
従って一部結晶化している。そのため、ガラスセラミッ
クスの場合と同様、ポリシングの際に段差が生じ、超鏡
面が得にくい。またガラス中に微細結晶が析出した材料
は研磨速度が遅い欠点がある。一方ディスクの製造コス
トの大部分は加工時間で決まる。特に鏡面仕上げをする
ポリシング時間が長いと製造コストが大幅に上がってし
まう。ガラスディスクの研磨は、砥粒がガラスに微小ク
ラックを発生させながら進行するものであるが、ガラス
中に微細結晶が析出すると、破壊靭性が上昇し、研磨の
際の微小クラックが発生しにくくなる。したがって、ガ
ラス中に微小結晶が析出した不均質ガラスや結晶化ガラ
スは、研磨速度が著しく低下してしまう。
ことなく、ヤング率を向上させる方策として、ガラス中
の酸素を窒素で置き換えたオキシナイトライドガラスが
あげられる。特開平１０−１３２７号公報は、オキシナ
イトライドガラスをディスク基板として使用する例が開
示されている。当該公開公報発明の実施例で示されてい
るヤング率は、１３９〜１８５Ｇｐａと極めて高く、ま
た比重は２．９〜３．４ｇ／ｃｍ3と比較的低いことか
ら、比剛性は４７〜５５と極めて高い値が得られてい
る。しかしながらそこに開示されている実施例組成を見
ると、窒素量が多く、均質なガラス生成領域外にあり、
従って一部結晶化している。そのため、ガラスセラミッ
クスの場合と同様、ポリシングの際に段差が生じ、超鏡
面が得にくい。またガラス中に微細結晶が析出した材料
は研磨速度が遅い欠点がある。一方ディスクの製造コス
トの大部分は加工時間で決まる。特に鏡面仕上げをする
ポリシング時間が長いと製造コストが大幅に上がってし
まう。ガラスディスクの研磨は、砥粒がガラスに微小ク
ラックを発生させながら進行するものであるが、ガラス
中に微細結晶が析出すると、破壊靭性が上昇し、研磨の
際の微小クラックが発生しにくくなる。したがって、ガ
ラス中に微小結晶が析出した不均質ガラスや結晶化ガラ
スは、研磨速度が著しく低下してしまう。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】そこでガラス基板とし
て、比重を上げずにヤング率を向上させ得るオキシナイ
トライドガラスを用いる場合にあっては、極めて慎重に
その組成範囲を定める必要があり、本発明者は種々検討
の結果、一定の知見を得た。本発明はその知見に基づい
てなされたものである。
て、比重を上げずにヤング率を向上させ得るオキシナイ
トライドガラスを用いる場合にあっては、極めて慎重に
その組成範囲を定める必要があり、本発明者は種々検討
の結果、一定の知見を得た。本発明はその知見に基づい
てなされたものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために、鋭意研究開発を進めた結果、オキシ
ナイトライドガラスにおけるガラス基板として、好適な
均質性を与えるガラス組成領域を特定して本発明に到達
した。即ち本発明に係るハードディスク用高ヤング率ガ
ラスは、Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系、Ｃａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ
−Ｎ系、Ｍｇ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系、希土類元素-Ａ
ｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系であり、夫々のガラス組成領域は下
記の通りである。
を解決するために、鋭意研究開発を進めた結果、オキシ
ナイトライドガラスにおけるガラス基板として、好適な
均質性を与えるガラス組成領域を特定して本発明に到達
した。即ち本発明に係るハードディスク用高ヤング率ガ
ラスは、Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系、Ｃａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ
−Ｎ系、Ｍｇ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系、希土類元素-Ａ
ｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系であり、夫々のガラス組成領域は下
記の通りである。
【０００９】まずＡｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシ
ナイトライドガラスにおいては、Ａｌ、Ｓｉの金属成分
ついては、２０ｅｑ％≦Ａｌ≦３０ｅｑ％、７０ｅｑ％
≦Ｓｉ≦８０ｅｑ％、かつＡｌ＋Ｓｉ=１００ｅｑ％と
定め、Ｏ、Ｎの非金属成分については、０ｅｑ％＜Ｎ≦
３０ｅｑ％かつＯ＋Ｎ=１００ｅｑ％と定めた。
ナイトライドガラスにおいては、Ａｌ、Ｓｉの金属成分
ついては、２０ｅｑ％≦Ａｌ≦３０ｅｑ％、７０ｅｑ％
≦Ｓｉ≦８０ｅｑ％、かつＡｌ＋Ｓｉ=１００ｅｑ％と
定め、Ｏ、Ｎの非金属成分については、０ｅｑ％＜Ｎ≦
３０ｅｑ％かつＯ＋Ｎ=１００ｅｑ％と定めた。
【００１０】次にＣａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表される
オキシナイトライドガラスにおいては、Ｃａ、Ａｌ、Ｓ
ｉの金属成分ついては、図１に示される組成図における
斜線部内と定め、Ｏ、Ｎの非金属成分については、Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎと同様、０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％かつ
Ｏ＋Ｎ=１００ｅｑ％と定めた。
オキシナイトライドガラスにおいては、Ｃａ、Ａｌ、Ｓ
ｉの金属成分ついては、図１に示される組成図における
斜線部内と定め、Ｏ、Ｎの非金属成分については、Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎと同様、０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％かつ
Ｏ＋Ｎ=１００ｅｑ％と定めた。
【００１１】更にＭｇ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表される
オキシナイトライドガラスにおいては、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓ
ｉの金属成分ついては、図２に示される組成図における
斜線部内と定め、Ｏ、Ｎの非金属成分については、Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎと同様、０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％かつ
Ｏ＋Ｎ=１００ｅｑ％と定めた。
オキシナイトライドガラスにおいては、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓ
ｉの金属成分ついては、図２に示される組成図における
斜線部内と定め、Ｏ、Ｎの非金属成分については、Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎと同様、０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％かつ
Ｏ＋Ｎ=１００ｅｑ％と定めた。
【００１２】そして希土類元素を含むＲｅ−Ａｌ−Ｓｉ
−Ｏ−Ｎ（但し、Ｒｅは希土類元素を意味し、希土類元
素から選ばれた１種以上の元素を含む）で表されるオキ
シナイトライドガラスにおいては、Ｒｅ、Ａｌ、Ｓｉの
金属成分ついては、図３に示される組成図における斜線
部内と定め、Ｏ、Ｎの非金属成分については、Ａｌ−Ｓ
ｉ−Ｏ−Ｎと同様、０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％かつＯ＋
Ｎ=１００ｅｑ％と定めた。
−Ｏ−Ｎ（但し、Ｒｅは希土類元素を意味し、希土類元
素から選ばれた１種以上の元素を含む）で表されるオキ
シナイトライドガラスにおいては、Ｒｅ、Ａｌ、Ｓｉの
金属成分ついては、図３に示される組成図における斜線
部内と定め、Ｏ、Ｎの非金属成分については、Ａｌ−Ｓ
ｉ−Ｏ−Ｎと同様、０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％かつＯ＋
Ｎ=１００ｅｑ％と定めた。
【００１３】上記Ｃａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系、Ｍｇ−
Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系、希土類元素-Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−
Ｎ系の各ガラスの組成領域において、より好ましい組成
領域は下記の通りである。
Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系、希土類元素-Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−
Ｎ系の各ガラスの組成領域において、より好ましい組成
領域は下記の通りである。
【００１４】Ｃａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるオキシ
ナイトライドガラスにおいては、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｉの金
属成分については、図４に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％
≦Ｎ≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％である。
ナイトライドガラスにおいては、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｉの金
属成分については、図４に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％
≦Ｎ≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％である。
【００１５】Ｍｇ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるオキシ
ナイトライドガラスにおいては、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉの金
属成分については、図５に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％
≦Ｎ≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％である。
ナイトライドガラスにおいては、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉの金
属成分については、図５に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％
≦Ｎ≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％である。
【００１６】Ｙ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるオキシナ
イトライドガラスにおいては、Ｙ、Ａｌ、Ｓｉの金属成
分については、図６に示される組成図における斜線部内
であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％≦Ｎ
≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％である。
イトライドガラスにおいては、Ｙ、Ａｌ、Ｓｉの金属成
分については、図６に示される組成図における斜線部内
であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％≦Ｎ
≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％である。
【００１７】Ｇｄ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるオキシ
ナイトライドガラスにおいては、Ｇｄ、Ａｌ、Ｓｉの金
属成分については、図７に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％
≦Ｎ≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％である。
ナイトライドガラスにおいては、Ｇｄ、Ａｌ、Ｓｉの金
属成分については、図７に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％
≦Ｎ≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％である。
【００１８】Ｃｅ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるオキシ
ナイトライドガラスにおいては、Ｃｅ、Ａｌ、Ｓｉの金
属成分については、図８に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％
≦Ｎ≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％である。
ナイトライドガラスにおいては、Ｃｅ、Ａｌ、Ｓｉの金
属成分については、図８に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％
≦Ｎ≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％である。
【００１９】上記の様に特定されたガラスを用いること
によって、比剛性及び加工性などに優れたハードディス
ク基板が提供される。
によって、比剛性及び加工性などに優れたハードディス
ク基板が提供される。
【００２０】
【発明の実施の形態】本発明においては、オキシナイト
ライドガラスにおける窒素含有量を適切に設定すること
ができ、ヤング率向上効果を適正に発揮することができ
たので、金属成分の調節添加によって適切な比重に抑制
して、優れた比剛性を確保することができ、且つ夫々の
ガラス生成領域内で均一ガラスを生成することができる
ので、安定した加工性を発揮することができるようにな
った。
ライドガラスにおける窒素含有量を適切に設定すること
ができ、ヤング率向上効果を適正に発揮することができ
たので、金属成分の調節添加によって適切な比重に抑制
して、優れた比剛性を確保することができ、且つ夫々の
ガラス生成領域内で均一ガラスを生成することができる
ので、安定した加工性を発揮することができるようにな
った。
【００２１】本発明において非金属成分たる窒素含有量
は０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％、かつＯ＋Ｎ=１００ｅｑ
％と定めたが、窒素としては、わずかでも存在すれば良
く、好ましくは１ｅｑ％以上、より好ましくは５ｅｑ％
以上、更に好ましくは１０ｅｑ％以上配合する。
は０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％、かつＯ＋Ｎ=１００ｅｑ
％と定めたが、窒素としては、わずかでも存在すれば良
く、好ましくは１ｅｑ％以上、より好ましくは５ｅｑ％
以上、更に好ましくは１０ｅｑ％以上配合する。
【００２２】Ｃａ、Ｍｇ、Ｒｅ配合系における夫々の好
ましい量は図１〜３に示したが、この示された範囲は、
特に窒素含有量が１５ｅｑ％であるときに推奨される範
囲と理解される。
ましい量は図１〜３に示したが、この示された範囲は、
特に窒素含有量が１５ｅｑ％であるときに推奨される範
囲と理解される。
【００２３】また窒素含有量を５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅｑ
％の範囲とした場合には、Ｃａ、Ｍｇ及び希土類元素で
あるＹ、Ｇｄ、Ｃｅの配合組成をより限定して定めるこ
とによって一層優れた効果を得ることができる。
％の範囲とした場合には、Ｃａ、Ｍｇ及び希土類元素で
あるＹ、Ｇｄ、Ｃｅの配合組成をより限定して定めるこ
とによって一層優れた効果を得ることができる。
【００２４】
【実施例】表１に示した当量％の組成をもつＣａ系、Ｍ
ｇ系、Ｙ系、Ｃｅ系、Ｌａ系、Ｎｄ系およびＧｄ系の試
料を作製した。表中のＭは上記Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｃｅ、
Ｌａ、Ｎｄ、Ｇｄのいずれかであることを意味し、例え
ば実施例Ｅ−１は、Ｍとして、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｃｅ、
Ｌａ、Ｎｄ、Ｇｄのいずれかを夫々単独または合せて１
０ｅｑ％含む７個の実施例を包含する。また実施例Ｅ−
２，５，８，１２，２１，２６における「Ｍ＝０」はこ
れらの金属を含有しないもの、即ちＡｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ
で表されるオキシナイトライドガラスであることを示
す。
ｇ系、Ｙ系、Ｃｅ系、Ｌａ系、Ｎｄ系およびＧｄ系の試
料を作製した。表中のＭは上記Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｃｅ、
Ｌａ、Ｎｄ、Ｇｄのいずれかであることを意味し、例え
ば実施例Ｅ−１は、Ｍとして、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｃｅ、
Ｌａ、Ｎｄ、Ｇｄのいずれかを夫々単独または合せて１
０ｅｑ％含む７個の実施例を包含する。また実施例Ｅ−
２，５，８，１２，２１，２６における「Ｍ＝０」はこ
れらの金属を含有しないもの、即ちＡｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ
で表されるオキシナイトライドガラスであることを示
す。
【００２５】試料の作製方法は、ＣａＣＯ3、ＭｇＯ、
Ｙ2Ｏ3、ＣｅＯ2、Ｌａ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ａ
ｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＡｌＮを所定量秤量し、ボールミル
で混合、乾燥し、ＣＩＰ成形にて所定の形状物を成形し
た。その後、ＢＮ坩堝内で１７５０℃にて溶解、冷却
し、ガラスを得た。
Ｙ2Ｏ3、ＣｅＯ2、Ｌａ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ａ
ｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＡｌＮを所定量秤量し、ボールミル
で混合、乾燥し、ＣＩＰ成形にて所定の形状物を成形し
た。その後、ＢＮ坩堝内で１７５０℃にて溶解、冷却
し、ガラスを得た。
【００２６】
【表１】
【００２７】表１の組成から得られたガラスについて結
晶化の有無、発泡の有無を確認した。結果を表２に示
す。表２において、●印で示す「発泡」とは、溶解中の
ガラスの粘性が高い場合において、または溶解中に何ら
かのガス成分の発生があった場合において、ガラス中に
多量の気泡を含む発泡状態が見られることを意味する。
この気泡サイズが大きい場合には、溶解前の体積の２倍
以上に膨れ上がることもある。いずれにせよガラス中に
気泡が含まれると、これを研磨しても気泡の為に、面粗
度が向上せず、ガラスディスク材料として不適切なガラ
スとなる。また、表２において×印で示す「失透」と
は、結晶化が進んでガラスとしての透明性を失うことを
示す。
晶化の有無、発泡の有無を確認した。結果を表２に示
す。表２において、●印で示す「発泡」とは、溶解中の
ガラスの粘性が高い場合において、または溶解中に何ら
かのガス成分の発生があった場合において、ガラス中に
多量の気泡を含む発泡状態が見られることを意味する。
この気泡サイズが大きい場合には、溶解前の体積の２倍
以上に膨れ上がることもある。いずれにせよガラス中に
気泡が含まれると、これを研磨しても気泡の為に、面粗
度が向上せず、ガラスディスク材料として不適切なガラ
スとなる。また、表２において×印で示す「失透」と
は、結晶化が進んでガラスとしての透明性を失うことを
示す。
【００２８】
【表２】
【００２９】表２について説明すると、Ｅ−１、Ｅ−２
等のＳｉリッチ組成領域では、ガラス以外にＳｉＯ2相
やＳｉ2Ｎ2Ｏ相といった結晶相が析出し、比較的柔らか
いガラス相と硬い結晶相の混在となるため、面粗度が向
上しない。またこの領域はガラス粘性が高く、気泡が多
量に含まれるガラス（勿論上記結晶相も含まれる）が生
成し、研磨しても残留する気泡のために面粗度が向上し
ない。
等のＳｉリッチ組成領域では、ガラス以外にＳｉＯ2相
やＳｉ2Ｎ2Ｏ相といった結晶相が析出し、比較的柔らか
いガラス相と硬い結晶相の混在となるため、面粗度が向
上しない。またこの領域はガラス粘性が高く、気泡が多
量に含まれるガラス（勿論上記結晶相も含まれる）が生
成し、研磨しても残留する気泡のために面粗度が向上し
ない。
【００３０】Ｅ−２２などのＭリッチ領域では、Ｃａ
系、Ｍｇ系においては、Ｃａ2ＳｉＯ4＋ＣａＳｉＮ
2や、Ｍｇ2ＳｉＯ＋ＭｇＳｉＮ2結晶相が、また希土類
系（例えばＹ系）では、Ｙ4Ｓｉ2Ｏ7Ｎ2＋Ｙ2ＳｉＯ5結
晶相が夫々析出し、ガラス基板として好適でない。
系、Ｍｇ系においては、Ｃａ2ＳｉＯ4＋ＣａＳｉＮ
2や、Ｍｇ2ＳｉＯ＋ＭｇＳｉＮ2結晶相が、また希土類
系（例えばＹ系）では、Ｙ4Ｓｉ2Ｏ7Ｎ2＋Ｙ2ＳｉＯ5結
晶相が夫々析出し、ガラス基板として好適でない。
【００３１】Ｅ−３０などのＡｌリッチ領域ではコラン
ダム相（Ａｌ2Ｏ3）が析出する。
ダム相（Ａｌ2Ｏ3）が析出する。
【００３２】Ｅ−１２などのＡｌ−Ｓｉライン近傍で
は、ムライト相（Ａｌ2ＳｉＯ5）が析出し、特にＭ−１
２では気泡を多く含むガラスとなって不適切である。
は、ムライト相（Ａｌ2ＳｉＯ5）が析出し、特にＭ−１
２では気泡を多く含むガラスとなって不適切である。
【００３３】Ｅ−３１、Ｅ−３２などのＡｌ−Ｍライン
近傍では、Ｍ=ＹのときはＹＡＧ相（Ｙ3Ａｌ15Ｏ12）
が、Ｍ=Ｃａ,ＭｇのときはＣａ2ＳｉＯ4、Ｍｇ2ＳｉＯ4
が夫々析出しガラス基板として適切でない。
近傍では、Ｍ=ＹのときはＹＡＧ相（Ｙ3Ａｌ15Ｏ12）
が、Ｍ=Ｃａ,ＭｇのときはＣａ2ＳｉＯ4、Ｍｇ2ＳｉＯ4
が夫々析出しガラス基板として適切でない。
【００３４】このほかＮリッチ組成では窒化珪素（たと
えばＳｉ3Ｎ4等）が析出しガラス基板として適切でな
い。
えばＳｉ3Ｎ4等）が析出しガラス基板として適切でな
い。
【００３５】次に、Ｍ＝２０ｅｑ％、Ｓｉ＝６０ｅｑ
％、Ａｌ＝２０ｅｑ％の組成で、窒素量を１〜３５％ま
で変化させた場合のガラス生成状態を調査した。調査結
果を表３に示す。
％、Ａｌ＝２０ｅｑ％の組成で、窒素量を１〜３５％ま
で変化させた場合のガラス生成状態を調査した。調査結
果を表３に示す。
【００３６】
【表３】
【００３７】次に、Ｓｉ＝６０ｅｑ％、Ａｌ＝２０ｅｑ
％、Ｍ＝２０ｅｑ％、Ｏ＝８０ｅｑ％、Ｎ＝２０ｅｑ％
の組成で前記と同様手順でガラスを調製した。得られた
ガラスについて、ヤング率、密度、硬度、更に研磨後の
面粗度を調べた。結果を表４に示す。
％、Ｍ＝２０ｅｑ％、Ｏ＝８０ｅｑ％、Ｎ＝２０ｅｑ％
の組成で前記と同様手順でガラスを調製した。得られた
ガラスについて、ヤング率、密度、硬度、更に研磨後の
面粗度を調べた。結果を表４に示す。
【００３８】
【表４】
【００３９】表４に示すように、窒素を含むガラスはい
ずれもヤング率が高く、高速回転用ディスクとして好適
である。希土類添加系のオキシナイトライドガラスでは
ヤング率向上効果は大きいものの、密度も同時に上昇す
るという難点がある。従って比剛性の向上効果の観点か
らは、Ｃａ系、Ｍｇ系の方が好適と考えられる。また研
磨後の面粗度（Ｒａ）は、結晶相を含まない均質ガラス
であるため、Ｒａ＝３〜４Åの優れた面粗度が得られて
いる。
ずれもヤング率が高く、高速回転用ディスクとして好適
である。希土類添加系のオキシナイトライドガラスでは
ヤング率向上効果は大きいものの、密度も同時に上昇す
るという難点がある。従って比剛性の向上効果の観点か
らは、Ｃａ系、Ｍｇ系の方が好適と考えられる。また研
磨後の面粗度（Ｒａ）は、結晶相を含まない均質ガラス
であるため、Ｒａ＝３〜４Åの優れた面粗度が得られて
いる。
【００４０】次に、窒素含有量を５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅ
ｑ％の範囲とした場合のＣａ、Ｍｇ及び希土類元素であ
るＹ、Ｇｄ、Ｃｅの好適な配合組成について検討を行っ
た。
ｑ％の範囲とした場合のＣａ、Ｍｇ及び希土類元素であ
るＹ、Ｇｄ、Ｃｅの好適な配合組成について検討を行っ
た。
【００４１】表５に示した当量％の組成に、窒素を１
０、２０ｅｑ％含んだＣａ系、Ｍｇ系、Ｙ系、Ｇｄ系お
よびＣｅ系の試料を作製した。試料の作製方法は、Ｃａ
ＣＯ3、ＭｇＣＯ3、Ｙ2Ｏ3、ＣｅＯ2、Ｇｄ2Ｏ3、Ａｌ2
Ｏ3、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｏ4を所定量秤量し、ボールミルで
混合、乾燥し、ＣＩＰ成形にて所定の形状物を成形し
た。その後、ＢＮ坩堝内で１７５０℃にて溶解、冷却
し、ガラスを得た。なお表中のＭ’は上記のＣａ、Ｍ
ｇ、Ｙ、Ｇｄ、Ｃｅのいずれかであることを意味し、例
えば実施例Ｆ−１は、Ｍ’として、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｇ
ｄ、Ｃｅのいずれかを夫々単独または合せて１０ｅｑ％
含む５個の実施例を包含する。また「Ｍ’＝０」はこれ
らの金属を含有しないオキシナイトライドガラスである
ことを示す。
０、２０ｅｑ％含んだＣａ系、Ｍｇ系、Ｙ系、Ｇｄ系お
よびＣｅ系の試料を作製した。試料の作製方法は、Ｃａ
ＣＯ3、ＭｇＣＯ3、Ｙ2Ｏ3、ＣｅＯ2、Ｇｄ2Ｏ3、Ａｌ2
Ｏ3、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｏ4を所定量秤量し、ボールミルで
混合、乾燥し、ＣＩＰ成形にて所定の形状物を成形し
た。その後、ＢＮ坩堝内で１７５０℃にて溶解、冷却
し、ガラスを得た。なお表中のＭ’は上記のＣａ、Ｍ
ｇ、Ｙ、Ｇｄ、Ｃｅのいずれかであることを意味し、例
えば実施例Ｆ−１は、Ｍ’として、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｇ
ｄ、Ｃｅのいずれかを夫々単独または合せて１０ｅｑ％
含む５個の実施例を包含する。また「Ｍ’＝０」はこれ
らの金属を含有しないオキシナイトライドガラスである
ことを示す。
【００４２】
【表５】
【００４３】表５に示される組成の得られたガラスにつ
いて結晶化の有無、発泡の有無の確認および一部のガラ
ス（Ｎ＝１０ｅｑ％：Ｆ−５，１２，１４，１５，１
９，２９；Ｎ＝２０ｅｑ％：Ｆ−２，５，８，１２，１
４，１５，２３）については面粗度（Ｒａ）の測定を行
った。窒素を１０ｅｑ％含んだガラスの結果を表６に、
窒素を２０ｅｑ％含んだガラスの結果を表７にそれぞれ
示す。なお評価基準は、均質ガラスのときを「○」、結
晶または発泡が５０％未満ときを「△」、結晶または発
泡が５０％以上のときを「×」とする。
いて結晶化の有無、発泡の有無の確認および一部のガラ
ス（Ｎ＝１０ｅｑ％：Ｆ−５，１２，１４，１５，１
９，２９；Ｎ＝２０ｅｑ％：Ｆ−２，５，８，１２，１
４，１５，２３）については面粗度（Ｒａ）の測定を行
った。窒素を１０ｅｑ％含んだガラスの結果を表６に、
窒素を２０ｅｑ％含んだガラスの結果を表７にそれぞれ
示す。なお評価基準は、均質ガラスのときを「○」、結
晶または発泡が５０％未満ときを「△」、結晶または発
泡が５０％以上のときを「×」とする。
【００４４】
【表６】
【００４５】
【表７】
【００４６】次に、窒素含有量を５，２５，３０ｅｑ％
に変化させた場合のガラスの生成状態を調査した。調査
結果を表８に示す。
に変化させた場合のガラスの生成状態を調査した。調査
結果を表８に示す。
【００４７】
【表８】
【００４８】表８によれば、窒素含有量が５，２５ｅｑ
％であるＦ−３４〜Ｆ−３７では、いずれの金属元素系
ガラスでも均質なガラスが生成した。一方窒素含有量３
０ｅｑ％であるＦ−３８，Ｆ−３９では、生成したガラ
スにはいずれも５０％未満の結晶が見られた。
％であるＦ−３４〜Ｆ−３７では、いずれの金属元素系
ガラスでも均質なガラスが生成した。一方窒素含有量３
０ｅｑ％であるＦ−３８，Ｆ−３９では、生成したガラ
スにはいずれも５０％未満の結晶が見られた。
【００４９】さらに（Ｓｉ，Ａｌ，Ｍ’，Ｏ，Ｎ）＝
（５０，３０，２０，７５，２５）の組成で直径９５ｍ
ｍ×厚さ１．２ｍｍの素板を作成し、エッジ研削盤を用
いて内外径のチャンファ加工を行った。素板をキャリア
に固定し、平均粒径２０μｍのアルミナを２０ｗｔ％含
有する鋳鉄定盤を有する両面研磨機「１８Ｂ」を用い
て、回転数４０回転、研磨圧１００ｇｆ／ｃｍ2で一次
ラップを行った。次に平均粒径８μｍのアルミナを２０
ｗｔ％含有する鋳鉄定盤を用いて一次ラップと同じ条件
で二次ラップを行った。洗浄した後、硬質発泡ポリウレ
タンパットを定盤に張り付け、平均粒径２μｍの酸化セ
リウムを２０ｗｔ％含む研磨液を使用し、上記両面研磨
機を用いて、回転数３０ｒｐｍ、研磨圧２５０ｇｆ／ｃ
ｍ2の条件で一次ポリッシュを行った。簡易洗浄後、ナ
ップ層を有する軟質ポリウレタンパットを定盤に張り付
け、平均粒径１μｍの酸化セリウムを２０ｗｔ％含む研
磨液を使用し、上記両面研磨機を用いて、回転数２５ｒ
ｐｍ、研磨圧２００ｇｆ／ｃｍ 2の条件で二次ポリッシ
ュを施し、厚さ０．８ｍｍのディスクに仕上げた。この
ディスクの表面粗さを接触式表面粗さ計を用いて測定し
た。結果を表９に示す。
（５０，３０，２０，７５，２５）の組成で直径９５ｍ
ｍ×厚さ１．２ｍｍの素板を作成し、エッジ研削盤を用
いて内外径のチャンファ加工を行った。素板をキャリア
に固定し、平均粒径２０μｍのアルミナを２０ｗｔ％含
有する鋳鉄定盤を有する両面研磨機「１８Ｂ」を用い
て、回転数４０回転、研磨圧１００ｇｆ／ｃｍ2で一次
ラップを行った。次に平均粒径８μｍのアルミナを２０
ｗｔ％含有する鋳鉄定盤を用いて一次ラップと同じ条件
で二次ラップを行った。洗浄した後、硬質発泡ポリウレ
タンパットを定盤に張り付け、平均粒径２μｍの酸化セ
リウムを２０ｗｔ％含む研磨液を使用し、上記両面研磨
機を用いて、回転数３０ｒｐｍ、研磨圧２５０ｇｆ／ｃ
ｍ2の条件で一次ポリッシュを行った。簡易洗浄後、ナ
ップ層を有する軟質ポリウレタンパットを定盤に張り付
け、平均粒径１μｍの酸化セリウムを２０ｗｔ％含む研
磨液を使用し、上記両面研磨機を用いて、回転数２５ｒ
ｐｍ、研磨圧２００ｇｆ／ｃｍ 2の条件で二次ポリッシ
ュを施し、厚さ０．８ｍｍのディスクに仕上げた。この
ディスクの表面粗さを接触式表面粗さ計を用いて測定し
た。結果を表９に示す。
【００５０】
【表９】
【００５１】表９によれば、窒素含有量が５，２５ｅｑ
％であるＦ−３４〜Ｆ−３７のガラスで作製したディス
クでは、表面粗さが３〜５Åと優れた面粗度が得られ
た。一方窒素含有量が３０ｅｑ％であるＦ−３８および
Ｆ−３９のガラスで作製したディスクでは、いずれの金
属元素系のものでも表面粗さが１４Å以上と実用に適さ
ないものであった。
％であるＦ−３４〜Ｆ−３７のガラスで作製したディス
クでは、表面粗さが３〜５Åと優れた面粗度が得られ
た。一方窒素含有量が３０ｅｑ％であるＦ−３８および
Ｆ−３９のガラスで作製したディスクでは、いずれの金
属元素系のものでも表面粗さが１４Å以上と実用に適さ
ないものであった。
【００５２】次に、Ｆ−３７の組成で素板を作成し、前
記と同様の方法でディスクを作製した。得られたディス
クについて、面粗度（Ｒａ）、ヤング率、密度、硬度を
調べた。結果を表１０に示す。
記と同様の方法でディスクを作製した。得られたディス
クについて、面粗度（Ｒａ）、ヤング率、密度、硬度を
調べた。結果を表１０に示す。
【００５３】
【表１０】
【００５４】表１０に示すように、窒素含有量が２５ｅ
ｑ％であるディスクはいずれも優れた面粗度を示し、ヤ
ング率も高い値を示しており、高速回転用ディスクとし
て好適である。Ｙ、Ｇｄ、Ｃｅの希土類元素を含むオキ
シナイトライドガラスはヤング率は高い値を示すが、同
時に密度も大きな値となるため、非剛性の向上という点
からはＣａ系、Ｍｇ系のオキシナイトライドガラスが好
適である。
ｑ％であるディスクはいずれも優れた面粗度を示し、ヤ
ング率も高い値を示しており、高速回転用ディスクとし
て好適である。Ｙ、Ｇｄ、Ｃｅの希土類元素を含むオキ
シナイトライドガラスはヤング率は高い値を示すが、同
時に密度も大きな値となるため、非剛性の向上という点
からはＣａ系、Ｍｇ系のオキシナイトライドガラスが好
適である。
【００５５】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の記録媒体用
高比剛性ガラスによれば、特定の成分範囲内のオキシナ
イトライドガラスを用いることによって、高ヤング率
で、しかもディスクとして好適な均質ガラス基板を得る
ことができ、ハードディスクの高記録密度、高転送速
度、高速回転化のニーズに対応できる。
高比剛性ガラスによれば、特定の成分範囲内のオキシナ
イトライドガラスを用いることによって、高ヤング率
で、しかもディスクとして好適な均質ガラス基板を得る
ことができ、ハードディスクの高記録密度、高転送速
度、高速回転化のニーズに対応できる。
【図１】０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％の場合のＣａ−Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＣａ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＣａ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
【図２】０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％の場合のＭｇ−Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＭｇ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＭｇ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
【図３】０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％の場合のＲｅ−Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＲｅ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＲｅ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
【図４】５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅｑ％の場合のＣａ−Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＣａ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＣａ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
【図５】５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅｑ％の場合のＭｇ−Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＭｇ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＭｇ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
【図６】５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅｑ％の場合のＹ−Ａｌ−
Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスにお
けるＹ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスにお
けるＹ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
【図７】５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅｑ％の場合のＧｄ−Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＧｄ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＧｄ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
【図８】５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅｑ％の場合のＣｅ−Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＣｅ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＣｅ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の組成図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 國井 一孝 神戸市西区高塚台１丁目５番５号 株式会 社神戸製鋼所神戸総合技術研究所内 (72)発明者 川中 岳穂 神戸市西区高塚台１丁目５番５号 株式会 社神戸製鋼所神戸総合技術研究所内
Claims (10)
- 【請求項１】 Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナ
イトライドガラスにおいて、Ａｌ、Ｓｉの金属成分つい
ては、２０ｅｑ％≦Ａｌ≦３０ｅｑ％、７０ｅｑ％≦Ｓ
ｉ≦８０ｅｑ％、かつＡｌ＋Ｓｉ=１００ｅｑ％であ
り、Ｏ、Ｎの非金属成分については、０ｅｑ％＜Ｎ≦３
０ｅｑ％かつＯ＋Ｎ=１００ｅｑ％であることを特徴と
する記録媒体用高比剛性ガラス。 - 【請求項２】 Ｃａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオ
キシナイトライドガラスにおいて、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｉの
金属成分ついては、図１に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、０ｅｑ％
＜Ｎ≦３０ｅｑ％かつＯ＋Ｎ=１００ｅｑ％であること
を特徴とする記録媒体用高比剛性ガラス。 - 【請求項３】 Ｍｇ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオ
キシナイトライドガラスにおいて、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉの
金属成分ついては、図２に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、０ｅｑ％
＜Ｎ≦３０ｅｑ％かつＯ＋Ｎ=１００ｅｑ％であること
を特徴とする記録媒体用高比剛性ガラス。 - 【請求項４】 Ｒｅ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（但し、Ｒｅ
は希土類元素を意味し、希土類元素から選ばれた１種以
上の元素を含む）で表されるオキシナイトライドガラス
において、Ｒｅ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分ついては、図３
に示される組成図における斜線部内であり、Ｏ、Ｎの非
金属成分については、０ｅｑ％＜Ｎ≦３０ｅｑ％かつＯ
＋Ｎ=１００ｅｑ％であることを特徴とする記録媒体用
高比剛性ガラス。 - 【請求項５】 Ｃａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるオキ
シナイトライドガラスにおいて、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｉの金
属成分については、図４に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％
≦Ｎ≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％であるこ
とを特徴とする記録媒体用高比剛性ガラス。 - 【請求項６】 Ｍｇ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるオキ
シナイトライドガラスにおいて、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉの金
属成分については、図５に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％
≦Ｎ≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％であるこ
とを特徴とする記録媒体用高比剛性ガラス。 - 【請求項７】 Ｙ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるオキシ
ナイトライドガラスにおいて、Ｙ、Ａｌ、Ｓｉの金属成
分については、図６に示される組成図における斜線部内
であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％≦Ｎ
≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％であることを
特徴とする記録媒体用高比剛性ガラス。 - 【請求項８】 Ｇｄ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるオキ
シナイトライドガラスにおいて、Ｇｄ、Ａｌ、Ｓｉの金
属成分については、図７に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％
≦Ｎ≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％であるこ
とを特徴とする記録媒体用高比剛性ガラス。 - 【請求項９】 Ｃｅ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるオキ
シナイトライドガラスにおいて、Ｃｅ、Ａｌ、Ｓｉの金
属成分については、図８に示される組成図における斜線
部内であり、Ｏ、Ｎの非金属成分については、５ｅｑ％
≦Ｎ≦２５ｅｑ％、且つＯ＋Ｎ＝１００ｅｑ％であるこ
とを特徴とする記録媒体用高比剛性ガラス。 - 【請求項１０】 請求項１〜９のいずれかに記載された
ガラスを用いたハードディスク基板。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11096987A JP2000169181A (ja) | 1998-09-30 | 1999-04-02 | 記録媒体用高比剛性ガラス及び該ガラスを用いたハ―ドディスク基板 |
| US09/395,186 US6329309B1 (en) | 1998-09-30 | 1999-09-14 | Glass with high specific rigidity for recording medium |
| MYPI99004148A MY126539A (en) | 1998-09-30 | 1999-09-24 | Glass with high specific rigidity for recording medium |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-279038 | 1998-09-30 | ||
| JP27903898 | 1998-09-30 | ||
| JP11096987A JP2000169181A (ja) | 1998-09-30 | 1999-04-02 | 記録媒体用高比剛性ガラス及び該ガラスを用いたハ―ドディスク基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000169181A true JP2000169181A (ja) | 2000-06-20 |
Family
ID=26438124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11096987A Withdrawn JP2000169181A (ja) | 1998-09-30 | 1999-04-02 | 記録媒体用高比剛性ガラス及び該ガラスを用いたハ―ドディスク基板 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6329309B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000169181A (ja) |
| MY (1) | MY126539A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008262675A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-30 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板 |
| WO2011058969A1 (ja) * | 2009-11-10 | 2011-05-19 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
| WO2012043214A1 (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-05 | コニカミノルタオプト株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6821653B2 (en) * | 2000-09-12 | 2004-11-23 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Magnetic recording medium, process for producing the same, and magnetic recording and reproducing apparatus |
| CA2454068A1 (en) | 2001-08-02 | 2003-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Al2o3-rare earth oxide-zro2/hfo2 materials, and methods of making and using the same |
| ES2295396T3 (es) | 2001-08-02 | 2008-04-16 | 3M Innovative Properties Company | Metodo para fabricar articulos a partir de vidrio y articulos vitroceramicos asi producidos. |
| TWI318198B (en) * | 2002-03-11 | 2009-12-11 | Tosoh Corp | Highly durable silica glass, process for producing same, member comprised thereof, and apparatus provided therewith |
| JP3922452B2 (ja) * | 2002-05-10 | 2007-05-30 | 日本碍子株式会社 | 接合体、高圧放電灯用組み立て体および高圧放電灯 |
| US8056370B2 (en) | 2002-08-02 | 2011-11-15 | 3M Innovative Properties Company | Method of making amorphous and ceramics via melt spinning |
| SE0300056D0 (sv) * | 2003-01-14 | 2003-01-14 | Morph A | New glass material |
| US7332453B2 (en) * | 2004-07-29 | 2008-02-19 | 3M Innovative Properties Company | Ceramics, and methods of making and using the same |
| JP2008056533A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 石英ガラス及びその製造方法 |
| US20200123042A1 (en) * | 2018-10-19 | 2020-04-23 | Lifeport, Llc F/K/A Lifeport, Inc. | Oxynitride glass, its use, and methods of making |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4070198A (en) * | 1976-03-05 | 1978-01-24 | Corning Glass Works | SiO2 -Al2 O3 -N glass for production of oxynitride glass-ceramics |
| US4097295A (en) * | 1976-10-26 | 1978-06-27 | Corning Glass Works | Silica-alumina-nitrogen containing glasses for production of glass-ceramics |
| US4304602A (en) * | 1980-09-08 | 1981-12-08 | Corning Glass Works | MgO-Containing oxynitride glasses and glass-ceramics |
| FR2571172B1 (fr) * | 1984-10-02 | 1989-06-30 | Centre Nat Rech Scient | Verres neutrophages au gadolinium et leur procede de preparation. |
| US4609631A (en) * | 1985-09-12 | 1986-09-02 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Oxynitride glass fibers |
| EP0293105B1 (en) * | 1987-05-28 | 1993-04-21 | Shimadzu Corporation | Oxynitride glass and fibers thereof |
| US4940678A (en) * | 1989-07-27 | 1990-07-10 | Corning Incorporated | Rare earth oxynitride glasses |
| FR2653113B1 (fr) * | 1989-10-18 | 1994-03-04 | Ceramiques Composites | Compositions verrieres oxyazotees, leurs precurseurs et leur application a la preparation de compositions vitroceramiques et de materiaux composites. |
| JP2516553B2 (ja) | 1993-05-19 | 1996-07-24 | 株式会社オハラ | 磁気ディスク用結晶化ガラスおよびその製造方法 |
| JP3425701B2 (ja) * | 1993-10-14 | 2003-07-14 | 株式会社島津製作所 | 窒素含有ガラス、その製造法およびガラス繊維 |
| JP2628460B2 (ja) | 1994-10-07 | 1997-07-09 | 株式会社オハラ | 磁気ディスク基板およびその製造方法 |
| JP2962657B2 (ja) | 1995-02-15 | 1999-10-12 | 株式会社オハラ | 磁気ディスク用結晶化ガラス表面の欠陥検出方法 |
| JP3078230B2 (ja) | 1996-06-11 | 2000-08-21 | ホーヤ株式会社 | 記録媒体用ガラス基板、該基板を用いた磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JP3561095B2 (ja) | 1996-09-03 | 2004-09-02 | 京セラ株式会社 | 糸条張力調整装置 |
-
1999
- 1999-04-02 JP JP11096987A patent/JP2000169181A/ja not_active Withdrawn
- 1999-09-14 US US09/395,186 patent/US6329309B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-24 MY MYPI99004148A patent/MY126539A/en unknown
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008262675A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-30 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板 |
| WO2011058969A1 (ja) * | 2009-11-10 | 2011-05-19 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
| JP2012064295A (ja) * | 2009-11-10 | 2012-03-29 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
| CN102714042A (zh) * | 2009-11-10 | 2012-10-03 | 昭和电工株式会社 | 磁记录介质用玻璃基板的制造方法 |
| WO2012043214A1 (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-05 | コニカミノルタオプト株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体 |
| US8938990B2 (en) | 2010-09-30 | 2015-01-27 | Hoya Corporation | Method for producing glass substrate for information storage medium, and information storage medium |
| JP5695068B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2015-04-01 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20010056029A1 (en) | 2001-12-27 |
| US6329309B1 (en) | 2001-12-11 |
| MY126539A (en) | 2006-10-31 |
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