JP2000143342A - 誘電体磁器組成物およびこれを用いた積層セラミックコンデンサ - Google Patents
誘電体磁器組成物およびこれを用いた積層セラミックコンデンサInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は非酸化性雰囲気中の焼成においても
安定した電気特性の得られる積層セラミックコンデンサ
用の誘電体磁器組成物を提供することを目的とするもの
である。 【解決手段】 一般式として、ｘ（ＭｇmＣａ1-m）Ｏ−
ｙ（ＴｉnＺｒ1-n）Ｏ 2−ｚＰｒ2Ｏ3（但しｘ＋ｙ＋ｚ
＝１）で表される三成分系組成において、ａ（ｘ＝０．
４９、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．０１）、ｂ（ｘ＝０．２
５、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．２５）、ｃ（ｘ＝０．９
７、ｙ＝０．０２、ｚ＝０．０１）で囲まれた組成（但
し、ｍは０．３０≦ｍ≦０．７０、ｎは０．７０≦ｎ≦
０．９０の範囲）１００ｗｔ％に対し、添加物としてＢ
ａＳｉＯ3、ＭｇＳｉＯ3、ＣａＳｉＯ3の群より選ばれ
た一つを０．０５〜３．００ｗｔ％、更にＶ2Ｏ5を０．
０５〜０．３０ｗｔ％添加する。（尚、ｘ、ｙ、ｍ、ｎ
はモル比を表す）
安定した電気特性の得られる積層セラミックコンデンサ
用の誘電体磁器組成物を提供することを目的とするもの
である。 【解決手段】 一般式として、ｘ（ＭｇmＣａ1-m）Ｏ−
ｙ（ＴｉnＺｒ1-n）Ｏ 2−ｚＰｒ2Ｏ3（但しｘ＋ｙ＋ｚ
＝１）で表される三成分系組成において、ａ（ｘ＝０．
４９、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．０１）、ｂ（ｘ＝０．２
５、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．２５）、ｃ（ｘ＝０．９
７、ｙ＝０．０２、ｚ＝０．０１）で囲まれた組成（但
し、ｍは０．３０≦ｍ≦０．７０、ｎは０．７０≦ｎ≦
０．９０の範囲）１００ｗｔ％に対し、添加物としてＢ
ａＳｉＯ3、ＭｇＳｉＯ3、ＣａＳｉＯ3の群より選ばれ
た一つを０．０５〜３．００ｗｔ％、更にＶ2Ｏ5を０．
０５〜０．３０ｗｔ％添加する。（尚、ｘ、ｙ、ｍ、ｎ
はモル比を表す）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はニッケルなどの卑金
属で内部電極を形成する温度補償用の積層セラミックコ
ンデンサに用いる誘電体磁器組成物およびこれを用いた
積層セラミックコンデンサに関するものである。
属で内部電極を形成する温度補償用の積層セラミックコ
ンデンサに用いる誘電体磁器組成物およびこれを用いた
積層セラミックコンデンサに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の積層セラミックコンデンサは、公
知の積層セラミックコンデンサの製造方法にしたがっ
て、誘電体磁器組成物を主成分とするセラミック層グリ
ーンシートと内部電極層を交互に複数層積層したグリー
ン積層体を、所定のグリーンチップ形状に切断した後所
定温度で焼成を行い、得られた焼結体の端面に露出した
内部電極と電気的に接続するように焼結体の端面部に外
部電極を形成する方法が一般的に行われている。
知の積層セラミックコンデンサの製造方法にしたがっ
て、誘電体磁器組成物を主成分とするセラミック層グリ
ーンシートと内部電極層を交互に複数層積層したグリー
ン積層体を、所定のグリーンチップ形状に切断した後所
定温度で焼成を行い、得られた焼結体の端面に露出した
内部電極と電気的に接続するように焼結体の端面部に外
部電極を形成する方法が一般的に行われている。
【０００３】しかしながら近年、積層セラミックコンデ
ンサの大容量、高積層化に伴い内部電極にニッケル等の
卑金属を用いたグリーンチップを非酸化性雰囲気中で焼
結を行う方法が主流となってきている。
ンサの大容量、高積層化に伴い内部電極にニッケル等の
卑金属を用いたグリーンチップを非酸化性雰囲気中で焼
結を行う方法が主流となってきている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の積層セラミック
コンデンサを非酸化性雰囲気で焼成を行うのは、ニッケ
ル等の卑金属内部電極の酸化を防ぐためである。しかし
ながら積層セラミックコンデンサの内、温度補償用の積
層セラミックコンデンサに用いる誘電体磁器組成物は、
一般的に主成分のＭｇＴｉＯ3、ＣａＴｉＯ3に希土類酸
化物を添加した組成が多く、この材料は非酸化性雰囲気
で焼成すると主成分中の酸化チタンが還元され易く、半
導体化して絶縁抵抗が低くなると共に所望の誘電体特性
が得られないという課題を有していた。
コンデンサを非酸化性雰囲気で焼成を行うのは、ニッケ
ル等の卑金属内部電極の酸化を防ぐためである。しかし
ながら積層セラミックコンデンサの内、温度補償用の積
層セラミックコンデンサに用いる誘電体磁器組成物は、
一般的に主成分のＭｇＴｉＯ3、ＣａＴｉＯ3に希土類酸
化物を添加した組成が多く、この材料は非酸化性雰囲気
で焼成すると主成分中の酸化チタンが還元され易く、半
導体化して絶縁抵抗が低くなると共に所望の誘電体特性
が得られないという課題を有していた。
【０００５】本発明は非酸化性雰囲気中の焼成において
も、安定した電気特性の得られる誘電体磁器組成物およ
びこれを用いた積層セラミックコンデンサを提供するこ
とを目的とするものである。
も、安定した電気特性の得られる誘電体磁器組成物およ
びこれを用いた積層セラミックコンデンサを提供するこ
とを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明は、一般式として、ｘ（ＭｇmＣａ1-m）Ｏ−ｙ
（ＴｉnＺｒ1-n）Ｏ2−ｚＰｒ2Ｏ3（但しｘ＋ｙ＋ｚ＝
１）で表される三成分系組成において、ａ（ｘ＝０．４
９、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．０１）、ｂ（ｘ＝０．２
５、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．２５）、ｃ（ｘ＝０．９
７、ｙ＝０．０２、ｚ＝０．０１）で囲まれた組成（但
し、ｍは０．３０≦ｍ≦０．７０、ｎは０．７０≦ｎ≦
０．９０の範囲）１００ｗｔ％に対し、添加物としてＢ
ａＳｉＯ3、ＭｇＳｉＯ3、ＣａＳｉＯ3の群より選ばれ
た一つを０．０５〜３．００ｗｔ％、更にＶ2Ｏ5を０．
０５〜０．３０ｗｔ％添加した組成としたものである。
本発明は、一般式として、ｘ（ＭｇmＣａ1-m）Ｏ−ｙ
（ＴｉnＺｒ1-n）Ｏ2−ｚＰｒ2Ｏ3（但しｘ＋ｙ＋ｚ＝
１）で表される三成分系組成において、ａ（ｘ＝０．４
９、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．０１）、ｂ（ｘ＝０．２
５、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．２５）、ｃ（ｘ＝０．９
７、ｙ＝０．０２、ｚ＝０．０１）で囲まれた組成（但
し、ｍは０．３０≦ｍ≦０．７０、ｎは０．７０≦ｎ≦
０．９０の範囲）１００ｗｔ％に対し、添加物としてＢ
ａＳｉＯ3、ＭｇＳｉＯ3、ＣａＳｉＯ3の群より選ばれ
た一つを０．０５〜３．００ｗｔ％、更にＶ2Ｏ5を０．
０５〜０．３０ｗｔ％添加した組成としたものである。
【０００７】この構成により、非酸化性雰囲気中の焼成
においても電気特性の安定したものが得られることにな
る。
においても電気特性の安定したものが得られることにな
る。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、一般式として、ｘ（ＭｇmＣａ1-m）Ｏ−ｙ（Ｔｉn
Ｚｒ1-n）Ｏ2−ｚＰｒ2Ｏ3（但しｘ＋ｙ＋ｚ＝１）で表
される三成分系組成において、ａ（ｘ＝０．４９、ｙ＝
０．５０、ｚ＝０．０１）、ｂ（ｘ＝０．２５、ｙ＝
０．５０、ｚ＝０．２５）、ｃ（ｘ＝０．９７、ｙ＝
０．０２、ｚ＝０．０１）で囲まれた組成（但し、ｍは
０．３０≦ｍ≦０．７０、ｎは０．７０≦ｎ≦０．９０
の範囲）１００ｗｔ％に対し、添加物としてＢａＳｉＯ
3、ＭｇＳｉＯ3、ＣａＳｉＯ3の群より選ばれた一つを
０．０５〜３．００ｗｔ％、更にＶ2Ｏ5を０．０５〜
０．３０ｗｔ％添加した誘電体磁器組成物である。一般
式が、ｘ（ＭｇmＣａ1-m）Ｏ−ｙ（ＴｉnＺｒ1-n）Ｏ2
−ｚＰｒ2Ｏ3（但しｘ＋ｙ＋ｚ＝１）で表され、しかも
ａ（ｘ＝０．４９、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．０１）、ｂ
（ｘ＝０．２５、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．２５）、ｃ
（ｘ＝０．９７、ｙ＝０．０２、ｚ＝０．０１）で囲ま
れた本発明の三成分系材料組成は、ＭｇＯ、ＣａＯ、Ｐ
ｒ2Ｏ3のモル比の和（ｘ＋ｚ）が、常にＴｉＯ2、Ｚｒ
Ｏ2のモル比の和（ｙ）と等しいか又は大きくなるよう
に組成範囲を規定したものである。この組成にＶ2Ｏ5を
０．０５〜０．３０ｗｔ％添加することにより、非酸化
性雰囲気中で焼成を行ってもＶ2Ｏ5がＴｉＯ2の還元を
防止し、絶縁抵抗が大きく、しかも設計値通りの容量温
度係数の小さい焼結体が得られる。従ってニッケル等の
卑金属を内部電極に用いる温度補償用積層セラミックコ
ンデンサの誘電体磁器組成物として好適なものである。
また更に、還元されやすいＴｉＯ2の一部をＺｒＯ2で置
換することで、更に耐還元性を向上させることができ
る。一方ＢａＳｉＯ3、ＭｇＳｉＯ3、ＣａＳｉＯ3の群
より選ばれた一つを０．０５〜３．００ｗｔ％添加する
ことにより、これらが焼結助材として焼結性を促進しＱ
E、絶縁抵抗の高い優れた焼結体を得ることができるも
のである。
は、一般式として、ｘ（ＭｇmＣａ1-m）Ｏ−ｙ（Ｔｉn
Ｚｒ1-n）Ｏ2−ｚＰｒ2Ｏ3（但しｘ＋ｙ＋ｚ＝１）で表
される三成分系組成において、ａ（ｘ＝０．４９、ｙ＝
０．５０、ｚ＝０．０１）、ｂ（ｘ＝０．２５、ｙ＝
０．５０、ｚ＝０．２５）、ｃ（ｘ＝０．９７、ｙ＝
０．０２、ｚ＝０．０１）で囲まれた組成（但し、ｍは
０．３０≦ｍ≦０．７０、ｎは０．７０≦ｎ≦０．９０
の範囲）１００ｗｔ％に対し、添加物としてＢａＳｉＯ
3、ＭｇＳｉＯ3、ＣａＳｉＯ3の群より選ばれた一つを
０．０５〜３．００ｗｔ％、更にＶ2Ｏ5を０．０５〜
０．３０ｗｔ％添加した誘電体磁器組成物である。一般
式が、ｘ（ＭｇmＣａ1-m）Ｏ−ｙ（ＴｉnＺｒ1-n）Ｏ2
−ｚＰｒ2Ｏ3（但しｘ＋ｙ＋ｚ＝１）で表され、しかも
ａ（ｘ＝０．４９、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．０１）、ｂ
（ｘ＝０．２５、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．２５）、ｃ
（ｘ＝０．９７、ｙ＝０．０２、ｚ＝０．０１）で囲ま
れた本発明の三成分系材料組成は、ＭｇＯ、ＣａＯ、Ｐ
ｒ2Ｏ3のモル比の和（ｘ＋ｚ）が、常にＴｉＯ2、Ｚｒ
Ｏ2のモル比の和（ｙ）と等しいか又は大きくなるよう
に組成範囲を規定したものである。この組成にＶ2Ｏ5を
０．０５〜０．３０ｗｔ％添加することにより、非酸化
性雰囲気中で焼成を行ってもＶ2Ｏ5がＴｉＯ2の還元を
防止し、絶縁抵抗が大きく、しかも設計値通りの容量温
度係数の小さい焼結体が得られる。従ってニッケル等の
卑金属を内部電極に用いる温度補償用積層セラミックコ
ンデンサの誘電体磁器組成物として好適なものである。
また更に、還元されやすいＴｉＯ2の一部をＺｒＯ2で置
換することで、更に耐還元性を向上させることができ
る。一方ＢａＳｉＯ3、ＭｇＳｉＯ3、ＣａＳｉＯ3の群
より選ばれた一つを０．０５〜３．００ｗｔ％添加する
ことにより、これらが焼結助材として焼結性を促進しＱ
E、絶縁抵抗の高い優れた焼結体を得ることができるも
のである。
【０００９】本発明の請求項２に記載の発明は、請求項
１に記載の誘電体磁器組成物の主成分ｘ（ＭｇmＣ
ａ1-m）Ｏ−ｙ（ＴｉnＺｒ1-n）Ｏ2−ｚＰｒ2Ｏ3（但し
ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）で表される三成分系組成において、ａ
（ｘ＝０．４９、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．０１）、ｂ
（ｘ＝０．２５、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．２５）、ｃ
（ｘ＝０．９７、ｙ＝０．０２、ｚ＝０．０１）で囲ま
れた組成（但し、ｍは０．３０≦ｍ≦０．７０、ｎは
０．７０≦ｎ≦０．９０の範囲）１００ｗｔ％に対し、
更にＡｌ2Ｏ3を２．０ｗｔ％以下、ＭｎＯ2を０．５ｗ
ｔ％以下（但し、両方とも同時に０は除く）を添加した
請求項１に記載の誘電体磁器組成物である（尚ｘ、ｙ、
ｍ、ｎはモル比を表す）。前記組成に対しＡｌ2Ｏ3及び
ＭｎＯ2を添加することにより焼結性を更に向上させ
る。特にＭｎＯ2はＴｉＯ2の還元を防ぎ、絶縁抵抗をよ
り高いものとする効果がある。
１に記載の誘電体磁器組成物の主成分ｘ（ＭｇmＣ
ａ1-m）Ｏ−ｙ（ＴｉnＺｒ1-n）Ｏ2−ｚＰｒ2Ｏ3（但し
ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）で表される三成分系組成において、ａ
（ｘ＝０．４９、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．０１）、ｂ
（ｘ＝０．２５、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．２５）、ｃ
（ｘ＝０．９７、ｙ＝０．０２、ｚ＝０．０１）で囲ま
れた組成（但し、ｍは０．３０≦ｍ≦０．７０、ｎは
０．７０≦ｎ≦０．９０の範囲）１００ｗｔ％に対し、
更にＡｌ2Ｏ3を２．０ｗｔ％以下、ＭｎＯ2を０．５ｗ
ｔ％以下（但し、両方とも同時に０は除く）を添加した
請求項１に記載の誘電体磁器組成物である（尚ｘ、ｙ、
ｍ、ｎはモル比を表す）。前記組成に対しＡｌ2Ｏ3及び
ＭｎＯ2を添加することにより焼結性を更に向上させ
る。特にＭｎＯ2はＴｉＯ2の還元を防ぎ、絶縁抵抗をよ
り高いものとする効果がある。
【００１０】本発明の請求項３に記載の発明は、請求項
１及び請求項２に記載の誘電体磁器組成物からなるセラ
ミック層と、ニッケル等の卑金属の内部電極で構成した
積層セラミックコンデンサである。請求項１及び請求項
２に記載の耐還元性誘電体磁器組成物でセラミック層を
構成することによって、ニッケル等の卑金属を内部電極
に用いた積層セラミックコンデンサが非酸化性雰囲気中
での焼成が可能となり、ＱE、絶縁抵抗が共に高く、し
かも静電容量温度係数の小さい優れた温度補償用の積層
セラミックコンデンサを得ることができるものである。
１及び請求項２に記載の誘電体磁器組成物からなるセラ
ミック層と、ニッケル等の卑金属の内部電極で構成した
積層セラミックコンデンサである。請求項１及び請求項
２に記載の耐還元性誘電体磁器組成物でセラミック層を
構成することによって、ニッケル等の卑金属を内部電極
に用いた積層セラミックコンデンサが非酸化性雰囲気中
での焼成が可能となり、ＱE、絶縁抵抗が共に高く、し
かも静電容量温度係数の小さい優れた温度補償用の積層
セラミックコンデンサを得ることができるものである。
【００１１】（実施の形態１）先ず、出発原料として高
純度のＭｇＯ、ＣａＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｐｒ2Ｏ3、
Ｖ2Ｏ5、ＢａＳｉＯ3粉末を（表１）〜（表５）に示す
組成比になるように秤量し、湿式混合後、脱水乾燥を行
い、得られた混合材料を高純度アルミナ質の坩堝に入
れ、空気中１１５０℃の温度で２時間仮焼を行う。
純度のＭｇＯ、ＣａＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｐｒ2Ｏ3、
Ｖ2Ｏ5、ＢａＳｉＯ3粉末を（表１）〜（表５）に示す
組成比になるように秤量し、湿式混合後、脱水乾燥を行
い、得られた混合材料を高純度アルミナ質の坩堝に入
れ、空気中１１５０℃の温度で２時間仮焼を行う。
【００１２】
【表１】
【００１３】
【表２】
【００１４】
【表３】
【００１５】
【表４】
【００１６】
【表５】
【００１７】次に、仮焼材料をゴム内張りのボールミル
の中に純水とジルコニアボールと共に入れ、湿式粉砕
後、脱水乾燥を行い温度補償用の誘電体磁器組成物を作
製した。得られた温度補償用の誘電体磁器組成物に、有
機バインダーを加え造粒後、油圧プレスを用い、成形圧
力１ton／cm2で直径１５mm、厚み０．４mmの円板を成形
した。
の中に純水とジルコニアボールと共に入れ、湿式粉砕
後、脱水乾燥を行い温度補償用の誘電体磁器組成物を作
製した。得られた温度補償用の誘電体磁器組成物に、有
機バインダーを加え造粒後、油圧プレスを用い、成形圧
力１ton／cm2で直径１５mm、厚み０．４mmの円板を成形
した。
【００１８】次いで、成形した円板をアルミナ質のサヤ
に入れ、空気中にて７００℃で２時間脱脂した後、非酸
化雰囲気中にて（表６）〜（表１０）に示す温度で２時
間焼成し焼結体を得た。
に入れ、空気中にて７００℃で２時間脱脂した後、非酸
化雰囲気中にて（表６）〜（表１０）に示す温度で２時
間焼成し焼結体を得た。
【００１９】得られた焼結体の両面に銅電極ペーストを
塗布した後、非酸化雰囲気において９００℃の温度で焼
付けた後、誘電率、ＱE、絶縁抵抗、静電容量温度係数
の測定を行い、その結果を（表６）〜（表１０）に示し
た。尚、誘電率、ＱEの測定は温度２０℃、測定電圧
１．０Ｖrms、測定周波数１ＭＨｚで行い、絶縁抵抗は
電極間にＤＣ５０Ｖを１分間印加した後の抵抗値より、
また静電容量温度係数は２０℃と１２５℃における静電
容量を測定し（数１）より求めた。
塗布した後、非酸化雰囲気において９００℃の温度で焼
付けた後、誘電率、ＱE、絶縁抵抗、静電容量温度係数
の測定を行い、その結果を（表６）〜（表１０）に示し
た。尚、誘電率、ＱEの測定は温度２０℃、測定電圧
１．０Ｖrms、測定周波数１ＭＨｚで行い、絶縁抵抗は
電極間にＤＣ５０Ｖを１分間印加した後の抵抗値より、
また静電容量温度係数は２０℃と１２５℃における静電
容量を測定し（数１）より求めた。
【００２０】
【表６】
【００２１】
【表７】
【００２２】
【表８】
【００２３】
【表９】
【００２４】
【表１０】
【００２５】
【数１】
【００２６】（表６）〜（表１０）に示すように、試料
２、４、１８、２２、２３、２６はＴｉＯ2が一部還元
され絶縁抵抗が極端に低下し、試料８、１０、１４、１
９は１３５０℃の温度で焼結不十分なためＱE、絶縁抵
抗が共に低下し、試料５、７は１３５０℃の温度で焼結
しない。さらに、試料１５は、静電容量温度係数がプラ
ス３６１ppm／℃と大きい。これに対し、試料１、３、
６、９、１１、１２、１３、１６、１７、２０、２１、
２４、２５の本発明の組成範囲内のものは、Ｑ Eが大き
く、絶縁抵抗も高く、さらに静電容量温度係数が小さい
優れた誘電体特性が得られることが明らかとなる。
２、４、１８、２２、２３、２６はＴｉＯ2が一部還元
され絶縁抵抗が極端に低下し、試料８、１０、１４、１
９は１３５０℃の温度で焼結不十分なためＱE、絶縁抵
抗が共に低下し、試料５、７は１３５０℃の温度で焼結
しない。さらに、試料１５は、静電容量温度係数がプラ
ス３６１ppm／℃と大きい。これに対し、試料１、３、
６、９、１１、１２、１３、１６、１７、２０、２１、
２４、２５の本発明の組成範囲内のものは、Ｑ Eが大き
く、絶縁抵抗も高く、さらに静電容量温度係数が小さい
優れた誘電体特性が得られることが明らかとなる。
【００２７】以下、それぞれの組成範囲を限定した理由
について述べる。はじめに、主成分のｘ、ｙ、ｚの範囲
を限定した理由について述べる。（表１）の試料２、４
のように、ＭｇＯとＣａＯ及びＰｒ2Ｏ3のモル比の和
（ｘ＋ｚ）よりも、ＴｉＯ2とＺｒＯ2のモル比の和
（ｙ）が大きい範囲、即ちｙ＞０．５０の組成は非還元
雰囲気で焼成すると、主成分のＴｉＯ2が還元され絶縁
抵抗が低く、安定した誘電体特性が得られず実用的でな
くなる。
について述べる。はじめに、主成分のｘ、ｙ、ｚの範囲
を限定した理由について述べる。（表１）の試料２、４
のように、ＭｇＯとＣａＯ及びＰｒ2Ｏ3のモル比の和
（ｘ＋ｚ）よりも、ＴｉＯ2とＺｒＯ2のモル比の和
（ｙ）が大きい範囲、即ちｙ＞０．５０の組成は非還元
雰囲気で焼成すると、主成分のＴｉＯ2が還元され絶縁
抵抗が低く、安定した誘電体特性が得られず実用的でな
くなる。
【００２８】また、試料８のようにＴｉＯ2とＺｒＯ2の
モル比の和（ｙ）が０．０１の組成は１３５０℃の焼成
では、焼結が不十分でＱE、絶縁抵抗共が低くなる。従
って、ｙの範囲は０．０２≦ｙ≦０．５０とする必要が
ある。
モル比の和（ｙ）が０．０１の組成は１３５０℃の焼成
では、焼結が不十分でＱE、絶縁抵抗共が低くなる。従
って、ｙの範囲は０．０２≦ｙ≦０．５０とする必要が
ある。
【００２９】また、試料５、７、８のように、ｚのモル
数の２倍の値がｙのモル数と等しいか又は大きくなる
と、焼結不十分か焼結が困難となり、ＱE、絶縁抵抗が
低下することがわかる。即ち、ｙ（Ｔｉ、Ｚｒ）Ｏ2と
ｚＰｒ2Ｏ3との関係において、Ｐｒ2Ｏ3のモル数ｚの２
倍が、（Ｔｉ、Ｚｒ）Ｏ2のモル数ｙより大きくなる
と、焼結が困難になることから、ｙ≧２ｚとする必要が
ある。但し、ｙの範囲は０．０２≦ｙ≦０．５０とす
る。従って、ｙの値が０．０２から０．５０の範囲で変
化すると、ｚの値は常にｙ≧２ｚを満たし０．０１〜
０．２５の範囲で変化することになる。
数の２倍の値がｙのモル数と等しいか又は大きくなる
と、焼結不十分か焼結が困難となり、ＱE、絶縁抵抗が
低下することがわかる。即ち、ｙ（Ｔｉ、Ｚｒ）Ｏ2と
ｚＰｒ2Ｏ3との関係において、Ｐｒ2Ｏ3のモル数ｚの２
倍が、（Ｔｉ、Ｚｒ）Ｏ2のモル数ｙより大きくなる
と、焼結が困難になることから、ｙ≧２ｚとする必要が
ある。但し、ｙの範囲は０．０２≦ｙ≦０．５０とす
る。従って、ｙの値が０．０２から０．５０の範囲で変
化すると、ｚの値は常にｙ≧２ｚを満たし０．０１〜
０．２５の範囲で変化することになる。
【００３０】また、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１の関係からｘの範囲
はｙ、ｚの値より必然的に決定され、本発明の主成分の
ｘ、ｙ、ｚの範囲は図１に示す点ａ、ｂ、ｃを直線で囲
まれたモル比の範囲に限定される。
はｙ、ｚの値より必然的に決定され、本発明の主成分の
ｘ、ｙ、ｚの範囲は図１に示す点ａ、ｂ、ｃを直線で囲
まれたモル比の範囲に限定される。
【００３１】次にＭｇのモル比ｍの範囲を限定した理由
は、（表２）、（表７）に示すようにｍの値が０．３０
より小さいか、または０．７０より大きい組成の試料１
０、１４は１３５０℃の焼成でも焼結不十分なために、
ＱE、絶縁抵抗が共に低下し実用的でなくなる。従っ
て、ｍの範囲は０．３０≦ｍ≦０．７０に限定する必要
がある。
は、（表２）、（表７）に示すようにｍの値が０．３０
より小さいか、または０．７０より大きい組成の試料１
０、１４は１３５０℃の焼成でも焼結不十分なために、
ＱE、絶縁抵抗が共に低下し実用的でなくなる。従っ
て、ｍの範囲は０．３０≦ｍ≦０．７０に限定する必要
がある。
【００３２】また、Ｔｉのモル比ｎの範囲を限定した理
由は、（表３）、（表８）に示す試料１５のように、ｎ
の値が０．６０の場合は静電容量温度係数がプラス方向
に極めて大きくなり、温度補償用の誘電体磁器組成物と
して実用的でなく、試料１８のようにｎの値が１．０
０、即ちＴｉＯ2１００％の場合は、非酸化雰囲気中の
焼成でＴｉＯ2が還元され、絶縁抵抗が低くなると共に
安定した誘電特性が得られなくなる。従って、ｎの値は
０．７０≦ｎ≦０．９０の範囲に限定する必要がある。
由は、（表３）、（表８）に示す試料１５のように、ｎ
の値が０．６０の場合は静電容量温度係数がプラス方向
に極めて大きくなり、温度補償用の誘電体磁器組成物と
して実用的でなく、試料１８のようにｎの値が１．０
０、即ちＴｉＯ2１００％の場合は、非酸化雰囲気中の
焼成でＴｉＯ2が還元され、絶縁抵抗が低くなると共に
安定した誘電特性が得られなくなる。従って、ｎの値は
０．７０≦ｎ≦０．９０の範囲に限定する必要がある。
【００３３】一方、添加物のＢａＳｉＯ3の添加量を限
定した理由は（表４）、（表９）に示す試料１９のよう
に添加量が零の組成は、１３５０℃の焼成においても焼
結不十分なためにＱE、絶縁抵抗が共に低下し、また、
試料２２のように添加量が３．０を超えると焼成温度を
低下する効果があるが、添加したＢａＳｉＯ3のＳｉ成
分の一部がＴｉ位置に入り込み、置換されたＴｉが還元
されてＱEと絶縁抵抗を低下させる。従って、ＢａＳｉ
Ｏ3の添加範囲は、０．２〜３．０ｗｔ％の範囲に限定
する必要がある。
定した理由は（表４）、（表９）に示す試料１９のよう
に添加量が零の組成は、１３５０℃の焼成においても焼
結不十分なためにＱE、絶縁抵抗が共に低下し、また、
試料２２のように添加量が３．０を超えると焼成温度を
低下する効果があるが、添加したＢａＳｉＯ3のＳｉ成
分の一部がＴｉ位置に入り込み、置換されたＴｉが還元
されてＱEと絶縁抵抗を低下させる。従って、ＢａＳｉ
Ｏ3の添加範囲は、０．２〜３．０ｗｔ％の範囲に限定
する必要がある。
【００３４】更に、Ｖ2Ｏ5の添加量を限定した理由は、
（表５）、（表１０）に示す試料２３のように添加量が
零の組成は、主成分のＴｉＯ2の還元を防御することが
できず、非酸化性雰囲気中の焼成でＴｉＯ2が還元さ
れ、絶縁抵抗が低下すると共に安定した誘電特性が得ら
れなくなる。また、試料２６のように添加量が０．３ｗ
ｔ％を超えると逆にＴｉＯ2を還元させ、ＱEと絶縁抵抗
を低下させるため好ましくない。この原因は定かではな
いが、Ｖ2Ｏ5がＴｉＯ2を原子価制御し半導体化するた
めと思われる。従って、Ｖ2Ｏ5の添加量は、０．０５〜
０．３ｗｔ％の範囲に限定する必要がある。
（表５）、（表１０）に示す試料２３のように添加量が
零の組成は、主成分のＴｉＯ2の還元を防御することが
できず、非酸化性雰囲気中の焼成でＴｉＯ2が還元さ
れ、絶縁抵抗が低下すると共に安定した誘電特性が得ら
れなくなる。また、試料２６のように添加量が０．３ｗ
ｔ％を超えると逆にＴｉＯ2を還元させ、ＱEと絶縁抵抗
を低下させるため好ましくない。この原因は定かではな
いが、Ｖ2Ｏ5がＴｉＯ2を原子価制御し半導体化するた
めと思われる。従って、Ｖ2Ｏ5の添加量は、０．０５〜
０．３ｗｔ％の範囲に限定する必要がある。
【００３５】（実施の形態２）実施の形態１の試料１２
の組成のＢａＳｉＯ3に替えてＭｇＳｉＯ3またはＣａＳ
ｉＯ3を（表１１）に示す組成比になるように秤量した
後、以降の工程を実施の形態１と同条件で処理し、作製
した試料について実施の形態１と同様に評価し、その結
果を（表１２）に示した。
の組成のＢａＳｉＯ3に替えてＭｇＳｉＯ3またはＣａＳ
ｉＯ3を（表１１）に示す組成比になるように秤量した
後、以降の工程を実施の形態１と同条件で処理し、作製
した試料について実施の形態１と同様に評価し、その結
果を（表１２）に示した。
【００３６】
【表１１】
【００３７】
【表１２】
【００３８】（表１２）に示すように、ＢａＳｉＯ3に
替えてＭｇＳｉＯ3を添加した試料２７〜２９、または
ＣａＳｉＯ3を添加した試料３１〜３３は、ＢａＳｉＯ3
添加の場合と同様にＱE、絶縁抵抗共に高く、しかも静
電容量温度係数が小さい優れた誘電体特性が得られるこ
とが分かる。また、ＭｇＳｉＯ3を添加した場合、Ｂａ
ＳｉＯ3の添加に比べ、より絶縁抵抗が高く、ＣａＳｉ
Ｏ3の添加はＢａＳｉＯ3の添加に比べ、よりＱEの大き
い誘電体磁器組成物が得られることが分かる。しかしな
がら何れの場合とも添加量が３ｗｔ％を超えると、焼成
温度を低下させる効果があるもののＢａＳｉＯ3と同様
に絶縁抵抗を低下させるために好ましくない。
替えてＭｇＳｉＯ3を添加した試料２７〜２９、または
ＣａＳｉＯ3を添加した試料３１〜３３は、ＢａＳｉＯ3
添加の場合と同様にＱE、絶縁抵抗共に高く、しかも静
電容量温度係数が小さい優れた誘電体特性が得られるこ
とが分かる。また、ＭｇＳｉＯ3を添加した場合、Ｂａ
ＳｉＯ3の添加に比べ、より絶縁抵抗が高く、ＣａＳｉ
Ｏ3の添加はＢａＳｉＯ3の添加に比べ、よりＱEの大き
い誘電体磁器組成物が得られることが分かる。しかしな
がら何れの場合とも添加量が３ｗｔ％を超えると、焼成
温度を低下させる効果があるもののＢａＳｉＯ3と同様
に絶縁抵抗を低下させるために好ましくない。
【００３９】（実施の形態３）実施の形態１の試料１２
の組成に、更にＡｌ2Ｏ3及びＭｎＯ2を（表１３）に示
す組成となるように秤量し、以降の工程条件を実施の形
態１と同条件で処理し、作製した試料について実施の形
態１と同様に評価しその結果を（表１４）に示した。
の組成に、更にＡｌ2Ｏ3及びＭｎＯ2を（表１３）に示
す組成となるように秤量し、以降の工程条件を実施の形
態１と同条件で処理し、作製した試料について実施の形
態１と同様に評価しその結果を（表１４）に示した。
【００４０】
【表１３】
【００４１】
【表１４】
【００４２】（表１４）に示すように、本発明のＡｌ2
Ｏ3及びＭｎＯ2を添加した試料３５〜３８と４０、４
１、４３は、ＱE、絶縁抵抗共に更に高くなり、しかも
静電容量温度係数が小さい優れた誘電体特性が得られる
ことが分かる。これに対しＡｌ 2Ｏ3の添加量が２．０ｗ
ｔ％を超える試料３９は焼結温度を低下させる効果はあ
るものの、ＱEが低下し、またＭｎＯ2の添加量が０．５
ｗｔ％を超える試料４２の焼結体は８μｍ以上の異常成
長粒子が認められ実用上好ましくない。従ってＡｌ
2Ｏ3、及びＭｎＯ2の添加は夫々２．０ｗｔ％、０．５
ｗｔ％以下（但し、両方とも同時に０は除く）に限定す
る必要があることが分かる。
Ｏ3及びＭｎＯ2を添加した試料３５〜３８と４０、４
１、４３は、ＱE、絶縁抵抗共に更に高くなり、しかも
静電容量温度係数が小さい優れた誘電体特性が得られる
ことが分かる。これに対しＡｌ 2Ｏ3の添加量が２．０ｗ
ｔ％を超える試料３９は焼結温度を低下させる効果はあ
るものの、ＱEが低下し、またＭｎＯ2の添加量が０．５
ｗｔ％を超える試料４２の焼結体は８μｍ以上の異常成
長粒子が認められ実用上好ましくない。従ってＡｌ
2Ｏ3、及びＭｎＯ2の添加は夫々２．０ｗｔ％、０．５
ｗｔ％以下（但し、両方とも同時に０は除く）に限定す
る必要があることが分かる。
【００４３】（実施の形態４）実施の形態１から実施の
形態３で作製した、本発明の誘電体磁器組成物の試料１
２、１９、２８、３２、４２、４３の各誘電体磁器組成
物に酢酸ブチル、ポリビニルブチラール、可塑剤からな
るビヒクルを加えて、公知のドクターブレード法により
厚さ３０μｍのセラミックグリーンシートを作製した。
形態３で作製した、本発明の誘電体磁器組成物の試料１
２、１９、２８、３２、４２、４３の各誘電体磁器組成
物に酢酸ブチル、ポリビニルブチラール、可塑剤からな
るビヒクルを加えて、公知のドクターブレード法により
厚さ３０μｍのセラミックグリーンシートを作製した。
【００４４】次に、得られたそれぞれの組成のセラミッ
クグリーンシートを用い、公知の積層セラミックコンデ
ンサの製造方法に従い、内部電極とセラミックグリーン
シートを交互に１５層積層したグリーン積層体を６００
ｋｇ／cm2の圧力で加圧圧着した後、１６０８タイプの
積層セラミックコンデンサのグリーンチップ形状に切断
を行った。尚、内部電極にはニッケル電極ペーストを用
いた。
クグリーンシートを用い、公知の積層セラミックコンデ
ンサの製造方法に従い、内部電極とセラミックグリーン
シートを交互に１５層積層したグリーン積層体を６００
ｋｇ／cm2の圧力で加圧圧着した後、１６０８タイプの
積層セラミックコンデンサのグリーンチップ形状に切断
を行った。尚、内部電極にはニッケル電極ペーストを用
いた。
【００４５】次いで、グリーンチップを空気中にて３５
０℃の温度で２時間脱脂した後、非酸化雰囲気中の１３
５０℃で２時間焼成を行った。
０℃の温度で２時間脱脂した後、非酸化雰囲気中の１３
５０℃で２時間焼成を行った。
【００４６】その後、得られた焼結体の内部電極が露出
した端面に外部電極を設けてそれぞれ積層セラミックコ
ンデンサを完成させた。
した端面に外部電極を設けてそれぞれ積層セラミックコ
ンデンサを完成させた。
【００４７】得られた各積層セラミックコンデンサにつ
いて静電容量、ＱE、静電容量温度係数、絶縁抵抗を、
実施の形態１と同様の方法で測定を行った。また寿命試
験として１２５℃の恒温槽中で５０Ｖの直流電圧を積層
セラミックコンデンサの外部電極間に１０００時間連続
印加を行い、その結果を（表１５）に示した。
いて静電容量、ＱE、静電容量温度係数、絶縁抵抗を、
実施の形態１と同様の方法で測定を行った。また寿命試
験として１２５℃の恒温槽中で５０Ｖの直流電圧を積層
セラミックコンデンサの外部電極間に１０００時間連続
印加を行い、その結果を（表１５）に示した。
【００４８】
【表１５】
【００４９】（表１５）から明らかなように、本発明の
範囲内の誘電体磁器組成物１２、２８、３２、４３を用
い作製した積層セラミックコンデンサは、ＱE、絶縁抵
抗が共に高く、寿命試験においても特性劣化が認められ
ないのに対し、本発明の範囲外の誘電体磁器組成物の試
料１９、４２で作製した積層セラミックコンデンサは絶
縁抵抗が低下し、しかも寿命試験においても特性劣化が
認められた。尚、特性劣化は寿命試験後の絶縁抵抗値が
１×１０10（Ω）以下に低下したものを不良としてカウ
ントした。
範囲内の誘電体磁器組成物１２、２８、３２、４３を用
い作製した積層セラミックコンデンサは、ＱE、絶縁抵
抗が共に高く、寿命試験においても特性劣化が認められ
ないのに対し、本発明の範囲外の誘電体磁器組成物の試
料１９、４２で作製した積層セラミックコンデンサは絶
縁抵抗が低下し、しかも寿命試験においても特性劣化が
認められた。尚、特性劣化は寿命試験後の絶縁抵抗値が
１×１０10（Ω）以下に低下したものを不良としてカウ
ントした。
【００５０】以上本発明の誘電体磁器組成物は、内部電
極にニッケル等の卑金属を用い積層セラミックコンデン
サグリーンチップを作製し、これを非酸化性雰囲気中で
焼成を行っても、ＱE、絶縁抵抗が共に高く、また静電
容量温度変化率の小さい、しかも寿命試験においても特
性劣化が発生しない優れた積層セラミックコンデンサが
得られることが明らかである。
極にニッケル等の卑金属を用い積層セラミックコンデン
サグリーンチップを作製し、これを非酸化性雰囲気中で
焼成を行っても、ＱE、絶縁抵抗が共に高く、また静電
容量温度変化率の小さい、しかも寿命試験においても特
性劣化が発生しない優れた積層セラミックコンデンサが
得られることが明らかである。
【００５１】また、実施の形態１から３で誘電体磁器組
成物の作製にＭｇＯ、ＣａＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｐｒ
2Ｏ3、ＢａＳｉＯ3、ＭｇＳｉＯ3、ＣａＳｉＯ3、Ｖ2Ｏ
5の粉末を使用したが、Ｍｇ−Ｃａ−Ｔｉ−Ｚｒ−Ｏの
化合物、あるいはＭｇ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｐｒの炭酸
塩、水酸化物等を本発明の組成となるように用いても、
また、主成分をあらかじめ仮焼した後、添加物を添加し
ても実施の形態と同程度の特性を得ることができる。
成物の作製にＭｇＯ、ＣａＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｐｒ
2Ｏ3、ＢａＳｉＯ3、ＭｇＳｉＯ3、ＣａＳｉＯ3、Ｖ2Ｏ
5の粉末を使用したが、Ｍｇ−Ｃａ−Ｔｉ−Ｚｒ−Ｏの
化合物、あるいはＭｇ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｐｒの炭酸
塩、水酸化物等を本発明の組成となるように用いても、
また、主成分をあらかじめ仮焼した後、添加物を添加し
ても実施の形態と同程度の特性を得ることができる。
【００５２】
【発明の効果】以上の結果に示すように、本発明の誘電
体磁器組成物は非酸化雰囲気中で焼成してもＱE及び絶
縁抵抗が共に高く、しかも静電容量温度係数の小さい優
れた誘電体特性を有する焼結体が得られ、ニッケル等の
卑金属を内部電極に用いる積層セラミックコンデンサ用
の誘電体磁器組成物として使用が可能である。特に、Ｑ
E特性が優れ、静電容量温度係数が小さいため高周波回
路などで使用する温度補償用の積層セラミックコンデン
サの誘電体磁器組成物として実用性が高いものである。
体磁器組成物は非酸化雰囲気中で焼成してもＱE及び絶
縁抵抗が共に高く、しかも静電容量温度係数の小さい優
れた誘電体特性を有する焼結体が得られ、ニッケル等の
卑金属を内部電極に用いる積層セラミックコンデンサ用
の誘電体磁器組成物として使用が可能である。特に、Ｑ
E特性が優れ、静電容量温度係数が小さいため高周波回
路などで使用する温度補償用の積層セラミックコンデン
サの誘電体磁器組成物として実用性が高いものである。
【図１】本発明の誘電体磁器組成物の範囲を示す三成分
系図
系図
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｇ 4/12 ３６１ Ｈ０１Ｇ 4/12 ３６１ Ｆターム(参考） 4G031 AA03 AA04 AA06 AA07 AA11 AA12 AA13 AA30 AA39 BA09 CA03 5E001 AB03 AC09 AE00 AE02 AE03 AE04 AF06 AH01 AH05 AH06 AH09 AJ01 AJ02 5G303 AA01 AB01 AB06 AB08 AB11 AB20 BA12 CA01 CB01 CB03 CB06 CB17 CB18 CB26 CB30 CB35 CB36 CB39
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式として、ｘ（ＭｇmＣａ1-m）Ｏ−
ｙ（ＴｉnＺｒ1-n）Ｏ 2−ｚＰｒ2Ｏ3（但しｘ＋ｙ＋ｚ
＝１）で表される三成分系組成において、ａ（ｘ＝０．
４９、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．０１）、ｂ（ｘ＝０．２
５、ｙ＝０．５０、ｚ＝０．２５）、ｃ（ｘ＝０．９
７、ｙ＝０．０２、ｚ＝０．０１）で囲まれた組成（但
し、ｍは０．３０≦ｍ≦０．７０、ｎは０．７０≦ｎ≦
０．９０の範囲）１００ｗｔ％に対し、添加物としてＢ
ａＳｉＯ3、ＭｇＳｉＯ3、ＣａＳｉＯ3の群より選ばれ
た一つを０．０５〜３．００ｗｔ％、更にＶ2Ｏ5を０．
０５〜０．３０ｗｔ％添加した誘電体磁器組成物（尚
ｘ、ｙ、ｍ、ｎはモル比を表す）。 - 【請求項２】 請求項１に記載の誘電体磁器組成物の主
成分ｘ（ＭｇmＣａ1-m）Ｏ−ｙ（ＴｉnＺｒ1-n）Ｏ2−
ｚＰｒ2Ｏ3（但しｘ＋ｙ＋ｚ＝１）で表される三成分系
組成において、ａ（ｘ＝０．４９、ｙ＝０．５０、ｚ＝
０．０１）、ｂ（ｘ＝０．２５、ｙ＝０．５０、ｚ＝
０．２５）、ｃ（ｘ＝０．９７、ｙ＝０．０２、ｚ＝
０．０１）で囲まれた組成（但し、ｍは０．３０≦ｍ≦
０．７０、ｎは０．７０≦ｎ≦０．９０の範囲）１００
ｗｔ％に対し、更にＡｌ2Ｏ3を２．０ｗｔ％以下、及び
ＭｎＯ2を０．５ｗｔ％以下（但し両方とも同時に０の
場合は除く）を添加した請求項１に記載の誘電体磁器組
成物（尚ｘ、ｙ、ｍ、ｎはモル比を表す）。 - 【請求項３】 請求項１及び請求項２に記載の誘電体磁
器組成物からなるセラミック層と、ニッケル等の卑金属
の内部電極で構成した積層セラミックコンデンサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32055798A JP3575298B2 (ja) | 1998-11-11 | 1998-11-11 | 誘電体磁器組成物およびこれを用いた積層セラミックコンデンサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32055798A JP3575298B2 (ja) | 1998-11-11 | 1998-11-11 | 誘電体磁器組成物およびこれを用いた積層セラミックコンデンサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000143342A true JP2000143342A (ja) | 2000-05-23 |
| JP3575298B2 JP3575298B2 (ja) | 2004-10-13 |
Family
ID=18122768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32055798A Expired - Lifetime JP3575298B2 (ja) | 1998-11-11 | 1998-11-11 | 誘電体磁器組成物およびこれを用いた積層セラミックコンデンサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3575298B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111925199A (zh) * | 2020-07-03 | 2020-11-13 | 成都宏科电子科技有限公司 | 一种低温烧结微波介质陶瓷材料及其制备方法 |
-
1998
- 1998-11-11 JP JP32055798A patent/JP3575298B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111925199A (zh) * | 2020-07-03 | 2020-11-13 | 成都宏科电子科技有限公司 | 一种低温烧结微波介质陶瓷材料及其制备方法 |
| CN111925199B (zh) * | 2020-07-03 | 2022-07-01 | 成都宏科电子科技有限公司 | 一种低温烧结微波介质陶瓷材料及其制备方法 |
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| JP3575298B2 (ja) | 2004-10-13 |
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