ES2806675T3 - Método de preparación de una membrana de poliamida de material compuesto - Google Patents
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- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 title claims abstract description 43
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 title claims abstract description 43
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 84
- 150000001266 acyl halides Chemical class 0.000 claims abstract description 43
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000012695 Interfacial polymerization Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims abstract description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 6
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims abstract description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 4
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000000777 acyl halide group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 49
- -1 carbonyl halides Chemical class 0.000 description 16
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- UWCPYKQBIPYOLX-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-tricarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC(C(Cl)=O)=CC(C(Cl)=O)=C1 UWCPYKQBIPYOLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001728 nano-filtration Methods 0.000 description 8
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 8
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 7
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 150000001263 acyl chlorides Chemical class 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 241000894007 species Species 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DCLMUHQKQDBIPV-UHFFFAOYSA-N 3-(3,5-dicarbonochloridoylphenyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC(C(Cl)=O)=CC(C(Cl)=O)=C1 DCLMUHQKQDBIPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012696 Interfacial polycondensation Methods 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JSYBAZQQYCNZJE-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,4-triamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C(N)=C1 JSYBAZQQYCNZJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 2
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052699 polonium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N terephthaloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical class C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 1,3-Propane sultone Chemical compound O=S1(=O)CCCO1 FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAHPQISAXRFLCL-UHFFFAOYSA-N 2,4-Diaminoanisole Chemical compound COC1=CC=C(N)C=C1N BAHPQISAXRFLCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQACMMHGSYXMHY-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dicarbonochloridoylphenoxy)acetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1C(Cl)=O LQACMMHGSYXMHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGHAPLWNJPAJDE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-bromoacetyl)oxyethyl 2-bromoacetate Chemical compound BrCC(=O)OCCOC(=O)CBr WGHAPLWNJPAJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHXWVACOZJQROG-UHFFFAOYSA-N 2-(3,5-dicarbonochloridoylanilino)acetic acid Chemical compound OC(=O)CNC1=CC(C(Cl)=O)=CC(C(Cl)=O)=C1 QHXWVACOZJQROG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVUJTTGXXGPDJC-UHFFFAOYSA-N 2-(3,5-dicarbonochloridoylphenoxy)acetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC(C(Cl)=O)=CC(C(Cl)=O)=C1 NVUJTTGXXGPDJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEOJLOOURBMYCG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-carbonochloridoylphenoxy)acetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 IEOJLOOURBMYCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEOLCATTXGIKLG-UHFFFAOYSA-N 2-(n-acetyl-3,5-dicarbonochloridoylanilino)acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(C(=O)C)C1=CC(C(Cl)=O)=CC(C(Cl)=O)=C1 YEOLCATTXGIKLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLSMJBWQMULWRH-UHFFFAOYSA-N 2-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)amino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CNC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 KLSMJBWQMULWRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWAGGKKAIHLNMM-UHFFFAOYSA-N 2-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]acetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 MWAGGKKAIHLNMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVGYFTNLXLEMAQ-UHFFFAOYSA-N 2-[3,5-dicarbonochloridoyl-N-(carboxymethyl)anilino]acetic acid Chemical compound ClC(=O)C=1C=C(C=C(C1)C(=O)Cl)N(CC(=O)O)CC(=O)O IVGYFTNLXLEMAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RPKCLSMBVQLWIN-UHFFFAOYSA-N 2-n-methylbenzene-1,2-diamine Chemical compound CNC1=CC=CC=C1N RPKCLSMBVQLWIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical class O1C(=NCC1)* 0.000 description 1
- GUABCUUAJVPSFC-UHFFFAOYSA-N 3-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 GUABCUUAJVPSFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHSYSLITQXSNBO-UHFFFAOYSA-N 3-(3,5-dicarbonochloridoyl-n-ethylanilino)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCN(CC)C1=CC(C(Cl)=O)=CC(C(Cl)=O)=C1 YHSYSLITQXSNBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPGAFNKXEIXBQU-UHFFFAOYSA-N 3-(3,5-dicarbonochloridoylanilino)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCNC1=CC(C(Cl)=O)=CC(C(Cl)=O)=C1 UPGAFNKXEIXBQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDLIZZIKXMZYGU-UHFFFAOYSA-N 3-(3,5-dicarbonochloridoylphenyl)sulfonylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS(=O)(=O)C1=CC(C(Cl)=O)=CC(C(Cl)=O)=C1 VDLIZZIKXMZYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVWURCIZTJGLEW-UHFFFAOYSA-N 3-(3-carbonochloridoylphenyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 RVWURCIZTJGLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNLWBLZSAGOSOH-UHFFFAOYSA-N 3-(3-carbonochloridoylphenyl)sulfonylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS(=O)(=O)C1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 VNLWBLZSAGOSOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTANTNVXNPVZAE-UHFFFAOYSA-N 3-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)amino]propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCNC1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 FTANTNVXNPVZAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJVVXBBQWRGHNC-UHFFFAOYSA-N 3-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)sulfonyl]benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=C1 LJVVXBBQWRGHNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQIHLFZXNNLMIC-UHFFFAOYSA-N 3-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)sulfonyl]propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS(=O)(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 UQIHLFZXNNLMIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNIZQCLFRCBEGE-UHFFFAOYSA-N 3-phenylbenzene-1,2-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(Cl)=O GNIZQCLFRCBEGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLHWSBSOPWMXEE-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dicarbonochloridoylanilino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)NC1=CC(C(Cl)=O)=CC(C(Cl)=O)=C1 SLHWSBSOPWMXEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVBOSIVUABQECI-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dicarbonochloridoylphenyl)-4-oxobutanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)C1=CC(C(Cl)=O)=CC(C(Cl)=O)=C1 FVBOSIVUABQECI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFRGPUKHAFJYDA-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carbonochloridoylphenyl)-4-oxobutanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 MFRGPUKHAFJYDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTQZPXXVZRFUEO-UHFFFAOYSA-N 4-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)amino]benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1NC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC2=O)C2=C1 MTQZPXXVZRFUEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYRSNVZCOAFZQC-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)amino]benzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(=O)O)=CC(NC(=O)C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=C1 UYRSNVZCOAFZQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical group N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000854350 Enicospilus group Species 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical group CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1CN GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003855 acyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- RPHKINMPYFJSCF-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-triamine Chemical compound NC1=CC(N)=CC(N)=C1 RPHKINMPYFJSCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAWGVVJVYSANRY-UHFFFAOYSA-N cobalt(3+) Chemical compound [Co+3] JAWGVVJVYSANRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010668 complexation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000006184 cosolvent Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XWALRFDLDRDCJG-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,1,2,2-tetracarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1(C(Cl)=O)CCC1(C(Cl)=O)C(Cl)=O XWALRFDLDRDCJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXLCHRQXLFIZNP-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,1-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1(C(Cl)=O)CCC1 LXLCHRQXLFIZNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBWUKDMYLKXAIP-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1,2-tricarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1CCCCC1(C(Cl)=O)C(Cl)=O PBWUKDMYLKXAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLCGVCXKDYTMRG-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1(C(Cl)=O)CCCCC1 MLCGVCXKDYTMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- DCXMNNZFVFSGJX-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1,2,2-tetracarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1(C(Cl)=O)CCCC1(C(Cl)=O)C(Cl)=O DCXMNNZFVFSGJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JREFGECMMPJUHM-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1,2-tricarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1CCCC1(C(Cl)=O)C(Cl)=O JREFGECMMPJUHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZFOGXKZTWZVFN-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCC1 YZFOGXKZTWZVFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- CRMQURWQJQPUMY-UHFFFAOYSA-N cyclopropane-1,1,2-tricarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1CC1(C(Cl)=O)C(Cl)=O CRMQURWQJQPUMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVXOPEOQUQWRHQ-UHFFFAOYSA-N dibutyl phosphite Chemical compound CCCCOP([O-])OCCCC BVXOPEOQUQWRHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N diethylenediamine Natural products C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Chemical group 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical group 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012035 limiting reagent Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- DUWWHGPELOTTOE-UHFFFAOYSA-N n-(5-chloro-2,4-dimethoxyphenyl)-3-oxobutanamide Chemical compound COC1=CC(OC)=C(NC(=O)CC(C)=O)C=C1Cl DUWWHGPELOTTOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUQGUKHJXFDUQF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarbonyl chloride Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(Cl)=O)C(C(=O)Cl)=CC=C21 WUQGUKHJXFDUQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSHSZIMRIAJWRM-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,3-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1CCOC1C(Cl)=O LSHSZIMRIAJWRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMPAPEKFGLKOIC-UHFFFAOYSA-N oxolane;hydrochloride Chemical compound Cl.C1CCOC1 SMPAPEKFGLKOIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000005328 phosphinyl group Chemical group [PH2](=O)* 0.000 description 1
- 125000005499 phosphonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001863 phosphorothioyl group Chemical group *P(*)(*)=S 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- LFGREXWGYUGZLY-UHFFFAOYSA-N phosphoryl Chemical group [P]=O LFGREXWGYUGZLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011020 pilot scale process Methods 0.000 description 1
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- HZEBHPIOVYHPMT-UHFFFAOYSA-N polonium atom Chemical compound [Po] HZEBHPIOVYHPMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000765 poly(2-oxazolines) Chemical class 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005619 secondary aliphatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004646 sulfenyl group Chemical group S(*)* 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical group 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N technetium atom Chemical compound [Tc] GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- XTTGYFREQJCEML-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphite Chemical group CCCCOP(OCCCC)OCCCC XTTGYFREQJCEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/56—Polyamides, e.g. polyester-amides
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0002—Organic membrane manufacture
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0002—Organic membrane manufacture
- B01D67/0006—Organic membrane manufacture by chemical reactions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0081—After-treatment of organic or inorganic membranes
- B01D67/0093—Chemical modification
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
- B01D69/125—In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction
- B01D69/1251—In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction by interfacial polymerisation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2323/00—Details relating to membrane preparation
- B01D2323/40—Details relating to membrane preparation in-situ membrane formation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
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Abstract
Un método para producir una membrana de poliamida de material compuesto que comprende un soporte poroso y una capa de poliamida de película fina, donde el método comprende la etapa de aplicar una solución polar que comprende un monómero de amina polifuncional y una solución no polar que comprende un monómero de haluro de acilo polifuncional en una superficie del soporte poroso y polimerizar, de manera interfacial, los monómeros para formar una capa de poliamida de película fina, donde el método se caracteriza por incluir al menos una de las siguientes etapas: i) llevar a cabo la polimerización interfacial en presencia de un monómero objeto, donde el monómero objeto se agrega a la solución no polar antes de la etapa de aplicación del recubrimiento de la solución no polar en el soporte poroso y la solución no polar comprende entre un 0,001 y un 0,1% en peso/volumen del monómero objeto; y/o ii) aplicar el monómero objeto en la capa de poliamida de película fina, donde el monómero objeto se aplica separadamente en la superficie del soporte poroso antes, durante o después de la conclusión de la polimerización interfacial y la solución de recubrimiento es una solución no polar y comprende una concentración del monómero objeto entre un 0,5 y un 5% en peso/volumen, donde el monómero objeto, que se distingue de los monómeros de amina y de acilo polifuncionales, está representado por la Fórmula (III): **(Ver fórmula)** donde X se selecciona de: oxígeno, amino, amida, carbonilo, sulfonilo, o no está presente; n es un número entero entre 1 y 6; Z se selecciona de haluro de acilo y anhídrido; y Z' se selecciona de haluro de acilo, anhídrido, hidrógeno y ácido carboxílico.
Description
DESCRIPCIÓN
Método de preparación de una membrana de poliamida de material compuesto
Campo técnico:
La presente invención está dirigida a membranas de poliamida de material compuesto derivadas de combinaciones de monómeros que contienen amina polifuncional, haluro de acilo polifuncional y ácido carboxílico.
Introducción:
Las membranas de poliamida de material compuesto se usan en una variedad de separaciones de fluido. Una clase común de membranas incluye un soporte poroso revestido con una capa de poliamida de «película fina». La capa de película fina puede formarse mediante una reacción de policondensación interfacial entre monómeros de amina polifuncional (por ejemplo, m-fenilenodiamina) y de haluro de acilo polifuncional (por ejemplo, cloruro trimesoilo) que se revisten secuencialmente en el soporte a partir de soluciones inmiscibles; véase por ejemplo US 4277344 a Cadotte. Se pueden agregar varios constituyentes en una o ambas soluciones de recubrimiento para mejorar el rendimiento de la membrana. Por ejemplo, US 4259183 asignada a Cadotte describe el uso de combinaciones de monómeros de haluro de acilo bi y tri funcionales, por ejemplo, cloruro isoftaloilo o cloruro tereftaloilo con cloruro trimesoilo. US 2009/0071903 describe la combinación de cloruro trimesoilo y varios monómeros como contraparte que incluyen enlaces de éter entre el cloruro de acilo y el anillo aromático. US 2011/0049055 describe la adición de porciones derivadas de haluros de sulfonilo, sulfinilo, sulfenilo, sulfurilo, fosforilo, fosfonilo, fosfinilo, tiofosforilo, tiofosfonilo y carbonilo. El documento US 6521130 describe la adición de un ácido carboxílico (por ejemplo, ácidos carboxílicos alifáticos y aromáticos) o éster de ácido carboxílico a una o ambas soluciones de recubrimiento de monómeros antes de la polimerización. De manera similar, los documentos US 6024873, US 5989426, US 5843351 y US 5576057 describen la adición de alcoholes seleccionados, éteres, cetonas, ésteres, hidrocarburos halogenados, compuestos que contienen nitrógeno y compuestos que contienen azufre que tienen parámetros de solubilidad de 8 a 14 (cal/cm3)1/2 en una de las soluciones de recubrimiento. US 2009/0107922 describe la adición de varios «reactivos limitantes de cadena» en una o ambas soluciones de recubrimiento, por ejemplo, 1,3 propano sultona, cloruro de benzoílo, 1,2 bis(bromoacetoxi) etano, etc. Los documentos US 4606943 y US 6406626 describen la formación de una poliamida de película fina mediante el uso de una amina polifuncional y un haluro de acilo polifuncional junto con un haluro anhídrido de ácido polifuncional (por ejemplo, cloruro de ácido anhídrido trimelítico). Los documentos US 2009/0272692, US 2010/0062156, US 2011/0005997, WO 2009/129354, WO 2010/120326 y WO 2010/120327 describen el uso de varios haluros de acilo polifuncionales y sus contrapartes parcialmente hidrolizadas correspondientes. El documento US 4812270 asignado a Cadotte describe el post-tratamiento de la membrana con ácido fosfórico. El documento US 5582725 describe un post-tratamiento similar con un haluro de acilo como cloruro de benzoílo.
La búsqueda continúa respecto de nuevos aditivos que mejoran el rendimiento de las membranas de poliamida de material compuesto.
Compendio:
La invención incluye un método para producir una membrana de poliamida de material compuesto que comprende un soporte poroso y una capa de poliamida de película fina, donde el método comprende la etapa de aplicar una solución polar que comprende un monómero de amina polifuncional y una solución no polar que comprende un monómero de haluro de acilo polifuncional en una superficie del soporte poroso y polimerizar de manera interfacial los monómeros para formar una capa de poliamida de película fina,
donde el método se caracteriza por incluir al menos una de las siguientes etapas:
i) llevar a cabo la polimerización interfacial en presencia de un monómero objeto, donde el monómero objeto se agrega en la solución no polar antes de la etapa de aplicación de recubrimiento de la solución no polar en el soporte poroso y la solución no polar comprende entre un 0,001 y 0,1 % en peso/volumen del monómero objeto; y/o
ii) aplicar el monómero objeto en la capa de poliamida de película fina, donde el monómero objeto se aplica de manera independiente a la superficie del soporte poroso antes, durante o después de completar la polimerización interfacial y la solución de recubrimiento es una solución no polar y comprende una concentración del monómero objeto entre un 0,5 y un 5% en peso/volumen,
donde el monómero objeto, que se distingue de los monómeros de amina y de haluro de acilo polifuncionales, está representado por la Fórmula (III):
Fórmula (III):
donde X se selecciona de: oxígeno, amino, amida, carbonilo, sulfonilo, o no está presente; n es un número entero entre 1 y 6; Z se selecciona de haluro de acilo y anhídrido; y Z’ se selecciona de haluro de acilo, anhídrido, hidrógeno y ácido carboxílico.
Descripción detallada:
La invención no se limita particularmente a un tipo, una construcción o forma específica de la membrana de material compuesto o aplicación. Por ejemplo, la presente invención es aplicable a membranas de poliamida de fibra hueca, tubular, de lámina plana útiles en una variedad de aplicaciones que incluyen las separaciones de fluido mediante ósmosis forzada (FO, por sus siglas en inglés), ósmosis inversa (RO, por sus siglas en inglés), nano filtración (NF), ultra filtración (UF), y micro filtración (MF). Sin embargo, la invención es particularmente útil para membranas diseñadas para separaciones mediante RO y NF. Las membranas de material compuesto mediante RO son relativamente impermeables a virtualmente todas las sales disueltas y típicamente rechazan más que aproximadamente un 95% de sales que tienen iones monovalentes como cloruro de sodio. Las membranas de material compuesto por RO suelen rechazar más que aproximadamente el 95% de moléculas inorgánicas, así como también moléculas orgánicas con pesos moleculares mayores que aproximadamente 100 daltons. Las membranas de material compuesto mediante NF son más permeables que las membranas de material compuesto mediante RO y típicamente rechazan menos que aproximadamente un 95% de sales que tienen iones monovalentes mientras rechazan más que aproximadamente un 50% (y en general más que un 90%) de sales que tienen iones divalentes - dependiendo de las especies del ion divalente. Las membranas de material compuesto mediante NF también suelen rechazar partículas en el intervalo del nanómetro, así como las moléculas orgánicas que tienen pesos moleculares mayores que aproximadamente 200 a 500 daltons.
Los ejemplos de membranas de poliamida de material compuesto incluyen membranas tipo FT-30™ de FilmTec Corporation, es decir, una membrana de material compuesto de lámina plana que comprende una capa inferior (lado posterior) de una red de soporte no tejida (por ejemplo, entelado PET), una capa media de un soporte poroso que tiene un espesor típico de aproximadamente 25 a 125 gm y una capa superior (lado frontal) que comprende una capa de poliamida de película fina que tiene un espesor típicamente menor que aproximadamente 1 gm, por ejemplo, entre 0,01 gm y 1 gm pero más comúnmente entre aproximadamente 0,01 y 0,1 gm. El soporte poroso es típicamente un material polimérico que tiene tamaños de poro que son de tamaño suficiente para permitir básicamente el pasaje irrestricto de permeado, pero no lo suficientemente grande como para interferir con el enlazado de una capa de poliamida de película fina formada allí. Por ejemplo, el tamaño poral del soporte oscila, preferentemente, entre aproximadamente 0,001 y 0,5 gm. Los ejemplos no limitantes de soportes porosos incluyen aquellos hechos de polisulfona, poliétersulfona, polimida, poliamida, polieterimida, poliacrilonitrilo, poli(metilmetacrilato), polietileno, polipropileno, y varios polímeros halogenados como fluoruro de polivinilideno. Para aplicaciones mediante RO y NF, el soporte poroso brinda resistencia, pero ofrece poca resistencia al flujo de fluido debido a su porosidad relativamente alta.
A raíz de su delgadez relativa, la capa de poliamida suele describirse en términos de su cobertura de recubrimiento o carga en el soporte poroso, por ejemplo, entre aproximadamente 2 y 5000 mg de poliamida por área de superficie en metros cuadrados de soporte poroso y más preferiblemente entre aproximadamente 50 y 500 mg/m2. La capa de poliamida se prepara, preferiblemente, mediante una reacción de policondensación interfacial entre un monómero de amina polifuncional y un monómero de haluro de acilo polifuncional en la superficie del soporte poroso como se describe en US 4277344 y US 6878278. Más específicamente, la capa de membrana de poliamida puede prepararse mediante la polimerización interfacial de un monómero de amina polifuncional con un monómero de haluro de acilo polifuncional (donde cada término pretende hacer referencia tanto al uso de una especie única como de múltiples especies), en al menos una superficie de un soporte poroso. Como se usa en la presente, el término «poliamida» hace referencia a un polímero en donde los enlaces amida (-C(O)NH-) se producen a lo largo de la cadena molecular. Los monómeros de amina polifuncional y haluro de acilo polifuncional se aplican más comúnmente en el soporte poroso mediante una etapa de recubrimiento a partir de una solución, donde el monómero de amina polifuncional suele revestirse a partir de una solución polar o de base acuosa y el haluro de acilo polifuncional de una solución no polar u orgánica. Aunque las etapas de recubrimiento no necesitan seguir un orden específico, el monómero de amina polifuncional se recubre en primer lugar, preferiblemente, en el soporte poroso seguido de un haluro de acilo
polifuncional. El recubrimiento se puede lograr mediante pulverización, recubrimiento con película, rodamiento, o a través del uso de un tanque de inmersión entre otras técnicas de recubrimiento. Se puede eliminar el exceso de solución existente en el soporte con el uso de cuchillo de aire, secadores, hornos y similares.
El monómero de amina polifuncional comprende al menos dos grupos amino primario o secundario y puede ser aromático (por ejemplo, m-fenilendiamina, p-fenilendiamina, 1,3,5-triaminobenceno, 1,3,4-triaminobenceno, ácido 3,5-diaminobenzoico, 2,4- diaminotolueno, 2,4-diaminoanisol, y xililenadiamina) o alifático (por ejemplo, etilendiamina, propilendiamina, y tris (2-diaminoetil) amina). Los ejemplos de monómeros de amina polifuncional preferidos incluyen aminas primarias que tienen dos o tres grupos amino, por ejemplo, m-fenilendiamina, y aminas alifáticas secundarias que tienen grupos amina como piperazina. Una amina polifuncional preferida es una m-fenilendiamina (mPD). El monómero de amina polifuncional puede aplicarse en el soporte poroso como una solución porosa. La solución polar puede contener entre aproximadamente 0,1 y aproximadamente un 20% en peso y más preferiblemente entre aproximadamente un 0,5 y aproximadamente un 6% en peso de monómero de amina polifuncional. Una vez recubierto en el soporte poroso, se puede remover el exceso de solución.
El monómero de haluro de acilo polifuncional comprende al menos dos grupos de haluro de acilo y está recubierto, preferiblemente, por un disolvente no polar u orgánico, aunque el haluro de acilo polifuncional puede producirse a partir de una fase de vapor (por ejemplo, haluros de acilo polifuncionales que tienen suficiente presión de vapor). El haluro de acilo polifuncional no está particularmente limitado y los haluros de acilo polifuncionales aromáticos o alicíclicos pueden usarse junto con combinaciones de estos. Los ejemplos no limitantes de haluros de acilo polifuncionales incluyen: cloruro de ácido trimésico, cloruro de ácido tereftálico, cloruro de ácido isoftálico, cloruro de ácido dicarboxílico bifenilo, y dicloruro de ácido dicarboxílico naftaleno. Los ejemplos no limitantes de haluros de acilo polifuncional alicíclicos incluyen: cloruro de ácido tricarboxílico ciclopropano, cloruro de ácido tetracarboxílico ciclobutano, cloruro de ácido tricarboxílico ciclopentano, cloruro de ácido tetracarboxílico ciclopentano, cloruro de ácido tricarboxílico ciclohexano, cloruro de ácido tetra carboxílico tetrahidrofurano, cloruro de ácido dicarboxílico ciclopentano, cloruro de ácido dicarboxílico ciclobutano, cloruro de ácido dicarboxílico ciclohexano, y cloruro de ácido dicarboxílico tetrahidrofurano. Un haluro de acilo polifuncional preferido es cloruro de trimesoilo (TMC). El haluro de acilo polifuncional se puede disolver en un disolvente no polar en un intervalo entre aproximadamente un 0,01 y un 10% en peso, preferiblemente entre un 0,05 y un 3% en peso y se puede entregar como parte de una operación de recubrimiento continuo. Los disolventes adecuados son aquellos que son capaces de disolver el haluro de acilo polifuncional y que son inmiscibles en agua, por ejemplo, hexano, ciclohexano, heptano e hidrocarburos halogenados como las series FREON. Los disolventes preferidos incluyen aquellos que no presentan amenazas para la capa de ozono y que son suficientemente seguros en términos de puntos de inflamación e inflamabilidad para someterse a procesamientos de rutina sin tomar precauciones especiales. Un disolvente preferido es ISOPARTM disponible de Exxon Chemical Company. Se pueden usar varios disolventes en varias combinaciones y también se pueden usar en combinación con codisolventes.
La solución no polar puede incluir materiales adicionales que incluyen co-disolventes, agentes de transferencia de fase, agentes solubilizantes y agentes de complejación donde los aditivos individuales pueden servir múltiples funciones. Los co-disolventes representativos incluyen: benceno, tolueno, xileno, mesitileno y etil benceno. US 6878278, US 6723241, US 6562266 y US 6337018 describen la adición de un amplio intervalo de agentes de complejación representativos que se pueden combinar con la solución no-polar antes de llevar a cabo la polimerización interfacial. Una clase de dichos agentes de complejación está representada por la Fórmula (I).
Fórmula (I):
Ct( ¿xP) y
donde a es un centro vinculante que no contiene azufre seleccionado de elementos que recaen dentro de: (a) Grupo IIIA-VIB (es decir, Grupos IIIA, IVA, VA, VIA, VIIA, VIIIA, IB, IIB, IIIB, IVB, VB, VIB) y (b) Períodos 3-6 (es decir, períodos que comienzan con Na, K, Rb, y Cs) de la tabla periódica convencional de la IUPAC. Los Grupos IIIA hasta VIB de la forma de tabla periódica de la IUPAC corresponden a: Grupos 3 a 16 de la tabla periódica de la IUPAC de «nueva rotación» y los Grupos IIIB-VIA de la versión CAS de la tabla periódica. Para evitar confusión otra referencia en la presente utilizará la Tabla periódica convencional de la IUPAC, es decir, el Grupo IIIA corresponde a la columna que comienza con Sc, Y, La, etc., y el Grupo VIB corresponde a la columna que comienza con O, S, Se, Te, Po. Los ejemplos específicos incluyen: (1) los siguientes metales: aluminio, escandio, titanio, vanadio, cromo, manganeso, hierro, cobalto, níquel, cobre, zinc, galio, germanio, arsénico, itrio, zirconio, niobio, molibdeno, tecnecio, rutenio, rodio, paladio, plata, cadmio, indio, estaño, antimonio, telurio, lantano, cerio, praseodimio, neodimio, prometio, samario, europio, gadolinio, terbio, disprosio, holmio, erbio, tulio, iterbio, lutecio, hafnio, tántalo, tungsteno, renio, osmio, iridio, platino, oro, mercurio, talio, plomo, bismuto (no se prefiere típicamente), y polonio; (2) los siguientes semi-conductores: silicio, selenio y germanio y (3) fósforo. Los núcleos vinculantes particularmente preferidos incluyen: Al, Si, P, As, Sb, Se y Te y metales como: Fe, Cr, Co, Ni, Cu, y Zn. L es un grupo de enlace químico opcional, igual o diferente, seleccionado de enlaces como: carbono que contiene porciones, por ejemplo, grupos aromáticos, alcanos, alquenos,--O--,--S--,--N--,- H--,--P--,--O--P--, y —O— P—O— , (cada uno de los cuales puede ser sustituido o no sustituido). B es un grupo solubilizante, igual o diferente, e incluye entre 1 y 12 átomos de carbono que pueden ser sustituidos o no sustituidos y que pueden incluir grupos de enlace diferentes como se define mediante L. Los ejemplos incluyen grupos alifáticos y areno, que tienen entre 1 y 6 átomos de carbono, grupos aromáticos, grupos heterocíclicos, y grupos alquilo,
«x» es un número entero entre 0 y 1 e «y» es un número entero entre 1 y 5, preferiblemente, entre 2 y 4. Aunque dependen de los disolventes específicos y las especies de haluro de acilo utilizadas, los siguientes agentes de complejación son generalmente útiles en la invención en cuestión: derivados trifenilo de fósforo (por ejemplo, fosfina, fosfato), bismuto, arsénico y antimonio; alcano-oxiésteres de fósforo que incluyen tributil y dibutil fosfito; complejos organo-metálicos como ferroceno y tetraetilo y complejos acetilacetonato de hierro (II), hierro (III), cobalto (III) y Cr (III). Una clase preferida de dichos agentes de complejación está representada por la Fórmula (II).
Fórmula (II):
donde «P» es fósforo, «O» es oxígeno y R1, R2 y R3 se seleccionan independientemente de porciones que contienen carbono. El término «porción que contiene carbono» significa grupos acíclicos ramificados y no ramificados, por ejemplo, metilo, etilo, propilo, isopropilo, butilo, isobutilo, pentilo, 2-pentilo, 3-pentlo, terc-butilo, etc., que pueden ser no sustituidos o sustituidos (por ejemplo, sustituidos con grupos amida, grupos éter, grupos éster, grupos sulfona, grupos carbonilo, anhídridos, cianuro, nitrilo, isocianato, uretano, éster beta-hidroxi, enlaces dobles y triples, etc.), y grupos cíclicos, por ejemplo, ciclopentilo, ciclohexilo, aromáticos, por ejemplo, fenilo, heterocíclico (por ejemplo, piridina), etc., que pueden ser sustituidos o no sustituidos (por ejemplo, sustituidos con metilo, etilo, propilo, hidroxilo, amida, éter, sulfona, carbonilo, éster, etc.). Las porciones ciclo se pueden enlazar al átomo de fósforo mediante un grupo de enlace alifático, por ejemplo, metilo, etilo, etc. Las porciones preferidas que contienen carbono incluyen grupos C1-C12 ramificados o no ramificados, no sustituidos y más preferiblemente grupos alifáticos C1-C8, como metilo, etilo, propilo, isopropilo, butilo, 2-metilo, butilo, 3-metil butilo, 2-etil butilo, pentilo, hexilo, etc. Asimismo, las porciones incluyen grupos fenilo. Cuando se utilizan los agentes de complejación anteriormente mencionados se prefieren agregados a la solución de recubrimiento orgánica o no polar que contiene el haluro acilo polifuncional en una relación con el monómero de haluro de acilo polifuncional entre aproximadamente 1:5 y 5:1 y se prefiere 1:1 y 3:1. En otra realización preferida, la concentración del agente de complejación en las soluciones de recubrimiento oscila entre aproximadamente un 0,001 y un 2% en peso.
Una vez que entran en contacto entre sí, los monómeros de haluro de acilo polifuncional y de amina polifuncional reaccionan en su interfaz de superficie para formar una capa o película de poliamida. Esta capa, denominada comúnmente «capa discriminadora» de poliamida o «capa de película fina», le brinda a la membrana de material compuesto su medio principal para separar soluto (por ejemplo, sales) del disolvente (por ejemplo, alimentación acuosa).
El período de reacción del monómero de haluro polifuncional y de amina polifuncional puede ser menor que un segundo, pero los tiempos de contacto oscilan, generalmente entre aproximadamente 1 y 60 segundos, después de lo cual se puede remover el exceso de líquido mediante un cuchillo de aire, baños de agua, un secador o similar. La eliminación del exceso de disolvente se puede lograr secándolo a temperaturas elevadas, por ejemplo, entre aproximadamente 40°C y aproximadamente 120°C aunque se puede usar aire que se seca a temperatura ambiente.
El método objeto incluye la etapa de aplicar una solución polar que comprende un monómero de amina polifuncional y una solución no polar que comprende un monómero de haluro de acilo polifuncional en una superficie del soporte poroso y polimerizar de manera interfacial los monómeros para formar una capa de poliamida de película fina. El método objeto se caracteriza por incluir al menos una de las siguientes etapas: i) llevar a cabo la polimerización interfacial en presencia de un monómero «objeto» adicional, donde el monómero objeto se agrega en la solución no polar antes de la etapa de aplicación del recubrimiento de la solución no polar en el soporte poroso y la solución no polar comprende entre un 0,001 y un 0,1% en peso/volumen del monómero objeto y/o ii) aplicar dicho monómero en la capa de poliamida de película fina después que la polimerización interfacial se haya completado sustancialmente, donde el monómero objeto se aplica por separado a la superficie del soporte poroso antes, durante o después de completar la polimerización interfacial y la solución de recubrimiento es una solución no polar y comprende una concentración del monómero objeto entre un 0,5 y un 5% en peso/volumen. El monómero objeto se distingue de los monómeros de amina polifuncional y de haluro de acilo y comprende al menos un grupo de ácido carboxílico unido a una porción aromática. La porción aromática es sustituida por al menos un grupo funcional amino reactivo. El término grupo funcional “amino reactivo” se refiere a un grupo funcional que es reactivo con grupos funcionales amina en condiciones presentes durante la polimerización interfacial, es decir, durante el período de tiempo y las condiciones presentes durante la formación de la capa de poliamida de película fina. Esto requiere, generalmente, una reacción sustancial en segundos de contacto a temperatura ambiente a presión atmosférica estándar. Los ejemplos representativos de los grupos funcionales amino reactivos incluyen: haluro de acilo (por ejemplo, cloruro de acilo) y anhídrido. Cuando está presente durante la polimerización interfacial, se cree que el monómero objeto se incorpora en la estructura de poliamida resultante (es decir, el monómero objeto y los monómeros de amina y de haluro de acilo polifuncionales forman un producto de reacción). Cuando se aplica después que se forma la poliamida, se cree que el monómero objeto reacciona con grupos amina residuales presentes en la poliamida de película fina.
El monómero objeto está representado por la Fórmula (III):
Fórmula (III):
donde X se selecciona de: oxígeno (por ejemplo, -O-); amino (-N(R)-) donde R se selecciona de grupos hidrógeno e hidrocarburo que tienen entre 1 y 6 átomos de carbono, por ejemplo, arilo, cicloalquilo, alquilo - sustituidos o no sustituidos pero, preferiblemente, alquilo que tiene entre 1 y 3 átomos de carbono con o sin sustituyentes como halógeno y grupos carboxilo); amida (-C(O)N(R))- con el carbono o el nitrógeno conectado al anillo aromático y donde R es como se definió anteriormente; carbonilo (-C(O)-); sulfonilo (-SO2-); o no está presente (por ejemplo, como está representado en la Fórmula III); n es un número entero entre 1 y 6 o el grupo entero es un grupo arilo; Z es un grupo funcional amino reactivo seleccionado de haluro de acilo y anhídrido (preferiblemente haluro de acilo); Z’ se selecciona de los grupos funcionales descritos por Z junto con hidrógeno y ácido carboxílico. Z y Z’ pueden posicionarse, independientemente, en posición meta u orto respecto del sustituyente X en el anillo. En un conjunto de realizaciones, n es 1 o 2. En otro conjunto de realizaciones, Z y Z’ son iguales (por ejemplo, ambos grupos de haluro de acilo). En otro conjunto de realizaciones, X se selecciona de grupos alquilo y alcoxi que tienen entre 1 y 3 átomos de carbono. Las clases representativas no limitantes de realizaciones están representadas por las siguientes Fórmulas donde Z’ y Z se posicionan meta entre sí.
Las especies representativas no limitantes incluyen: ácido 2-(3,5-bis(clorocarbonil)fenoxi)acético, ácido 3-(3,5-bis(clorocarbonil)fenil)propanoico, ácido 2-((1,3-dioxo-1,3-dihidroisobenzofuran-5-il)oxi)acético, ácido 3-(1,3-dioxo-1,3-dihidroisobenzofuran-5-il)propanoico, ácido 2-(3-(clorocarbonil)fenoxi)acético, ácido 3-(3-(clorocarbonil)fenil)propanoico, ácido 3-((3,5bis(clorocarbonil)fenil)sulfonil)propanoico, ácido 3-((3-(clorocarbonil)fenil)sulfonil)propanoico, ácido 3-((1,3-dioxo-1,3-dihidroisobenzofuran-5-il)sulfonil)propanoico, ácido 3-((1,3-dioxo-1,3-dihidroisobenzofuran-5-il)amino)propanoico, ácido 3-((1,3-dioxo-1,3-dihidroisobenzofuran-5-il)(etil)amino)propanoico, 3-((3,5-bis(clorocarbonil)fenil)amino)propanoico, ácido 3-((3,5 bis(clorocarbonil) fenil)(etil)amino)propanoico, ácido 4-(4-(clorocarbonil)fenil)-4-oxobutanoico, ácido 4-(3,5-bis(clorocarbonil)fenil)-4-oxobutanoico, ácido 4-(1,3-dioxo-1,3-dihidroisoben-zofuran-5-il)-4-oxobutanoico, ácido 2-(3,5-bis(clorocarbonil)fenil)acético, ácido 2-(2,4-bis(clorocarbonil)fenoxi)acético, ácido 4-((3,5-bis(clorocarbonil)fenil)amino)-4 oxobutanoico, ácido 2-((3,5-bis(cloro carbonil)fenil)amino)acético, ácido 2-(N-(3,5-bis(clorocarbonil)fenil)acetamido)acético, ácido 2,2’-((3,5-bis(clorocarbonil)fenilazanediil)diacético, ácido N-[(1,3-dihidro-1,3-dioxo-5-isobenzofuranil)carbonil]-glicina, ácido 4-[[(1,3-dihidro-1,3-dioxo-5-isobenzofuranil)carbonil]amino]-benzoico, ácido 1,3-dihidro-1,3-dioxo-4-isobenzofuran propanoico, ácido 5-[[(1,3 dihidro-1,3-dioxo-5-isobenzofuranil)carbonil]amino]-1,3-bencenedicarboxílico y ácido 3-[(1,3-dihidro-1,3-dioxo-5 isobenzofuranil)sulfonil]-benzoico.
Como se describió anteriormente, la etapa de aplicar monómeros polifuncionales en la superficie del soporte poroso incluye, preferiblemente, aplicar una solución polar que comprende el monómero de amina polifuncional y una solución no polar que comprende el monómero de haluro de acilo polifuncional. La etapa de aplicar las soluciones incluye, preferiblemente recubrir mediante pulverización, recubrimiento con película, rodamiento, o el uso de un tanque de inmersión. En la realización (i), el monómero objeto se agrega en la solución no polar antes de la etapa de aplicación, por ejemplo, antes del recubrimiento de la solución no polar en el soporte poroso. En dicha realización, la solución no polar comprende entre aproximadamente un 0,001 y un 0,1% en peso/volumen del monómero objeto. En otra realización, la solución no polar comprende el monómero objeto y haluro de acilo polifuncional en una relación molar entre 0,0001:1 y 1:1, preferiblemente entre 0,001:1 y 0,2:1 y más preferiblemente entre 0,001:1 y 0,01:1.
En la realización (ii), el monómero objeto se aplica por separado a la superficie del soporte poroso (por ejemplo, a partir de una solución separada), ya sea antes, durante o después de la finalización sustancial de la polimerización interfacial. En una realización, la solución de recubrimiento es una solución no polar como se describió anteriormente y comprende una concentración del monómero objeto de un 0,5 a un 5% en peso/volumen, o más preferiblemente entre un 1 y un 3% en peso /vol.
Aunque no está limitada por un tipo particular de membrana de poliamida, la invención en cuestión es particularmente apta para la aplicación a las membranas de material compuesto como aquellas comúnmente utilizadas en aplicaciones de RO y NF, y más particularmente a membranas de poliamida de material compuesto de lámina plana utilizadas en aplicaciones de RO y NF. La capa de poliamida de película fina puede incluir, opcionalmente, polímeros higroscópicos en al menos una porción de su superficie. Dichos polímeros incluyen tensioactivos poliméricos, ácido poliacrílico, acetato de polivinilo, compuestos de óxido de polialquileno, compuestos de poli(oxazolina), poliacrilamidas y productos de reacción relacionados como se describen generalmente en los documentos US 6280853; US 7815987; US 2009/0220690 y US 2008/0185332 de Mickols y Niu. En algunas realizaciones, dichos polímeros se pueden mezclar y/o reaccionar y pueden recubrirse o aplicarse a la membrana de poliamida a partir de una solución común o se pueden aplicar de manera secuencial.
Se han descrito muchas realizaciones de la invención y, en algunos casos, algunas realizaciones, selecciones, intervalos, constituyentes u otras características se han caracterizado como «preferidas". Las caracterizaciones de características «preferidas» no deben interpretarse como características que se necesitan, son esenciales o críticas para la invención.
Ejemplos:
Todas las membranas de muestra se produjeron usando una línea de fabricación de membrana a escala piloto. Los soportes de polisulfona se fundieron a partir de soluciones en DMF del 16,5% en peso y posteriormente se remojaron en soluciones acuosas de metil-fenilendiamina (mPD). Los soportes resultantes pasaron a través de una tabla de reacción a velocidad constante mientras se aplicó una capa uniforme y fina de una solución orgánica. La solución orgánica incluyó solvente isoparafínico (ISOPAR L), cloruro de acilo trimesoilo (TMC) y un monómero objeto identificado a continuación. Se extrajo la solución orgánica en exceso y las membranas de material compuesto resultantes se pasaron a través de tanques de enjuague y hornos de secado. Las membranas de muestra se probaron usando una solución acuosa que incluye 2000 ppm de NaCl a un pH de 8, temperatura ambiente y 1 mPa.
Las membranas de poliamida de material compuesto de muestra se produjeron usando un 3,5% en peso de solución de mPD y una solución orgánica que incluye TMC y un monómero objeto, por ejemplo, ácido 2-(3,5-bis(clorocarbonil)fenoxi)acético como está representado por la Fórmula (XII) o ácido 3-(3,5-bis(clorocarbonil)fenil)propanoico como está representado por la Fórmula (XIII). El contenido de cloruro de acilo total de las soluciones orgánicas usadas para preparar cada muestra se mantuvo constante a un 0,13% p/v. La concentración del monómero objeto varió de 0 a un 0,019% p/v mientras que el contenido de cloruro de acilo fue solo aportado por TMC. Los números de muestra 1 a 4 corresponden a membranas que incluyen el monómero objeto
representado por la Fórmula (XII) y los números 5 a 8 corresponden a membrana que incluye el monómero objeto representado por la Fórmula (XIII).
Fórmula (XII) Fórmula (XIlI)
Las membranas de poliamida de material compuesto se probaron como se describió anteriormente y se proporciona un resumen de los resultados a continuación en la Tabla 1. Como se demostró, las membranas que se produjeron usando los monómeros objeto demostraron mayor flujo en comparación con los controles.
Tabla 1:
Claims (4)
1. Un método para producir una membrana de poliamida de material compuesto que comprende un soporte poroso y una capa de poliamida de película fina, donde el método comprende la etapa de aplicar una solución polar que comprende un monómero de amina polifuncional y una solución no polar que comprende un monómero de haluro de acilo polifuncional en una superficie del soporte poroso y polimerizar, de manera interfacial, los monómeros para formar una capa de poliamida de película fina,
donde el método se caracteriza por incluir al menos una de las siguientes etapas:
i) llevar a cabo la polimerización interfacial en presencia de un monómero objeto, donde el monómero objeto se agrega a la solución no polar antes de la etapa de aplicación del recubrimiento de la solución no polar en el soporte poroso y la solución no polar comprende entre un 0,001 y un 0,1% en peso/volumen del monómero objeto; y/o
ii) aplicar el monómero objeto en la capa de poliamida de película fina, donde el monómero objeto se aplica separadamente en la superficie del soporte poroso antes, durante o después de la conclusión de la polimerización interfacial y la solución de recubrimiento es una solución no polar y comprende una concentración del monómero objeto entre un 0,5 y un 5% en peso/volumen,
donde el monómero objeto, que se distingue de los monómeros de amina y de acilo polifuncionales, está representado por la Fórmula (III):
Fórmula (III):
donde X se selecciona de: oxígeno, amino, amida, carbonilo, sulfonilo, o no está presente; n es un número entero entre 1 y 6; Z se selecciona de haluro de acilo y anhídrido; y Z’ se selecciona de haluro de acilo, anhídrido, hidrógeno y ácido carboxílico.
2. El método de la reivindicación 1, donde X es oxígeno.
4. El método de la reivindicación 1, donde Z y Z’ son los dos grupos de haluro de acilo.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261583674P | 2012-01-06 | 2012-01-06 | |
PCT/US2013/020072 WO2013103666A1 (en) | 2012-01-06 | 2013-01-03 | Composite polyamide membrane |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2806675T3 true ES2806675T3 (es) | 2021-02-18 |
Family
ID=47563633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES13700592T Active ES2806675T3 (es) | 2012-01-06 | 2013-01-03 | Método de preparación de una membrana de poliamida de material compuesto |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9073015B2 (es) |
EP (1) | EP2776146B1 (es) |
JP (1) | JP6018222B2 (es) |
KR (1) | KR102002760B1 (es) |
CN (1) | CN104039429B (es) |
ES (1) | ES2806675T3 (es) |
IN (1) | IN2014CN05001A (es) |
WO (1) | WO2013103666A1 (es) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9399196B2 (en) | 2011-08-31 | 2016-07-26 | Dow Global Technologies Llc | Composite polyamide membrane derived from monomer including amine-reactive and phosphorous-containing functional groups |
US9029600B2 (en) | 2011-09-29 | 2015-05-12 | Dow Global Technologies Llc | Method for preparing high purity mono-hydrolyzed acyl halide compound |
IN2014CN05001A (es) | 2012-01-06 | 2015-09-18 | Dow Global Technologies Llc | |
CN104470626B (zh) * | 2012-07-19 | 2018-06-01 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 羧酸官能团增加的复合聚酰胺膜 |
CN104918687A (zh) | 2013-01-14 | 2015-09-16 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 使用非极性溶剂的掺合物经由界面聚合制造复合聚酰胺膜 |
WO2014109947A1 (en) | 2013-01-14 | 2014-07-17 | Dow Global Technologies Llc | Composite polyamide membrane comprising substituted benzamide monomer |
US9051417B2 (en) | 2013-03-16 | 2015-06-09 | Dow Global Technologies Llc | Method for solubilizing carboxylic acid-containing compound in hydrocarbon solvent |
US9289729B2 (en) | 2013-03-16 | 2016-03-22 | Dow Global Technologies Llc | Composite polyamide membrane derived from carboxylic acid containing acyl halide monomer |
US9387442B2 (en) | 2013-05-03 | 2016-07-12 | Dow Global Technologies Llc | Composite polyamide membrane derived from an aliphatic acyclic tertiary amine compound |
CN105873665B (zh) | 2013-12-02 | 2019-01-01 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 用亚硝酸后处理的复合聚酰胺膜 |
EP3077089B1 (en) | 2013-12-02 | 2018-02-28 | Dow Global Technologies LLC | Method of forming a composite polyamide membrane treated with dihyroxyaryl compounds and nitrous acid |
ES2690849T3 (es) | 2014-01-09 | 2018-11-22 | Dow Global Technologies Llc | Membrana de poliamida compuesta con contenido azoico y alto contenido de ácido |
ES2786928T3 (es) | 2014-01-09 | 2020-10-14 | Ddp Speciality Electronic Mat Us Inc | Membrana de material compuesto de poliamida con alto contenido de ácido y bajo contenido azoico |
EP3092062B1 (en) | 2014-01-09 | 2018-05-30 | Dow Global Technologies LLC | Composite polyamide membrane having preferred azo content |
CN106257977B (zh) | 2014-04-28 | 2019-10-29 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 用亚硝酸后处理的复合聚酰胺膜 |
ES2704238T3 (es) | 2014-05-14 | 2019-03-15 | Dow Global Technologies Llc | Membrana de poliamida de material compuesto sometida a tratamiento posterior con ácido nitroso |
KR102357884B1 (ko) | 2014-05-14 | 2022-02-03 | 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 | 아질산으로 후-처리된 복합 폴리아미드 멤브레인 |
KR102359211B1 (ko) | 2014-05-14 | 2022-02-07 | 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 | 아질산으로 후처리된 복합 폴리아미드 막 |
US20170081228A1 (en) * | 2015-09-17 | 2017-03-23 | Manuel S. Avakian | Water Treatment System for Preserving Downstream Components |
KR102075181B1 (ko) * | 2015-12-23 | 2020-02-07 | 주식회사 엘지화학 | 폴리아미드 계면중합용 조성물, 이를 이용한 역삼투막의 제조방법 및 역삼투막 및 수처리 모듈 |
KR102101061B1 (ko) * | 2017-01-20 | 2020-04-14 | 주식회사 엘지화학 | 역삼투막 제조용 조성물, 이를 이용한 역삼투막 제조방법, 역삼투막 및 수처리 모듈 |
CN109647224A (zh) * | 2018-12-28 | 2019-04-19 | 南京理工大学 | 耐氯聚酰胺复合反渗透膜及其制备方法 |
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FR1587787A (es) | 1968-10-02 | 1970-03-27 | ||
JPS5223346B2 (es) | 1972-08-30 | 1977-06-23 | ||
JPS53146275A (en) | 1977-05-27 | 1978-12-20 | Teijin Ltd | Production of selective permeative-membrane of high water permeability |
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-
2013
- 2013-01-03 IN IN5001CHN2014 patent/IN2014CN05001A/en unknown
- 2013-01-03 US US14/241,731 patent/US9073015B2/en active Active
- 2013-01-03 CN CN201380004837.7A patent/CN104039429B/zh active Active
- 2013-01-03 ES ES13700592T patent/ES2806675T3/es active Active
- 2013-01-03 WO PCT/US2013/020072 patent/WO2013103666A1/en active Application Filing
- 2013-01-03 EP EP13700592.2A patent/EP2776146B1/en active Active
- 2013-01-03 KR KR1020147021941A patent/KR102002760B1/ko active IP Right Grant
- 2013-01-03 JP JP2014551305A patent/JP6018222B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2013103666A1 (en) | 2013-07-11 |
EP2776146A1 (en) | 2014-09-17 |
EP2776146B1 (en) | 2020-05-13 |
US9073015B2 (en) | 2015-07-07 |
JP2015509829A (ja) | 2015-04-02 |
KR102002760B1 (ko) | 2019-07-23 |
US20140370191A1 (en) | 2014-12-18 |
CN104039429A (zh) | 2014-09-10 |
JP6018222B2 (ja) | 2016-11-02 |
IN2014CN05001A (es) | 2015-09-18 |
CN104039429B (zh) | 2016-05-04 |
KR20140119100A (ko) | 2014-10-08 |
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